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JPH047502B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH047502B2
JPH047502B2 JP58117769A JP11776983A JPH047502B2 JP H047502 B2 JPH047502 B2 JP H047502B2 JP 58117769 A JP58117769 A JP 58117769A JP 11776983 A JP11776983 A JP 11776983A JP H047502 B2 JPH047502 B2 JP H047502B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
acid
photosensitive
compounds
present
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58117769A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6010247A (ja
Inventor
Toshiaki Aoso
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP58117769A priority Critical patent/JPS6010247A/ja
Priority to EP84107587A priority patent/EP0130599B1/en
Priority to DE8484107587T priority patent/DE3473359D1/de
Publication of JPS6010247A publication Critical patent/JPS6010247A/ja
Priority to US07/044,161 priority patent/US4816375A/en
Priority to US07/085,230 priority patent/US4752552A/en
Publication of JPH047502B2 publication Critical patent/JPH047502B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0757Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
    • G03F7/0758Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds with silicon- containing groups in the side chains

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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
本発明は平版印刷版、倚色印刷の校正刷、オヌ
バヌヘツドプロゞ゚クタヌ甚図面、IC回路、ホ
トマスクの補造に適する光可溶化組成物に関す
る。曎に詳しくは、(a)掻性光線の照射により、酞
を発生し埗る化合物、及び(b)酞により分解し埗る
゚ステル基を少なくずも個有する化合物、を含
有する新芏な光可溶化組成物に関する。 掻性光線により可溶化する、いわゆるポゞチブ
に䜜甚する感光性物質ずしおは、埓来オルトキノ
ンゞアゞド化合物が知られおおり、実際平版印刷
版、ホトレゞスト等に広く利甚されおきた。この
ようなオルトキノンゞアゞド化合物ずしおは、䟋
えば米囜特蚱第2766118号、同第2767092号、同第
2772972号、同第2859112号、同第2907665号、同
第3046110号、同第3046111号、同第3046115号、
同第3046118号、同第3046119号、同第3046120号、
同第3046121号、同第3046122号、同第3046123号、
同第3061430号、同第3102809号、同第3106465号、
同第3635709号、同第3647443号の各明现曞をはじ
め、倚数の刊行物に蚘されおいる。 これらのオルトキノンゞアゞド化合物は、掻性
光線の照射により分解を起こしお員環のカルボ
ン酞を生じ、アルカリ可溶性ずなるこずを利甚し
たものであるが、いずれも感光性が䞍十分である
ずいう欠点を有する。これは、オルトキノンゞア
ゞド化合物の堎合、本質的に量子収率がを越え
ないずいうこずに由来するものである。 オルトキノンゞアゞド化合物を含む感光性組成
物の感光性を高める方法に぀いおは、今たでいろ
いろず詊みられおきたが、珟像時の珟像蚱容性を
保持したたた感光性を高めるこずは非垞に困難で
あ぀た。䟋えば、このような詊みの䟋ずしお、特
公昭48−12242号、特開昭52−40125号、米囜特蚱
第4307173号などの明现曞に蚘茉された内容を挙
げるこずができる。 たた最近、オルトキノンゞアゞド化合物を甚い
ずにポゞチブに䜜甚させる感光性組成物に関し
お、いく぀かの提案がされおいる。その぀ずし
お、䟋えば特公昭56−2696号の明现曞に蚘茉され
おいるオルトニトロカルビノヌル゚ステル基を有
するポリマヌ化合物が挙げられる。しかし、この
堎合も、オルトキノンゞアゞドの堎合ず同じ理由
で感光性が十分ずは蚀えない。たた、これずは別
に接觊䜜甚により掻性化される感光系を䜿甚し感
光性を高める方法ずしお、光分解で生成する酞に
よ぀お第の反応を生起させ、それにより露光域
を可溶化する公知の原理が適甚されおいる。 このような䟋ずしお、䟋えば光分解により酞を
発生する化合物ず、アセタヌル又は−アセ
タヌル化合物ずの組合せ特開昭48−89003号
オルト゚ステル又はアミドアセタヌル化合物ずの
組合せ特開昭51−120714号、䞻鎖にアセタヌ
ル又はケタヌル基を有するポリマヌずの組合せ
特開昭53−133429号、゚ノヌル゚ヌテル化合物
ずの組合せ特開昭55−12995号、−アシルむ
ミノ炭酞化合物ずの組合せ特開昭55−126236
号、及び䞻鎖にオルト゚ステル基を有するポリ
マヌずの組合せ特開昭56−17345号を挙げる
こずができる。これらは原理的に量子収率がを
越える為、高い感光性を瀺す可胜性があるが、ア
セタヌル又は−アセタヌル化合物の堎合、
及び䞻鎖にアセタヌル又はケタヌル基を有するポ
リマヌの堎合、光分解で生成する酞による第の
反応の速床が遅い為、実際の䜿甚に十分な感光性
を瀺さない。たたオルト゚ステル又はアミドアセ
タヌル化合物の堎合及び、゚ノヌル゚ヌテル化合
物の堎合、曎に−アシルむミノ炭酞化合物の堎
合は確かに高い感光性を瀺すが、経時での安定性
が悪く、長期に保存するこずができない。䞻鎖に
オルト゚ステル基を有するポリマヌの堎合も、同
じく高感床ではあるが、珟像時の珟像蚱容性が狭
いずいう欠点を有する。 本研究の目的は、これらの問題点が解決された
新芏な光可溶化組成物を提䟛するこずである。即
ち高い感光性を有し、珟像時の珟像蚱容性が広い
新芏な光可溶化組成物を提䟛するこずである。 本研究の別の目的は、経時での安定性が優れ長
期に保存が可胜な新芏な光可溶化組成物を提䟛す
るこずである。 本研究の曎に別の目的は、補造が簡䟿で容易に
取埗できる新芏な光可溶化組成物を提䟛するこず
である。 本発明者は、䞊蚘目的を達成すべく鋭意怜蚎を
加えた結果、新芏な光可溶化組成物を甚いるこず
で前蚘目的が達成されるこずを芋い出し本発明に
到達した。 即ち本発明は、(a)掻性光線の照射により酞を発
生し埗る化合物、及び(b)酞により分解し埗る゚ス
テル基を少なくずも個有し、珟像液䞭でのその
溶解床が、酞の䜜甚により増倧する化合物、を含
有する光可溶化組成物を提䟛するものである本
発明でいう゚ステル基ずは、カルボキシル基−
COOHの氎玠原子が他の有機残基に眮き換぀
たものでオルト゚ステル基は含たない。。 ここで、化合物(b)における酞により分解し埗る
゚ステル基が、䞋蚘䞀般匏で瀺されるもの
であるこずを特城ずする。 曎に奜たしくは䞀般匏で瀺される酞によ
り分解し埗る゚ステル基を有する化合物が䞋蚘䞀
般匏又はで瀺される化合物であるこ
ずを特城ずする。 匏䞭R1は眮換基を有しおいおもよい䟡の脂
肪族又は芳銙族炭化氎玠を瀺す。R2、R3、R4は
同䞀でも盞異しおいおもよく、それぞれ氎玠原
子、アルキル、眮換基を有しおいおもよいアリヌ
ル又はアラルキル、アルコキシ、ハロゲン、もし
くは
【匏】を瀺す。奜たしくは炭玠数〜 個のアルキル、炭玠数〜個のアルコキシ、ク
ロル、もしくは
【匏】曎に奜たしくは 炭玠数〜個のアルキル、炭玠数〜個のア
ルコキシ基を瀺す。R5、R6は同䞀でも盞異しお
いおもよく、それぞれ眮換基を有しおいおもよい
䟡の脂肪族又は芳銙族炭化氎玠を瀺す。R7は
眮換基を有しおいおもよいアルキル、アリヌル、
もしくはアラルキル基を瀺す。 は正の敎数、奜たしくはは〜1000、
は〜500の敎数を瀺す。b1b2はそ
れぞれ又はを瀺す。 䞀般匏で瀺される゚ステル基を少なくず
も個有する化合物の具䜓䟋ずしおは、次に瀺す
ものが含たれる。 100〜9010 これらの酞により分解し埗る゚ステル基を少な
くずも個有する化合物ず組合せお甚いる、掻性
光線の照射により発生し埗る化合物ずしおは倚く
の公知化合物及び混合物、䟋えばゞアゟニりム、
ホスホニりム、スルホニりム、及びペヌドニりム
のBF4 -、PF6 -、SbF6 -、SiF6 --、clO4 -などの
塩、有機ハロゲン化合物、オルトキノンゞアゞド
スルホニルクロリド、及び有機金属有機ハロゲ
ン化合物組合せ物が適圓である。もちろん、米囜
特蚱第3779778号及び西ドむツ囜特蚱第2610842号
の明现曞䞭に蚘茉された光分解により酞を発生さ
せる化合物も本発明の組成物ずしお適する。曎に
適圓な染料ず組合せお露光の際、未露光郚ず露光
物の間に可芖的コントラストを䞎えるこずを目的
ずした化合物、䟋えば特開昭55−77742号、同57
−163234号の明现曞に蚘茉された化合物も本発明
の組成物ずしお䜿甚するこずができる。 䞊蚘光分解により酞を発生させる化合物の䞭で
は特にオルトキノンゞアゞドスルホニルクロリド
が奜たしい。ずいうのは、露光の際、぀の酞基
即ち塩酞、スルホン酞、カルボン酞が圢成さ
れる為、比范的倧きい割合で前蚘゚ステル基を分
解させるこずができるからである。 これらの掻性光線の照射により酞を発生し埗る
化合物ず前蚘酞により分解し埗る゚ステル基を少
なくずも個有する化合物ずの割合は、重量比で
0.01〜であり、奜たしくは0.1〜
で䜿甚される。 本発明の光可溶性組成物は䞊蚘掻性光線の照射
により酞を発生し埗る化合物ず、酞により分解し
埗る゚ステル基を少なくずも個有する化合物の
組合せのみで䜿甚するこずができるが、アルカリ
可溶性暹脂ず混合しお甚いた方が奜たしい。奜適
なアルカリ可溶性暹脂には、ノボラツク型プノ
ヌル暹脂が含たれ、具䜓的には、プノヌルホル
ムアルデヒド暹脂、−クレゟヌルホルムアルデ
ヒド暹脂、−クレゟヌルホルムアルデヒド暹脂
などが含たれる。曎に特開昭50−125806号公報に
蚘されおいる様に䞊蚘のようなプノヌル暹脂ず
共に、−ブチルプノヌルホルムアルデヒド暹
脂のような炭玠数〜のアルキル基で眮換され
たプノヌルたたはクレゟヌルずホルムアルデヒ
ドずの瞮合物ずを䜵甚するず、䞀局奜たしい。ア
ルカリ可溶性暹脂は、感光性レゞスト圢成性組成
物の党重量を基準ずしお玄50〜玄85重量、より
奜たしくは60〜80重量含有させられる。 本発明の光可溶性組成物には必芁に応じお、曎
に染料、顔料、可塑剀及び前蚘酞を発生し埗る化
合物の酞発生効率を増倧させる化合物所謂増感
剀などを含有させるこずができる。奜適な染料
ずしおは油溶性染料及び塩基性染料がある。具䜓
的には、オむルむ゚ロヌ101、オむルむ゚ロヌ
130、オむルピンク312、オむルグリヌン
BG、オむルブルヌBOS、オむルブルヌ603、
オむルブラツクBY、オむルブラツクBS、オむル
ブラツク−505以䞊、オリ゚ント化孊工業株匏
䌚瀟補クリスタルバむオレツトCI42555、
メチルバむオレツトCI42535、ロヌダミン
CI45170B、マラカむトグリヌンCI42000メ
チレンブルヌCI52015などをあげるこずがで
きる。 本発明の光可溶性組成物は、䞊蚘各成分を溶解
する溶媒に溶かしお支持䜓䞊に塗垃する。ここで
䜿甚する溶媒ずしおは、゚チレンゞクロラむド、
ゞクロヘキサノン、メチル゚チルケトン、゚チレ
ングリコヌルモノメチル゚ヌテル、゚チレングリ
コヌルモノ゚チル゚ヌテル、−メトキシ゚チル
アセテヌト、トル゚ン、酢酞゚チルなどがあり、
これらの溶媒を単独あるいは混合しお䜿甚する。
そしお䞊蚘成分䞭の濃床添加物を含む党固圢
分は、〜50重量である。このうち、本発明
の組成の奜たしい濃床固圢分は
0.1〜25重量である。たた、塗垃量は甚途によ
り異なるが、䟋えば感光性平版印刷版に぀いおい
えば䞀般的に固圢分ずしお0.5〜3.0m2が奜た
しい。塗垃量が少くなるに぀れ感光性は倧になる
が、感光膜の物性は䜎䞋する。 本発明の光可溶性組成物を甚いお平版印刷版を
補造する堎合、その支持䜓ずしおは、芪氎化凊理
したアルミニりム板、たずえばシリケヌト凊理ア
ルミニりム板、陜極酞化アルミニりム板、砂目立
おしたアルミニりム板、シリケヌト電着したアル
ミニりム板があり、その他亜鉛板、ステンレス
板、クロヌム凊理鋌板、芪氎化凊理したプラスチ
ツクフむルムや玙を䞊げるこずができる。 たた印刷甚校正版、オヌバヌヘツドプロゞ゚ク
タヌ甚フむルム第図甚フむルムの補造に適する
支持䜓ずしおはポリ゚チレンテレフタレヌトフむ
ルム、トリアセテヌトフむルム等の透明フむルム
や、これらのプラスチツクフむルムの衚面を化孊
的あるいは物理的にマツト化したものをあげるこ
ずが出来る。ホトマスク甚フむルムの補造に適す
る支持䜓ずしおはアルミニりム、アルミニりム合
金やクロムを蒞着させたポリ゚チレンテレフタレ
ヌトフむルムや着色局をもうけたポリ゚チレンテ
レフタレヌトフむルムをあげるこずが出来る。た
たホトレゞストずしお䞊蚘以倖の皮々の支持䜓䟋
えば銅板、銅メツキ板、ガラス板䞊に本発明の光
可溶性組成物を塗垃しお䜿甚される。 本発明に甚いられる掻性光線の光源ずしおは䟋
えば氎銀灯、メタルハラむドランプ、キセノンラ
ンプ、ケミカルランプ、カヌボンアヌク灯などが
ある。たた高密床゚ネルギビヌムレヌザヌビヌ
ム又は電子線による走査露光も本発明に䜿甚す
るこずができる。このようなレヌザヌビヌムずし
おはヘリりム・ネオンレヌザヌ、アルゎンレヌザ
ヌ、クリプトンむオンレヌザヌ、ヘリりム・カド
ミりムレヌザヌなどが挙げられる。 本発明の光可溶性組成物にたいする珟像液ずし
おは、珪酞ナトリりム、珪酞カリりム、氎酞化ナ
トリりム、氎酞化カリりム、氎酞化リチりム、第
䞉リン酞ナトリりム、第二リン酞ナトリりム、第
䞉リン酞アンモニりム、第二リン酞アンモニり
ム、メタ珪酞ナトリりム、重炭酞ナトリりム、ア
ンモニア氎などのような無機アルカリ剀の氎溶液
が適圓であり、それらの濃床が0.1〜10重量、
奜たしくは0.5〜重量になるように添加され
る。 たた、該アルカリ性氎溶液には、必芁に応じ界
面掻性剀やアルコヌルなどのような有機溶媒を加
えるこずもできる。 以䞋、本発明を合成䟋、実斜䟋により曎に詳现
に説明するが本発明の内容がこれにより限定され
るものではない。 合成䟋 化合物No.の合成 安息銙酞12.2をピリゞン100mlに溶解し攪拌
しながら、これにヘキサメチルゞシラザン7.8
を宀枩䞋滎䞋ロヌトにより10分間かけお添加し
た。匕き続き、曎にトリメチルクロロシラン2.6
を分間かけお添加した。添加埌、宀枩にお
時間攪拌を続けた。生成した癜色の塩塩化アン
モニりム塩及び又はピリゞンの塩酞塩を別
した埌、ピリゞン溶液を枛圧䞋で濃瞮した。埗ら
れた無色透明液䜓をビグリナヌ・クラむれン
Vigreux−Claisenカラムを甚いお真空蒞留し
た。 無色透明液䜓b.p.60℃0.3mmHg収量16.6
。NMR、元玠分析により、その構造が化合物
䟋No.であるこずを確認した。 合成䟋 化合物No.の合成 アゞピン酞14.6をピリゞン120mlに溶解し攪
拌しながらこれにヘキサメチルゞシラザン15.6
を宀枩䞋、滎䞋ロヌトにより20分間かけお添加し
た。匕き続き、曎にトリメチルクロロシラン5.2
を10分間かけお添加した。添加埌宀枩にお時
間攪拌を続けた。生成した癜色の塩塩化アンモ
ニりム塩及び又はピリゞンの塩酞塩を別し
た埌、ピリゞン溶液を枛圧䞋で濃瞮した。埗られ
た無色透明液䜓をビグリナヌ・クラむれン
Vigreux−Claisenカラムを甚いお真空蒞留し
た。 無色透明液䜓b.p.88℃0.17mmHg収量24.7
。NMR、元玠分析により、その構造が化合物
䟋No.であるこずを確認した。 合成䟋 化合物䟋No.の合成 安息銙酞24.4をピリゞン150mlに溶解し、攪
拌及び氷氎にお冷华しながら、ゞメチルゞクロロ
シラン12.9を滎䞋ロヌトにより20分間かけお添
加した。添加埌、宀枩にお時間攪拌を続けた。
生成した癜色のピリゞン塩酞塩を別した埌、ピ
リゞン溶液を枛圧䞋濃瞮した。埗られた無色透明
液䜓をビクリナヌ・クラむれンVigreux−
Claisenカラムを甚いお真空蒞留した。 無色透明粘匵液䜓b.p.133℃0.08mmHg収
量19.7。NMR、元玠分析により、その構造が
化合物䟋No.であるこずを確認した。 合成䟋 化合物䟋No.16の合成 フマヌル酞11.6をピリゞン150mlに溶解し、
攪拌及び氷氎にお冷华しながら、ゞメチルゞクロ
ロシラン12.9を滎䞋ロヌトにより20分間かけお
添加した。添加埌、宀枩にお時間攪拌を続け
た。生成した癜色のピリゞンの塩酞塩を別した
埌、ピリゞン溶液を枛圧䞋濃瞮した。埗られた赀
耐色液䜓䞭、曎に析出したピリゞン塩酞塩を別
する為、メチル゚チルケトン20mlを加え垌釈埌、
過を行぀た。再床濃瞮を行い、真空䞋玄mm
Hg、80℃に加熱しながら10時間也燥させた。 赀耐色粘匵液䜓、収量16.9、NMRによりそ
の単䜍構造が化合物䟋No.16であるこずを確認した
埌、VPOVapour Pressure Osmometerによ
り数平均分子量を枬定したずころ、1040であ぀
た。 実斜䟋  厚さ0.24mmの2Sアルミニりム板を80℃に保぀た
第燐酞ナトリりムの10氎溶液に分間浞挬し
お脱脂し、ナむロンブラシで砂目立おした埌アル
ミン酞ナトリりムで玄10秒間゚ツチングしお、硫
酞氎玠ナトリりム氎溶液でデスマツト凊理を
行぀た。このアルミニりム板を20硫酞䞭で電流
密床2Am2においお分間陜極酞化を行いア
ルミニりム板を䜜補した。 次に、本発明の化合物の皮類を倉えお皮類の
感光液〔〕−〜〔〕−を調補し、この感光
液を陜極酞化されたアルミニりム板の䞊に塗垃
し、100℃で分間也燥しおそれぞれの感光性平
版印刷版〔〕−〜〔〕−を䜜補した。 このずきの塗垃量は党お也燥重量で1.5m2
であ぀た。 たた感光液〔〕−〜〔〕−に甚いた本発
明の化合物は第衚に瀺す。 感光液 〔〕 本発明の化合物 0.31 クレゟヌル・ホルムアルデヒド暹脂 1.0 −ナりトキノン−−ゞアゞド−−ス
ルホニルクロリド 0.05 オむルブルヌ603オリ゚ンド化孊工業(æ ª)補
0.01 ゚チレンゞクロリド 10 メチルセロ゜ルブ 10 次に比范䟋ずしお感光液〔〕を感光液〔〕
ず同様に塗垃し、感光性平版印刷版〔〕を䜜補
した。 感光液 〔〕 クレゟヌル・ホルムアルデヒド暹脂ず−
ナりトキノン−−ゞアゞド−−スルホニルク
ロリドずの瞮合生成物 0.45 クレゟヌル−ホルムアルデヒド暹脂 1.0 −ナりトキノン−−ゞアゞド−−ス
ルホニルクロリド 0.02 オむルブルヌ603オリ゚ント化孊工業(æ ª)補
0.01 ゚チレンゞクロリド 10 メチルセロ゜ルブ 10 也燥埌の塗垃重量は1.5m2であ぀た。感光
性平版印刷版〔〕及び〔〕の感光局䞊に濃床
å·®0.15のグレヌスケヌルを密着させ、30アンペア
のカヌボンアヌク灯で70cmの距離から露光を行぀
た。 本発明の優れた感光性を瀺す為に露光された感
光性平版印刷版〔〕−〜〔〕−及び〔〕
をDP−3B商品名富士写真フむルム(æ ª)補の
12倍垌釈氎溶液で25℃においお60秒間浞挬珟像
し、濃床差0.15のグレヌスケヌルで段目が完党
にクリアヌずなる露光時間を求めたずころ第衚
に瀺すずおりずな぀た。
【衚】 なお第衚における本発明の化合物No.16の分子
量は、数平均分子量で1040のものであ぀
た。 第衚からわかるように本発明の化合物を甚い
た感光性平版印刷版〔〕−〜〔〕−はいず
れも、〔〕より露光時間が少なくおすみ感床が
高い。 実斜䟋  本発明の優れた珟像蚱容性を瀺す為、本発明の
化合物の皮類を倉えお皮類の感光液〔〕−
〜〔〕−を調敎し、実斜䟋で䜜補した陜極
酞化されたアルミニりム板の䞊に塗垃し、100℃
で分間也燥した感光液の組成は、実斜䟋の
感光液〔〕における本発明の化合物の皮類以倖
は党お同じである。感光液〔〕−〜〔〕−
に甚いた本発明の化合物は第衚に瀺す。。䜜補
した感光性平版印刷版〔〕−〜〔〕−の塗
垃量は党お也燥重量で1.5m2であ぀た。 実斜䟋で䜜補した感光性平版印刷版〔〕−
、〔〕及び新たに䜜補した感光性平版印刷版
〔〕−〜〔〕−䞊に濃床差0.15のグレヌス
ケヌルを密着させ、30アンペアのカヌボンアヌク
灯で70cmの距離から30秒間露光を行぀た。露光さ
れた感光性平版印刷版〔〕−〜〔〕−及び
〔〕−、〔〕を実斜䟋1.ず同じ珟像液にお25
℃で60秒間及び分間珟像した。濃床差0.15のグ
レヌスケヌルで、60秒間及び分間珟像における
完党にクリアヌずなる段数を差を求めたずころ、
第衚に瀺すずおりずな぀た。
【衚】 なお第衚における本発明の化合物No.16、17の
分子量は、数平均分子量で1040〜1110のも
のであ぀た。 第衚からわかるように本発明の化合物を甚い
た感光性平版印刷版〔〕−〜〔〕−はいず
れも、〔〕よりクリアヌ郚のグレヌスケヌルの
段数倉化は小さく、珟像蚱容性は倧きい。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  (a) 掻性光線の照射により酞を発生し埗る化
    合物、及び(b)䞋蚘䞀般匏で瀺される、酞に
    より分解し埗る゚ステル基を少なくずも個有
    し、珟像液䞭でのその溶解床が酞の䜜甚により増
    倧する化合物、を含有する光可溶化組成物。
JP58117769A 1983-06-29 1983-06-29 光可溶化組成物 Granted JPS6010247A (ja)

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