JPH04266880A - 3 −dpa− ラクトンの製造方法 - Google Patents
3 −dpa− ラクトンの製造方法Info
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- JPH04266880A JPH04266880A JP3028882A JP2888291A JPH04266880A JP H04266880 A JPH04266880 A JP H04266880A JP 3028882 A JP3028882 A JP 3028882A JP 2888291 A JP2888291 A JP 2888291A JP H04266880 A JPH04266880 A JP H04266880A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
- C07D307/26—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D307/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D307/32—Oxygen atoms
- C07D307/33—Oxygen atoms in position 2, the oxygen atom being in its keto or unsubstituted enol form
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、3 −DPA− ラ
クトンの製造方法に関する。
クトンの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、医薬品、農薬等のファインケミカ
ル分野において、天然界に存在する含糖化合物や糖類似
化合物が有用な生理活性物質として注目されている。そ
のような糖類似化合物の1つとして、下記一般式(V)
で表わされる(2S、4S)−2− ヒドロキシ−4−
ヒドロキシメチル−4− ブタノリド(3 −DPA
− ラクトン)が知られている。
ル分野において、天然界に存在する含糖化合物や糖類似
化合物が有用な生理活性物質として注目されている。そ
のような糖類似化合物の1つとして、下記一般式(V)
で表わされる(2S、4S)−2− ヒドロキシ−4−
ヒドロキシメチル−4− ブタノリド(3 −DPA
− ラクトン)が知られている。
【0003】
【化2】
【0004】この3 −DPA− ラクトンは動物の体
液中に存在し、空腹時のラットにおいて血中濃度の増加
が観察されたり、その投与により摂食行動の誘発が観察
されることから、内因性摂食促進物質として知られてい
る(大村裕、清水宣明、「化学と生物」、22巻、 4
号、 228頁、およびその参考文献、O.Uchik
awa、N.Okukado 、T.Sakata、K
.Arase 、K.Terada、Bull.Che
m.Soc.Jpn.、61、2025(1988))
。
液中に存在し、空腹時のラットにおいて血中濃度の増加
が観察されたり、その投与により摂食行動の誘発が観察
されることから、内因性摂食促進物質として知られてい
る(大村裕、清水宣明、「化学と生物」、22巻、 4
号、 228頁、およびその参考文献、O.Uchik
awa、N.Okukado 、T.Sakata、K
.Arase 、K.Terada、Bull.Che
m.Soc.Jpn.、61、2025(1988))
。
【0005】したがって、3 −DPA− ラクトンは
、ヒトを含む動物の摂食行動の科学的解明に欠くことが
できないものであり、その結果得られた知見は食品、医
薬品、農薬の開発などに広く応用することが可能である
。 また、その摂食促進作用を利用して、例えば家畜用飼料
に配合することにより、家畜の肥育を図ることができる
。
、ヒトを含む動物の摂食行動の科学的解明に欠くことが
できないものであり、その結果得られた知見は食品、医
薬品、農薬の開発などに広く応用することが可能である
。 また、その摂食促進作用を利用して、例えば家畜用飼料
に配合することにより、家畜の肥育を図ることができる
。
【0006】3 −DPA− ラクトンは天然には微量
にしか存在せず、天然物から抽出により大量に入手する
ことは困難である。したがって、合成的手法により製造
しなければならない。
にしか存在せず、天然物から抽出により大量に入手する
ことは困難である。したがって、合成的手法により製造
しなければならない。
【0007】現在、3 −DPA− ラクトンの製造方
法としては、光学活性を有するL−リンゴ酸を出発原料
とする方法が知られている(O.Uchikawa、N
.Okukado 、T.Sakata、K.Aras
e 、K.Terada、Bull.Chem.Soc
.Jpn.、61、2025(1988))。この方法
においては、まず、(S)−3,4−O−イソプロピリ
デン−3,4− ジヒドロキシブタナールのカルボニル
基にグルニヤール反応によりビニル基を導入して3−D
PA− ラクトンの2位の水酸基を形成し、次にこのビ
ニル基をシャープレス法によって酸化的に開裂させてカ
ルボキシル基とすることによりγ−ラクトンを形成する
。
法としては、光学活性を有するL−リンゴ酸を出発原料
とする方法が知られている(O.Uchikawa、N
.Okukado 、T.Sakata、K.Aras
e 、K.Terada、Bull.Chem.Soc
.Jpn.、61、2025(1988))。この方法
においては、まず、(S)−3,4−O−イソプロピリ
デン−3,4− ジヒドロキシブタナールのカルボニル
基にグルニヤール反応によりビニル基を導入して3−D
PA− ラクトンの2位の水酸基を形成し、次にこのビ
ニル基をシャープレス法によって酸化的に開裂させてカ
ルボキシル基とすることによりγ−ラクトンを形成する
。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この合
成経路ではグリニヤール反応が立体選択的ではないため
、2位の水酸基に関して2種類のジアステレオマーが生
じてしまう。したがって、ラクトン形成後にそれらを分
離する必要があり、2位炭素についてS配置である目的
とする生成物の収率は約30%と低いものになってしま
う。
成経路ではグリニヤール反応が立体選択的ではないため
、2位の水酸基に関して2種類のジアステレオマーが生
じてしまう。したがって、ラクトン形成後にそれらを分
離する必要があり、2位炭素についてS配置である目的
とする生成物の収率は約30%と低いものになってしま
う。
【0009】また、直接の原料である、光学活性を有す
るヒドロキシアルデヒド自体についても、L−リンゴ酸
から6工程を経て製造しなければならず、その収率も2
5%である。このため、L−リンゴ酸から3 −DPA
− ラクトンまでは11工程を経なければならず、上述
のようにジアステレオマーを分離しなければならないこ
とを考慮すると、総収率はわずか 4%程度と非常に低
いものになってしまう。
るヒドロキシアルデヒド自体についても、L−リンゴ酸
から6工程を経て製造しなければならず、その収率も2
5%である。このため、L−リンゴ酸から3 −DPA
− ラクトンまでは11工程を経なければならず、上述
のようにジアステレオマーを分離しなければならないこ
とを考慮すると、総収率はわずか 4%程度と非常に低
いものになってしまう。
【0010】したがって、この発明の目的は、入手の容
易な原料から選択的に合成し、かつ高い収率で生成物を
得ることが可能な、3 −DPA− ラクトンの製造方
法を提供することにある。
易な原料から選択的に合成し、かつ高い収率で生成物を
得ることが可能な、3 −DPA− ラクトンの製造方
法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意研究を重ねた結果、γ− リボノラ
クトンを出発物質とし、水酸基の保護、脱離反応、接触
水素添加等を位置あるいは立体選択的にすすめることに
より、従来の製造法よりも短工程で、かつ収率よく3
−DPA− ラクトンを製造し得る経路を見出した。す
なわち、この発明の3 −DPA− ラクトンの製造方
法は、(a)下記式(I)で表わされるγ− リボノラ
クトンの5位の水酸基を保護して下記一般式(II)で
表わされる化合物を得る工程と、
を達成するため鋭意研究を重ねた結果、γ− リボノラ
クトンを出発物質とし、水酸基の保護、脱離反応、接触
水素添加等を位置あるいは立体選択的にすすめることに
より、従来の製造法よりも短工程で、かつ収率よく3
−DPA− ラクトンを製造し得る経路を見出した。す
なわち、この発明の3 −DPA− ラクトンの製造方
法は、(a)下記式(I)で表わされるγ− リボノラ
クトンの5位の水酸基を保護して下記一般式(II)で
表わされる化合物を得る工程と、
【0012】(b)下記一般式(II)で表わされる化
合物の3位の水酸基を脱離させて2位と3位とにわたる
二重結合を形成し、下記一般式(III )で表わされ
る2位の水酸基が保護された化合物を得る工程と、(c
)下記一般式(III )で表わされる化合物の2位と
3位とにわたる二重結合を還元して下記一般式(IV)
で表わされる化合物を得る工程と、(d)下記一般式(
IV)で表わされる化合物の保護基を脱離させ、下記式
(V)で表わされる化合物を得る工程とを具備すること
を特徴とする。
合物の3位の水酸基を脱離させて2位と3位とにわたる
二重結合を形成し、下記一般式(III )で表わされ
る2位の水酸基が保護された化合物を得る工程と、(c
)下記一般式(III )で表わされる化合物の2位と
3位とにわたる二重結合を還元して下記一般式(IV)
で表わされる化合物を得る工程と、(d)下記一般式(
IV)で表わされる化合物の保護基を脱離させ、下記式
(V)で表わされる化合物を得る工程とを具備すること
を特徴とする。
【0013】
【化3】
(上式において、RおよびR2 は水酸基の保護基を表
わし、R1は水素原子または水酸基の保護基を表わす。 )以下、この発明の3 −DPA− ラクトンの製造方
法を、各工程を追って具体的に説明する。
わし、R1は水素原子または水酸基の保護基を表わす。 )以下、この発明の3 −DPA− ラクトンの製造方
法を、各工程を追って具体的に説明する。
【0014】まず、工程(a)において、式(I)で表
わされるγ− リボノラクトンの水酸基に保護基Rを導
入する。保護基Rとしては、通常水酸基の保護に用いら
れる基であればどのようなものでもよく、例えばアセチ
ル、ベンゾイル、3,5−ジニトロベンゾイル、ter
t− ブチル− ジフェニルシリルを好適に用いること
ができる。また、保護基Rを導入する際に使用される溶
媒も一般に用いられる有機溶媒を用いることができ、特
に限定されるものではない。
わされるγ− リボノラクトンの水酸基に保護基Rを導
入する。保護基Rとしては、通常水酸基の保護に用いら
れる基であればどのようなものでもよく、例えばアセチ
ル、ベンゾイル、3,5−ジニトロベンゾイル、ter
t− ブチル− ジフェニルシリルを好適に用いること
ができる。また、保護基Rを導入する際に使用される溶
媒も一般に用いられる有機溶媒を用いることができ、特
に限定されるものではない。
【0015】続く工程(b)においては、工程(a)で
得られた一般式(II)で表わされる化合物の3位の水
酸基を脱離(β− 脱離)させ、2位と3位とにわたる
二重結合を形成させる。このβ− 脱離は、適当な塩基
性化合物の存在下において、一般式(II)で表わされ
る化合物にアシル化剤を添加し、室温または加熱下で撹
拌することにより容易に行なうことができる。
得られた一般式(II)で表わされる化合物の3位の水
酸基を脱離(β− 脱離)させ、2位と3位とにわたる
二重結合を形成させる。このβ− 脱離は、適当な塩基
性化合物の存在下において、一般式(II)で表わされ
る化合物にアシル化剤を添加し、室温または加熱下で撹
拌することにより容易に行なうことができる。
【0016】ここで用いられるアシル化剤としては、例
えば、無水酢酸のような酸無水物、アセチルクロリドの
ような酸塩化物を挙げることができる。なお、工程(a
)において、すでに2位および3位の水酸基がアシル化
されているのであれば、アシル化剤を添加する必要はな
い。また、ここで用いられる塩基性化合物としては、ト
リエチルアミン、ジメチルアミノピリジン等の3級アミ
ン系化合物を好適に用いることができる。
えば、無水酢酸のような酸無水物、アセチルクロリドの
ような酸塩化物を挙げることができる。なお、工程(a
)において、すでに2位および3位の水酸基がアシル化
されているのであれば、アシル化剤を添加する必要はな
い。また、ここで用いられる塩基性化合物としては、ト
リエチルアミン、ジメチルアミノピリジン等の3級アミ
ン系化合物を好適に用いることができる。
【0017】このようにアシル化剤と塩基性化合物とを
併用してβ− 脱離を行なうことにより、一般式(II
)で表わされる化合物の2位の水酸基も保護基R1 で
同時に保護され、一般式(III )で表わされる化合
物が得られる。
併用してβ− 脱離を行なうことにより、一般式(II
)で表わされる化合物の2位の水酸基も保護基R1 で
同時に保護され、一般式(III )で表わされる化合
物が得られる。
【0018】続く工程(c)においては、一般式(II
I )で表わされる化合物の2位と3位とにわたる二重
結合の還元を行ない、一般式(IV)で表わされる化合
物を得る。この還元法としては接触水素添加を挙げるこ
とができ、例えば、水素雰囲気下の適当な有機溶媒中に
おいて、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム等の
適当な金属触媒と共に室温程度で撹拌することにより容
易に行なうことができる。この際用いられる溶媒として
は、酢酸エチル、エタノール、メタノール等の一般に用
いられる有機溶媒を挙げることができるが特に限定され
るものではない。
I )で表わされる化合物の2位と3位とにわたる二重
結合の還元を行ない、一般式(IV)で表わされる化合
物を得る。この還元法としては接触水素添加を挙げるこ
とができ、例えば、水素雰囲気下の適当な有機溶媒中に
おいて、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム等の
適当な金属触媒と共に室温程度で撹拌することにより容
易に行なうことができる。この際用いられる溶媒として
は、酢酸エチル、エタノール、メタノール等の一般に用
いられる有機溶媒を挙げることができるが特に限定され
るものではない。
【0019】最後に、工程(d)において、一般式(I
V)で表わされる化合物の2位および5位の水酸基に導
入されている保護基を脱離させ、一般式(V)で表わさ
れる3−DPA− ラクトンを得る。
V)で表わされる化合物の2位および5位の水酸基に導
入されている保護基を脱離させ、一般式(V)で表わさ
れる3−DPA− ラクトンを得る。
【0020】この保護基を脱離させる際の反応条件は、
通常アシル基やシリルエーテル基の脱離に際し使用し得
る全ての条件を用いることができ、特に限定されるもの
ではない。例えば、アシル基の脱離は、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどの金属炭酸塩、ナトリウムメトキ
シド、カリウムブトキシドなどの金属アルコキシド、ま
たはアンモニア水を用いた塩基性条件下において、ある
いは、塩酸、パラトルエンスルホン酸などの酸存在下の
水溶液またはアルコールなどの有機溶媒を用いた酸性条
件下において行なうことができる。
通常アシル基やシリルエーテル基の脱離に際し使用し得
る全ての条件を用いることができ、特に限定されるもの
ではない。例えば、アシル基の脱離は、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどの金属水酸化物、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどの金属炭酸塩、ナトリウムメトキ
シド、カリウムブトキシドなどの金属アルコキシド、ま
たはアンモニア水を用いた塩基性条件下において、ある
いは、塩酸、パラトルエンスルホン酸などの酸存在下の
水溶液またはアルコールなどの有機溶媒を用いた酸性条
件下において行なうことができる。
【0021】得られた生成物は、 1H− NMRスペ
クトルおよび13C− NMRスペクトルの測定値を文
献値(O.Uchikawa、N.Okukado 、
T.Sakata、K.Arase 、K.Terad
a、Bull.Chem.Soc.Jpn.、61、2
025(1988))と比較することにより、3 −D
PA−ラクトンであることを確認した。
クトルおよび13C− NMRスペクトルの測定値を文
献値(O.Uchikawa、N.Okukado 、
T.Sakata、K.Arase 、K.Terad
a、Bull.Chem.Soc.Jpn.、61、2
025(1988))と比較することにより、3 −D
PA−ラクトンであることを確認した。
【0022】
【実施例】以下、実施例によりこの発明をさらに詳細に
説明する。 <実施例1>
説明する。 <実施例1>
【0023】この実施例においては、工程1において5
位の水酸基をシリルエーテルとして保護し、工程2にお
いて2位の水酸基をアセチル基として保護した形で脱離
反応を行なう例を示す。 (工程1)5−O− (tert− ブチル− ジフェ
ニルシリル)− リボノラクトンの合成
位の水酸基をシリルエーテルとして保護し、工程2にお
いて2位の水酸基をアセチル基として保護した形で脱離
反応を行なう例を示す。 (工程1)5−O− (tert− ブチル− ジフェ
ニルシリル)− リボノラクトンの合成
【0024】リボノラクトン10.0g(67.5ミリ
モル)およびイミダゾール5.04g(74.0ミリモ
ル)をジメチルホルムアミド50 mlに溶解し、さら
に tert−ブチル− ジフェニルシリルクロリド2
0.3g(74.0ミリモル)を滴下して室温で 1時
間撹拌した。得られた反応液を適量の水に注ぎ、ジエチ
ルエーテルで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下で溶媒を留去した。 (工程2)
モル)およびイミダゾール5.04g(74.0ミリモ
ル)をジメチルホルムアミド50 mlに溶解し、さら
に tert−ブチル− ジフェニルシリルクロリド2
0.3g(74.0ミリモル)を滴下して室温で 1時
間撹拌した。得られた反応液を適量の水に注ぎ、ジエチ
ルエーテルで抽出した後、硫酸マグネシウムで乾燥して
減圧下で溶媒を留去した。 (工程2)
【0025】工程1で得られた残渣を塩化メチレン 3
00 ml に溶解し、これにトリエチルアミン15.
1g( 149ミリモル)、ジメチルアミノピリジン
1g( 8.2ミリモル)および無水酢酸15.2g(
149ミリモル)を順に添加して室温で 2.5日間
撹拌した。得られた反応液を適量の炭酸水素ナトリウム
水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥して減圧下で溶媒を留去した。その後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ヘキサン:酢酸エ
チル= 5:1 )を用いて精製し、生成物21.5g
(出発物質からの収率;77.5%)を得た。
00 ml に溶解し、これにトリエチルアミン15.
1g( 149ミリモル)、ジメチルアミノピリジン
1g( 8.2ミリモル)および無水酢酸15.2g(
149ミリモル)を順に添加して室温で 2.5日間
撹拌した。得られた反応液を適量の炭酸水素ナトリウム
水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥して減圧下で溶媒を留去した。その後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ヘキサン:酢酸エ
チル= 5:1 )を用いて精製し、生成物21.5g
(出発物質からの収率;77.5%)を得た。
【0026】 1H−NMR(CDCl3 、TMSか
らの ppm):(CH3 )3 CSi;1.07(
9H、s)、CH3 CO;2.31(3H、s)、C
6 H5 Si; 7.37−7.48(6H、m)、
7.62−7.65(4H、m)、3位;7.20(
1H、d、J= 1.9 Hz)、4位;5.06(1
H、ddd 、J= 1.9 、 4.5、 4.6
Hz )、5位;3.86(1H、dd、J= 4.5
、11.0Hz )、3.92(1H、dd、J=
4.6 、11.0 Hz )(工程3)
らの ppm):(CH3 )3 CSi;1.07(
9H、s)、CH3 CO;2.31(3H、s)、C
6 H5 Si; 7.37−7.48(6H、m)、
7.62−7.65(4H、m)、3位;7.20(
1H、d、J= 1.9 Hz)、4位;5.06(1
H、ddd 、J= 1.9 、 4.5、 4.6
Hz )、5位;3.86(1H、dd、J= 4.5
、11.0Hz )、3.92(1H、dd、J=
4.6 、11.0 Hz )(工程3)
【0027】工程2で得られた化合物9.41g(22
.9ミリモル)を酢酸エチル 100 ml に溶解し
、これに10%パラジウム−カーボン 1gを加えて、
水素ガス雰囲気中において室温で18時間撹拌した。次
いで、反応液からパラジウム− カーボンをろ別除去し
、ろ液から減圧下で溶媒を留去して残渣9.60gを得
た。
.9ミリモル)を酢酸エチル 100 ml に溶解し
、これに10%パラジウム−カーボン 1gを加えて、
水素ガス雰囲気中において室温で18時間撹拌した。次
いで、反応液からパラジウム− カーボンをろ別除去し
、ろ液から減圧下で溶媒を留去して残渣9.60gを得
た。
【0028】 1H−NMR(CDCl3 、TMSか
らの ppm):(CH3 )3 CSi;1.06(
9H、s)、CH3 CO;2.17(3H、s)、C
6 H5 Si; 7.38−7.48(6H、m)、
7.64−7.68(4H、m)、2位;5.52(
1H、dd、J= 9.1 、10.2 Hz )、3
位;2.27(1H、ddd 、J= 9.8 、10
.2、12.8 Hz )、2.70(1H、ddd
、J= 6.1 、9.1、12.8 Hz )、4位
; 4.51−4.56(1H、m)、5位;3.74
(1H、dd、J=4.0、11.6 Hz )、3.
92(1H、dd、J= 3.4、11.6 Hz )
(工程4)
らの ppm):(CH3 )3 CSi;1.06(
9H、s)、CH3 CO;2.17(3H、s)、C
6 H5 Si; 7.38−7.48(6H、m)、
7.64−7.68(4H、m)、2位;5.52(
1H、dd、J= 9.1 、10.2 Hz )、3
位;2.27(1H、ddd 、J= 9.8 、10
.2、12.8 Hz )、2.70(1H、ddd
、J= 6.1 、9.1、12.8 Hz )、4位
; 4.51−4.56(1H、m)、5位;3.74
(1H、dd、J=4.0、11.6 Hz )、3.
92(1H、dd、J= 3.4、11.6 Hz )
(工程4)
【0029】(a)工程3で得られた残渣9.60gを
メタノール 3980 mlに溶解し、この溶液に炭酸
カリウム15.9gを加えて室温で 2時間撹拌した。 その後、氷水冷下において、この反応液に1規定塩酸を
徐々に滴下することにより中和した。次に、減圧下でメ
タノールを留去し、ジエチルエーテルで抽出した後、硫
酸マグネシウムで乾燥して減圧下で溶媒を留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ヘキサ
ン:ジエチルエーテル= 3:1 〜 2:1 、ヘキ
サン:酢酸エチル=2:1 )を用いて精製し、生成物
4.96g(工程2で得られた生成物からの収率;58
.4%)を得た。この生成物を、ヘキサン:ジエチルエ
ーテル混合溶媒(混合比; 1:2 )からさらに再結
晶させることにより、下記式(VI)で表わされる化合
物2.69g(工程2で得られた生成物からの収率;3
1.7%)を得た。
メタノール 3980 mlに溶解し、この溶液に炭酸
カリウム15.9gを加えて室温で 2時間撹拌した。 その後、氷水冷下において、この反応液に1規定塩酸を
徐々に滴下することにより中和した。次に、減圧下でメ
タノールを留去し、ジエチルエーテルで抽出した後、硫
酸マグネシウムで乾燥して減圧下で溶媒を留去した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ(ヘキサ
ン:ジエチルエーテル= 3:1 〜 2:1 、ヘキ
サン:酢酸エチル=2:1 )を用いて精製し、生成物
4.96g(工程2で得られた生成物からの収率;58
.4%)を得た。この生成物を、ヘキサン:ジエチルエ
ーテル混合溶媒(混合比; 1:2 )からさらに再結
晶させることにより、下記式(VI)で表わされる化合
物2.69g(工程2で得られた生成物からの収率;3
1.7%)を得た。
【0030】
【化4】
融点: 107.4−109.1 ℃
[α]27D −0.81°(C= 2.09、C
H3 OH)
H3 OH)
【0031】IR νmax 33
96(m)、2960(m)、2930(m)、286
2(m)、1760(s)、1470(w)、1429
(w)、1354(w)、1197(m)、1172(
m)、1135(s)、1114(s)、1017(m
)、 978(m)、 930(w)、 888(w)
、824(m)、 799(m)、 750(m)、
710(s)、 623(m)、 598(m)、 5
05(s)
96(m)、2960(m)、2930(m)、286
2(m)、1760(s)、1470(w)、1429
(w)、1354(w)、1197(m)、1172(
m)、1135(s)、1114(s)、1017(m
)、 978(m)、 930(w)、 888(w)
、824(m)、 799(m)、 750(m)、
710(s)、 623(m)、 598(m)、 5
05(s)
【0032】 1H−NMR(CDCl3 、TMSか
らの ppm):(CH3 )3 CSi;1.06(
9H、s)、C6 H5 Si; 7.37−7.48
(6H、m)、 7.65−7.68(4H、m)、O
H;2.96(1H、d、J= 3.9 Hz)、2位
および4位; 4.48−4.56(2H、m)、3位
;2.23(1H、ddd 、J= 9.4 、9.5
、12.8 Hz )、2.60(1H、ddd 、
J= 6.0、 8.6、12.8 Hz )、5位;
3.73(1H、dd、J= 4.1 、11.6 H
z )、3.91(1H、dd、J= 3.3 、11
.6 Hz )
らの ppm):(CH3 )3 CSi;1.06(
9H、s)、C6 H5 Si; 7.37−7.48
(6H、m)、 7.65−7.68(4H、m)、O
H;2.96(1H、d、J= 3.9 Hz)、2位
および4位; 4.48−4.56(2H、m)、3位
;2.23(1H、ddd 、J= 9.4 、9.5
、12.8 Hz )、2.60(1H、ddd 、
J= 6.0、 8.6、12.8 Hz )、5位;
3.73(1H、dd、J= 4.1 、11.6 H
z )、3.91(1H、dd、J= 3.3 、11
.6 Hz )
【0033】(b)上記一般式(VI)
で表わされる化合物0.42g(1.12ミリモル)を
テトラヒドロフラン10 ml に溶解し、これに 1
Mテトラ(n−ブチル)アンモニウムフルオリド− テ
トラヒドロフラン溶液 1.2 ml を添加して室温
で 1時間撹拌した。この溶液の溶媒を減圧下で留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ(酢酸エチル
)を用いて精製し、油状の(2S、4S)−2− ヒド
ロキシ−4− ヒドロキシメチル−4− ブタノリド(
3 −DPA− ラクトン)0.10g(収率68.3
%)を得た。
で表わされる化合物0.42g(1.12ミリモル)を
テトラヒドロフラン10 ml に溶解し、これに 1
Mテトラ(n−ブチル)アンモニウムフルオリド− テ
トラヒドロフラン溶液 1.2 ml を添加して室温
で 1時間撹拌した。この溶液の溶媒を減圧下で留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ(酢酸エチル
)を用いて精製し、油状の(2S、4S)−2− ヒド
ロキシ−4− ヒドロキシメチル−4− ブタノリド(
3 −DPA− ラクトン)0.10g(収率68.3
%)を得た。
【0034】 1H−NMR(CD3 OD、TMSか
らの ppm):2位;4.59(1H、dd、J=8
.5、10.8 Hz )、3位;1.98(1H、d
dd 、J= 10.6、10.8、12.3 Hz
)、2.56(1H、ddd 、J= 5.6 、8.
5 、12.3 Hz )、4位; 4.45−4.5
3(1H、m)、5位;3.60(1H、dd、J=
5.0 、12.7 Hz )、3.82(1H、dd
、J= 2.9 、12.7 Hz )13C−NMR
(CD3 OD、CD3 ODからの ppm(CD3
;49.8 ppm):179.1、78.5、69
.2、63.7、33.4
らの ppm):2位;4.59(1H、dd、J=8
.5、10.8 Hz )、3位;1.98(1H、d
dd 、J= 10.6、10.8、12.3 Hz
)、2.56(1H、ddd 、J= 5.6 、8.
5 、12.3 Hz )、4位; 4.45−4.5
3(1H、m)、5位;3.60(1H、dd、J=
5.0 、12.7 Hz )、3.82(1H、dd
、J= 2.9 、12.7 Hz )13C−NMR
(CD3 OD、CD3 ODからの ppm(CD3
;49.8 ppm):179.1、78.5、69
.2、63.7、33.4
【0035】
【発明の効果】以上のように、この発明によると、天然
界から大量に入手することが困難な3−DPA− ラク
トンを、入手の容易な原料から従来の合成法と比較して
短工程で選択的に合成し、かつ高い収率で得ることが可
能となる。近年、医薬品、農薬などのファインケミカル
分野で生理活性物質としての含糖化合物や糖類似化合物
が注目されているが、この発明により、摂食促進物質と
して知られている有用な生理活性物質である3 −DP
A− ラクトンを容易に供給することができる。
界から大量に入手することが困難な3−DPA− ラク
トンを、入手の容易な原料から従来の合成法と比較して
短工程で選択的に合成し、かつ高い収率で得ることが可
能となる。近年、医薬品、農薬などのファインケミカル
分野で生理活性物質としての含糖化合物や糖類似化合物
が注目されているが、この発明により、摂食促進物質と
して知られている有用な生理活性物質である3 −DP
A− ラクトンを容易に供給することができる。
Claims (1)
- 【請求項1】(a)下記式(I)で表わされるγ− リ
ボノラクトンの5位の水酸基を保護して下記一般式(I
I)で表わされる化合物を得る工程と、(b)下記一般
式(II)で表わされる化合物の3位の水酸基を脱離さ
せて2位と3位とにわたる二重結合を形成し、下記一般
式(III )で表わされる2位の水酸基が保護された
化合物を得る工程と、(c)下記一般式(III )で
表わされる化合物の2位と3位とにわたる二重結合を還
元して下記一般式(IV)で表わされる化合物を得る工
程と、(d)下記一般式(IV)で表わされる化合物の
保護基を脱離させ、下記式(V)で表わされる化合物を
得る工程とを具備することを特徴とする3 −DPA−
ラクトンの製造方法。 【化1】 (上式において、RおよびR2 は水酸基の保護基を表
わし、R1は水素原子または水酸基の保護基を表わす。 )
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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