JP7122559B2 - LASER PROCESSING METHOD AND LASER PROCESSING APPARATUS - Google Patents
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Description
本発明は、例えば樹脂フィルムなどの加工対象物のレーザ切断加工における、レーザ加工方法及びレーザ加工装置に関するものである。 The present invention relates to a laser processing method and a laser processing apparatus for laser cutting an object to be processed such as a resin film.
レーザ照射による様々な加工対象物(すなわち、ワーク)の切断及び穴あけ等の加工方法及び装置が既に知られている。 2. Description of the Related Art Processing methods and devices for cutting, drilling, etc., of various objects to be processed (that is, workpieces) by laser irradiation are already known.
レーザ加工装置は、主に駆動ステージと、ガルバノスキャナと、レーザ発振器と、光学系部品とで構成されており、照射されたレーザを集光レンズに通し、ワークに焦点位置を合わせることで加工を施す方法が一般的である。また、2次元的な方向の加工には、駆動軸を持つステージ又はガルバノスキャナで、任意の軌跡を走査する方法がある。 A laser processing device mainly consists of a drive stage, a galvanometer scanner, a laser oscillator, and optical components. A common method is to apply Also, two-dimensional processing includes a method of scanning an arbitrary trajectory with a stage having a drive shaft or a galvanometer scanner.
例えば、ガルバノスキャナのみでレーザ光を走査する方法がある。この場合、ガルバノスキャナ走査速度が速い為、ワークの熱影響を低減でき、高品質な加工を実現できる。 For example, there is a method of scanning laser light only with a galvanometer scanner. In this case, since the scanning speed of the galvanometer scanner is fast, the thermal influence of the workpiece can be reduced, and high-quality processing can be achieved.
また、前記方法に加えて、駆動ステージをピッチ移動させて加工する方法がある。この場合、大面積なワーク及び加工において効果的である。このように、色々な技術が提案されている。 In addition to the above method, there is a method of processing by pitch-moving the drive stage. In this case, it is effective for large-area workpieces and processing. In this way, various techniques have been proposed.
近年では、高速及び高品質を目的として、駆動ステージ及びガルバノスキャナを組合せて協調制御して加工する方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。 In recent years, for the purpose of high speed and high quality, there has been proposed a processing method in which a driving stage and a galvanometer scanner are combined and under coordinated control (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、前記従来の構成では、fθレンズの走査領域より大きい領域の大面積を加工するためには、以下のように動作している。まず、加工対象物をfθレンズの走査領域の範囲で区切る。次いで、停止した駆動ステージ上の加工対象物の第1加工領域をレーザ加工する。その後、駆動ステージを駆動し、第1加工領域の隣の第2加工領域に加工対象物を移動する。その後、停止し加工対象物の第2加工領域にレーザ加工する。次いで、順次、これらの加工動作を繰り返す。つまり、駆動ステージを加工ピッチ分だけ繰返し移動させて加工させるステップ&リピート方式で加工する必要がある。その為、走査範囲の境界において、加工痕に継ぎ目が発生し、過加工又は加工不足による、加工精度と生産性とが低下する課題を有している。 However, in the conventional configuration, the following operation is performed in order to process a large area larger than the scanning area of the f.theta. lens. First, the object to be processed is divided within the range of the scanning area of the fθ lens. Next, laser processing is performed on the first processing area of the workpiece on the stopped driving stage. After that, the drive stage is driven to move the workpiece to the second machining area adjacent to the first machining area. After that, the processing is stopped, and laser processing is performed on the second processing region of the processing object. These machining operations are then repeated in sequence. That is, it is necessary to perform machining by a step-and-repeat system in which the drive stage is repeatedly moved by the machining pitch. Therefore, there is a problem that a seam is generated in the processing marks at the boundary of the scanning range, and processing accuracy and productivity are lowered due to excessive processing or insufficient processing.
従って、本発明の目的は、前記問題を解決することにあって、加工精度と生産性との低下を抑制することができるレーザ加工方法及びレーザ加工を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a laser processing method and a laser processing which are capable of suppressing a decrease in processing accuracy and productivity in order to solve the above problems.
前記目的を達成するために、本発明の1つの態様にかかるレーザ加工方法は、
レーザ光を走査する走査領域より、加工領域が大きい加工対象物をレーザ加工するレーザ加工方法において、
前記加工対象物を第1方向に移動させる第1駆動装置に保持し、
次いで、前記第1駆動装置により前記加工対象物を前記第1方向に移動させつつ、ガルバノスキャナにより、前記ガルバノスキャナとfθレンズとを通過して前記加工対象物に照射する前記レーザ光を、前記加工対象物に対して、前記第1方向と前記第1方向の逆方向とに往復移動させて走査するとき、
前記加工対象物の移動速度をVtとし、前記レーザ光の走査速度をVsとし、前記加工対象物を前記移動速度Vtで移動させつつ、前記加工対象物の加工予定線の一部の同一直線上で、前記走査速度Vsで前記レーザ光を連続して3回以上往復走査して前記レーザ光を照射し、
前記レーザ光の走査の線速度V0は相対的に一定になるように制御部で制御され、前記走査速度Vsによる前記往復走査のうち、往路走査のガルバノスキャナ往路走査速度をVs1とするとともに復路走査のガルバノスキャナ復路走査速度Vs2とすると、
前記往路走査での前記線速度V0は、
V0=Vs1-Vt であり、
前記復路走査での前記線速度V0は、
V0=Vs2+Vt であり、
前記線速度V0は、相対的に一定に制御することから、
Vt=(Vs1-Vs2)/2 であり、
前記ガルバノスキャナは、前記ガルバノスキャナ復路走査速度Vs2より前記ガルバノスキャナ往路走査速度Vs1が速く、Vs1>Vs2 であり、
前記移動速度Vtより前記ガルバノスキャナの前記走査速度Vsが、2倍以上速く、Vs>2Vt である、
レーザ加工方法を提供する。
In order to achieve the above object, a laser processing method according to one aspect of the present invention comprises:
In a laser processing method for laser processing an object having a processing area larger than a scanning area scanned with a laser beam,
holding the workpiece in a first drive that moves the workpiece in a first direction;
Next, while the first driving device moves the object to be processed in the first direction, the galvano scanner irradiates the object to be processed with the laser beam passing through the galvano scanner and the fθ lens. When scanning an object to be processed by reciprocating in the first direction and in a direction opposite to the first direction,
Let Vt be the moving speed of the object to be processed, Vs be the scanning speed of the laser beam, and while moving the object to be processed at the moving speed Vt, a part of the planned processing line of the object to be processed is on the same straight line. and irradiating the laser beam by continuously scanning the laser beam three or more times at the scanning speed Vs,
The linear velocity V0 of the scanning of the laser light is controlled by the control unit so as to be relatively constant, and of the reciprocating scanning at the scanning velocity Vs , the galvanometer scanner forward scanning velocity of the forward scanning is set to Vs1. Assuming that the backward scanning speed of the galvano-scanner backward scanning is Vs 2 ,
The linear velocity V0 in the forward scanning is
V 0 =Vs 1 -Vt and
The linear velocity V0 in the backward scanning is
V 0 =Vs 2 +Vt and
Since the linear velocity V0 is controlled to be relatively constant,
Vt=(Vs 1 -Vs 2 )/2 and
In the galvano scanner, the galvano scanner forward scanning speed Vs1 is faster than the galvano scanner backward scanning speed Vs2, and Vs1 >Vs2,
The scanning speed Vs of the galvanometer scanner is twice or more faster than the moving speed Vt, and Vs>2Vt.
A laser processing method is provided.
以上のように、本発明の前記態様によれば、加工精度と生産性との低下を抑制することができて、加工対象物上に、任意の形状かつ、より広範囲で大面積を高速で継ぎ目のない均質な加工ができる。 As described above, according to the above aspect of the present invention, it is possible to suppress the deterioration of processing accuracy and productivity, and to joint a large area in an arbitrary shape and in a wider range on a processing object at high speed. Homogeneous processing is possible.
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(実施の形態)
図1は、本発明の実施の形態のレーザ加工装置90の構成についての図である。
(Embodiment)
FIG. 1 is a diagram of the configuration of a
レーザ加工装置90を使用するレーザ加工方法は、レーザ光Lを走査する走査領域401(図4参照)より、加工領域(図4の走査軌跡402及び加工予定線402aを参照)が大きい加工対象物101をレーザ加工する方法である。ここでは、レーザ光Lを走査させて走査軌跡402を生成するが、走査軌跡402を生成する線を、加工予定線402aと称する。
In the laser processing method using the
レーザ加工装置90は、少なくとも、第1駆動装置の例としての加工対象物用の駆動ステージ102と、レーザ出射部と、ガルバノスキャナ202と、fθレンズ203と、第2駆動装置の例としての走査用の駆動ステージと、制御部100とを備えている。
The
加工対象物用の駆動ステージは、一例として、X軸駆動ステージ102である。図1において、X軸駆動ステージ102は基台91に配置され、加工対象物101はX軸駆動ステージ102に保持されて、X軸駆動ステージ102の駆動により加工対象物101がX軸方向に進退移動する。
An example drive stage for the workpiece is the
ガルバノスキャナ202及びfθレンズ203とは加工ヘッド103に備えられている。
The
走査用の駆動ステージは、一例として、少なくとも、Y軸駆動ステージ105で構成されている。好ましくは、レーザ光用の駆動ステージは、Z軸駆動ステージ104をさらに備えても良い。Y軸駆動ステージ105とZ軸駆動ステージ104とは基台91に配置されている。詳しくは、Y軸駆動ステージ105は、基台91に固定された逆U字状の門柱106に取付けられている。
The drive stage for scanning is configured by at least the Y-
加工ヘッド103はZ軸駆動ステージ104に支持されて、Z軸駆動ステージ104の駆動により加工ヘッド103がX軸及びY軸と交差するZ軸の方向に進退移動する。また、Z軸駆動ステージ104はY軸駆動ステージ105に支持されて、Y軸駆動ステージ105の駆動によりZ軸駆動ステージ104とともに加工ヘッド103がX軸と交差するY軸の方向に進退移動する。
The
なお、別の例として、加工対象物用の駆動ステージがY軸駆動ステージで、走査用の駆動ステージがX軸駆動ステージで構成するようにしてもよい。 As another example, the object drive stage may be a Y-axis drive stage, and the scanning drive stage may be an X-axis drive stage.
ガルバノスキャナ202は、X軸用及びY軸用のガルバノミラー202a,202bと、ガルバノミラー202a,202bの傾斜角度を調整する軸回転用モータ202c,202dと、軸回転用モータ202c,202dを駆動制御する回転角制御部202eとで構成されている。
The
X軸駆動ステージ102及びY軸駆動ステージ105は、動作速度を十分に確保できる能力を持つ(例えば、500mm/sec以上)ような構成としている。本実施の形態では、一例として、X軸駆動ステージ102及びY軸駆動ステージ105は、それぞれ、駆動制御部(図示せず)で駆動制御されるリニアモータ(図示せず)と、リニアモータで進退移動するガイド(図示せず)とで構成している。
The
Z軸駆動ステージ104は、レーザ光照射のフォーカス調整の為に使用し、前記のような高速駆動する能力を満たす必要はなく、繰り返し位置決め精度を確保できる構成にする。本実施の形態では、Z軸駆動ステージ104の一例として、駆動制御部(図示せず)で駆動制御されるサーボモータ(図示せず)と、ボールネジ(図示せず)と、ガイド(図示せず)とで構成し、サーボモータの正逆回転駆動でボールネジが正逆回転し、ボールネジにねじで連結されたガイドがボールネジの軸方向すなわちZ軸方向に進退移動する。ガイドには、加工ヘッド103が支持されている。
The Z-
尚、Y軸駆動ステージ105は、前記構成を満たすものであれば、X軸駆動ステージ102上に配置するなど、加工ヘッド103を駆動しない構成とすることもできる。すなわち、この場合は、加工対象物用の駆動ステージがX軸駆動ステージ102及びY軸駆動ステージ105で構成され、走査用の駆動ステージがZ軸駆動ステージ104で構成されることになる。
If the Y-
制御部100は、レーザ出射部と、X軸駆動ステージ102の駆動制御部と、Y軸駆動ステージ105の駆動制御部と、Z軸駆動ステージ104の駆動制御部と、ガルバノスキャナ202の回転角制御部202eとのそれぞれを制御して、協調制御を行いつつレーザ加工を実施するように制御する。
The
図2は、図1の一部の構成の詳細図である。レーザ出射部の一例としてのレーザ発振器201よりガルバノスキャナ202のガルバノミラー202a,202bにレーザ光Lが照射される。レーザ発振器201から照射されたレーザ光Lは、ガルバノスキャナ202のガルバノミラー202aとガルバノミラー202bとで反射されて、fθレンズ203で集光される。fθレンズ203で集光されたレーザ光Lは、fθレンズ203を透過して加工対象物101に照射され、加工対象物101を加工する。その際、X軸駆動ステージ102とガルバノスキャナ202とY軸駆動ステージ105とで任意の加工予定線402aを走査することで、所定の走査軌跡402を形成して所定の形状に切断して切断品301を得ることができる。本実施の形態では、X軸駆動ステージ102とガルバノスキャナ202とを制御部100で協調制御するので、前記動作を実現することができる。
FIG. 2 is a detailed view of the configuration of part of FIG. Galvanometer mirrors 202 a and 202 b of a
尚、前記制御部100は、X軸駆動ステージ102に限らず、Y軸駆動ステージ105に関しても、X軸駆動ステージ102と同様に協調制御を実施する。
Note that the
図3より、レーザ光Lによる加工は、加工対象物101より、所定の切断形状の切断品301に切り出される。
As shown in FIG. 3, the
尚、図3は大面積の加工対象物から複数形状の切断品を切り出す方法であるが、これに限らず、小面積の加工対象物から1形状の切断品を切り出す等、切り出しの形態は様々である。 FIG. 3 shows a method of cutting out a plurality of shapes from a large-area workpiece. is.
また、切断品301の大きさは、図4に示すようにガルバノスキャナ202の走査領域401より大きい加工領域であり、X軸駆動ステージ102またはY軸駆動ステージ105を加工予定線402aに沿って走査しながら、同加工予定線402a上を同時系列でガルバノスキャナ202を制御部100で協調制御して動作させる。
The size of the
制御部100は、
レーザ光Lが任意の形状の加工予定線402aを一定の速度及び一方向に走査できるように、X軸駆動ステージ102及びY軸駆動ステージ105のそれぞれの駆動制御部で制御しつつ、ガルバノスキャナ202の回転角制御部202eで、同加工予定線402a上を走査領域401内でガルバノスキャナ202を往復動作させながら、相対的な線速が一定になるように制御する。
The
The
レーザ発振器201は、超短パルス(例えばピコ秒~フェムト秒)、及び、最大周波数1MHz以上でレーザ光Lを発振する。レーザ発振器201からのレーザ光Lは、加工対象物101の加工予定線402aに照射するまでは、複数枚の反射ミラー(図示せず)及びガルバノスキャナ202によりレーザ光Lを空間伝送され、集光レンズはfθレンズ203を用いる。
A
尚、加工対象物101の材質及び加工方法は、加工の内容により、レーザ発振器201の波長、出力、又はパラメータ設定等は、適宜なものでよい。例えば、金属系材料では、レーザ波長は1064nm付近を使用するのが良い。
The wavelength, output, parameter setting, etc. of the
ガルバノスキャナ202は、往復動作すなわち往復走査の走査速度を十分に確保できる能力を持つもの(例えば、5000mm/sec程度の走査速度を持つガルバノスキャナ)とし、反射ミラーとしてのガルバノミラー202a,202bは、前記レーザ発振器201の波長帯、パワー、及びビーム径などの条件に合ったものを選定する。ガルバノミラー202a,202b以外の他の反射ミラー、光学系部材(例えばコリメータレンズ及びビームエキスパンダーなど)についても、前記条件を満たすもので構成する。
The
尚、ガルバノスキャナ202の構成は、ポリゴンミラー、又は、ピエゾ素子等の単体もしくは2軸構成で反射ミラーとしてガルバノミラー202a,202bを有した構成とすることができる。
The configuration of the
fθレンズ203は、要求される加工精度に合わせてF値が45以上で110以下のものを使用する。F値が小さいほどより高精度、F値が大きくなるほど生産性に優れる。また、fθレンズ203の焦点距離及び光束の直径は、選定したF値のfθレンズ203を参照して、ビームエキスパンダー及びコリメータレンズを使用して光束口径は理論値になるように構成する。
As the
図5は、本発明の実施の形態における、レーザ加工装置90を使用したレーザ加工方法を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a laser processing method using a
本実施の形態は、レーザ走査領域401より加工領域が大きい加工対象物101をレーザ加工する加工方法で、X軸駆動ステージ102及びY軸駆動ステージ105を動作させると同時にガルバノスキャナ202でレーザ光Lを走査することで、継ぎ目の影響なく、加工できる。また、制御部100の制御の下に、レーザ光Lの走査の線速度V0を相対的に一定にするように制御することで、生産性の高い加工が実現できる。
This embodiment is a processing method for laser processing the
レーザ走査の線速度を一定にする為に、X軸駆動ステージ102の駆動ステージ走査501とガルバノスキャナ202のガルバノスキャナ走査502とを制御部100で協調制御する。駆動ステージ走査501では、与えられたレーザ光Lの加工予定線402aを一方向(例えば図5の上方向)で走査し、同時系列で駆動ステージの加工予定線402a上を、ガルバノスキャナ202で反射したレーザ光Lが複数回往復で走査する。図5では、駆動ステージ走査501とガルバノスキャナ走査502との協調制御の結果としての同期走査の軌跡503を示すとともに、同期走査軌跡分解イメージ504も示している。
In order to keep the linear velocity of the laser scanning constant, the drive stage scanning 501 of the
ガルバノスキャナ走査502におけるレーザ光Lの走査線速度V0は、相対的に一定になるように制御部100でガルバノスキャナ202の駆動が制御される。
The driving of the
ここで、与えられた加工予定線402aを一方向に進むX軸駆動ステージ102の駆動ステージ速度をVtとし、X軸駆動ステージ102の移動方向(例えば図1の手前側に向けた方向)と同じ方向に進むガルバノスキャナ202のガルバノスキャナ往路走査速度をVs1とし、X軸駆動ステージ102の移動する方向を第1方向とする。このとき、走査線速度V0は
V0 = Vs1 - Vt
となる。
Here, the drive stage speed of the
becomes.
また、X軸駆動ステージ102の移動方向として、与えられた加工予定線402aを一方向に進む駆動ステージ速度をVtとし、X軸駆動ステージ102の前記移動方向と逆方向に進むガルバノスキャナ202のガルバノスキャナ復路走査速度をVs2とし、前記逆方向を第2方向(すなわち、第1方向と逆方向)とする。このとき、走査線速度V0は
V0 = Vs2 + Vt
となる。
As the moving direction of the
becomes.
ここで、ガルバノスキャンは、X軸駆動ステージ102の前記移動方向である第1方向とは逆方向に走査する第2方向より、X軸駆動ステージ102と同じ方向に走査する第1方向の方が、速い。このため、
Vs1 > Vs2である。
Here, in galvano scanning, the first direction scanning in the same direction as the
Vs1 > Vs2 .
走査線速度V0は、制御部100で相対的に一定になるように制御部100で制御されるので、
Vs1 - Vt > Vs2 + Vt
であり、
(Vs1 - Vs2) / Vt >2
となる。
Since the scanning line speed V0 is controlled by the
Vs1 - Vt>Vs2 + Vt
and
(Vs1 - Vs2)/Vt> 2
becomes.
したがって、X軸駆動ステージ102の駆動ステージ速度(すなわち移動速度)Vtより、ガルバノスキャナ202の走査速度Vsが2倍以上速くなることになる。
Therefore, the scanning speed Vs of the
尚、図5は、直線形状で説明しているが、直角又は円弧を有する形状においても、同様の考え方である。 Although FIG. 5 is described with a linear shape, the same concept applies to a shape having a right angle or an arc.
このような加工方法によれば、X軸駆動ステージ102により加工対象物101をX軸の方向に移動させつつ、ガルバノスキャナ202により、ガルバノスキャナ202とfθレンズ203とを通過して加工対象物101に照射するレーザ光りを、加工対象物101に対して、X軸方向沿いの第1方向と前記第1方向の逆方向の第2方向とに往復移動させて走査することができる。従って、レーザ発振器201の照射パワーを比較的小さく(例えば、従来の20%程度に)設定することができて、レーザ加工時の加工対象物101への熱影響が小さくなる。また、走査速度を高速に複数回往復走査する為、レーザ発振器201の照射パワーが小さくても、レーザ加工における切削量は大きいので、加工時間を短縮する効果がある。例えば、走査距離が約391mmで6インチ相当の加工対象物の場合には、従来より1.5~2.0倍程度高速に加工することができる。
According to such a processing method, while the
図6は、ガルバノスキャナ202の加工予定線402aすなわち走査軌跡402を示し、主に往復動作であり、複数回行われるものとする。具体的には、往復動作回数Nは、3回以上かつ奇数である走査回数を満たす線速度及びパワー関係のプロセス条件を導出する。往復動作回数Nが2回未満であると、単なる往復動作であり、かつ形状走査が単純なものになるため、好ましくない。また、往復動作回数Nを偶数回動作にしてしまうと、後述する加工対象物101の断面形状において、ガルバノスキャンが復路で終わってしまい(図7E参照)、加工不良の原因となる可能性がある。このため、すなわち、加工精度と生産性との低下を抑制するため、往復動作回数Nは3回以上かつ奇数回とする。
FIG. 6 shows a
尚、加工予定線402aすなわち軌跡402の形状は、直線に限らず、円弧又はその他の形状を用いても良い。また、加工予定線402aすなわち軌跡402の長さについては、fθレンズ203の最大走査範囲を超えなければ、任意の設定でよいが、後述する軌跡通過範囲内に収めるのが好ましい。
The shape of the planned
前述より、X軸駆動ステージ102が、X軸沿いの一方向に一定線速度で移動している。このX軸駆動ステージ102の移動と、制御部100による協調制御におけるガルバノスキャナ走査とを組合せることで、走査軌跡402が、レーザ加工の深さ方向に関して、加工対象物101の断面形状が図7Aのような階段形状になる。図7Aでは、加工端エリア701と、切断ライン702とを示している。
As described above, the
これにより、加工対象物101が、走査軌跡402で除々に切削される効果が得られ、高品質な加工が可能となる。
As a result, the
具体的には、図7B~図7Fで説明する。 Specifically, it will be described with reference to FIGS. 7B to 7F.
図7Bは、往復動作回数N=1の動作における加工対象物101の断面である。この動作は、X軸駆動ステージ102及びガルバノスキャナ202の往路動作を示している。
FIG. 7B is a cross section of the
図7Cは、往復動作回数N=2の動作における加工対象物101の断面である。この動作は、図7Bの動作に対してガルバノスキャナ202の復路動作をさらに加わっている。しかしながら、前述X軸駆動ステージ102は一方向に動作しているだけの為、移動量は短くなっている。
FIG. 7C is a cross section of the
図7Dは往復動作回数N=3の動作における加工対象物101の断面である。この動作では、X軸駆動ステージ102は一方向に動作し、ガルバノスキャナ202は往復動作に加えて往路動作をさらに行う。
FIG. 7D is a cross section of the
さらに動作を複数回繰り返すと、図7Eは往復動作回数N=4の動作における加工対象物101の断面であり、図7Fは往復動作回数N=5の動作における加工対象物101の断面である。このように加工対象物101を加工して、レーザ切断加工を施す。
When the motion is repeated multiple times, FIG. 7E is a cross section of the
尚、3以上の往復動作の繰り返し回数については、線速度及びレーザ発振器201のパワーとの関係から、プロセス条件を導出して決定するのが好ましい。
It is preferable to determine the number of repetitions of the reciprocating motion of 3 or more by deriving process conditions from the relationship between the linear velocity and the power of the
また、前記走査動作では、図7Fのように、加工開始点と加工終了点の加工端エリア701において、深さ方向の段差701aが残る。その為、加工端エリア701において段差701aを無くすためには、加工端エリア701では、軌跡402が敢えてオーバーラップするような走査軌跡402を生成するように走査すればよい。
Further, in the scanning operation, as shown in FIG. 7F, a
このときのオーバーラップ量は、図8のように、加工開始点及び加工終了点の前後に、往復動作回数N>1もしくは、前記プロセス導出による、切断に要する往復繰り返し回数を十分に考慮した軌跡402を生成するように走査する。なお、図8においては、開始点オーバーラップ801と、終了点オーバーラップ802と、開始端803と、終了端804とを示している。
The amount of overlap at this time is, as shown in FIG. 402 is scanned. Note that FIG. 8 shows a
前述より、レーザ光Lは、fθレンズ203を介して集光したのち、加工対象物101に照射する。レーザ光Lがfθレンズ203の中心を通る程、レーザ光Lの集光性が良く、高精度に加工できる特徴がある。この為、ガルバノスキャナ202で走査する加工予定線402aは、fθレンズ203の中心203aを通るように走査軌跡402を生成して走査される。
As described above, the laser beam L is condensed via the
一例として、図9に示す通り、fθレンズ203には、最大走査範囲(言い換えれば、最大走査領域)901が存在する。例えば、F値が100の場合、約直径70mmの円内(直径70mm円内の正方形領域50mm*50mm)の範囲が最大走査範囲901として有効であり、大きさはfθレンズ203の種類によって様々であるが、最大走査範囲901は円形状である。前記より、走査する最大走査範囲901の円形状の中心を通る軌跡402は、図9の(a)の軌跡通過範囲幅902内として、fθレンズ203を中心に十字である。点線902aは、軌跡通過範囲、すなわち、走査軌跡402による切断によって分離させれるワークの縁を示している。
As an example, as shown in FIG. 9, the
最大走査直径Dsとし、軌跡通過範囲幅Aは下式で示す。 With the maximum scanning diameter Ds, the locus passing range width A is given by the following formula.
幅A = Ds * sinπ/4 *0.06
前記より、fθレンズ203の中心203aを通る為、精度良く加工され、かつ十字に軌跡通過範囲幅Aがある為、最大走査範囲901の上限まで使用でき、かつ走査距離を長くできることで加工時間の短縮となることから、レーザ加工における加工精度と生産性とが両立できる。
Width A = Ds*sinπ/4*0.06
As described above, since it passes through the
また、図9の(b)~(e)は、fθレンズ203の中心203aを通る軌跡通過範囲幅Aの走査軌跡パターン903の一部を示しており、主に図9の(b)~図9の(e)のような走査軌跡パターン903をガルバノスキャナ202で往復走査させる。
9B to 9E show a part of the
図9の(b)は、図9の(b)の左右方向に走査されて生成された軌跡402の軌跡パターン903aを示す。図9の(c)は、図9の(c)の上下方向に走査されて生成された軌跡402の軌跡パターン903bを示す。図9の(d)は、図9の(d)の上から中心を通過して右手にL字状に走査されて生成された軌跡402の軌跡パターン903cを示す。この軌跡パターン903cでは、切断形状の角部に、直角の角部を形成することができる。図9の(e)は、図9の(d)の軌跡パターン903cのうち、中心で直角に曲がらずに、中心近傍で緩やかに湾曲して曲がる軌跡パターン903dを示す。この軌跡パターン903dでは、切断形状の角部に湾曲したR部を形成することができる。
FIG. 9(b) shows a
前記構成にかかるレーザ加工方法及び装置によれば、加工対象物101、あるいはレーザ走査光学系202,203を駆動して、加工対象物101とレーザ光LとをX軸及びY軸駆動ステージ102,105でXY軸方向に駆動でき、レーザ光Lを走査範囲内で位置決めして照射させることができるレーザ走査光学系、例えばガルバノミラーGx、Gy軸を有し、走査軌跡に応じて、X軸及びY軸駆動ステージ102,105のXY軸とレーザ走査光学系202,203のX軸用及びY軸用のガルバノミラー202a,202bを同時に動作させることで、レーザ走査速度を一定に制御することで、レーザ強度を制御することなくレーザ加工することができる。
According to the laser processing method and apparatus having the configuration described above, the
前記実施形態によれば、加工対象物101を移動速度Vtで移動させつつ、加工対象物101の加工予定線402aの一部の同一直線上で、走査速度Vsでレーザ光Lを連続して3回以上かつ奇数回だけ往復走査するようにしたので、加工精度と生産性との低下を抑制することができて、加工対象物101上に、任意の形状かつ、より広範囲で大面積を高速で継ぎ目のない均質な加工ができる。
According to the above-described embodiment, while moving the
なお、前記様々な実施形態又は変形例のうちの任意の実施形態又は変形例を適宜組み合わせることにより、それぞれの有する効果を奏するようにすることができる。また、実施形態同士の組み合わせ又は実施例同士の組み合わせ又は実施形態と実施例との組み合わせが可能であると共に、異なる実施形態又は実施例の中の特徴同士の組み合わせも可能である。 By appropriately combining any of the various embodiments or modifications described above, the respective effects can be obtained. In addition, combinations of embodiments, combinations of examples, or combinations of embodiments and examples are possible, as well as combinations of features in different embodiments or examples.
本発明の前記態様にかかるレーザ加工装置及びレーザ加工方法は、加工対象物上に、任意の形状かつ広範囲に高速に加工でき、樹脂フィルム以外の加工対象物(例えば、鉄系材料)等の切削又は切断加工の用途にも適用できる。 The laser processing apparatus and laser processing method according to the above aspect of the present invention can process an object to be processed in any shape and in a wide range at high speed, and can be used to cut objects other than resin films (for example, iron-based materials). Alternatively, it can also be applied to cutting applications.
90 レーザ加工装置
91 基台
100 制御部
101 加工対象物
102 X軸駆動ステージ
103 加工ヘッド
104 Z軸駆動ステージ
105 Y軸駆動ステージ
106 門柱
201 レーザ発振器
202 ガルバノスキャナ
202a,202b X軸用及びY軸用のガルバノミラー
202c,202d 軸回転用モータ
202e 回転角制御部
203 fθレンズ
203a fθレンズの中心
301 切断品
401 ガルバノスキャナの走査領域
402 レーザ走査軌跡
402a 加工予定線
501 駆動ステージ走査
502 ガルバノスキャナ走査
503 同期走査の軌跡
504 同期走査軌跡分解イメージ
701 加工端エリア
701a 段差
702 切断ライン
801 開始点オーバーラップ
802 終了点オーバーラップ
803 開始端
804 終了端
901 ガルバノスキャナ最大走査範囲
902 軌跡通過範囲幅
902a 軌跡通過範囲
903 走査軌跡パターン
903a,903b,903c,903d 軌跡パターン
90
Claims (11)
前記加工対象物を第1方向に移動させる第1駆動装置に保持し、
次いで、前記第1駆動装置により前記加工対象物を前記第1方向に移動させつつ、ガルバノスキャナにより、前記ガルバノスキャナとfθレンズとを通過して前記加工対象物に照射する前記レーザ光を、前記加工対象物に対して、前記第1方向と前記第1方向の逆方向とに往復移動させて走査するとき、
前記加工対象物の移動速度をVtとし、前記レーザ光の走査速度をVsとし、前記加工対象物を前記移動速度Vtで移動させつつ、前記加工対象物の加工予定線の一部の同一直線上で、前記走査速度Vsで前記レーザ光を連続して3回以上往復走査して前記レーザ光を照射し、
前記レーザ光の走査の線速度V0は相対的に一定になるように制御部で制御され、前記走査速度Vsによる前記往復走査のうち、往路走査のガルバノスキャナ往路走査速度をVs1とするとともに復路走査のガルバノスキャナ復路走査速度Vs2とすると、
前記往路走査での前記線速度V0は、
V0=Vs1-Vt であり、
前記復路走査での前記線速度V0は、
V0=Vs2+Vt であり、
前記線速度V0は、相対的に一定に制御することから、
Vt=(Vs1-Vs2)/2 である、
レーザ加工方法。 In a laser processing method for laser processing an object having a processing area larger than a scanning area scanned with a laser beam,
holding the workpiece in a first drive that moves the workpiece in a first direction;
Next, while the first driving device moves the object to be processed in the first direction, the galvano scanner irradiates the object to be processed with the laser beam passing through the galvano scanner and the fθ lens. When scanning an object to be processed by reciprocating in the first direction and in a direction opposite to the first direction,
Let Vt be the moving speed of the object to be processed, Vs be the scanning speed of the laser beam, and while moving the object to be processed at the moving speed Vt, a part of the planned processing line of the object to be processed is on the same straight line. and irradiating the laser beam by continuously scanning the laser beam three or more times at the scanning speed Vs,
The linear velocity V 0 of scanning of the laser light is controlled by the control unit so as to be relatively constant. Assuming that the backward scanning galvano scanner backward scanning speed is Vs 2 ,
The linear velocity V 0 in the forward scanning is
V 0 =Vs 1 -Vt and
The linear velocity V 0 in the backward scanning is
V 0 =Vs 2 +Vt and
Since the linear velocity V 0 is controlled to be relatively constant,
Vt = (Vs 1 -Vs 2 )/2,
Laser processing method.
前記往復動作の回数は3回以上かつ奇数回である、
請求項1に記載のレーザ加工方法。 In the reciprocating scanning, a scanning trajectory is formed by reciprocating motion of the galvanometer scanner along the planned processing line,
The number of reciprocating motions is 3 or more and an odd number of times,
The laser processing method according to claim 1 .
請求項2に記載のレーザ加工方法。 In the control unit, by cooperatively controlling and combining the reciprocating scanning by the galvanometer scanner and the movement at a constant speed in one direction along the first direction by the first driving device, the scanning trajectory is In the depth direction of laser processing, it becomes a stepped shape,
The laser processing method according to claim 2 .
請求項3に記載のレーザ加工方法。 The control unit generates and scans the scanning trajectory that overlaps and scans so as to eliminate steps in the cross section of the object to be processed in the processing end area of the processing start point and the processing end point by the laser beam. control to
The laser processing method according to claim 3 .
前記走査軌跡は、前記fθレンズの軌跡通過範囲内として、前記fθレンズの最大走査直径をDsとし、軌跡通過範囲幅をAとするとき、
A = Ds * sinπ/4 *0.06
となる条件の下で前記走査軌跡を生成するように前記走査を行う、
請求項2~4のいずれか1つに記載のレーザ加工方法。 scanning so as to generate the scanning trajectory so that the laser light from the galvanometer scanner passes through the center of the fθ lens;
Assuming that the scanning trajectory is within the trajectory passing range of the fθ lens, the maximum scanning diameter of the fθ lens is Ds, and the width of the trajectory passing range is A,
A = Ds*sinπ/4*0.06
performing the scanning to generate the scanning trajectory under the condition of
The laser processing method according to any one of claims 2 to 4 .
前記加工対象物を保持した状態で移動速度Vtで第1方向に移動する駆動ステージと、
前記レーザ光を出射するレーザ出射部と、
前記レーザ出射部から出射した前記レーザ光の走査方向を変更し、前記レーザ光を、前記加工対象物に対して、前記第1方向と前記第1方向の逆方向とに往復移動させるように走査速度Vsで走査するガルバノスキャナと、
前記ガルバノスキャナから出射した前記レーザ光を透過して前記加工対象物に任所定角度で照射するfθレンズと、
前記駆動ステージと前記ガルバノスキャナとの駆動をそれぞれ制御して、前記駆動ステージにより前記加工対象物を前記第1方向に移動させつつ、前記ガルバノスキャナにより前記ガルバノスキャナと前記fθレンズとを介して前記レーザ光を前記加工対象物に照射して走査するとき、前記加工対象物の前記移動速度をVtとし、前記レーザ光の前記走査速度をVsとし、前記加工対象物を前記移動速度Vtで移動させつつ、前記加工対象物の加工予定線の一部の同一直線上で、前記走査速度Vsで前記レーザ光を連続して3回以上往復走査して前記レーザ光を照射するように制御する制御部とを有し、
前記制御部により制御するとき、
前記レーザ光の走査の線速度V0は相対的に一定になるように制御され、前記走査速度Vsによる前記往復走査のうち、往路走査のガルバノスキャナ往路走査速度をVs1とするとともに復路走査のガルバノスキャナ復路走査速度Vs2とすると、
前記往路走査での前記線速度V0は、
V0=Vs1-Vt であり、
前記復路走査での前記線速度V0は、
V0=Vs2+Vt であり、
前記線速度V0は、相対的に一定に制御することから、
Vt=(Vs1-Vs2)/2 である、
レーザ加工装置。 In a laser processing apparatus for laser processing an object having a processing area larger than a laser scanning area scanned with a laser beam,
a driving stage that moves in a first direction at a moving speed Vt while holding the workpiece;
a laser emission unit that emits the laser light;
changing the scanning direction of the laser beam emitted from the laser emitting part, and scanning the laser beam so as to reciprocate the object to be processed in the first direction and in a direction opposite to the first direction; a galvanometer scanner that scans at a speed Vs;
an fθ lens that transmits the laser beam emitted from the galvanometer scanner and irradiates the object to be processed at an arbitrary predetermined angle;
By controlling the driving of the drive stage and the galvano-scanner respectively, the object to be processed is moved in the first direction by the drive stage, and the galvano-scanner moves the galvano-scanner through the galvano-scanner and the fθ lens. When the object to be processed is irradiated with the laser beam for scanning, the moving speed of the object to be processed is Vt, the scanning speed of the laser beam is Vs, and the object to be processed is moved at the moving speed Vt. A control unit for performing control so that the laser beam is continuously scanned three times or more back and forth at the scanning speed Vs on the same straight line as a part of the planned processing line of the object to be processed while the laser beam is irradiated. and
When controlled by the control unit,
The linear velocity V0 of the scanning of the laser light is controlled to be relatively constant. Assuming that the galvanometer scanner return scanning speed is Vs 2 ,
The linear velocity V 0 in the forward scanning is
V 0 =Vs 1 -Vt and
The linear velocity V 0 in the backward scanning is
V 0 =Vs 2 +Vt and
Since the linear velocity V 0 is controlled to be relatively constant,
Vt = (Vs 1 -Vs 2 )/2,
Laser processing equipment.
前記レーザ加工装置は、
前記ガルバノスキャナ及び前記fθレンズとを有する加工ヘッドと、
前記加工ヘッドは、前記X軸と交差するZ軸の方向に前記加工ヘッドを移動させるZ軸駆動ステージと、
前記Z軸駆動ステージが取付けられ、前記X軸及び前記Z軸とは交差するY軸の方向に前記加工ヘッドと前記Z軸駆動ステージとを移動させるY軸駆動ステージとをさらに備え、
前記制御部は、前記Z軸駆動ステージと前記Y軸駆動ステージとの駆動もそれぞれ制御する、
請求項6に記載のレーザ加工装置。 The drive stage is an X-axis drive stage that holds the workpiece and moves it along the X-axis that is the first direction,
The laser processing device is
a processing head having the galvanometer scanner and the fθ lens;
a Z-axis drive stage for moving the machining head in a Z-axis direction that intersects with the X-axis;
a Y-axis drive stage to which the Z-axis drive stage is attached and which moves the machining head and the Z-axis drive stage in a Y-axis direction that intersects the X-axis and the Z-axis;
The control unit also controls the driving of the Z-axis drive stage and the Y-axis drive stage, respectively.
The laser processing apparatus according to claim 6 .
請求項6又は7に記載のレーザ加工装置。 The control unit cooperatively controls the driving stage and the galvanometer scanner to perform the reciprocating scanning, and scans the workpiece by generating a predetermined scanning locus, thereby cutting the workpiece into cut pieces having a predetermined shape. do,
The laser processing apparatus according to claim 6 or 7 .
請求項7に記載のレーザ加工装置。 The controller controls the galvanometer scanner while controlling the X-axis driving stage and the Y-axis driving stage so that the laser beam can scan the desired processing line at a constant speed and in one direction. While reciprocating on the planned processing line within the scanning area, control is performed so that the relative linear velocity is constant.
The laser processing apparatus according to claim 7 .
請求項6~9のいずれか1つに記載のレーザ加工装置。 The laser emitting unit is a laser oscillator that oscillates the laser light at a picosecond to femtosecond ultrashort pulse and a maximum frequency of 1 MHz or higher.
The laser processing apparatus according to any one of claims 6-9 .
請求項6~10のいずれか1つに記載のレーザ加工装置。 The f-theta lens is an f-theta lens having an F value of 45 or more and 110 or less,
The laser processing apparatus according to any one of claims 6-10 .
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018149667A JP7122559B2 (en) | 2018-08-08 | 2018-08-08 | LASER PROCESSING METHOD AND LASER PROCESSING APPARATUS |
TW108122080A TWI733129B (en) | 2018-08-08 | 2019-06-25 | Laser processing method and laser processing device |
CN201910665233.6A CN110814522B (en) | 2018-08-08 | 2019-07-22 | Laser processing method and laser processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018149667A JP7122559B2 (en) | 2018-08-08 | 2018-08-08 | LASER PROCESSING METHOD AND LASER PROCESSING APPARATUS |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020028883A JP2020028883A (en) | 2020-02-27 |
JP2020028883A5 JP2020028883A5 (en) | 2021-09-16 |
JP7122559B2 true JP7122559B2 (en) | 2022-08-22 |
Family
ID=69547691
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018149667A Active JP7122559B2 (en) | 2018-08-08 | 2018-08-08 | LASER PROCESSING METHOD AND LASER PROCESSING APPARATUS |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7122559B2 (en) |
CN (1) | CN110814522B (en) |
TW (1) | TWI733129B (en) |
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- 2018-08-08 JP JP2018149667A patent/JP7122559B2/en active Active
-
2019
- 2019-06-25 TW TW108122080A patent/TWI733129B/en active
- 2019-07-22 CN CN201910665233.6A patent/CN110814522B/en active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110814522A (en) | 2020-02-21 |
CN110814522B (en) | 2021-07-09 |
JP2020028883A (en) | 2020-02-27 |
TW202030038A (en) | 2020-08-16 |
TWI733129B (en) | 2021-07-11 |
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