[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPH0493042A - Recognition method of chip of semiconductor wafer - Google Patents

Recognition method of chip of semiconductor wafer

Info

Publication number
JPH0493042A
JPH0493042A JP21233790A JP21233790A JPH0493042A JP H0493042 A JPH0493042 A JP H0493042A JP 21233790 A JP21233790 A JP 21233790A JP 21233790 A JP21233790 A JP 21233790A JP H0493042 A JPH0493042 A JP H0493042A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chip
semiconductor wafer
chips
axis direction
recognized
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21233790A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshimitsu Kido
城戸 利光
Takaaki Tanaka
孝明 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electronics Corp filed Critical Matsushita Electronics Corp
Priority to JP21233790A priority Critical patent/JPH0493042A/en
Publication of JPH0493042A publication Critical patent/JPH0493042A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To recognize a chip without any wasteful movement and to prevent the chip from being recognized erroneously by a method wherein, on the basis of a chip arrangement data in a previously stored front-row data table, the chip is recognized only in a position where the chip on a semiconductor wafer is situated. CONSTITUTION:Chips 2 formed on a semiconductor wafer 1 are recognized while the semiconductor wafer 1 is being moved in the X-axis direction by an intercentral distance xc of the chips 2 in the X-axis direction and it is being removed in the Y-axis direction by an intercentral distance yc of the chips 2 in the Y-axis direction. At this time, on the basis of a chip arrangement data of the chips 2, the semiconductor wafer is moved only to positions where the chips of the semiconductor wafer 1 exist and the chips are recognized only in the positions. In this case, individual data such as a distance df from the central point 0 of the semiconductor wafer 1 to the center of the chip 2 which is recognized first, the movement data xc and yc as the intercentral distances of the chips 2, 2 in the X-axis direction and the Y-axis direction are stored in a control device used to recognize the chips 2 of the semiconductor chip 1.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体ウェハに第1軸方向およびこの第1
軸方向と直交する第2軸方向に対し7トリクス状に整列
状態で形成されたチップの表面の不良インクの付着の有
無を認識することによって、半導体ウェハのチップの良
・不良を認識する半導体ウェハのチップ認識方法に関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] This invention provides a semiconductor wafer with a first axial direction and a second axis.
A semiconductor wafer that recognizes whether the chips of the semiconductor wafer are good or bad by recognizing the presence or absence of defective ink on the surface of the chips formed in a 7-trix array with respect to a second axis direction perpendicular to the axial direction. The present invention relates to a chip recognition method.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、半導体素子であるチップを半導体ウェハの状態で
認識する場合、まずX軸方向(第1軸方向)およびY軸
方向(第1軸方向と直交する第2軸方向)の移動データ
X。+  ycおよび半導体ウェハの最外円周部チップ
領域までの半径Rをパラメータとして、チップの認識を
行うための制御装置に入力しておく。なお、上記の移動
データX。
Conventionally, when recognizing a chip, which is a semiconductor element, in the state of a semiconductor wafer, first movement data X in the X-axis direction (first axis direction) and Y-axis direction (second axis direction perpendicular to the first axis direction) is obtained. +yc and the radius R to the outermost circumferential chip area of the semiconductor wafer are input as parameters to a control device for chip recognition. Note that the above movement data X.

は半導体ウェハのX軸方向のチップ中心間距離に相当す
る値に設定され、移動データy。は半導体ウェハのY軸
方向のチップ中心間距離に相当する値に設定される。
is set to a value corresponding to the distance between chip centers in the X-axis direction of the semiconductor wafer, and the movement data y. is set to a value corresponding to the distance between chip centers in the Y-axis direction of the semiconductor wafer.

従来の半導体ウェハのチップ認識方法では、第3図に示
すように、X軸方向およびY軸方向に対しマトリクス状
に整列状態でチップ12か形成された半導体ウェハ11
の中心点0をX−Y座標(0,O)とし、任意の停止点
(例えば、チップ認識用の撮像素子の直下の位置に対応
する)の位置を座標(x、  y)とする。そして、移
動データXCたけX軸方向に半導体ウェノ司1を移動さ
せた後の位置を座標(x’、y)とすると、移動後の位
置か移動範囲を越えていないかとうかを、第(1)式で
確認する。
In the conventional semiconductor wafer chip recognition method, as shown in FIG.
Let the center point 0 be the X-Y coordinates (0, O), and let the position of an arbitrary stopping point (for example, corresponding to the position directly below the image sensor for chip recognition) be the coordinates (x, y). Then, if the position after moving the semiconductor wafer 1 in the X-axis direction by the movement data XC is the coordinate (x', y), then the (1st ) Check with the formula.

x’  ”+y2<R2・・  (1)上式か成立すれ
ば、次点へ移動させる。例えば、現在位置か0点である
場合には、第(1)式か成立するので、つぎの0点へ移
動する。
x'''+y2<R2... (1) If the above equation holds true, move to the next point.For example, if the current position is 0 point, the equation (1) holds, so move to the next 0 point. Move to a point.

上記の第(1)式か成立しなかった場合(例えば、現在
位置かA点てあって矢印A。に示すように半導体ウェハ
11を移動させたとき)、座標(Xy)の現在位置から
矢印A、に示すように移動データy。たけ移動させた後
の位置を座標(X。
If the above equation (1) does not hold (for example, when the current position is at point A and the semiconductor wafer 11 is moved as shown by arrow A), from the current position of coordinates (Xy) to the arrow Movement data y as shown in A. The position after being moved by the distance is the coordinate (X.

y′)とすると、移動後の位置か移動範囲を越えている
かどうかを第(2)式により確認する。
y'), it is checked by equation (2) whether the position after movement exceeds the movement range.

x2 +y’ 2 <R2・ ・(2)上式が成立すれ
ば、A点から延びた矢印A2゜A3のように、座標(x
、y’)の位置からxc lずつX軸方向に移動させた
場合について、各点か移動範囲を越えるかとうかを調へ
、移動範囲内で限界の位置へと移動させ、X軸方向の移
動方向を反転させる。
x2 +y' 2 <R2... (2) If the above formula holds true, the coordinates (x
, y') in the X-axis direction by xc l, check whether each point exceeds the movement range, move it to the limit position within the movement range, and move in the X-axis direction. Reverse direction.

上記の第(2)式が成立しなかった場合(例えば、現在
位置かB点である場合)、B点から延びる矢印B1のよ
うに、座標(x、y′)の位置からXo lずつX軸方
向と逆方向に移動させた場合、移動範囲にあるかどうか
を調へ、移動範囲にある位置へ移動させてX軸方向の移
動方向を反転させる。
If the above equation (2) does not hold (for example, if the current position is the point B), as shown by the arrow B1 extending from the point B, X When moving in the opposite direction to the axial direction, the moving direction in the X-axis direction is reversed by checking whether it is within the moving range or not, and then moving to a position within the moving range.

なお、第3図のおける矢印上のX印は、その方向に移動
すると移動範囲から外れることを意味している。
Note that the X mark on the arrow in FIG. 3 means that if you move in that direction, you will be out of the movement range.

このように、半径R内を移動範囲として半導体ウェハ1
1を移動させなから、その領域内のチップを認識してい
た。
In this way, the semiconductor wafer 1 is moved within the radius R.
1 was not moved, so the chips in that area were recognized.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが、上記の半導体ウェハのチップ認識方法による
と、半導体ウェハ11の中心点Oの位置のばらつきを考
慮すると、移動範囲を決める半径Rの値を大きめに設定
する必要かある。また、半導体ウェハ11のチップ12
の配列状態により、半径R内の領域であってもチップと
して使用しない部分までチップ認識を行うことになる。
However, according to the semiconductor wafer chip recognition method described above, when considering the variation in the position of the center point O of the semiconductor wafer 11, it is necessary to set the value of the radius R that determines the movement range to a large value. In addition, the chip 12 of the semiconductor wafer 11
Depending on the arrangement state, chip recognition is performed even in the area within the radius R that is not used as a chip.

このため、無駄なチップ認識動作を行うことになり、半
導体ウェハ11の全体のチップ認識に時間を要するとい
う問題があった。
Therefore, there is a problem in that a wasteful chip recognition operation is performed and it takes time to recognize the chips on the entire semiconductor wafer 11.

また、半導体ウェハ11の周辺部のチップか欠けた部分
は、チップとしての加工がなされておらず、表面か鏡面
である場合かあり、不良インクか認識できず、誤って良
品として処理することがあった。
In addition, chipped or chipped parts around the periphery of the semiconductor wafer 11 have not been processed into chips and may have a surface or mirror surface, making it difficult to recognize whether it is defective ink or being mistakenly treated as a good product. there were.

したがって、この発明の目的は、無駄な動作なくチップ
認識を行うことができるとともに、チップの誤認識を防
止することかできる半導体ウェハのチップ認識方法を提
供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a semiconductor wafer chip recognition method that can perform chip recognition without unnecessary operations and can prevent erroneous chip recognition.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

この発明の半導体ウェハのチップ認識方法は、半導体ウ
ェハに第1軸方向およびこの第1軸方向と直交する第2
軸方向に対しマ(・リクス状に整列状態で形成されたチ
ップを、前記半導体ウェハを第1軸方向のチップ中心間
距離ずつ第1軸方向に移動させるとともに第2軸方向の
チップ中心間距離ずつ第2軸方向に移動させながら、認
識する際に、 前記半導体ウェハにおけるチップの存在位置を示すチッ
プ配列データを配列データテーブルに予め格納しておき
、前記配列データテーブル中のチップ配列データに基づ
いて前記半導体ウェハのチップの存在する位置でのみチ
ップの認識を行うことを特徴とする。
In the semiconductor wafer chip recognition method of the present invention, the semiconductor wafer has a first axial direction and a second axial direction orthogonal to the first axial direction.
The semiconductor wafer is moved in the first axis direction by the distance between the chip centers in the first axis direction, and the chips formed in a matrix alignment state in the axial direction are moved in the first axis direction. At the time of recognition while moving each chip in the second axis direction, chip array data indicating the existing position of the chip on the semiconductor wafer is stored in advance in an array data table, and the chip array data is used based on the chip array data in the array data table. The semiconductor wafer is characterized in that chips are recognized only at positions where chips exist on the semiconductor wafer.

〔作   用〕[For production]

この発明の構成によれば、配列データテーブルに予め格
納しておいたチップ配列データに基づいて、半導体ウェ
ハのチップの存在する位置でのみチップの認識を行うた
め、無駄のない、そして誤認識が少なく認識動作を行う
ことか可能となる。
According to the configuration of the present invention, chips are recognized only at the positions where chips exist on the semiconductor wafer based on the chip array data stored in advance in the array data table, so that there is no waste and no erroneous recognition. This makes it possible to perform fewer recognition operations.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下、この発明の一実施例を第1図および第2図に基つ
いて説明する。この半導体ウェハのチップ認識方法の実
施例では、第1図(a)に示すように、半導体ウェハ1
にX軸方向(第1軸方向)およびこのX軸方向と直交す
るY軸方向(第2軸方向)に対しマトリクス状に整列状
態で形成されたチップ2を、半導体ウェハ1をX軸方向
のチップ2の中心間距離X。ずつ(第1図(b)参照)
X軸方向に移動させるとともにY軸方向のチップ2の中
心間距離y。ずつ(第1図(b)参照)Y軸方向に移動
させながら、認識する際に、 第1図(C)のような半導体ウェハ1におけるチップ2
の存在位置を示すチップ配列データを配列データテーブ
ルに予め格納しておき、配列データテーブル中のチップ
配列データに基づいて半導体ウェハlのチップの存在す
る位置にのみ移動してその位置でのみチップの認識を行
うことを特徴とする。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2. In this embodiment of the semiconductor wafer chip recognition method, as shown in FIG.
The semiconductor wafer 1 is aligned in the X-axis direction (first axis direction) and the Y-axis direction (second axis direction) perpendicular to the X-axis direction. Distance between centers of chips 2 (See Figure 1 (b))
While moving in the X-axis direction, the distance y between the centers of the chips 2 in the Y-axis direction. When recognizing the chips 2 on the semiconductor wafer 1 as shown in FIG. 1(C) while moving them in the Y-axis direction (see FIG. 1(b)),
The chip array data indicating the existing position of the chip is stored in the array data table in advance, and the chip is moved only to the position where the chip exists on the semiconductor wafer l based on the chip array data in the array data table, and the chip is placed only at that position. It is characterized by recognition.

この場合、半導体ウェハ1のチップ2の認識を行うため
の制御装置には、配列データテーブルの他に、半導体ウ
ェハ1の中心点0から最初に認識するチップ2の中心ま
ての距離df、X軸方向およびY軸方向のチップ2.2
の中心間距離である移動データX。および3’cの各デ
ータを格納している。
In this case, the control device for recognizing the chips 2 on the semiconductor wafer 1 includes, in addition to the array data table, the distance df from the center point 0 of the semiconductor wafer 1 to the center of the chip 2 that is first recognized; Axial and Y-axis tip 2.2
Movement data X, which is the center-to-center distance. and 3'c are stored.

以下、この半導体ウェハのチップ認識方法を詳しく説明
する。
This semiconductor wafer chip recognition method will be described in detail below.

第1図(a)の斜線部は半導体ウェハ1内でチップとし
て使用しない部分であり、それ以外の部分はチップ2と
して使用する部分である。第1図(b)は第1図(a)
の一部分の拡大図であり、移動データXCおよびy。を
示している。
The shaded portion in FIG. 1(a) is a portion of the semiconductor wafer 1 that is not used as a chip, and the other portions are portions that are used as a chip 2. Figure 1(b) is Figure 1(a)
is an enlarged view of a portion of movement data XC and y. It shows.

第1図(C)は半導体ウェハ1において、チップ2の部
分が’ l ” 、チップでない部分か0″というチッ
プ配列データを格納した配列データテーブルてあり、格
納されているチップ配列データは、第1図(a)の半導
体ウェハ1のチップ2の存在位置に対応している。配列
データテーブルのデータ配列は、列方向かn個の大きさ
で、行方向かm個の大きさであり、nおよびmは半導体
ウェハ1内のY軸方向およびX軸方向のチップ2の数よ
り大きくとっている。
FIG. 1(C) shows an array data table storing chip array data in which the chip 2 portion is 'l'' and the non-chip portion is 0'' in the semiconductor wafer 1. This corresponds to the position of the chip 2 on the semiconductor wafer 1 shown in FIG. 1(a). The data array of the array data table has a size of n pieces in the column direction and a size of m pieces in the row direction, where n and m are the numbers of chips 2 in the Y-axis direction and the X-axis direction in the semiconductor wafer 1. It is larger.

チップ認識のための制御装置は、この第1図(C)の配
列データテーブルを元にして、チップ2の存在する位置
にのみ移動してチップ2の認識を行う。
The control device for chip recognition recognizes the chip 2 by moving only to the position where the chip 2 is present based on the array data table shown in FIG. 1(C).

なお、制御装置には、この配列データの他に、上記した
ように、最初に認識するチップ2まての移動データdf
、X方向およびY方向における半導体ウェハ1のチップ
2の中心間距離X。およびy。
In addition to this array data, the control device also contains the movement data df of the chip 2 that is first recognized, as described above.
, the distance X between the centers of the chips 2 of the semiconductor wafer 1 in the X and Y directions. and y.

が入力される。is input.

まず、半導体ウェハ1を移動データdfたけ移動させ、
配列データの0行目で、O列目から進めて最初にデータ
か゛″ビ°なる点、第1図(C)て3列目の(列9行)
の座標の(3,0)の位置へ進ませる。以下、配列デー
タの位置を(列1行)の座標で表す。
First, the semiconductor wafer 1 is moved by the movement data df,
In the 0th row of the array data, the first point where the data is viewed starting from the 0th column, the 3rd column (column 9th row) in Figure 1 (C)
Proceed to position (3,0) of coordinates. Hereinafter, the position of the array data will be expressed by the coordinates of (column, 1 row).

移動順序は、第1図(a)において、矢印のように移動
する。
The movement order is as indicated by the arrows in FIG. 1(a).

現在位置が配列データの座標(x、  y)である時、
次点へ進ませる場合、その前に第(3)式および第(4
)式を確認する。
When the current position is the coordinates (x, y) of the array data,
When advancing to the runner-up, formula (3) and (4) must be
) Check the formula.

Xの進行方向 子方向 (x+a、y) −”ビ°     ・ ・ (3)た
だし、aはX−a≧0の範囲で第(3)式か成立するま
てlずつ減少させる。第2図(a)、 (C)の場合)
Xの進行方向・一方向 (x+a、y) −’“ビ′     ・・・・・・(
4)たたし、aはx +a≦nの範囲で第(4)式か成
立するまて1ずつ増加させる。第2図(b)、 (d)
の場合)上記第(3)式および第(4)式か成立すれば
、現在位置から移動データX。の8倍て、値aの符号と
逆方向に移動させる。つまり、チップでない位置には、
停止せず、つぎのチップ2の位置まていつきに移動する
ことになる。
Direction of movement of X Child direction (x + a, y) - "V° ・ ・ (3) However, a is decreased by l until formula (3) holds within the range of X - a ≧ 0. Fig. 2 (a), (C))
Direction of movement of X/One direction (x+a, y) −'“Bi’ ・・・・・・(
4) Then, a is increased by 1 until the formula (4) is satisfied in the range of x+a≦n. Figure 2 (b), (d)
) If the above equations (3) and (4) are satisfied, move data X from the current position. 8 times in the direction opposite to the sign of the value a. In other words, in the non-chip position,
It does not stop and moves steadily to the next chip 2 position.

第(3)式および第(4)式か成立しなければ、第(5
)式を確認する。
If the equations (3) and (4) do not hold, then the equation (5)
) Check the formula.

y−zの行の全てのデーター゛0″゛  ・・(5)上
記第(5)式か成立すれば、処理中の半導体ウェハの認
識処理を終了させる。
All data in the rows y-z are ``0''''... (5) If the above equation (5) is satisfied, the recognition process of the semiconductor wafer being processed is terminated.

上記第(5)式が成立しなければ、yをまたけ増加させ
、Xの進行方向を反転させて、第(3)式および第(4
)式を確認する。第(3)式または第(4)式の成立し
た位置へ移動データXCの8倍で、値aの符号と逆方向
に移動させるとともに、一方向へ移動ブタy。たけ移動
させる。
If the above formula (5) does not hold, y is increased over y, the direction of movement of X is reversed, and formulas (3) and (4)
) Check the formula. The pig y is moved to the position where the equation (3) or the equation (4) is satisfied by 8 times the movement data XC in the direction opposite to the sign of the value a, and the pig y is moved in one direction. Move the height.

以上のように、チップ2の存在位置からつぎの存在位置
まで一度に移動し、移動毎にチップ2の認識を行う。つ
まり、チップ2として使用する位置のみ、チップ2の認
識を行うことになる。
As described above, the chip 2 is moved from one location to the next location all at once, and the chip 2 is recognized each time it is moved. In other words, the chip 2 is recognized only at the position used as the chip 2.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この発明の半導体ウェハのチップ認識方法によれば、配
列データテーブルを参照してチップとして使用する位置
のみチップの認識を行うため、無駄のない動作が可能と
なり、チップに使用しない部分をチップとして使用する
誤認識を無くすことができる。
According to the semiconductor wafer chip recognition method of the present invention, chips are recognized only at positions to be used as chips by referring to the array data table, so that efficient operation is possible, and parts that are not used for chips are used as chips. It is possible to eliminate misrecognition caused by

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(a)はこの発明の一実施例の半導体ウェハのチ
ップ認識方法を説明するための半導体ウェハの平面図、
第1図(b)は第1図(a)の一部分の拡大図、第1図
(C)はその半導体ウェハに対応する箇所の配列データ
を示す説明図、第2図(a)、 (b)はそれぞれ半導
体ウェハのチップ認識方法の手順を示す半導体ウェハの
平面図、第2図(C)、 (d)はそれぞれ第2図(a
)、 (b)に対応したチップ配列データを示す図、第
3図は従来の半導体ウェハのチップ認識方法を示す半導
体ウェハの平面図である。
FIG. 1(a) is a plan view of a semiconductor wafer for explaining a semiconductor wafer chip recognition method according to an embodiment of the present invention;
FIG. 1(b) is an enlarged view of a part of FIG. 1(a), FIG. 1(C) is an explanatory diagram showing the array data of the location corresponding to the semiconductor wafer, and FIGS. 2(a) and (b). ) is a plan view of a semiconductor wafer showing the steps of the semiconductor wafer chip recognition method, and FIGS. 2(C) and (d) are respectively FIG. 2(a).
), FIG. 3 is a plan view of a semiconductor wafer showing a conventional semiconductor wafer chip recognition method.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  半導体ウェハに第1軸方向およびこの第1軸方向と直
交する第2軸方向に対しマトリクス状に整列状態で形成
されたチップを、前記半導体ウェハを第1軸方向のチッ
プ中心間距離ずつ第1軸方向に移動させるとともに第2
軸方向のチップ中心間距離ずつ第2軸方向に移動させな
がら、認識する際に、 前記半導体ウェハにおけるチップの存在位置を示すチッ
プ配列データを配列データテーブルに予め格納しておき
、前記配列データテーブル中のチップ配列データに基づ
いて前記半導体ウェハのチップの存在する位置でのみチ
ップの認識を行うことを特徴とする半導体ウェハのチッ
プ認識方法。
[Scope of Claims] Chips formed on a semiconductor wafer in a matrix-like alignment with respect to a first axis direction and a second axis direction orthogonal to the first axis direction; While moving in the first axis direction by the distance between the centers,
When recognizing the chip while moving it in the second axis direction by the distance between the chip centers in the axial direction, chip array data indicating the existing position of the chip on the semiconductor wafer is stored in advance in an array data table, and the chip array data is stored in the array data table in advance. A method for recognizing chips on a semiconductor wafer, characterized in that chips are recognized only at positions of the semiconductor wafer where chips exist based on chip array data therein.
JP21233790A 1990-08-08 1990-08-08 Recognition method of chip of semiconductor wafer Pending JPH0493042A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21233790A JPH0493042A (en) 1990-08-08 1990-08-08 Recognition method of chip of semiconductor wafer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21233790A JPH0493042A (en) 1990-08-08 1990-08-08 Recognition method of chip of semiconductor wafer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0493042A true JPH0493042A (en) 1992-03-25

Family

ID=16620870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21233790A Pending JPH0493042A (en) 1990-08-08 1990-08-08 Recognition method of chip of semiconductor wafer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0493042A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009283977A (en) * 2009-08-21 2009-12-03 Hitachi High-Technologies Corp Inspection device and method
JP2012208128A (en) * 2012-07-10 2012-10-25 Hitachi High-Technologies Corp Inspection device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009283977A (en) * 2009-08-21 2009-12-03 Hitachi High-Technologies Corp Inspection device and method
JP2012208128A (en) * 2012-07-10 2012-10-25 Hitachi High-Technologies Corp Inspection device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH03228591A (en) Work holding device, work and storing case thereof
JPH0493042A (en) Recognition method of chip of semiconductor wafer
KR100557202B1 (en) The device for detecting variation about a stop position of moving matter
US5007097A (en) Lead&#39;s position recognizing device
US5109432A (en) Character recognition method
CN114077162A (en) Photoetching system, substrate handover system and exposure method
JP3247495B2 (en) Substrate processing apparatus, position setting method of substrate transfer machine, and boat state detection method
KR100716552B1 (en) Die attach method
JPH05347326A (en) Method of setting capillary in wire bonding device
JPH08222611A (en) Aligning method for wafer
CN113562465B (en) Visual guiding method and system for sheet placement
JP3033453B2 (en) Small chip sensing method
JPS63140548A (en) Alignment method of planar object
JPH0212847A (en) Integrated circuit device
JPH0211018B2 (en)
JPH07335722A (en) Alignment method of substrate
US20240075625A1 (en) Assembling apparatus, assembling method and computer readable storage medium
JPH0360943A (en) Work positioning method by locating pin
CN111929994A (en) Wafer exposure machine and wafer exposure method
JPS6059736B2 (en) Item position detection method
JP3749021B2 (en) Electronic component data input device and electronic component data input method
JPS62287108A (en) Measuring method for position of electronic parts
JPS62297035A (en) Automatic work device
JP3973668B2 (en) Electronic component data input device
JPH08298236A (en) Pattern exposure method and device