JP7534692B2 - 発光装置 - Google Patents
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Description
ケージ部材と、パッケージ部材に接合されたカバーガラスと、パッケージ部材とカバーガ
ラスに囲まれた空間領域に配置されたレーザチップと、を有する光デバイスが記載されて
いる。
うな構成では、レーザチップからの光の一部が迷光としてカバーガラスから取り出される
可能性がある。また、特許文献1に記載の光デバイスは、ロット番号等の情報を印字する
ことは想定されておらず、このような情報を印字する場所が確保されていない。
上方が開口した凹部が設けられているパッケージと、
前記凹部を覆うように前記パッケージに固定されているキャップと、
前記キャップと前記パッケージとに囲まれた空間内に配置された、レーザ光を出射する
1以上のレーザ素子と、を備え、
前記キャップは、上面及び下面を有する透光性部材と、前記下面において前記レーザ光
を外部へ取り出す光取出領域を避けて設けられた遮光膜と、を有し、
前記遮光膜は、上面視において、前記レーザ素子の少なくとも一部を覆う位置に設けら
れており、
前記遮光膜には、所定の情報を読み取り可能なマークが設けられている発光装置。
と、を有するキャップを準備する工程と、
前記遮光膜の一部を加工することにより、所定の情報を読み取り可能なマークを形成す
る工程と、
凹部が設けられているパッケージと、前記凹部内に配置された1以上のレーザ素子と、
を準備する工程と、
前記マークが形成された側を前記パッケージの側として、前記キャップを前記パッケー
ジに前記凹部を覆うように固定する工程と、
を備える発光装置の製造方法。
より、これらの効果を得ることができる小型化可能な発光装置及びその製造方法を提供す
ることができる。
施形態は、本発明の技術思想を具体化するための方法を例示するものであって、本発明を
以下の実施形態に特定するものではない。さらに以下の説明において、同一の名称、符号
については同一もしくは同質の部材を示しており、詳細説明を適宜省略する。
のIB-IB線における模式的断面図である。発光装置100は、パッケージ10と、キ
ャップ20と、レーザ素子30(31、32、33)と、を有する。パッケージ10には
、上方が開口した凹部11が設けられている。キャップ20は、凹部11を覆うようにパ
ッケージ10に固定されている。レーザ素子30は、キャップ20とパッケージ10とに
囲まれた空間内に配置されている。レーザ素子30はレーザ光を出射する。
設けられた遮光膜22と、を有する。図1Aにおいて網掛けを施した領域が、遮光膜22
が設けられた領域である。遮光膜22は、下面21bにおけるレーザ光を外部へ取り出す
部分である光取出領域を避けて設けられている。遮光膜22は、上面視において、レーザ
素子30の少なくとも一部を覆う位置に設けられている。遮光膜22には、所定の情報を
読み取り可能なマーク23が設けられている。なお、図1Aにおいて、一部の部品は透光
性部材21及び遮光膜22を透過した状態で破線で示している。本明細書において、透光
性部材21のレーザ光が照射される側の面を下面といい、それとは反対の側の面を上面と
いう。そのほかの部材の上下面や各部材の位置関係についてもこれに倣う。
マーク23の形成領域として用いられる。これにより、それらの効果を得ることができる
小型化可能な発光装置100を得ることができる。図1Bに示すように透光性部材21の
側面に遮光部材がなく側面が露出している場合は、もし遮光膜を下面21bでなく上面2
1aに設けると、遮光膜の下面で反射された光が透光性部材21の側面から取り出される
可能性がある。このため、遮光膜22は下面21bに設けることが好ましく、これにより
、透光性部材21の側面からの迷光を低減することができる。また、下面21bの方が上
面21aよりも照射されるレーザ光の光路長が短いため、レーザ光のサイズが小さい。す
なわち、下面21bの方が上面21aよりも、遮光膜22が避けるべき光取出領域が小さ
い。このため、遮光膜22を下面21bに設けることで、上面21aに設ける場合と比較
して、遮光膜22の面積を大きくすることができる。マーク23を形成するためには遮光
膜22の面積が大きい方が有利である。
る位置に配置する。レーザ素子30は光出射端面及び光反射端面を有するが、迷光とは、
例えば、光反射端面から漏れる光である。このため、遮光膜22は、光反射端面から出射
する光が、直接又は凹部11の内壁で反射されて到達する位置に設けられていることが好
ましい。なお、凹部11の内壁は底面と側壁を含む。レーザ素子30がサブマウント40
の上に設けられている場合は、遮光膜22は、さらに、光反射端面から出射する光がサブ
マウント40で反射されて到達する位置に設けられていることが好ましい。これにより、
サブマウント40で反射された光も遮光膜22で遮ることができる。なお、光反射端面か
ら出射する光が直接又は凹部11の内壁で反射されて到達する位置のすべてに遮光膜22
を設けると、レーザ素子30の光出射端面から出射されるレーザ光の主要部を遮る場合が
ある。このため、遮光膜22は、光反射端面からの光が到達する位置のすべてに設けなく
てもよい。また、レーザ素子30からの光は、各部材で反射される度にその一部がそれら
の部材によって吸収されるため、遮光膜22で反射された光が他の部材で再反射されるこ
とによって到達する位置には遮光膜22を設けなくてもよい。
光反射部材50を有することができる。この場合、光反射部材50の光反射面で反射され
たレーザ光の主要部が通過する領域が光取出領域である。レーザ光の主要部とは、ピーク
強度値に対して1/e2以上の強度を有する光が分布する領域として特定することができ
る。例えば、光反射部材50の表面のうちレーザ光を反射する面である光反射面の直上が
光取出領域である。このため、図1Aにおいて、遮光膜22は、上面視において光反射部
材50を囲む形状で設けられる。言い換えれば、光反射部材50の直上には遮光膜22が
設けられていない。これにより、光反射部材50の光反射面で反射されたレーザ光を遮光
膜22に遮られることなく外部に取り出すことができる。図1Bにおいて、レーザ素子3
0はその光出射端面が光反射部材50の光反射面と向き合うように配置されている。図1
Aに示すように、上面視において、少なくともレーザ素子30の光反射端面と凹部11の
縁との間に遮光膜22が設けられていることで、光反射端面からの漏れ光が発光装置10
0の外部に取り出される可能性を低減することができる。
を光取出口とし、それ以外の領域を遮光膜22で被覆することにより、迷光が発光装置1
00の外部に取り出される可能性を低減することができる。また、後述ように、遮光膜2
2の一部をパッケージ10と接合するための接合領域とするためには、遮光膜22が開口
を有する形状であることが好ましい。遮光膜22の開口のサイズ及び位置は、発光装置1
00の外部に取り出したいレーザ光の量によって決定してよい。遮光膜22の開口は、レ
ーザ素子30からのレーザ光の主要部の全てが通過するサイズ及び位置に設けてもよい。
遮光膜22の開口は、下面21bのレーザ光の主要部の縁と開口の縁との直線距離のうち
最も短い距離が0.05mm以下であることが好ましく、また、最も長い距離が0.5m
m以下であることが好ましい。遮光膜22の開口は、レーザ素子30からのレーザ光の主
要部の全てが通過するサイズ及び位置でなくてもよく、遮光膜22によってレーザ光の主
要部の一部を遮ってもよい。図3に、発光装置100とレンズ400との組み合わせの一
例を示す。発光装置100から取り出されるレーザ光をレンズに入射させる場合、レンズ
に入射するレーザ光がレンズ400の有効径よりも小さいことが好ましい。これにより、
発光装置100とレンズ400の相対位置が設計値からずれても、レーザ光をレンズの有
効径内に収めることができ、これによって迷光が発生する可能性を低減することができる
ためである。図3に示すように、発光装置100からのレーザ光とレンズ400の有効径
がこのような関係になるように、遮光膜22をレーザ素子30からのレーザ光の一部を遮
る位置に設けてもよい。
示すように1つのサブマウント40に複数のレーザ素子30を配置する場合は、レーザ素
子30同士の距離が比較的短いため、遮光膜22の開口は1つであることが好ましい。遮
光膜22の開口の形状としては、円形、楕円形、多角形などが挙げられる。多角形よりも
、多角形の角が丸められた形状の方が形成容易であるため、そのような形状であってもよ
い。例えば、図1Aに示すように、複数のレーザ素子30が列状に配置される場合は、遮
光膜22の開口の形状は、四角形又は四角形の角が丸められた形状とすることができる。
うに、凹部11の中央部をレーザ素子30を配置する領域とし、レーザ素子30と凹部1
1の縁との間に光反射部材50を配置することが好ましい。これにより、凹部11の中央
部に光反射部材50を配置する場合と比較して発光装置100を小型化することができる
。また、このような配置により、遮光膜22を幅の狭い部分と広い部分とを有する形状と
することができるため、幅の広い部分にマーク23を形成することができる。
、例えば、レーザ素子30として、出射するレーザ光の視感度が異なる複数のレーザ素子
を有することができる。この場合、上面視において、マーク23は、複数のレーザ素子3
0のうち最も視感度が低いレーザ光を出射するレーザ素子に最も近接して配置されている
ことが好ましい。マーク23は遮光膜22の一部に形成されるため、遮光膜22における
マーク23が形成されている部分は形成されていない部分と比較して遮光性が低下する場
合がある。例えば、マーク23が遮光膜22の有る部分と無い部分との組み合わせによっ
て構成されている場合はマーク23を形成領域の遮光性が他の領域よりも低下する。マー
ク23を、視感度が低いレーザ光の光源に近付け、相対的に、視感度が高いレーザ光の光
源から遠ざけることで、マーク23形成領域の遮光性の低下の影響を小さくすることが可
能である。したがって、迷光低減のためにはそのような配置が好ましい。なお、ここでは
視感度を基準としたが、発光装置100の用途によっては別の基準を用いてもよい。例え
ば、短波長の光の漏出低減を重視する場合は、短波長の光を放出するレーザ素子から相対
的に遠い位置にマーク23を形成するとよい。
緑色レーザ光を出射する緑色レーザ素子32と、赤色レーザ光を出射する赤色レーザ素子
33と、を有する。視感度は、緑色レーザ光が最も高く、赤色レーザ光が次いで高く、青
色レーザ光が最も低い。したがって、図1Aでは、マーク23は青色レーザ素子31に最
も近接して配置されている。図1Aでは、青色レーザ素子31と赤色レーザ素子33の間
に緑色レーザ素子32を配置しているが、迷光低減を重視する場合は、赤色レーザ素子3
3と緑色レーザ素子32の位置を入れ替えてもよい。
程度であり、赤色レーザ素子33がそれよりも長い。これは、後述するように赤色レーザ
素子33がそれ以外の素子と効率が異なるためである。このため、各レーザ素子から同程
度の出力を得るために赤色レーザ素子33をそれ以外の素子よりも長くしている。図1A
において、遮光膜22は、赤色レーザ素子33の一部のみを被覆し、それよりも共振器方
向の長さが短い青色レーザ素子31及び緑色レーザ素子32は全く被覆していない。この
ように、共振器方向の長さが異なる複数のレーザ素子30を配置する場合は、遮光膜22
は一部のレーザ素子30を被覆するのみであってもよい。なお、共振器方向とは、例えば
リッジが設けられている場合はリッジの延伸方向を指す。共振器方向は、例えば光出射端
面と光反射端面とを最短距離で結ぶ方向である。
はレーザ素子30からの光が到達する可能性が比較的低い位置に設けることが好ましい。
具体的には、マーク23は、上面視においてレーザ素子30の共振器の延長線上を避けて
配置されることが好ましい。例えばレーザ素子30にリッジが設けられている場合は、上
面視においてリッジの延長線上を共振器の延長線上とみなすことができる。図1Aでは、
マーク23は、各レーザ素子30の光出射端面及び光反射端面を共振器方向に延長させた
領域を避けて配置されている。このように、マーク23は、上面視においてレーザ素子3
0の光出射端面及び光反射端面を共振器方向に延長させた領域を避けて配置されることが
より好ましい。これにより、マーク23を設けることによる迷光増大の割合をより低減す
ることができる。図1Aでは、共振器方向の長さが最も長いレーザ素子30(赤色レーザ
素子33)の複数の側面のうち1つの側面と凹部11の縁の間に、それよりも共振器方向
の長さが短いレーザ素子30(青色レーザ素子31及び緑色レーザ素子32)と、マーク
23とが配置されている。このように、共振器方向の長さが異なる複数のレーザ素子30
を配置する場合に、上面視において共振器方向の長さが長いレーザ素子30よりも共振器
方向の長さが短いレーザ素子30の方に近くなるようにマーク23を配置してもよい。
パッケージ10は、凹部11が設けられた本体12と、凹部11の周りの本体12の表
面に設けられた金属膜13と、を含む。パッケージ10は、セラミックを主材料として形
成することができる。なお、セラミックに限らず金属で形成してもよい。パッケージ10
の主材料としては、例えば、セラミックでは窒化アルミニウム、窒化ケイ素、酸化アルミ
ニウム、炭化ケイ素を、金属では銅、アルミニウム、鉄、複合物として銅モリブデン、銅
-ダイヤモンド複合材料、銅タングステンを挙げることができる。あるいは、底部と枠部
を、それぞれ主材料が異なる別個の部材として形成し、底部と枠部を接合してパッケージ
10を形成してもよい。
低いことが好ましい。凹部11の内壁において光が吸収されるほど迷光が低減するためで
ある。このような材料としては、例えば窒化アルミニウムセラミックが挙げられる。凹部
の側壁を窒化アルミニウムセラミックで構成することで、迷光低減の効果が期待できる。
金属膜13は、例えば、Ti、Pt、Auが透光性部材21側からこの順に積層された積
層膜とする。金属膜13は、後述する接合部材60を接合するための部材であり、不要で
あれば省略してもよい。
キャップ20は、透光性部材21と遮光膜22を有する。透光性部材21は、下面と、
上面と、側面とを有する。透光性部材21は、全体として透光性である。透光性部材21
は例えば直方体の形状である。透光性部材21は、サファイア、ガラス等を主材料に用い
て形成することができる。透光性部材21はサファイアから形成することが好ましい。サ
ファイアはガラスよりも熱伝導率が高いため、後述する加工用レーザ光を用いてマーク2
3を形成する際に、加工時の熱を拡散する能力が高い。そのため、加工時の熱負荷による
マイクロクラック等のダメージを減らすことができ、これにより発光装置100の長期信
頼性を向上させることができる。
子30が出射するレーザ光のピーク波長に対する透過率が5%以下である膜とすることが
できる。遮光膜22の透過率は、レーザ光のピーク波長の1/e2以上の強度を有する波
長帯において5%以下であることが好ましい。また、製造時に発生するレーザ素子30の
発振波長のばらつきを考慮して、実際のレーザ光の波長よりも広い範囲で透過率5%以下
としてもよい。レーザ素子30が複数であり、それぞれ出射するレーザ光の波長が異なる
場合は、遮光膜22の透過率はすべてのレーザ光の波長に対して5%以下であることが好
ましい。遮光膜22の透過率の最小値は例えば0.1%である。遮光膜22は、レーザ光
を反射する膜であってもよく、吸収する膜であってもよい。より迷光を低減するためには
、レーザ光の波長に対する吸収率が50%以上であることが好ましい。遮光膜22の吸収
率の最大値は100%でもよく、例えば99%以下であってもよい。遮光膜22は、例え
ば金属膜である。金属膜と酸化膜等の別の材料を組み合わせてもよい。遮光膜22を構成
する材料としては、Ti、Pt、Au、Ni、Ru、Rh、Co、Cr等の金属材料が挙
げられる。遮光膜22は、例えば、Ti、Pt、Auが透光性部材21側からこの順に積
層された構造を有する。
ましい。ここで、外縁の近傍とは、外縁からの距離が500μm以下である領域を指す。
そして、遮光膜22の一部に接合部材60を接続することにより、キャップ20とパッケ
ージ10とが接合されている。これにより、キャップ20とパッケージ10の接合部分ま
で遮光膜22を設けることができるため、迷光低減のために有利である。接合部材60と
しては、金属接着材を用いることが好ましい。樹脂接着材よりもレーザ光による影響を受
けにくいためである。また、樹脂接着材であればアウトガスによるレーザ素子30の光出
射端面への集塵が懸念されるが、金属接着材であればアウトガスが無いか或いは樹脂接着
材より少ないため、集塵する確率を低減することができる。接合部材60として金属接着
材を用いる場合、遮光膜22が金属膜であることで、接合部材60との接合性を良好とす
ることができる。金属接着材としては、Au-Sn、Ni-Sn、Ag粒子、Au粒子、
Cu粒子等が挙げられる。図1Bでは、接合部材60の直上に、遮光膜22の一部と透光
性部材21の一部が配置されている。このように、接合部材60の直上に、遮光膜22だ
けでなく透光性部材21も配置されていることで、遮光膜22のみ配置されている場合と
比較して発光装置100を小型化することができる。
空間となる。このように気密封止することで、レーザ素子30の光出射端面に有機物等が
集塵する確率を低下させることができる。
。マーク23は、例えば二次元コードである。マーク23は、遮光膜22が有る部分と無
い部分との組み合わせによって構成されていてもよい。このようなマーク23は、後述す
るようにレーザ加工によって形成することができる。あるいは、さらなる迷光低減のため
、マーク23は、遮光膜22の他の部分と同じ色である部分と変色した部分との組み合わ
せによって構成されていてもよい。また、マーク23が数字や文字である場合は、マーク
23は遮光膜22が無い部分のみ又は変色した部分で構成されていてもよい。
けられていてもよい。
レーザ素子30は、下面と、上面と、複数の側面とを有し、複数の側面の1つである光
出射端面からレーザ光を放射する。レーザ素子30として、青色レーザ光を出射する青色
レーザ素子31と、緑色レーザ光を出射する緑色レーザ素子32と、赤色レーザ光を出射
する赤色レーザ素子33と、を有することができる。なお、これ以外の色の光を放射する
レーザ素子30を用いてもよく、また、同じ色の光を放射するレーザ素子30を複数配置
してもよい。また、配置されるレーザ素子30の数は、1つでもよく、複数でもよい。図
1Aでは、光反射部材50の一方の側に全てのレーザ素子30を配置したが、光反射部材
50の両側にそれぞれレーザ素子30を配置することもできる。
をいうものとする。青色レーザ素子31が放出するレーザ光のピーク波長は440nm~
475nmの範囲内にあってもよい。緑色の光は、その発光ピーク波長が495nm~5
70nmの範囲内にある光をいうものとする。緑色レーザ素子32が放出するレーザ光の
ピーク波長は510nm~550nmの範囲内にあってもよい。青色レーザ素子31又は
緑色レーザ素子32としては、窒化物半導体を含む半導体レーザ素子が挙げられる。窒化
物半導体としては、例えば、GaN、InGaN、及びAlGaNを用いることができる
。赤色の光は、その発光ピーク波長が605nm~750nmの範囲内にある光をいうも
のとする。赤色レーザ素子33が放出するレーザ光のピーク波長は610nm~700n
mの範囲内にあってもよい。赤色レーザ素子33としては、例えば、InAlGaP系や
GaInP系、GaAs系やAlGaAs系の半導体を含む半導体レーザ素子が挙げられ
る。
。サブマウント40は例えば直方体の形状で構成される。サブマウント40は、例えば、
窒化ケイ素、窒化アルミニウム、又は炭化ケイ素を用いて形成することができる。また、
サブマウント40には一部に金属膜が設けられている。
アルミニウム等の金属、又はSi等を採用することができる。光反射部材50は、主材料
の表面の一部に光反射膜を設けることで光反射面を形成することができる。光反射膜とし
ては、Ag、Al等の金属やTa2O5/SiO2、TiO2/SiO2、Nb2O5/
SiO2等の誘電体多層膜等を採用することができる。光反射部材50は、金属等の光反
射率の高い材料を用いてその外形を形成し、光反射膜を省略してもよい。光反射部材50
の光反射面は、それぞれ、反射させるレーザ光のピーク波長に対する光反射率を99%以
上とすることができる。これらの光反射率は100%以下あるいは100%未満とするこ
とができる。
子30や保護素子は、ワイヤ等を介してパッケージ10の導電性部材と電気的に接続され
る。その導電性部材と電気的に接続されたパッケージ10の外側電極に通電することによ
り、レーザ素子30や保護素子に通電される。
4に示すとおり、実施形態の発光装置の製造方法は、キャップ準備工程S101と、マー
ク形成工程S102と、パッケージ及びレーザ素子準備工程S103と、キャップ固定工
程S104とを有する。マーク形成工程S102の後にキャップ固定工程S104を行う
ことにより、マーク23の形成時に発生する加工塵がレーザ素子30等に付着する可能性
を低減することができる。
キャップ準備工程S101では、図5に示すように、上面21a(第1主面)及び下面
21b(第2主面)を有する透光性部材21と、下面21bの一部に設けられた遮光膜2
2と、を有するキャップ20を準備する。この状態では、まだ遮光膜22にマークは設け
られていない。
マーク形成工程S102では、遮光膜22の一部を加工することにより、所定の情報を
読み取り可能なマーク23を形成する。マーク23は、所定の情報を読み取り可能な形状
に形成されている。例えば、二次元コードや数桁の数字などは、マーク23の一例である
。上述の図2に示すマーク23は、二次元コードを模式的に示すものである。二次元コー
ドは、例えば、複数の正方形状のセルが行列状に整列されたパターンである。所定の情報
の一例としては、製品型番、ロット番号、日付、シリアル番号、ランク情報、などを挙げ
ることができる。マーク23からは、例えば、光学的に撮影された写真を読取装置(例え
ば、二次元コードを読み取るリーダ装置)で解読することにより情報が読み取られる。マ
ーク23の大きさは、例えば、縦600μm、横600μmの矩形の範囲内に収まる大き
さであってもよい。
光を照射することによりマーク23を形成することができる。例えば、図6に示すように
、透光性部材21の上面21aの側に加工用レーザ光源200を配置する。加工用レーザ
光源200から放出される加工用レーザ光をキャップ20に照射し、透光性部材21を透
過させて遮光膜22を加工する。マーク23はフォトリソグラフィにより形成することも
可能であるが、このように加工用レーザ光を用いて加工する手法であれば、フォトリソグ
ラフィ用のマスクが不要であるので安価に製造することができる。フォトリソグラフィで
あれば異なる形状のマークを印字するためには異なるマスクを作製する必要があるが、加
工用レーザ光による加工であれば印字プログラムの変更で異なる形状のマークを印字する
ことができる。加工用レーザ光源200としては、YAGレーザ等が挙げられる。加工用
レーザ光のピーク波長は、透光性部材21を透過可能な波長であり、例えば透光性部材2
1としてサファイアを用いる場合は300~3000nmの範囲内とすることができる。
例えば、YAGレーザの第二高調波である緑色のレーザ光を用いて加工することができる
。
側に吸引装置300を配置することができる。この吸引装置300を用いて、加工用レー
ザ光の照射時に、加工用レーザ光の照射によって生成された加工塵を吸引する。加工塵が
下面21bや遮光膜22に付着すると、後の工程で組み合わせるレーザ素子30等に付着
する可能性がある。マーク23の加工時に吸引を行うことで、その可能性を低減すること
ができる。加工用レーザ光を上面21aの側から照射する構成とすることにより、吸引装
置300を下面21bの側に配置することができる。吸引装置300としては、例えば真
空ポンプを用いた吸引装置が挙げられる。
ップ20が一繋がりになったウェハーを準備し、マーク23を形成した後、個々のキャッ
プ20に個片化してもよい。
パッケージ及びレーザ素子準備工程S103では、図7A及び図7Bに示すように、凹
部11が設けられているパッケージ10と、凹部11内に配置された1以上のレーザ素子
30と、を準備する。パッケージ及びレーザ素子準備工程S103は、少なくともキャッ
プ固定工程S104の前に行えばよく、工程S101又は工程S102の前に行ってもよ
く、同時に行ってもよい。
キャップ固定工程S104では、マーク23が形成された側をパッケージ10の側とし
て、キャップ20をパッケージ10に凹部11を覆うように固定する。これにより、図1
A及び図1Bに示す発光装置100を得ることができる。
イのバックライト等の光源として使用することができる。
11 凹部
12 本体
13 金属膜
20 キャップ
21 透光性部材
21a 上面、21b 下面
22 遮光膜
23 マーク
30 レーザ素子
31 青色レーザ素子、32 緑色レーザ素子、33 赤色レーザ素子
40 サブマウント
50 光反射部材
60 接合部材
100 発光装置
200 加工用レーザ光源
300 吸引装置
400 レンズ
Claims (3)
- 上方が開口した凹部が設けられた本体と、前記凹部の周りの前記本体の表面に設けられた金属膜と、を含むパッケージと、
前記凹部を覆うように前記パッケージに固定されているキャップと、
前記キャップと前記パッケージとに囲まれた空間内に配置された、レーザ光を出射する1以上のレーザ素子と、
光反射部材と、を備え、
前記キャップは、上面及び下面を有する透光性部材と、前記レーザ光を外部へ取り出す開口を有する形状で前記下面に設けられた金属膜を含む遮光膜と、を有し、
前記光反射部材は、前記レーザ素子からの前記レーザ光を前記透光性部材に向けて反射する位置に設けられており、
前記パッケージの金属膜と前記遮光膜とが接合部材によって接合されることにより前記キャップが前記パッケージに固定されており、
上面視において、
前記光反射部材の中心は、前記凹部の中心と一致しておらず、
前記パッケージの形状は、四角形であり、
前記遮光膜の開口の形状は、四角形または四角形の角が丸められた形状であり、
前記遮光膜は、前記開口から前記遮光膜の外縁までの幅が狭い部分と、それよりも広い部分とを有する、発光装置。 - 前記接合部材は、金属接着材である請求項1に記載の発光装置。
- 前記金属接着材は、Au-Sn、Ni-Sn、Ag粒子、Au粒子またはCu粒子のいずれかを含む請求項2に記載の発光装置。
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