JPH04182444A - ３，５‐キシレノールの精製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はタール留分から３，５−キシレノールを高純
度、かつ高収率で取得する方法に関するものである。

〔従来の技術〕

コールタール留分にはフェノール、クレゾール等の各種
有用物質が含まれており、これらが分離されて有効利用
されている。３，５−キシレノールもタール留分に含ま
れており、この化合物は９８％以上の高純度品にして農
薬の原料等に利用されている。タール留分から３，５−
キシレノールを分離精製する場合に、最終段階で問題と
なる不純物は３，４−キシレノール、メタエチルフェノ
ール、パラエチルフェノール等である。従来、これらの
分離は蒸留とか溶剤を使用しない冷却晶析によって行な
われていた。

キシレノール類の分離方法についてはいくつか特許出願
がある。例えば、特公昭６２−１９３３号公報には、ｍ
−クレゾールのメタノールによるオルソメチル化反応に
て２．３．６−　トリメチルフェノールを合成する際の
副産物である２、５−キシレノールを中間留分から冷却
晶析して、高純度で取得する方法が開示されている。析
出した結晶は遠心分離し、遠心分離機内の結晶をシクロ
ヘキサン等で洗浄している。特開昭６３−２２２１３７
号公報には、タール留分から抽出されたタール酸を蒸留
してジメチルフェノール留分を得、これを更に精留して
得た３、４−ジメチルフェノール留分あるいは３，５−
ジメチルフェノール留分を溶融晶析して、３．４−ジメ
チルフェノール又は３．５−ジメチルフェノールを高純
度で取得する方法が開示されている。この方法において
も、濾別した結晶をｎ−ヘキサン等で洗浄している。特
開昭６３−３０３９３８号公報には、コールタール系タ
ール酸から蒸留により得た２、４−ジメチルフェノール
と、２，５−ジメチルフェノールを含む留分にパラフィ
ン系またはナフテン系の炭化水素溶媒を添加し、２．５
−ジメチルフェノールを結晶として分離し、ついで該結
晶にパラフィン系またはナフテン系炭化水素溶媒を添加
して再結晶することを特徴とする２、５−ジメチルフェ
ノールの回収方法が開示されている。パラフィン系炭化
水素溶媒は、例えばｎ−ヘキサンである。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来の冷却晶析法は、純度向上効果が充分でなく、多段
晶析で高純度品を得る場合には手間と収率の低下が問題
であった。また、窒素不純物及び硫黄不純物が精製結晶
中に残存し、経時着色及び臭いの原因となって製品品質
に悪影響を及ぼしていた。

この発明はこれらの問題を解決して高回収率で、高純度
の３，５−キシレノールを得ることを目的としている。

（課題を解決するための手段〕 本発明は、上記課題を解決するべくなされたものであり
、タール留分から分離された３、５−キシレノール画分
にｎ−ヘプタンを加え、０〜−２０℃に冷却した後固液
分離することによってかかる目的を達成したものである
。

３．５−キシレノール画分は、タール留分から蒸留等の
手段によって得られたものであり、３，５−キシレノー
ルの純度が６０〜９２重量％程度、好ましくは７３〜８
８重量％程度で、主たる不純物として３，４−キシレノ
ール、メタエチルフェノール、パラエチルフェノール等
を含み、さらに硫黄分を１００〜３０００ｐｐｍ程度及
び窒素骨を１０〜５０００ｐｐｍ程度含んでいるもので
ある。

ｎ−ヘプタンの添加量は、３，５−キシレノール画分１
００重量部に対し１００〜１０００重量部程度、特に１
００〜３００重量部程度が好ましい。添加時期は３，５
−キシレノール画分の溶融状態であってもよいが５０〜
２０℃程度、好ましくは３０〜２０℃程度までまず冷却
して３．５−キシレノールを一部品析させてからｎ−ヘ
プタンを加えることが好ましい。ｎ−ヘプタンの添加中
は適宜撹拌する。添加方法には特に困難はなく、通常は
一度に添加すればよい。添加後はさらに冷却して晶析率
を高めることが好ましい。冷却温度としては０〜−２０
℃程度が適当である。

この添加による３、５−キシレノールを含む結晶の精製
方法における回収率は、洗浄時および固液分離時に冷却
をすることにより高まる。第１図は、実施例に掲げた種
々の濃度の原料を原料に対して約３倍量のｎ−ヘプタン
で洗浄したときの温度と回収率の関係である。図中Ａは
原料純度が８５％の場合を、Ｂは８２％の場合をそして
Ｃは７３％の場合をそれぞれ示している。得られた結晶
の純度は９８％以上で、およそ一定であるので冷却によ
り回収率が高まる効果は大きいと言える。

冷却後は遠心分離、濾過等の手段で固液分離する。結晶
はさらにｎ−ヘプタン等で洗浄することが好ましい。洗
浄液はｎ−ヘプタン以外にはｎ−ヘキサン、２，２−ジ
メチルブタン、シクロヘキサン等を挙げることができる
。

分離した結晶は、通常は純度が９８％以上、特に９９．
５％以上であり、乾燥してそのまま製品結晶とすること
ができる。しかしながら、原料の純度が低い場合には９
８％未満になることもあり、その場合には本発明の方法
を繰返すなどしてさらに精製する。一方、母液及び結晶
洗浄液は蒸留等によりｎ−ヘプタンを回収し、残余を原
料を製造する蒸留工程へ循環すれば３，５−キシレノー
ルの収率をさらに高めることができる。

〔作用〕 ｎ−ヘプタンは３，５−キシレノールをほとんど溶解せ
ず、一方、メタエチルフェノールやバラエチルフェノー
ルを溶解するところがらｎ−ヘプタンの存在下で晶析を
行なうことにより、これら不純物の結晶への取込みをな
くし、また結晶に付着する母液のこれらの濃度を低下さ
せて結晶純度の向上に付与している。

（実施例〕 実施例１ タール留分から抽出により得たタール酸を蒸留して、表
−１に記載の組成の３．５−キシレノールの濃度を高め
た原料を作成した。この原料１００部を完全に融解し、
常温で冷却して一部を結晶化させた。その後、ｎ−ヘプ
タン１００部を加え一１０℃で撹拌をした。吸引濾過器
により固液分離し、−１０℃に予冷した２００部のｎ−
ヘプタン溶剤で結晶を洗浄した。固相の溶媒を除いた重
量は７３部であり、その分析結果を表−１に掲げた。こ
のように簡単な操作で、高純度でＮ−３含有量が低く、
しかも経時着色も無い３，５−キシレノールが高回収率
で得られた。

表−１ （単位は４％） 原料　　　結晶 ３．５−キシレノール　　　　　８５．０　　　９９．
６３．４−キシレノール　　　　　　１．０　　　０．
３メタエチルフエノール　　　６．Ｏｔｒａｃｅパラエ
チルフェノール　　　４．３　　　ｔｒａｃｅＳ　ｐｐ
ｍ　　　　　　　　　　　１１７．０　　　２３．０（
単位は智ｔ％） 原料　　　結晶 Ｎ　ｐｐｍ　　　　　　　　　　　１８．０　　　３．
０経時着色　　　　　　　　　　　　　　なし３．５−
キシレノール回収率　　−８５，７比較例１ 実施例１と同じ原料１００部を溶解後、徐冷し４０℃で
固液分離を行なった。その固相を融解後徐冷し、４５℃
で固液分離を行なった。さらに、その固相を融解後徐冷
し、５０℃で固液分劇を行なって固相４２部を得た。処
理前後の分析結果を表−２に掲げた。

このように、溶剤を使用しない晶析による精製方法では
多段で行っても純度や回収率、その他の品質において十
分なものが得られなかった。

表−２ （単位は−ｔ％） 原料　　　結晶 ３．５−キシレノール　　　　　８５．０　　　９２．
２３．４−キシレノール　　　　　　１．６　　　０．
５メタエチルフエノール　　　６．０　　　４．０パラ
エチルフエノール　　　４．３　　　２．６Ｓ　ｐｐｍ
　　　　　　　　　　　１１７．０　　　６３．ＯＮ　
ｐｐｍ　　　　　　　　　　　１Ｂ、０　　　１４．０
（単位は讐ｔ％） 原料　　　結晶 経時着色　　　　　　　　　−あり ３．５−キシレノール回収率　　−４５，６実施例２ 実施例１と同様な操作で、処理温度を１０″Ｃおよび２
６℃で行った結果を表−３に掲げた。２６℃のものは１
０℃や一１０℃で行ったものより回収率が低い。

表−３ 原　料　　１０℃処理　　２６℃処理 実施例３ 実施例１と同様な操作で３，５−キシレノール純度が８
２．１％のものを原料に、処理温度を一１０″Ｃ１１２
℃および２１℃でｎ−ヘプタンによる洗浄を行った結果
を表−４に掲げた。２１℃のものは、−１０″Ｃや１２
℃で行ったものより回収率が低い。このように、Ｎ−３
が高い試料を用いても十分な精製効果がある。

表−４ （単位はｗｔ％） ３．５−キシレノール　　　　　８２．１　　１００．
０　　　９９．８　　１００．０３・４−キシレノール
　　　　　　１．３　　　ｔｒａｃｅ　　　ｔｒａｃｅ
　　　ｔｒａｃｅメタエチルフェノール　　　　８．９
　　　ｔｒａｃｅ　　　　Ｏ，２ｔｒａｃｅ実施例４ 実施例１と同様な操作で、３，５−キシレノール純度が
７２．９％のものを原料に、処理温度を一１０’ｃ。

１　”Ｃおよび２１”Ｃでｎ−ヘプタンによる洗浄を行
った結果を表−５に掲げた。２１”Ｃのものは、−１０
″Ｃや１℃で行ったものより回収率が低い。

（以下余白） 表−５ （単位はｗｔ％） 実施例５及び比較例２．３ 実施例１と同様の方法で３，５−キシレノール濃度が８
２．１％のものを原料に、処理温度を２１℃で溶剤をｎ
−ヘキサン、ｎ−ヘプタン及び２，２−ジメチルブタン
で試験を行った結果とそれぞれのアニリン点を表−６に
掲げた。アニリン点が高くなるほど回収率が高まる。

／ＩＮＩ□人□＼ 表−６ （単位は−ｔ％ 実施例６及び比較例４〜６ 実施例１と同様の方法で３，５−キシレノール濃度が７
２．９％のものを原料に、処理温度を１℃で溶剤をｎ−
ヘキサン、ｎ−ヘプタンおよび２，２−ジメチルブタン
およびシクロヘキサンで試験を行った結果とそれぞれの
アニリン点を表−７に掲げた。実施例５と同様にアニリ
ン点が高くなるほど回収率が高まる。

表−７ ３，５−キシレノール　　　　　　７２．９　　９８．
１　　　９９．６　　９９．３　　９９．０３．４−キ
シレノール　　　　　　０．３　　　１．８　　　ｔｒ
ａｃｅ　　　Ｏ，２ｔｒａｃｅメタエチル７ｘノール１
３．９　　　ｔｒａｃｅ　　　ｔｒａｃｅ　　ｔｒａｃ
ｅ　　　ｔｒａｃｅパラエチルフェノール　　　　１０
．６　　　ｔｒａｃｅ　　　　Ｏ，２０，３０，４経時
着色　　　　　　　　　　−なし　　　なし　　なし　
　なし３．５−キシレノール回収率　　　−６０，２５
５，８４９，４３７，６溶剤のアニリン点（’Ｃ）　　
　　−８１，２７０，６６３，６３１，０〔発明の効果
〕 以上のように、この発明によれば３．５−キシレノール
を含む結晶をｎ−ヘプタンで洗浄することにより、従来
の晶析法では得られなかった高回収率で高純度の３，５
−キシレノールを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は各種純度の原料について、処理温度と３．５−
キシレノールの回収率の関係を測定した結果を示すグラ
フである。 特許出願人　アドケムコ株式会社 代　理　人　弁理士　日中　政情 第１図 温度（’Ｃ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. タール留分から分離された３，５−キシレノール画分に
   ｎ−ヘプタンを加え、０〜−２０℃に冷却した後固液分
   離することを特徴とする３，５−キシレノールの精製方
   法