JPH0495859A - プリント板光学検査装置 - Google Patents
プリント板光学検査装置Info
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- JPH0495859A JPH0495859A JP21390790A JP21390790A JPH0495859A JP H0495859 A JPH0495859 A JP H0495859A JP 21390790 A JP21390790 A JP 21390790A JP 21390790 A JP21390790 A JP 21390790A JP H0495859 A JPH0495859 A JP H0495859A
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- Japan
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- light
- printed board
- laser beam
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- Pending
Links
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- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 abstract description 7
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
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- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプリント板光学検査装置に関し、特にプリント
板に配設した微小パターンの良否をレーザ光の走査によ
って検査するプリント板光学検査装置に関する。
板に配設した微小パターンの良否をレーザ光の走査によ
って検査するプリント板光学検査装置に関する。
従来、この種のプリント板光学検査装置は、プリント板
に照射したレーザ光の反射光と散乱光を合せて受光し、
その光強度を測定することにより、微小パターンとプリ
ント基板の反射の相違にもとづいて微細パターンの検査
を行っていた。
に照射したレーザ光の反射光と散乱光を合せて受光し、
その光強度を測定することにより、微小パターンとプリ
ント基板の反射の相違にもとづいて微細パターンの検査
を行っていた。
又、走査レーザ光と逆光路で戻る正反射光のみを用いる
方法もある。なお、これらに関しては、例えば[光計測
のニーズとシーズJ、P301〜305、コロナ社等に
詳述されている。
方法もある。なお、これらに関しては、例えば[光計測
のニーズとシーズJ、P301〜305、コロナ社等に
詳述されている。
上述した従来のプリント板光学検査装置は、プリント板
に照射したレーザの反射光と散乱光を共に捕捉し、その
光強度より検査を行っている。
に照射したレーザの反射光と散乱光を共に捕捉し、その
光強度より検査を行っている。
しかしながら、レーザスポットが微細パターンを形成す
る銅箔に照射された時、反射光強度は強いが散乱光強度
は弱く、逆にレーザスポットがプリント基板に照射され
た時には、反射光強度は弱いが散乱光強度は強い。この
ため、反射光と散乱光とを区別しないで単純に計測した
場合に、照射レーザスポットが銅箔に照射された時と基
板に照射された時の差が小さ(S/N比の良い測定が困
難であるという欠点がある。
る銅箔に照射された時、反射光強度は強いが散乱光強度
は弱く、逆にレーザスポットがプリント基板に照射され
た時には、反射光強度は弱いが散乱光強度は強い。この
ため、反射光と散乱光とを区別しないで単純に計測した
場合に、照射レーザスポットが銅箔に照射された時と基
板に照射された時の差が小さ(S/N比の良い測定が困
難であるという欠点がある。
また、正反射光のみを受光する方法では、表面の黒化し
た場合には反射光が十分に帰ってこす、誤って検出する
ことが避けられないという欠点がある。
た場合には反射光が十分に帰ってこす、誤って検出する
ことが避けられないという欠点がある。
本発明の装置は、プリント板に配設された微小パターン
の良否を検査するプリント板光学検査装置であって、検
査すべきプリント板を照射するレーザ光を出光しプリン
ト板上を走査させるレーザ光走査手段と、前記レーザ光
走査手段で得られるプリント板の反射光を結像しこの結
像の半径方向の強度分布を表現する評価値もしくはこの
評価値の空間微分値にもとづいて前記微小パターンの良
否を判定する良否判定手段とを備えて構成される。
の良否を検査するプリント板光学検査装置であって、検
査すべきプリント板を照射するレーザ光を出光しプリン
ト板上を走査させるレーザ光走査手段と、前記レーザ光
走査手段で得られるプリント板の反射光を結像しこの結
像の半径方向の強度分布を表現する評価値もしくはこの
評価値の空間微分値にもとづいて前記微小パターンの良
否を判定する良否判定手段とを備えて構成される。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の構成図である。第1図に示
す実施例は、レーザ光走査手段を構成するレーザ光源1
、コリメータレンズ2、ポリゴンミラー3およびコリメ
ータレンズ4、良否判定手段を構成するハーフミラ−6
、結像用レンズ7、小型マスク8、回折光計測用7オト
マル9および演算処理部10を備え、なお第1図には、
プリント基板5と、プリント基板5に配設した微小パタ
ーン51を併記して示す。
す実施例は、レーザ光走査手段を構成するレーザ光源1
、コリメータレンズ2、ポリゴンミラー3およびコリメ
ータレンズ4、良否判定手段を構成するハーフミラ−6
、結像用レンズ7、小型マスク8、回折光計測用7オト
マル9および演算処理部10を備え、なお第1図には、
プリント基板5と、プリント基板5に配設した微小パタ
ーン51を併記して示す。
レーザ光源1から放射されたレーザ光は、コリメータレ
ンズ2により細く絞り込まれ、回転多面鏡のポリゴンミ
ラー3とコリメータレンズ4により垂直走査され、プリ
ント基板5を照射する。
ンズ2により細く絞り込まれ、回転多面鏡のポリゴンミ
ラー3とコリメータレンズ4により垂直走査され、プリ
ント基板5を照射する。
プリント基板5に当ったレーザビームは、反射または散
乱され、その一部はコリメータレンズ4とポリゴンミラ
ー3を通り往光路を逆行する。照射光と、照射光と逆行
する反射・散乱光をハーフミラ−6を使って分離し、反
射・散乱光はプリント基板5と結像レンズ7を介して回
折光計測用フォトマル9上に、プリント基板3上に射照
されたレーザ光による強度分布の像を結ばせる。また、
正反射光強度が強い場合、回折光計測用フォトマル9を
保護する為に、正反射光のみを遮光し散乱光のみを通過
させるように構成した小型マスク8を使用する。
乱され、その一部はコリメータレンズ4とポリゴンミラ
ー3を通り往光路を逆行する。照射光と、照射光と逆行
する反射・散乱光をハーフミラ−6を使って分離し、反
射・散乱光はプリント基板5と結像レンズ7を介して回
折光計測用フォトマル9上に、プリント基板3上に射照
されたレーザ光による強度分布の像を結ばせる。また、
正反射光強度が強い場合、回折光計測用フォトマル9を
保護する為に、正反射光のみを遮光し散乱光のみを通過
させるように構成した小型マスク8を使用する。
回折光計測用フォトマル9は、同心円状に配設した受光
素子を有し、入射した反射・散乱光、第1図の場合は小
型マスク8を通過する散乱光の光強度を同心円状に分布
している受光素子ごとに測定し、その結合を演算処理部
10に送る。
素子を有し、入射した反射・散乱光、第1図の場合は小
型マスク8を通過する散乱光の光強度を同心円状に分布
している受光素子ごとに測定し、その結合を演算処理部
10に送る。
演算処理部10は、回折光計測用フォトマル9で得られ
た散乱光の半径方向の強度分布データを評価値として発
生する。
た散乱光の半径方向の強度分布データを評価値として発
生する。
回折光計測用フォトマル9に照射される反射・散乱光強
度を正反射光位置を中心に第2図および第3図に示す。
度を正反射光位置を中心に第2図および第3図に示す。
レーザ光がプリント板上の銅箔51に照射された場合、
第2図(a)に示されたように、中心部の正反射光位置
に光強度が集中する形になる。また小型マスク10によ
って正反射光を遮光した場合は第2図(b)のように強
度が弱く、分布も狭い信号となる。
第2図(a)に示されたように、中心部の正反射光位置
に光強度が集中する形になる。また小型マスク10によ
って正反射光を遮光した場合は第2図(b)のように強
度が弱く、分布も狭い信号となる。
またレーザ光がプリント基板5に照射された場合、第3
図(a)のように正反射光は弱く、光は散乱光として広
く分布する。この傾向はマスクをした場合の第3図(b
)でも同様である。
図(a)のように正反射光は弱く、光は散乱光として広
く分布する。この傾向はマスクをした場合の第3図(b
)でも同様である。
演算処理部10は回折光計測用フォトマル9から出力さ
れる半径方向強度分布に対応した評価値を求め、これら
評価値の特長からレーザ光照射部分の状態を知り、微小
パターンの良否を判定する。
れる半径方向強度分布に対応した評価値を求め、これら
評価値の特長からレーザ光照射部分の状態を知り、微小
パターンの良否を判定する。
なお、上述した実施例では、結像用レンズ7による結像
の半径方向の強度分布を表現する評価値を求め、この評
価値にもとづいて微細パターンの良否を判定したが、こ
の評価値をそのまま利用する代りに、評価値の空間微分
値をとり、銅箔とプリント基板の強度分布を表現する評
価値の空間的変化程度の相異を評価尺度として利用する
ことも容易に実施しうろことは明らかである。
の半径方向の強度分布を表現する評価値を求め、この評
価値にもとづいて微細パターンの良否を判定したが、こ
の評価値をそのまま利用する代りに、評価値の空間微分
値をとり、銅箔とプリント基板の強度分布を表現する評
価値の空間的変化程度の相異を評価尺度として利用する
ことも容易に実施しうろことは明らかである。
以上説明したように本発明は、プリント板に照射したレ
ーザ光の散乱光を測定し、半径方向強度分布を求めるこ
とにより、プリント板の微小パターンを検査する際に正
反射光の強度の低下を伴なう銀箔の変色の影響を受けず
、銅箔表面が黒色化した場合でも検査ができるという効
果がある。
ーザ光の散乱光を測定し、半径方向強度分布を求めるこ
とにより、プリント板の微小パターンを検査する際に正
反射光の強度の低下を伴なう銀箔の変色の影響を受けず
、銅箔表面が黒色化した場合でも検査ができるという効
果がある。
−ン。
Claims (1)
- プリント板に配設された微小パターンの良否を検査す
るプリント板光学検査装置であって、検査すべきプリン
ト板を照射するレーザ光を出光しプリント板上を走査さ
せるレーザ光走査手段と、前記レーザ光走査手段で得ら
れるプリント板の反射光を結像しこの結像の半径方向の
強度分布を表現する評価値もしくはこの評価値の空間微
分値にもとづいて前記微小パターンの良否を判定する良
否判定手段とを備えて成ることを特徴とするプリント板
光学検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21390790A JPH0495859A (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | プリント板光学検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21390790A JPH0495859A (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | プリント板光学検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0495859A true JPH0495859A (ja) | 1992-03-27 |
Family
ID=16647004
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21390790A Pending JPH0495859A (ja) | 1990-08-13 | 1990-08-13 | プリント板光学検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0495859A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5633121A (en) * | 1993-04-21 | 1997-05-27 | Fujitsu Limited | Method for examining surface of copper layer in circuit board and process for producing circuit board |
JP2007529878A (ja) * | 2004-03-18 | 2007-10-25 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | 回転ディスク型イオン注入装置のインサイチュー監視 |
US7753287B2 (en) | 2002-05-08 | 2010-07-13 | Fico Cables, S.A. | Cleaning system for headlamps of motor vehicles |
-
1990
- 1990-08-13 JP JP21390790A patent/JPH0495859A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5633121A (en) * | 1993-04-21 | 1997-05-27 | Fujitsu Limited | Method for examining surface of copper layer in circuit board and process for producing circuit board |
US7753287B2 (en) | 2002-05-08 | 2010-07-13 | Fico Cables, S.A. | Cleaning system for headlamps of motor vehicles |
JP2007529878A (ja) * | 2004-03-18 | 2007-10-25 | アクセリス テクノロジーズ インコーポレーテッド | 回転ディスク型イオン注入装置のインサイチュー監視 |
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