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JPH05112586A - Ｎ−アシルアミノメチルホスホン酸の製造法 - Google Patents

Ｎ−アシルアミノメチルホスホン酸の製造法

Info

Publication number
JPH05112586A
JPH05112586A JP3269584A JP26958491A JPH05112586A JP H05112586 A JPH05112586 A JP H05112586A JP 3269584 A JP3269584 A JP 3269584A JP 26958491 A JP26958491 A JP 26958491A JP H05112586 A JPH05112586 A JP H05112586A
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JP
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water
acid
phosphorus
phosphorus trihalide
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JP3269584A
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JP2525977B2 (ja
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Kazuhiro Omori
和弘 大森
Kohei Morikawa
宏平 森川
Toru Sasaki
透 佐々木
Yoko Muranushi
洋子 村主
Hideo Miyata
英雄 宮田
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Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
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Publication date
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Priority to US08/260,959 priority patent/US5453537A/en
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • C07F9/3813—N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は除草剤原体として知られるＮ−ホス
ホノメチルグリシン塩の合成用中間体等として有用なＮ
−アシルアミノメチルホスホン酸の製造法に関し、 【構成】 Ｎ−メチロールアミド化合物と三ハロゲン化
燐を、非プロトン性溶媒中で、三ハロゲン化燐に対して
０．２５〜２．５倍モルの水の共存下に６０〜１６０℃
の温度に加熱して反応せしめた後、水と接触させること
を特徴とする方法である。 【効果】 収率が高いこと、反応の制御が容易であるこ
と、反応液よりの目的物の分離工程が複雑でないこと等
の利点がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は除草剤原体として知られ
るＮ−ホスホノメチルグリシン塩の合成用中間体等とし
て有用なＮ−アシルアミノメチルホスホン酸の製造法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｎ−メチロールアミド化合物と三ハロゲ
ン化燐との反応によりＮ−アシルアミノメチルホスホン
酸又はアミノメチルホスホン酸を製造する方法は、反応
自体は従来より公知であり、大別すると１）無溶媒で反
応させる方法、２）有機溶媒中で反応させる方法、３）
有機酸中で反応させる方法等が知られている。しかし、
従来公知の方法には以下に述べるように種々の難点があ
り実用的に問題が多い。
【０００３】例えば、１）無溶媒で反応させる方法につ
いては Synthetic Communication、１６巻、７号、７３
３頁に三塩化燐とトリメチルホスファイトの混合溶液中
にＮ−メチロールベンズアミドを添加して反応せしめ、
７９％の収率でＯ，Ｏ' −ジメチル−Ｎ−ホスホノメチ
ルベンズアミドを得、これを加水分解することによりア
ミノメチルホスホン酸を製造する方法が開示されている
が、この方法は比較的高価なトリメチルホスファイトを
多量に用いる為経済的な不利は免れない。また、Sb.Vy
s.Sk.Chem.- Technol. Praze.Org.Chem. Technol.,C28,
１１５頁にはＮ−メチロールホルムアミドと三塩化燐
から無溶媒でアミノメチルホスホン酸を製造する方法が
開示されているが、収率が２９．５％と極端に低く実用
的ではない。
【０００４】アメリカ特許２，３２８，３５８及び２，
３０４，１５６では各種Ｎ−メチロールアミド化合物と
三ハロゲン化燐を無溶媒にて反応せしめた後、更に過剰
の水と接触させてアミノメチルホスホン酸を製造する方
法が開示されている。しかし、ここに開示されている例
では反応時間が１〜４日間という長時間であり、しかも
収率が低い等の難点がある。尚、目的物の収率について
は、Ｎ−メチロールステアリルアミドの反応についての
み６２％との記載はあるが、その他の例については一切
記載がない。後年、この特許に言及した文献（J.Prakt.
Chem.,３２９巻、１号、１９頁）の中で、アミドの加水
分解前のＮ−アシルアミノメチルホスホン酸の収率は２
０〜３５％であるとの指摘がなされている。このように
無溶媒での反応は、一般に比較的高価な原料を過剰に使
用しなければならない、反応時間が長い、収率が低い等
の種々の難点に加え、三ハロゲン化燐を用いる反応は発
熱反応である為、その制御にも多大の困難があり到底実
用的な方法とは言い難い。
【０００５】２）有機溶媒中で反応させる方法として
は、前記のアメリカ特許２，３２８，３５８及び２，３
０４，１５６の中で四塩化炭素、酢酸エチル、酢酸等の
溶媒を用いた例が示されている。しかし、具体的な収率
が示されていない為正しい評価は出来ないものの、長時
間の反応、収率の低さ等の難点については上記無溶媒で
の反応と余り大きな差はないと考えられる。
【０００６】尚、アメリカ特許２，３０４，１５６で
は、反応は２段階で進行し、初めＮ−メチロールアミド
化合物と三塩化燐から無溶媒又は有機溶媒中でジクロロ
フォスフォラスエステル（ＲＣＯＮＨＣＨ2 ＯＰＣｌ
2 ）が生成し、次いでそれが転位反応によってアミノメ
チルホスホン酸ジクロライド（ＲＣＯＮＨＣＨ2 ＰＯＣ
ｌ2 ）に変化し、更に、それが水との反応によってＮ−
アシルアミノメチルホスホン酸［ＲＣＯＮＨＣＨ2 ＰＯ
（ＯＨ）2 ］となる旨説明されている。但し、これらの
中間体は反応液から単離されて構造決定されたわけでは
ない。また、上記反応の内、ジクロロフォスフォラスエ
ステルからホスホン酸ジクロライドへの転位反応に、日
単位で数える程の長時間を要すると言われている。
【０００７】この反応速度の遅さについては反応温度を
上げたり、少量の弱酸、例えば酢酸、プロピオン酸、無
水酢酸を添加することで改善されると言われているが、
本発明者らの知見によれば、収率向上の効果は必ずしも
充分とは言い難い。例えば、Ｎ−メチロールアセトアミ
ドと三塩化燐を室温で２４時間反応させた後、多量の水
と接触させて生成するＮ−アセチルアミノメチルホスホ
ン酸の収率を測定したところ３２％であった。反応温度
を９０℃に昇温して３時間反応させた場合でも、アセチ
ルアミノメチルホスホン酸の収率は３８％であり余り改
善されない。また、酢酸を添加して９０℃で３時間反応
させた場合には、酢酸の量が三塩化燐に対して１．５倍
モルでは収率６５％、１０倍モルでも収率６３％と或る
程度、収率向上の効果はあるものの充分とは言い難い。
収率が低い原因としては必ずしも定かではないが、Ｎ−
メチロールアミドが三塩化燐と接触してメチレンビスア
シルアミドとホルマリンに分解する事が挙げられる。
【０００８】３）有機酸中で反応させる方法、特に、酢
酸を用いる方法は上記の如く従来提案された方法の中で
は比較的良い収率を示し、従って、最近提案されたいく
つかの方法は殆ど全てがこの方法の改良に関する。例え
ば、Synthesis,１９８９年、４号、５４７頁ではＮ−メ
チロールベンズアミド又は１，３，５−トリアセチルヘ
キサヒドロ−１，３，５−トリアジンを酢酸中で三塩化
燐と反応せしめてＮ−アシルアミノメチルホスホン酸を
合成し、反応液より酢酸及び酢酸クロライドを留去した
後加水分解してアミノメチルホスホン酸を製造する方法
が開示されている。但し、この中で満足な結果を与える
のは芳香族系のもののみであり、脂肪族系のものではニ
トリロトリスメチルホスホン酸が主生成物であると言わ
れている。
【０００９】また、ヨーロッパ特許３７０，９９２では
アセトアミドとパラホルムアルデヒドを非水系にて酢酸
中で処理した後、三塩化燐を添加して反応せしめＮ−ア
セトアミノメチルホスホン酸を合成し、反応液より溶媒
及び副生物を留去した後加水分解してアミノメチルホス
ホン酸を製造する方法が開示されており、ポーランド特
許１１７７８０でもＮ−メチロールベンズアミドを酢酸
中で三塩化燐と反応させ、得られたＮ−ベンゾイルアミ
ノメチルホスホン酸を加水分解してアミノメチルホスホ
ン酸を製造する方法が開示されている。これらの酢酸溶
媒中で反応させる方法は他の方法と比べて比較的良い収
率を示すが、反面副生物として酢酸ハライドが生成し、
溶媒としての酢酸と共にそれらの分離回収に余分な手間
を要し、経済的な不利は免れない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はＮ−メ
チロールアミド化合物と三ハロゲン化燐からＮ−アシル
アミノメチルホスホン酸を製造する方法に於いて、収率
が高いこと、反応の制御が容易であること、反応液より
の目的物の分離工程が複雑でないこと等、従来の方法の
難点を解決して工業的に優れた製造法を開発せんとする
ものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の方法は、本来原
料として反応性の高い（化学的に不安定な）化合物であ
るＮ−メチロールアミド類及び三ハロゲン化燐を使用
し、且つ比較的高い発熱を伴う反応である為、先ず反応
の制御が容易であることを考えて溶媒の使用を考慮し、
更にその使用すべき溶媒は溶媒自体に起因する副生物が
生成せず、溶媒としての分離回収も容易であることにも
配慮して非プロトン性溶媒を用い、特に、主たる目的で
あるＮ−アシルアミノメチルホスホン酸の収率を高める
為の方策として、三ハロゲン化燐に対して所定量の水を
添加して６０〜１６０℃の温度に加熱して数時間反応さ
せた後、更に、水と接触させることにより所期の目的を
達成せんとするものである。即ち、本発明によればＮ−
メチロールアミド化合物と三ハロゲン化燐を、非プロト
ン性溶媒中で、三ハロゲン化燐に対して０．２５〜２．
５倍モルの水の共存下に６０〜１６０℃の温度に加熱し
て反応せしめた後、水と接触させることを特徴とするＮ
−アシルアミノメチルホスホン酸の製造法が提供され
る。
【００１２】以下に本発明の方法について更に詳細に説
明する。原料として使用されるＮ−メチロールアミド化
合物としては、Ｎ−メチロール低級アルキルアミド又は
Ｎ−メチロールアリールアミドであり、その代表的な化
合物を例示すれば、例えば、Ｎ−メチロールホルムアミ
ド、Ｎ−メチロールアセトアミド、Ｎ−メチロールプロ
ピオンアミド、Ｎ−メチロール−（ｔ−、ｉ−またはｎ
−）ブチルアミド、Ｎ−メチロール−（ｉ−またはｎ
−）バレロアミド、Ｎ−メチロールベンズアミド、Ｎ−
メチロール−（ｏ−、ｍ−またはｐ−）トルアミド、、
Ｎ−メチロール−（ｏ−、ｍ−またはｐ−）メトキシベ
ンズアミド、Ｎ−メチロール−（ｏ−、ｍ−またはｐ
−）エトキシベンズアミド、Ｎ−メチロール−（ｏ−、
ｍ−またはｐ−）ニトロベンズアミド、Ｎ−メチロール
−（ｏ−、ｍ−またはｐ−）クロロベンズアミド、Ｎ−
メチロール−（２，３−、２，４−、２，５−、２，６
−、３，４−または３，５−）ジメトキシベンズアミ
ド、Ｎ−メチロール（３，４，５−）トリメトキシベン
ズアミド等が挙げられ、夫々対応するＮ−アシルアミノ
メチルホスホン酸が得られる。また、三ハロゲン化燐と
しては、三塩化燐、三臭化燐、三ヨウ化燐等が用いら
れ、実用的な見地からは三塩化燐が最も好ましいと言え
る。
【００１３】溶媒としては反応条件下に安定で、分解し
たり上記の原料化合物と反応したりせず且つ原料のＮ−
メチロールアミド及び三ハロゲン化燐を均一に溶解する
ものであれば特に制限はなく、原則的には如何なるもの
でも良いが、通常は炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エ
ーテル、ポリエーテル、ニトリル、芳香族ニトロ化合物
等の非プロトン性溶媒が用いられる。これらの代表的な
化合物を例示すれば、例えば、メチルシクロペンタン、
シクロヘキサン、ヘキサン、２−メチルペンタン、３−
メチルペンタン、メチルシクロヘキサン、ヘプタン、２
−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，３−ジメ
チルペンタン、２，４−ジメチルペンタン、エチルシク
ロヘキサン、オクタン、２，２，３−トリメチルペンタ
ン、２，２，４−トリメチルペンタン、ノナン、２，
２，５−トリメチルヘキサン、デカン、デカヒドロナフ
タレン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン、イソプロピルベンゼン、メシチレン、ブチルベンゼ
ン、クメン、プロピルエーテル、イソプロピルエーテ
ル、ブチルエーテル、エチルブチルエーテル、ペンチル
エーテル、イソペンチルエーテル、１，２−ジメトキシ
エタン、ダイグライム、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン、テトラヒドロピラン、ベンジルエチルエー
テル、アニソール、フェネトール、フルオロベンゼン、
フルオロトルエン、クロロブタン、クロロペンタン、ク
ロロベンゼン、クロロフォルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、トリクロロエタン、ジクロロエチレン、ペンタ
クロロエタン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、ア
セトニトリル、プロピオニトリル等が挙げられ、中でも
原料化合物の溶解性、反応後の分離回収の容易性、経済
性等実用的な観点からは、特に、プロピルエーテル、イ
ソプロピルエーテル、ブチルエーテル、エチルブチルエ
ーテル、ペンチルエーテル、イソペンチルエーテル、
１，２−ジメトキシエタン、ダイグライム、１，４−ジ
オキサン、ベンジルエチルエーテル、アニソール、フェ
ネトール等が好ましいものとして挙げられる。
【００１４】反応原料のＮ−メチロールアミドと三ハロ
ゲン化燐の反応当初のモル比は原則的には化学当量であ
る１：１で良いが、いずれか一方を若干過剰に用いるこ
とはなんら差し支えなく、その場合実用的な観点から、
三ハロゲン化燐をＮ−メチロールアミドに対して１．０
〜１．５倍モル程度、特に１．０５〜１．３倍モル程度
用いることが好ましい。
【００１５】本発明の方法に於ける最も重要な要件の一
つは、反応当初の原料混合液に所定量の水を添加するこ
と及びその場合の条件である。即ち、Ｎ−メチロールア
ミドと三ハロゲン化燐の溶液に水を添加することは目的
物の収率に非常に大きな影響を及ぼし、また、その量に
よっても収率は大きく左右される。例えば、水浴上約２
０℃に保ったＮ−メチロールアセトアミドと三塩化燐の
原料混合液に、添加量を変えて水を加え、９０℃に昇温
して３時間反応させた後、多量の水と接触させて生成す
るＮ−アシルアミノメチルホスホン酸の収率を測定した
場合、水を全く添加しない場合にはＮ−アシルアミノメ
チルホスホン酸の収率は約４０％であり、一方、三塩化
燐に対する水の添加量が０．２５倍モルでは収率は約５
０％、０．５倍モルで約６０％、１．０倍モルで約７０
％、１．２５倍モルで約８５％、１．５倍モルで約８５
％と水の添加量が増すに従って順次向上する。しかし、
水の添加量が或る程度以上になると逆に１．７５倍モル
で約７０％、２．０倍モルで約６０％、２．５倍モルで
約５０％と次第に低下する。従って、添加すべき水の量
は一般に三ハロゲン化燐に対して０．２５〜２．５倍モ
ル、好ましくは０．５〜２．０倍モル程度、特に好まし
くは１．０〜１．８倍モル程度が適当と言える。
【００１６】因みに、水の代わりに酢酸を添加して全く
同様に反応させた場合は前述の如く、三塩化燐に対する
酢酸の添加量が１．０倍モルではＮ−アシルアミノメチ
ルホスホン酸の収率は約６２％、１．５倍モルで約６５
％、２．０倍モルで約６４％、１０倍モルで約６３％で
あり、水を添加した場合と較べて約２０％程低く、目的
物の収率向上への寄与は著しく劣ることが認められる。
【００１７】尚、水の添加はＮ−メチロールアミドと三
ハロゲン化燐からなる原料混合液の調製後成るべく早く
行う必要があり、Ｎ−メチロールアミドと三ハロゲン化
燐を混合した状態で時間を置くと、例え低温の状態でも
両者の反応による副生成物の生成を招く等の理由から好
ましくない。添加順序についてはＮ−メチロールアミド
と三ハロゲン化燐からなる原料混合液に水を添加した場
合と、三ハロゲン化燐にＮ−メチロールアミドと水の混
合液を添加した場合とでは目的物の収率には殆ど差はな
いが、一方、Ｎ−メチロールアミドと水の混合液に三ハ
ロゲン化燐を添加した場合には、目的物の収率は前者の
場合程は高くない。
【００１８】このように、反応の初期段階に於ける水の
添加量は目的物の収率向上に大きく寄与し、また、Ｎ−
メチロールアミドと三ハロゲン化燐及び水を混合する順
序によっても、収率が異なるが、その理由としては、必
ずしも定かではないが、本発明の水の共存下での反応機
構として、前記アメリカ特許の反応経路とは異なり、先
ず、三ハロゲン化燐と水から或る種の活性ハロゲン化燐
化合物、例えば、ヒドロキシフォスフォハライズ等が生
成し、それがメチロールアミドと反応してアシルアミノ
メチルホスホン酸ハライズが生成し、更にそれが多量の
水でアシルアミノメチルホスホン酸になるものと推定さ
れる。尚、三塩化燐と水からの或る種の活性ハロゲン化
燐化合物の生成については、Compt.Rend.,２３２巻、
２４４２頁、Dokl.Akad.Nauk.SSSR,２６８巻、２号、３
６４頁等に記載がある。
【００１９】反応原料の混合時の温度は目的物の収率に
大きな影響を及ぼし、従って、本発明の方法に於いて重
要な要件の一つである。即ち、Ｎ−メチロールアミドと
三ハロゲン化燐からなる原料混合液の調製及びこれに水
を添加する場合、或いは三ハロゲン化燐にＮ−メチロー
ルアミドと水の混合液を添加する場合のいずれでも、反
応原料の混合は６０℃以下の温度で行わなければなら
ず、好ましくは０〜３０℃の範囲内で行うことが適当で
ある。因に、水又は水を含む系と三ハロゲン化燐との接
触は出来るだけ低温で行うことは当然であるが、Ｎ−メ
チロールアミドと三ハロゲン化燐を６０℃以上の温度で
混合すると、両者は急激に反応して主生成物としてメチ
レンビスアミド化合物と燐のポリマー等が生成するので
避けねばならない。原料混合液を調製し水の添加後は速
やかに昇温して反応させることが望ましい。
【００２０】反応条件としては必ずしも厳密な制限はな
いが、反応温度が６０℃以下では反応に長時間を要し、
その間に好ましくない副反応を生起する等の弊害があ
り、一方、２００℃以上では反応の適正な制御が難しく
なる為、一般に６０〜２００℃、好ましくは７０〜１２
０℃の範囲内で行うことが適当である。圧力は減圧若し
くは加圧下であっても良いが、通常は定圧下で行われ
る。反応時間は反応温度にもよるが、通常は１〜５時間
程度で充分である。
【００２１】前段の反応の終了後は反応液を一旦冷却し
た後、デカンテーション、減圧蒸留等により溶媒と分離
し、残ったスラリー液を引続き水と接触させ、これによ
って反応液中に含まれるＮ−アシルアミノメチルホスホ
ン酸ハライズからＮ−アシルアミノメチルホスホン酸へ
の加水分解を完結させる。この場合の反応条件としては
必ずしも厳密な制限はないが、水の量としては原料とし
て用いた三ハロゲン化燐に対して１０〜３０倍モル程
度、反応温度は室温〜６０℃、反応時間は０．５〜３時
間程度が適当である。前段及び後段いずれも、反応はバ
ッチ式又は連続式いずれの方法でも実施できる。反応生
成物のＮ−アシルアミノメチルホスホン酸は水及び反応
溶媒を留去した後、メタノール等の適当な溶媒を用いて
結晶化する等の方法により容易に単離することが出来
る。
【００２２】尚、本発明のＮ−アシルアミノメチルホス
ホン酸よりアミノメチルホスホン酸を製造する場合、硫
酸、塩酸等の鉱酸を用いても或いは水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を用いても、
いずれでも容易に加水分解することが出来る。但し、ア
ルカリ金属水酸化物を用いたときの直接の生成物はアル
カリ金属塩であり、アミノメチルホスホン酸とするには
更に中和する必要がある。このＮ−アシルアミノメチル
ホスホン酸の加水分解の反応条件としては、例えば、６
０℃で約５時間程度で完結する。反応原料としてＮ−ア
シルアミノメチルホスホン酸は上記の反応生成物より単
離精製してから反応に供しても良いが、反応溶媒を留去
した後の未精製のものを直接用いても良い。
【００２３】
【実施例】以下に本発明の方法について代表的な実施例
を示し更に具体的に説明するが、これらは説明の為の単
なる例示であり、従って、本発明の方法はこれらの例の
みに限られず、またこれらの例によってなんら制限され
ないことは言うまでもない。
【００２４】実施例１ 水浴上で約２０℃に保った３００ｍｌのフラスコ中にて
４０ｍｌのダイグラムに三塩化燐４５．３２ｇ（０．３
３モル）を溶解した液に、Ｎ−メチロールアセトアミド
２７．１１ｇ（０．３０モル）を３０ｍｌのダイグラム
に溶解した液を、全体の温度が３０℃を越えないように
撹拌下に徐々に加え、更に、水８．１０ｇ（０．４５モ
ル）を２０ｍｌのダイグラムに溶解した液を上記と同様
に温度が３０℃を越えないように撹拌下に徐々に加え
た。滴下終了後フラスコを油浴中で１００℃に加熱し、
撹拌下に５時間反応させた。反応終了後室温まで冷却し
て２層に分離した上層をデカンテーションして除き、残
った液に水１００ｍｌを加えて室温のまま３０分撹拌し
た後、溶媒を減圧下に留去してＮ−アセチルアミノメチ
ルホスホン酸を得た。液体クロマトグラフィーによる分
析の結果、収率は８９％であった。
【００２５】実施例２〜１６ 反応原料、溶媒及び前段の反応の反応条件を種々変えて
実施例１と同様の反応を行った結果を表１に示す。尚、
表中の記号は夫々以下を表す。また、反応条件は前段の
反応についてのものであり、後段の反応については実施
例１と同じである。 （原 料） ＭＡＡ：Ｎ−メチロールアセトアミド ＭＰＡ：Ｎ−メチロールプロピオンアミド ＭＢＡ：Ｎ−メチロールベンゾアミド ＭＭＡ：Ｎ−メチロール−４−メトキシベンゾアミド （生成物） ＡＭＰ：Ｎ−アセチルアミノメチルホスホン酸 ＰＭＰ：Ｎ−プロピオニルアミノメチルホスホン酸 ＢＭＰ：Ｎ−ベンゾイルアミノメチルホスホン酸 ＭＭＰ：Ｎ−（４−メトキシベンゾイル）−アミノメチ
ルホスホン酸
【００２６】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村主 洋子 神奈川県川崎市川崎区扇町５番１号 昭和 電工株式会社化学品研究所内 (72)発明者 宮田 英雄 神奈川県川崎市川崎区扇町５番１号 昭和 電工株式会社化学品研究所内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 Ｎ−メチロールアミド化合物と三ハロゲ
    ン化燐を、非プロトン性溶媒中で三ハロゲン化燐に対し
    て０．２５〜２．５倍モルの水の共存下に６０〜１６０
    ℃の温度に加熱して反応せしめた後、水と接触させるこ
    とを特徴とするＮ−アシルアミノメチルホスホン酸の製
    造法。
  2. 【請求項２】 Ｎ−メチロール低級アルキルアミド又は
    Ｎ−メチロールアリールアミドから対応するＮ−アシル
    アミノメチルホスホン酸を製造する請求項１に記載の製
    造法。
  3. 【請求項３】 三ハロゲン化燐が三塩化燐である請求項
    １に記載の製造法。
  4. 【請求項４】 非プロトン性溶媒が炭化水素、ハロゲン
    化炭化水素、エーテル、ポリエーテル、ニトリル、芳香
    族ニトロ化合物から選ばれる少なくとも一種である請求
    項１に記載の製造法。
  5. 【請求項５】 原料溶液の混合の際の温度が６０℃以下
    である請求項１に記載の製造法。
  6. 【請求項６】 反応当初に反応系に添加共存させる水の
    量が三ハロゲン化燐に対して１．０〜１．８倍モルであ
    る請求項１に記載の製造法。
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