JP7418400B2 - 再バウンス誘発光損失の軽減を伴う回折光学要素および関連システムおよび方法 - Google Patents
再バウンス誘発光損失の軽減を伴う回折光学要素および関連システムおよび方法 Download PDFInfo
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Description
本願は、35U.S.C.§119(e)下、両方とも、参照することによって、その全体として、あらゆる目的のために、本明細書に組み込まれる、2018年7月24日に出願され、「DIFFRACTIVE OPTICAL ELEMENTS WITH MITIGATION OF REBOUNCE-INDUCED LIGHT LOSS AND DISPLAY DEVICES CONTAINING THE SAME」と題された、米国仮出願第62/702,707号、および2018年10月17日に出願され、「WAVEGUIDES HAVING HIGHLY REFLECTIVE LAYERS AND METHODS FOR FORMING」と題された、米国仮出願第62/747,032号の優先権を主張する。
本願は、参照することによって、以下の特許出願、すなわち、2014年11月27日に出願され、2015年7月23日に米国特許公開第2015/0205126号として公開された、米国特許出願第14/555,585号、2015年4月18日に出願され、2015年10月22日に米国特許公開第2015/0302652号として公開された、米国特許出願第14/690,401号、2014年3月14日に出願され、2016年8月16日に発行された、現米国特許第9,417,452号である、米国特許出願第14/212,961号、2014年7月14日に出願され、2015年10月29日に米国特許公開第2015/0309263号として公開された、米国特許出願第14/331,218号、および2018年4月16日に出願された、米国特許出願第15/954,419号のそれぞれの全体を組み込む。
本発明は、例えば以下を提供する。
(項目1)
画像をユーザの眼に投影するためのディスプレイシステムであって、前記ディスプレイシステムは、
第1の主要表面と、前記第1の主要表面に対向する第2の主要表面とを備える導波管と、
光のビームを前記導波管の第2の主要表面に向かって投影するように構成される投影光学系と、
前記導波管の第2の主要表面上に配置される内部結合光学要素であって、前記内部結合光学要素は、前記投影光学系からの光を内部結合するように構成される回折領域を備え、前記内部結合光学要素は、前記投影光学系からの光を全内部反射によって前記導波管内を第1の方向に伝搬するように再指向するように構成される、内部結合光学要素と
を備え、
前記回折領域は、前記投影光学系からの光のビームの第1の部分が、前記回折領域上に入射し、前記投影光学系からの光のビームの第2の部分が、前記回折領域上に入射せずに、前記導波管上に衝突するようにサイズ決めおよび成形される、ディスプレイシステム。
(項目2)
前記回折領域は、高効率回折領域であり、前記内部結合光学要素は、前記投影光学系からの光のビームの第2の部分が前記低効率回折領域上に入射するようにサイズ決めおよび成形される低効率回折領域をさらに備える、項目1に記載のディスプレイシステム。
(項目3)
前記高効率回折領域は、金属化された格子部分を備える反射性回折領域であり、前記低効率回折領域は、非金属化された格子部分を備える、項目2に記載のディスプレイシステム。
(項目4)
前記光のビームの第2の部分は、前記導波管の中に内部結合されずに、前記第2の主要表面を通して、前記導波管から外に伝搬する、項目1に記載のディスプレイシステム。
(項目5)
前記光のビームの第2の部分は、前記光のビームの第1の部分に対してより低い効率で前記導波管の中に内部結合される、項目1に記載のディスプレイシステム。
(項目6)
前記回折領域は、前記投影光学系からの光のビームのビーム軸における前記伝搬方向と垂直な対称軸を中心として反射非対称である、項目1に記載のディスプレイシステム。
(項目7)
前記導波管は、導波管スタックの一部であり、前記導波管スタックは、
第1の主要表面および第2の主要表面を備える第2の導波管と、
前記第2の導波管の第2の主要表面上に配置される第2の内部結合光学要素であって、前記第2の内部結合光学要素は、前記光のビームによって画定された面積の回折領域によって被覆される割合に対して、前記投影光学系からの光の第2のビームによって画定された面積のより大きい割合を被覆する第2の回折領域を備える、第2の内部結合光学要素と
をさらに備える、項目1に記載のディスプレイシステム。
(項目8)
前記第2の回折領域は、前記第2の光のビームの実質的に全てを内部結合するように構成される、項目7に記載のディスプレイシステム。
(項目9)
前記第1の導波管の回折領域は、前記投影光学系からの光のビームのビーム軸における前記伝搬方向と垂直な対称軸を中心として反射非対称であり、前記第2の回折領域は、前記第2の光のビームのビーム軸における前記伝搬方向と垂直な第2の対称軸を中心として反射対称である、項目7に記載のディスプレイシステム。
(項目10)
前記第2の導波管は、前記導波管と前記投影光学系との間に配置され、前記導波管は、前記投影光学系から前記投影光学系の焦点距離を上回る距離で離間される、項目7に記載のディスプレイシステム。
(項目11)
導波管であって、
第1の主要表面と、
第2の主要表面と、
前記第2の主要表面上に配置される内部結合回折光学要素であって、前記内部結合光学要素は、入射光を内部結合するように構成される回折領域を備え、前記伝搬方向と平行な前記回折領域の幅は、前記伝搬方向と垂直な前記回折領域の長さより短い、内部結合回折光学要素と
を備える、導波管。
(項目12)
前記回折領域の幅は、前記回折領域の長さの80%未満である、項目11に記載の導波管。
(項目13)
前記回折領域は、高効率回折領域であり、前記内部結合回折光学要素は、前記伝搬方向に沿って前記高効率回折領域に隣接して配置される低効率回折領域をさらに備える、項目11に記載の導波管。
(項目14)
前記高効率回折領域は、金属化された回折格子部分を備える反射性回折領域であり、前記低効率回折領域は、非金属化された回折格子部分を備える、項目13に記載の導波管。
(項目15)
前記高効率回折領域および前記低効率回折領域は、部分的に、金属化された回折格子を形成し、前記回折格子は、前記高効率回折領域内で金属化され、前記低効率回折領域内で非金属化される、項目13に記載の導波管。
(項目16)
前記内部結合回折光学要素は、実質的に等しい長さおよび幅を有する内部結合光学要素と比較して、内部結合された光の再バウンスの発生を低減させるようにサイズ決めおよび成形される、項目11に記載の導波管。
(項目17)
頭部搭載型ディスプレイシステムのための導波管スタックであって、前記導波管スタックは、
第1の導波管であって、前記第1の導波管は、第1の主要表面と、前記第1の主要表面に対向する第2の主要表面と、前記第2の主要表面上に配置される第1の内部結合回折光学要素とを備え、前記第1の内部結合回折光学要素は、光源からの入射光を再指向し、全内部反射によって、前記第1の導波管内を伝搬方向に伝搬するように構成される第1の回折領域を備える、第1の導波管と、
第2の導波管であって、前記第2の導波管は、第1の主要表面と、前記第2の導波管の第1の主要表面に対向する第2の主要表面と、前記第2の導波管の第2の主要表面上に配置される第2の内部結合回折光学要素とを備え、前記第2の内部結合回折光学要素は、前記光源からの入射光を再指向し、全内部反射によって、前記第2の導波管内を前記伝搬方向に伝搬するように構成される第2の回折領域を備える、第2の導波管と
を備え、
前記第2の回折領域の幅対長さ比は、前記第1の回折領域の幅対長さ比より小さい、導波管スタック。
(項目18)
前記導波管スタックは、前記光源と前記第1の回折領域との間の距離が、前記光源の焦点距離上にあり、前記光源と前記第2の回折領域との間の距離が、前記焦点距離を上回るように、前記光源から離間される、項目17に記載の導波管スタック。
(項目19)
前記第1の回折領域の幅対長さ比は、80%を上回り、前記第2の回折領域の幅対長さ比は、80%未満である、項目17に記載の導波管スタック。
(項目20)
前記第2の回折領域は、高効率回折領域であり、前記第2の内部結合回折光学要素はさらに、前記伝搬方向に沿って前記高効率回折領域に直接隣接して配置される低効率回折領域を備える、項目17に記載の導波管スタック。
(項目21)
前記高効率回折領域は、回折格子の金属化された部分を備え、前記低効率回折領域は、前記回折格子の非金属化された部分を備える、項目20に記載の導波管スタック。
(項目22)
前記第2の内部結合回折光学要素は、前記第1の回折領域の幅対長さ比に等しい幅対長さ比を有する内部結合回折光学要素と比較して、前記内部結合された光の再バウンスの発生を低減させるようにサイズ決めおよび成形される、項目17に記載の導波管スタック。
(項目23)
反射性層を備える光学導波管構造を作製する方法であって、前記方法は、
表面を備える光学導波管を提供することであって、前記表面は、突出部のパターンを備える領域を備える、ことと、
液体混合物を前記領域の少なくとも一部上に堆積させることであって、前記液体混合物は、金属塩を含む、ことと、
前記領域を前記金属塩の金属でコーティングすることによって、前記反射性層を形成することであって、前記領域をコーティングことは、金属を前記金属塩から解離することによって、前記金属を前記領域上に析出することを含む、ことと
を含む、方法。
(項目24)
金属を前記金属塩から解離することは、還元剤に暴露することによって、前記金属塩を還元させることを含む、項目23に記載の方法。
(項目25)
前記還元剤は、アルファ-ヒドロキシアルデヒドを含む炭水化物またはアルファ-ヒドロキシケトンを含む炭水化物のうちの少なくとも1つを含む、項目24に記載の方法。
(項目26)
前記液体混合物は、前記還元剤を含む、項目24に記載の方法。
(項目27)
前記液体混合物を堆積させた後、前記還元剤を前記液体混合物に添加することをさらに含む、項目24に記載の方法。
(項目28)
前記反射性層を形成することは、1つ以上の面積を前記金属のない領域の周囲に残しながら、前記反射性層を前記領域上に選択的に形成することを含む、項目23に記載の方法。
(項目29)
前記導波管の表面は、前記領域内に体積を画定する垂直に延在する壁を備え、前記液体混合物を堆積させることは、前記堆積混合物を前記体積の中に堆積させることを含む、項目28に記載の方法。
(項目30)
前記突出部は、回折光学要素を画定し、前記突出部および反射性層は、反射性回折光学要素を形成する、項目23に記載の方法。
(項目31)
前記回折光学要素は、前記光が全内部反射によって前記導波管を通して伝搬するような角度で、入射光を再指向するように構成される内部結合光学要素である、項目30に記載の方法。
(項目32)
前記突出部は、フォトレジストを備える、項目23に記載の方法。
(項目33)
前記液体混合物を付加的光学導波管の表面の付加的領域上に堆積させることによって、付加的反射性層を付加的光学導波管上に形成することであって、付加的反射性光学要素は、入射光を反射させるように構成される、ことと、
少なくとも前記付加的導波管を前記導波管の表面に取り付け、それによって、導波管のスタックを生産することと
をさらに含む、項目23に記載の方法。
(項目34)
前記領域の親水性は、前記液体混合物を堆積させることに先立って、プラズマ、界面活性剤、コーティング、湿式化学エッチング液、および触媒から成る群から選択される1つ以上のエージェントを用いて前記領域を選択的に事前に処理することによって、増加される、項目23に記載の方法。
(項目35)
プラズマで前記領域を事前に処理することは、大気プラズマ処理を実施することを含む、
前記湿式化学エッチング剤は、クロム酸を含む、
前記コーティングは、シリカを含む、および/または
前記触媒は、スズまたはパラジウムを含む
のうちの少なくとも1つである、項目34に記載の方法。
(項目36)
前記液体混合物を堆積させることに先立って、触媒を前記領域に選択的に適用することをさらに含み、前記触媒は、前記銀塩の還元を促すように構成される、項目23に記載の方法。
(項目37)
前記液体混合物は、本質的に、前記金属塩、還元剤、および塩基から成る、項目23に記載の方法。
(項目38)
前記反射性層は、純金属または実質的に純金属である、項目23に記載の方法。
(項目39)
前記液体混合物は、ナノ分注、マイクロ分注、マイクロパイピング、インクジェット印刷、および噴霧のうちの少なくとも1つによって、前記領域上に堆積される、項目23に記載の方法。
(項目40)
前記金属の析出に続いて、残留液体混合物材料を除去することをさらに含む、項目23に記載の方法。
(項目41)
残留液晶混合物を除去することは、前記光学導波管を濯洗することを含む、項目40に記載の方法。
(項目42)
キャッピング層を前記反射性層上に堆積させることをさらに含む、項目23に記載の方法。
(項目43)
前記反射性層は、ピンホールがないまたは実質的にない、項目23に記載の方法。
(項目44)
前記金属は、銀である、項目23に記載の方法。
(項目45)
光学デバイスであって、
反射性回折光学要素を備える第1の導波管であって、前記反射性回折光学要素は、
前記第1の導波管の表面上の突出部と、
前記突出部上の界面層と、
前記界面層上の反射性層と
を備える、第1の導波管
を備える、光学デバイス。
(項目46)
前記界面層は、プラズマ処理表面、界面活性剤層、および触媒のうちの1つ以上のものを備える、項目45に記載の光学デバイス。
(項目47)
前記触媒は、スズまたはパラジウム含有複合物のうちの1つ以上のものを含む、項目46に記載の光学デバイス。
(項目48)
前記反射性層は、少なくとも95%金属である、項目45に記載の光学デバイス。
(項目49)
前記反射性層は、ピンホールが実質的にない、項目45に記載の光学デバイス。
(項目50)
前記反射性回折光学要素は、前記光が全内部反射によって前記第1の導波管を通して伝搬するような角度で、入射光を再指向するように構成される内部結合光学要素である、項目45に記載の光学デバイス。
(項目51)
前記反射性層は、少なくとも85%の反射率を伴って、前記入射光を反射させる、項目50に記載の光学デバイス。
(項目52)
第2の導波管および第3の導波管をさらに備え、前記第2の導波管は、前記第3の導波管と異なる波長の範囲の光を出力するように構成され、
前記第1、第2、および第3の導波管はそれぞれ、反射性回折光学要素を備え、前記反射性回折光学要素は、
前記第1の導波管の表面上の突出部と、
前記突出部上の界面層と、
前記界面層上の反射性層と
を備える、項目45に記載の光学デバイス。
(項目53)
前記第1の表面は、前記反射性層の境界を画定する壁を備える、項目45に記載の光学デバイス。
(項目54)
前記壁は、前記第1の導波管と他の導波管との間に空間を維持するように構成される機械的スペーサを備える、項目53に記載の光学デバイス。
(項目55)
前記光学デバイスは、空間光変調器を備えるディスプレイシステムであり、前記空間光変調器は、画像情報を含有する光を前記反射性回折光学要素上に出力するように構成される、項目45に記載の光学デバイス。
(項目56)
前記反射性層上のキャッピング層をさらに備える、項目45に記載の光学デバイス。
図2は、ユーザのための3次元画像をシミュレートするための従来のディスプレイシステムを図示する。ユーザの眼は、離間されており、空間内の実オブジェクトを見ているとき、各眼は、オブジェクトの若干異なるビューを有し、オブジェクトの画像を各眼の網膜上の異なる場所に形成し得ることを理解されたい。これは、両眼視差と称され得、ヒト視覚系によって、深度の知覚を提供するために利用され得る。従来のディスプレイシステムは、仮想オブジェクトが所望の深度における実オブジェクトであるように各眼によって見えるであろう仮想オブジェクトのビューに対応する、眼210、220毎に1つの同一仮想オブジェクトの若干異なるビューを伴う2つの明確に異なる画像190、200を提示することによって、両眼視差をシミュレートする。これらの画像は、ユーザの視覚系が深度の知覚を導出するために解釈する、両眼キューを提供する。
図10は、光を視認者の眼210に指向するための光プロジェクタシステム2000および接眼レンズ2010の断面図の実施例を図示する。本明細書に議論されるように、複数の光エミッタ2020(例えば、複数のLED)が、空間光変調器(SLM)2030を照明するために使用されてもよい。光エミッタ2020は、光モジュール2040の一部であってもよい。いくつかの実施形態では、ビームスプリッタ(例えば、偏光ビームスプリッタ(PBS))2050は、光エミッタ2020からの光を、光を反射および変調させる、空間光変調器2030に反射させるために使用されてもよい。SLM2030から変調された光は、次いで、ビームスプリッタ2050を通して、1つ以上の導波管を含み得る、接眼レンズ2010に伝搬し得る。いくつかの実施形態では、接眼レンズ2010は、導波管スタック260(図6)または660(図9A-9C)に対応してもよい。接眼レンズ2010の導波管は、光を中継または誘導し、視認者の眼210に出力する。加えて、光プロジェクタシステム2000は、光プロジェクタシステム520(図6)に対応してもよいことを理解されたい。図示されるように、投影光学系を通して伝搬する光は、接眼レンズ2010の面積上に収束し得る。また、図示されるように、本収束に起因して、光はまた、異なる角度で収束面積に入射する。
上記に説明されるように、内部結合光学要素によって内部結合された後、光は、再バウンスを被り得、これは、望ましくないことに、例えば、内部結合光学要素における光の望ましくない外部結合または吸収に起因して、光損失を生じさせ得る。内部結合された光の再バウンスに起因した光損失は、内部結合光学要素の正味効率を事実上減少させ得る。
反射性光学要素は、所望の光反射を達成するために、反射性層を利用してもよい。反射性層は、従来、金属層の蒸着を含む、金属化プロセスを使用して、堆積され得る。これらの従来の金属化プロセスは、時間がかかり得、多数のステップを含み得る。例えば、金属化を導波管上の所望の場所に指向するために、金属化が所望されない導波管の面積を保護するために、導波管を整合させ、マスクで覆う必要があり得る。しかしながら、マスクは、金属化によって汚染され得、頻繁な清掃を要求し得る。加えて、蒸着自体は、真空を要求し得、これは、堆積チャンバが、堆積のために減圧され、次いで、装填解除のために大気圧まで戻されることを要求することによって、金属化プロセスをさらに複雑にし、その持続時間を増加させるであろう。
本明細書に議論されるように、液体混合物等の流動可能材料が、種々の実施形態では、利用されてもよい。液体混合物は、金属塩を含んでもよい。いくつかの実施形態では、液体混合物はまた、還元剤を含んでもよい。好適な金属塩の実施例は、Ag(NH3)2等の銀塩を含む。好適な還元剤は、アルファ-ヒドロキシアルデヒドおよび/またはアルファ-ヒドロキシケトンを含む、炭水化物を含む。そのような炭水化物還元剤の実施例は、グルコース、フルクトース、またはグルコースおよびフルクトースの組み合わせを含む。
本明細書のいくつかの実施形態による、反射性層は、入射電磁放射の少なくとも1つの可視波長(例えば、可視スペクトル内の光)を反射させる。反射性層は、流動可能材料、例えば、液体混合物から形成されてもよい。反射性層は、好ましくは、入射電磁放射の少なくとも1つの可視波長の少なくとも約30%、例えば、入射電磁放射の少なくとも約30%、35%、40%、45%、50%、55%、60%、65%、70%、75%、80%、85%、90%、95%、98%、99%、99.5%、または99.9%を反射させ、列挙された値のうちの任意の2つの間の範囲、例えば、入射電磁放射の約30%~99%、30%~95%、30%~90%、30%~80%、30%~70%、50%~99%、50%~95%、50%~90%、50%~80%、50%~70%、70%~99%、70%~95%、70%~90%、または70%~80%を含む。いくつかの実施形態では、入射電磁放射は、可視スペクトルの光を含む。反応物自体(例えば、金属塩)は、必ずしも、本明細書に説明されるように反応されることに先立って、示される反射性性質を保有するとは限らないが、反応物から形成される反射性層(例えば、金属層)は、示される反射性性質を有することを理解されたい。
液体混合物を堆積させるステップに先立って、導波管の表面を事前に処理することは、本明細書に説明されるように、反射性層の接着および形成を向上させ得ることが想定される。フォトレジスト導波管に関して、事前処理は、反射性層の接着および反射率の両方を向上させ得ることが観察されている(実施例3)。故に、いくつかの実施形態では、フォトレジストを備える、導波管は、本明細書に説明されるように、液体混合物を堆積させるステップに先立って、事前に処理される。さらに、所定の領域を選択的に事前に処理するが、導波管の表面の他の領域を処理しないことは、本明細書に説明されるように、所望の所定の領域内の反射性層の選択的形成を促進することができることが想定される。
いくつかの実施形態では、反射性層を備える光学導波管構造を作製する方法が、説明される。本方法は、表面を備える、光学導波管を提供するステップを含んでもよい。表面は、突出部のパターンを備える、所定の領域を備えてもよい。例えば、所定の領域は、反射性層の堆積のためのナノパターンを画定してもよい。本方法は、液体混合物を表面の所定の領域上に堆積させるステップを含んでもよい。液体混合物は、金属塩および還元剤を含み、塩基性pHにあってもよい。本方法は、堆積される液体混合物中において、金属塩が還元剤によって還元され、純または実質的に純金属を表面の所定の領域上に析出させることを可能にするステップを含んでもよい。したがって、反射性層は、光学導波管構造の所定の領域上に形成されてもよい。結果として生じる反射性層は、本明細書に説明されるように、ピンホールがないまたは実質的にない状態であり得る。いくつかの実施形態では、所定の領域は、導波管の表面全体未満である。いくつかの実施形態では、反射性層は、導波管の表面の所定の領域内の突出部上に共形堆積される。いくつかの実施形態では、本方法はさらに、本明細書に説明されるように、導波管の表面の所定の領域を事前に処理し、表面の親水性を増加させるステップ、例えば、プラズマ処理を含む。事前に処理するステップは、液体混合物が表面の所定の領域上に堆積される前に行われてもよい。いくつかの実施形態では、本方法は、無電解鍍着および/または無電解堆積方法である。いくつかの実施形態では、反射性層は、基板の表面全体を被覆しない。いくつかの実施形態では、反射性層は、基板の表面の全部または実質的に全部を被覆する。いくつかの実施形態では、本方法はさらに、複数の反射性光学要素を形成するように、基板および反射性層を多くの異なる部品にダイカットまたはダイシングするステップを含む。いくつかの実施形態では、反射性層を備える、光学導波管は、光学導波管スタックの一部であって、本方法はさらに、スタックを形成するように、1つ以上の他の光学導波管を光学導波管に取り付けるステップを含む。いくつかの実施形態では、反射性層を備える、光学導波管は、ディスプレイデバイスの一部であって、したがって、本方法はさらに、反射性層を備える導波管(またはそのような導波管を備えるスタック)をディスプレイデバイス内に配置するステップを含む。いくつかの実施形態では、所定の領域は、±50ミクロンの分解能、またはさらにより精密な(数値的により小さい)分解能、例えば、±40、±30、±20、±10、または±5ミクロンで画定される。
いくつかの実施形態では、光学デバイスが、説明される。光学デバイスは、第1の表面を備える、第1の導波管を備えてもよい。光学デバイスは、第1の表面の領域上に配置される、反射性層を備えてもよく、その中の反射性層は、ピンホールがないまたは実質的にない。層は、純金属または実質的に純金属を含む、それから本質的に成る、またはそれから成ってもよい。例えば、層は、少なくとも95%元素金属を含んでもよい。反射性層は、入射電磁放射を界面において第1の導波管の中に反射させるように構成されてもよい。いくつかの実施形態の光学デバイスでは、第1の導波管は、本明細書に説明されるように、光学導波管のスタックの一部である。いくつかの実施形態の光学デバイスでは、スタックの光学導波管のうちの2つ以上のものはそれぞれ、本明細書に説明されるように、反射性層を備える。
いくつかの実施形態では、ディスプレイデバイスが、提供される。ディスプレイデバイスは、その中で回折光学要素が導波管の表面の領域上に配置される反射性層を備える、反射性回折光学要素を備える、導波管を備えてもよい。反射性層は、ピンホールが実質的にない状態であり得る。反射性層は、純金属または実質的に純金属を含む、それから本質的に成る、またはそれから成ってもよい。例えば、層は、少なくとも95%元素金属を含んでもよい。反射性層は、入射電磁放射を界面において第1の導波管の中に反射させるように構成されてもよい。いくつかの実施形態では、第1の導波管は、本明細書に説明されるように、光学導波管のスタックの一部である。いくつかの実施形態では、スタックの光学導波管のうちの2つ以上のものはそれぞれ、本明細書に説明されるように、反射性層を備える。いくつかの実施形態では、反射性層は、導波管の表面全体を被覆しない。
いくつかの実施形態では、光学デバイスを作製する方法が、説明される。本方法は、表面を備える、導波管を提供するステップを含んでもよい。本方法は、液体混合物を表面の領域上に堆積させるステップを含んでもよい。液体混合物は、金属塩を含んでもよい。液体混合物はまた、塩基性pHにおける還元剤を含んでもよい。本方法は、金属塩が還元剤および純または実質的に純金属析出によって還元されるように、液体混合物を表面の所定の領域上でインキュベートするステップを含んでもよい。したがって、反射性層は、表面の所定の領域上に形成される。表面上の反射性層は、反射性回折光学要素を形成してもよい。いくつかの実施形態では、本方法はさらに、本明細書に説明されるように、表面を事前に処理し、表面の親水性を増加させるステップを含む。事前に処理するステップは、液体混合物が表面の所定の領域上に堆積される前に行われてもよい。
いくつかの実施形態では、内部結合光学要素(例えば、内部結合光学要素700、710、720)は、本明細書に説明されるように、純または実質的に純金属を含む、それから本質的に成る、またはそれから成る、反射性層を備える、反射性回折光学要素を備える。
金属イオン還元によって形成される反射性層と銀含有インクの比較
「タイプ1」高銀複合物装填(図21A)、「タイプ2」無機水性銀イオン熱堆積(図21B)、および本明細書のいくつかの実施形態による「タイプ3」湿式化学銀イオン還元(トレンス反応)(図21C)を含む、銀含有層を形成するための異なる方法の実施例が、図21A-Cに示される。
反射性層と蒸着金属層および銀含有インクの比較
ナノ構造化フォトレジストのプラズマによる事前処理は、優れた接着をもたらした。反射率およびICG回折効率が、修正されたトレンス反応によってAPPJプラズマで処理された385レジスト上に生成された銀を含む、反射性層に関して試験され、385レジスト上のスパッタアルミニウム堆積層と、180℃で15分にわたって焼成されたNovaCentrix製インクジェット可能インクと比較された。修正されたトレンス反応によって生成された銀を含む、反射性層は、試験された商業用金属インクより明確に高く、また、蒸着によるアルミニウムコーティングより高い(図23)、反射率を呈した。さらに、修正されたトレンス反応によって生成された銀を含む、反射性層は、400~700nm範囲内で試験された全ての波長に関してより高い反射率を呈した(図23)。
表面処理の効果
表面処理の効果が、本明細書に説明されるように銀イオン還元によって堆積される反射性層に関して評価された。
キャッピングを伴わない反射性層の安定性
本明細書に説明されるように銀イオン還元(「自家銀」とも称され得る)によって形成される反射性層の安定性が、測定された。銀イオン還元によって385M2硬化レジスト(キャッピングを伴わない)上に形成された反射性層の反射率が、最初および60℃で100%湿度における500時間後の両方で測定された。蒸着によって形成されるアルミニウム層の反射率もまた、測定された。図24に示されるように、銀イオン還元によって形成された反射性層は、初期サンプルと60℃で100%湿度における500時間後のサンプルとの間の全ての試験される波長(400~700nm)を横断して反射率の変化を殆ど伴わずに、優れた安定性を呈した。(本明細書のいくつかの実施形態による)銀イオン還元によって形成される初期反射性層および60℃で100%湿度における500時間後の反射性層は両方とも、アルミニウムサンプルより優れた反射率を呈した。
Claims (10)
- 画像をユーザの眼に投影するためのディスプレイシステムであって、前記ディスプレイシステムは、
第1の主要表面と前記第1の主要表面に対向する第2の主要表面とを備える導波管と、
光のビームを前記導波管の前記第2の主要表面に向かって投影するように構成されている投影光学系と、
前記導波管の前記第2の主要表面上に配置されている内部結合光学要素であって、前記内部結合光学要素は、前記投影光学系からの光を内部結合するように構成されている回折領域を備え、前記内部結合光学要素は、前記投影光学系からの光を全内部反射によって前記導波管内を第1の方向に伝搬するように再指向するように構成されている、内部結合光学要素と
を備え、
前記回折領域は、前記投影光学系からの前記光のビームの第1の部分が前記回折領域上に入射し、かつ、前記投影光学系からの前記光のビームの第2の部分が前記回折領域上に入射することなく前記導波管上に衝突するようにサイズ決めされており、かつ、成形されており、
前記投影光学系からの前記光のビームの前記第1の部分のうちの少なくとも一部は、前記内部結合光学要素上で再バウンスせず、
前記回折領域は、高効率回折領域であり、前記内部結合光学要素は、低効率回折領域をさらに備える、ディスプレイシステム。 - 前記低効率回折領域は、前記投影光学系からの前記光のビームの前記第2の部分が前記低効率回折領域上に入射するようにサイズ決めされており、かつ、成形されている、請求項1に記載のディスプレイシステム。
- 前記高効率回折領域は、金属化された格子部分を備える反射性回折領域であり、前記低効率回折領域は、非金属化された格子部分を備える、請求項2に記載のディスプレイシステム。
- 前記光のビームの前記第2の部分は、前記導波管の中に内部結合されることなく、前記第2の主要表面を通して、前記導波管から外に伝搬する、請求項1に記載のディスプレイシステム。
- 前記光のビームの前記第2の部分は、前記光のビームの前記第1の部分に対してより低い効率で前記導波管の中に内部結合されている、請求項1に記載のディスプレイシステム。
- 前記回折領域は、前記投影光学系からの前記光のビームのビーム軸における前記第1の方向と垂直な対称軸に対して前記回折領域が非対称であるように配置されている、請求項1に記載のディスプレイシステム。
- 前記導波管は、導波管スタックの一部であり、
前記導波管スタックは、
第1の主要表面と第2の主要表面とを備える第2の導波管と、
前記第2の導波管の前記第2の主要表面上に配置されている第2の内部結合光学要素であって、前記第2の内部結合光学要素は、前記光のビームによって画定された面積の回折領域によって被覆される割合に対して、前記投影光学系からの光の第2のビームによって画定された面積のより大きい割合を被覆する第2の回折領域を備える、第2の内部結合光学要素と
をさらに備える、請求項1に記載のディスプレイシステム。 - 前記第2の回折領域は、前記光の第2のビームの実質的に全てを内部結合するように構成されている、請求項7に記載のディスプレイシステム。
- 前記導波管の回折領域は、前記投影光学系からの前記光のビームのビーム軸における前記第1の方向と垂直な対称軸に対して非対称であるように配置されており、前記第2の回折領域は、前記光の第2のビームのビーム軸における前記第1の方向と垂直な第2の対称軸に対して対称であるように配置されている、請求項7に記載のディスプレイシステム。
- 前記第2の導波管は、前記導波管と前記投影光学系との間に配置されており、前記導波管は、前記投影光学系の焦点距離よりも大きい距離で前記投影光学系から離間されている、請求項7に記載のディスプレイシステム。
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