JP7176990B2 - Coating liquid of release agent composition and method for producing release film for ceramic green sheet production process - Google Patents
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Description
本発明は、セラミックグリーンシートを製造する工程で使用する剥離フィルムに関するものであり、特に、当該剥離フィルムの製造に使用することができる剥離剤組成物の塗布液、および当該剥離フィルムの製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a release film used in the process of producing a ceramic green sheet, and more particularly to a coating liquid of a release agent composition that can be used in the production of the release film, and a method for producing the release film. .
従来より、積層セラミックコンデンサや多層セラミック基板といった積層セラミック製品を製造するには、セラミックグリーンシートを成形し、得られたセラミックグリーンシートを複数枚積層して焼成することが行われている。 2. Description of the Related Art Conventionally, in order to manufacture laminated ceramic products such as laminated ceramic capacitors and multilayer ceramic substrates, ceramic green sheets are formed, and a plurality of the obtained ceramic green sheets are laminated and fired.
セラミックグリーンシートは、チタン酸バリウムや酸化チタンなどのセラミック材料を含有するセラミックスラリーを剥離フィルム上に塗工することにより成形される。剥離フィルムには、当該剥離フィルム上に成形した薄いセラミックグリーンシートを当該剥離フィルムから、変形、破断等が生じることなく、適度な剥離力により剥離できる剥離性が要求される。また、剥離フィルムには、セラミックスラリーを塗工し乾燥させたときに、セラミックグリーンシートにピンホールや厚みむら等の欠陥が発生しないよう、セラミックスラリーを塗工する面(セラミックスラリー・セラミックグリーンシートと接する面;以下「剥離面」という場合がある。)における平滑性が要求される。 A ceramic green sheet is formed by coating a release film with a ceramic slurry containing a ceramic material such as barium titanate or titanium oxide. The release film is required to have releasability such that a thin ceramic green sheet formed on the release film can be released from the release film with an appropriate release force without causing deformation, breakage, or the like. In addition, the release film should be coated with the ceramic slurry on the surface (ceramic slurry, ceramic green sheet) so that defects such as pinholes and thickness unevenness do not occur in the ceramic green sheet when the ceramic slurry is applied and dried. The surface in contact with the surface;
上述した剥離フィルムとしては、基材と、当該基材の片側に設けられた剥離剤層とを備えたものが通常使用される。当該剥離剤層は、剥離剤組成物を有機溶媒で希釈してなる剥離剤組成物の塗布液を、上記基材の片側に塗布し、得られた塗膜を乾燥および硬化させることで形成される。このような剥離剤組成物の塗布液の例として、特許文献1には、所定のポリオルガノシロキサンや反応触媒等を有機溶媒に希釈してなる塗布液が開示されている。 As the release film described above, a film comprising a substrate and a release agent layer provided on one side of the substrate is usually used. The release agent layer is formed by applying a coating liquid of a release agent composition obtained by diluting a release agent composition with an organic solvent to one side of the substrate, and drying and curing the resulting coating film. be. As an example of a coating liquid for such a release agent composition, Patent Document 1 discloses a coating liquid obtained by diluting a predetermined polyorganosiloxane, a reaction catalyst, etc. in an organic solvent.
ところで、上述した剥離フィルムの製造コストを抑える観点からは、剥離剤組成物を希釈するための有機溶媒の使用量を低減することが有効である。しかしながら、有機溶媒の使用量を低減した場合、塗布液中の固形分濃度が上昇し、それに伴って塗布液の粘度も上昇する。さらに、塗布液中の固形分濃度が高くなることに伴い、所定の厚さの剥離剤層を形成しようとしたときに、有機溶媒の使用量を低減する前と比較して、塗膜を薄く形成しなければならなくなる。 By the way, from the viewpoint of suppressing the manufacturing cost of the release film described above, it is effective to reduce the amount of the organic solvent used for diluting the release agent composition. However, when the amount of the organic solvent used is reduced, the concentration of solids in the coating liquid increases, and accordingly the viscosity of the coating liquid also increases. Furthermore, as the concentration of solids in the coating solution increases, when attempting to form a release agent layer with a predetermined thickness, the coating film becomes thinner than before the reduction in the amount of organic solvent used. must be formed.
上述のように、より粘度が高い塗布液を用いて、厚さのより薄い塗膜を形成しようとすると、塗布の際に使用する塗工バーによる溝状のスジが塗膜表面に残ったり、剥離剤組成物中の成分の凝集による微細な凹凸が塗膜表面に生じ易い。その結果、得られる剥離フィルムの剥離面が、十分な平滑性を有しないものとなってしまう。 As described above, if a coating solution with a higher viscosity is used to form a thinner coating film, groove-like streaks may remain on the coating film surface due to the coating bar used during coating. Aggregation of the components in the release agent composition tends to cause fine unevenness on the surface of the coating film. As a result, the release surface of the resulting release film does not have sufficient smoothness.
本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、有機溶媒の使用量の低減を実現しながらも、優れた平滑性および剥離性を達成できるセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムを製造することが可能な剥離剤組成物の塗布液、およびそのようなセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such actual circumstances, and manufactures a release film for the ceramic green sheet manufacturing process that can achieve excellent smoothness and peelability while realizing a reduction in the amount of organic solvent used. It is an object of the present invention to provide a coating liquid of a release agent composition capable of producing a release agent composition, and a method for producing such a release film for the ceramic green sheet production process.
上記目的を達成するために、第1に本発明は、重量平均分子量が7万以上、14万以下であるポリオルガノシロキサン(A)と、重量平均分子量が40万以上、60万以下であるポリオルガノシロキサン(B)と、分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)とを含有し、前記ポリオルガノシロキサン(A)、前記ポリオルガノシロキサン(B)および前記分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対する前記ポリオルガノシロキサン(A)の固形成分比率が75質量%以上、85質量%以下であり、前記ポリオルガノシロキサン(B)および前記分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対する前記ポリオルガノシロキサン(B)の固形成分比率が30質量%以上、70質量%以下である剥離剤組成物を、有機溶媒で固形分濃度2.5質量%以上、3.5質量%以下に希釈してなることを特徴とする剥離剤組成物の塗布液を提供する(発明1)。 In order to achieve the above objects, firstly, the present invention provides a polyorganosiloxane (A) having a weight average molecular weight of 70,000 or more and 140,000 or less, and a polyorganosiloxane (A) having a weight average molecular weight of 400,000 or more and 600,000 or less. It contains an organosiloxane (B) and a branched organosiloxane oligomer (C), and the above relative to the total amount of the polyorganosiloxane (A), the polyorganosiloxane (B) and the branched organosiloxane oligomer (C) The solid component ratio of polyorganosiloxane (A) is 75% by mass or more and 85% by mass or less, and the polyorganosiloxane (B ) is diluted with an organic solvent to a solid content concentration of 2.5% by mass or more and 3.5% by mass or less. (Invention 1).
上記発明(発明1)は、上述した組成を有する剥離剤組成物を、有機溶媒を用いて固形分濃度を2.5質量%以上、3.5質量%以下に希釈したものであることにより、有機溶媒の使用量を低減しながらも、優れた平滑性および剥離性を有するセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムを製造することができる。 In the above invention (Invention 1), the release agent composition having the above composition is diluted with an organic solvent to a solid content concentration of 2.5% by mass or more and 3.5% by mass or less, It is possible to produce a release film for a ceramic green sheet production process that has excellent smoothness and release properties while reducing the amount of organic solvent used.
上記発明(発明1)において、前記有機溶媒は、トルエンとメチルエチルケトンとの混合溶媒であることが好ましい(発明2)。 In the above invention (invention 1), the organic solvent is preferably a mixed solvent of toluene and methyl ethyl ketone (invention 2).
上記発明(発明1,2)においては、基材と、前記基材の片側に設けられた剥離剤層とを備えたセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムにおける前記剥離剤層を形成するために用いられることが好ましい(発明3)。 In the above inventions (inventions 1 and 2), the release agent layer is used to form the release agent layer in the release film for the manufacturing process of the ceramic green sheet, which includes the substrate and the release agent layer provided on one side of the substrate. (Invention 3).
第2に本発明は、基材と、前記基材の片側に設けられた剥離剤層とを備えたセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムの製造方法であって、前記剥離剤組成物の塗布液(発明1~3)を前記基材の片側に塗布し、前記基材の片側上に塗膜を形成する塗布工程と、前記塗膜中に含まれる前記有機溶媒を乾燥させ、乾燥後塗膜を形成する乾燥工程と、前記乾燥後塗膜を硬化させ、前記剥離剤層を形成する硬化工程とを含むことを特徴とする製造方法を提供する(発明4)。 The second aspect of the present invention is a method for producing a release film for a ceramic green sheet production process, comprising a base material and a release agent layer provided on one side of the base material, comprising: a coating liquid of the release agent composition; (Inventions 1 to 3) is applied to one side of the substrate to form a coating film on one side of the substrate, and the organic solvent contained in the coating film is dried, and the coated film after drying. and a curing step of curing the post-drying coating film to form the release agent layer (Invention 4).
上記発明(発明4)においては、前記塗布工程において、前記乾燥後塗膜の単位面積当たりの質量が0.06g/m2以上、0.12g/m2以下となるように、前記塗布液を塗布することが好ましい(発明5)。 In the above invention (Invention 4), in the coating step, the coating liquid is applied so that the mass per unit area of the dried coating film is 0.06 g/m 2 or more and 0.12 g/m 2 or less. Coating is preferred (invention 5).
本発明に係る剥離剤組成物の塗布液によれば、有機溶媒の使用量の低減を実現しながらも、優れた平滑性および剥離性を達成できるセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムを製造することができる。また、本発明に係る製造方法によれば、そのようなセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムを製造することができる。 According to the coating liquid of the release agent composition according to the present invention, it is possible to produce a release film for a ceramic green sheet manufacturing process that can achieve excellent smoothness and release properties while realizing a reduction in the amount of organic solvent used. can be done. Moreover, according to the production method of the present invention, such a release film for the ceramic green sheet production process can be produced.
以下、本発明の実施形態について説明する。
1.剥離剤組成物の塗布液
本実施形態に係る剥離剤組成物の塗布液(以下、単に「塗布液」という場合がある。)は、剥離剤組成物を有機溶媒で固形分濃度2.5質量%以上、3.5質量%以下に希釈してなるものである。
Embodiments of the present invention will be described below.
1. Coating Liquid of Stripping Composition The coating liquid of the stripping composition according to the present embodiment (hereinafter sometimes simply referred to as "coating liquid") is prepared by adding the stripping composition to an organic solvent at a solid content concentration of 2.5 mass. % or more and 3.5 mass % or less.
上述した剥離剤組成物は、重量平均分子量が7万以上、14万以下であるポリオルガノシロキサン(A)と、重量平均分子量が40万以上、60万以下であるポリオルガノシロキサン(B)と、分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)とを含有する。 The release agent composition described above comprises a polyorganosiloxane (A) having a weight average molecular weight of 70,000 or more and 140,000 or less, a polyorganosiloxane (B) having a weight average molecular weight of 400,000 or more and 600,000 or less, It contains a branched organosiloxane oligomer (C).
また、上述した剥離剤組成物では、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対するポリオルガノシロキサン(A)の固形成分比率が、75質量%以上、85質量%以下である。 Further, in the release agent composition described above, the solid component ratio of polyorganosiloxane (A) to the total amount of polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C) is 75 mass. % or more and 85 mass % or less.
さらに、上述した剥離剤組成物では、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対するポリオルガノシロキサン(B)の固形成分比率が、30質量%以上、70質量%以下である。 Furthermore, in the release agent composition described above, the solid content ratio of the polyorganosiloxane (B) to the total amount of the polyorganosiloxane (B) and the branched organosiloxane oligomer (C) is 30% by mass or more and 70% by mass or less. is.
本実施形態に係る塗布液における上述した固形分濃度は、比較的高い値となっている。そのため、本実施形態に係る塗布液を製造するために必要となる有機溶媒の量は、従来と比較して少ないものとなる。その結果、本実施形態に係る塗布液の製造コスト、さらには当該塗布液を用いて製造される剥離フィルムの製造コストを効果的に低減することが可能となる。 The above solid content concentration in the coating liquid according to the present embodiment is a relatively high value. Therefore, the amount of the organic solvent required for producing the coating liquid according to the present embodiment is smaller than in the conventional case. As a result, it is possible to effectively reduce the manufacturing cost of the coating liquid according to the present embodiment and the manufacturing cost of the release film manufactured using the coating liquid.
そして、本実施形態に係る塗布液では、剥離剤組成物が、上述したポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)を上述した配合量で含有するものであることにより、塗布液の固形分濃度が比較的高いにもかかわらず、平滑性に優れた剥離面を有する剥離フィルムを製造することができる。このように優れた平滑性を達成できる理由としては、以下が考えられる。但し、以下の理由のみに限定されるものではない。 In the coating liquid according to the present embodiment, the release agent composition contains the above-described polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B), and branched organosiloxane oligomer (C) in the above-described compounding amounts. Thus, it is possible to produce a release film having a release surface with excellent smoothness even though the solid content concentration of the coating liquid is relatively high. The reason why such excellent smoothness can be achieved is considered as follows. However, it is not limited only to the following reasons.
1つ目の理由として、本実施形態に係る塗布液では、塗膜の乾燥の際に、当該塗膜を構成する塗布液の粘度が過度に上昇し難いことが挙げられる。通常、塗膜を乾燥させる際には、有機溶媒の揮発が進行し、それに伴い、塗膜を構成する塗布液の粘度が上昇する。しかしながら、本実施形態に係る塗布液によれば、剥離剤組成物の組成が上述したものであることにより、そのような粘度の上昇が生じ難い。その結果、乾燥工程においても塗膜のレベリングが良好に生じ、塗膜表面の平滑化が生じ易くなる。特に、塗布液の塗布の際に塗工スジが生じていた場合であっても、当該塗工スジが良好に消失するものとなる。 The first reason is that in the coating liquid according to the present embodiment, the viscosity of the coating liquid forming the coating film does not excessively increase during drying of the coating film. Generally, when the coating film is dried, the volatilization of the organic solvent proceeds, and along with this, the viscosity of the coating liquid forming the coating film increases. However, according to the coating liquid according to the present embodiment, since the composition of the release agent composition is as described above, such an increase in viscosity hardly occurs. As a result, even in the drying step, the coating film is satisfactorily leveled, and the surface of the coating film is easily smoothed. In particular, even when coating streaks are formed during application of the coating liquid, the coating streaks are favorably eliminated.
2つ目の理由として、本実施形態に係る塗布液では、剥離剤組成物中の成分の凝集が生じ難いことが挙げられる。本実施形態における剥離剤組成物は、上述したポリオルガノシロキサン(A)およびポリオルガノシロキサン(B)を上述した配合量で含有したものであることにより、塗膜の乾燥工程等において、剥離剤組成物中の成分の凝集が良好に抑制される。その結果、得られる剥離面における微細な凹凸の発生が抑制される。 The second reason is that in the coating liquid according to the present embodiment, aggregation of the components in the release agent composition is less likely to occur. The release agent composition in the present embodiment contains the above-described polyorganosiloxane (A) and polyorganosiloxane (B) in the above-described blending amounts, so that the release agent composition Aggregation of components in the product is well suppressed. As a result, the generation of fine unevenness on the obtained peeled surface is suppressed.
以上のように、本実施形態に係る塗布液によれば、少なくとも塗工スジおよび微細凹凸の発生を抑制することが可能となり、その結果、平滑性に優れる剥離面を有する剥離フィルムを製造することができる。 As described above, according to the coating liquid according to the present embodiment, it is possible to suppress the occurrence of at least coating streaks and fine irregularities, and as a result, it is possible to produce a release film having a release surface with excellent smoothness. can be done.
(1)ポリオルガノシロキサン(A)
本実施形態におけるポリオルガノシロキサン(A)は、重量平均分子量が7万以上、14万以下であるとともに、下記の一般式(a)で示されるケイ素含有化合物の重合体である。
Polyorganosiloxane (A) in the present embodiment is a polymer of a silicon-containing compound having a weight average molecular weight of 70,000 or more and 140,000 or less and represented by the following general formula (a).
式(a)中、mは1以上の整数である。また、式(a)中、R1~R8は、アルキル基、アリール基またはアルケニル基であることが好ましい。なお、R1~R8は同一であっても異なっていてもよい。また、R1およびR2が複数存在する場合、R1およびR2は、繰り返し単位間で同一であっても異なっていてもよい。 In formula (a), m is an integer of 1 or more. In formula (a), R 1 to R 8 are preferably alkyl groups, aryl groups or alkenyl groups. R 1 to R 8 may be the same or different. In addition, when multiple R 1 and R 2 are present, R 1 and R 2 may be the same or different between repeating units.
上記アルキル基としては、炭素数1~8のアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられる。これらの中でも、上記アルキル基はメチル基であることが好ましい。 The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl and octyl groups. Among these, the alkyl group is preferably a methyl group.
上記アリール基としては、炭素数6~8のアリール基であることが好ましく、例えば、フェニル基、メチルフェニル基等が挙げられる。 The aryl group is preferably an aryl group having 6 to 8 carbon atoms, such as a phenyl group and a methylphenyl group.
上記アルケニル基の好ましい例としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等が挙げられる。これらの中でも、上記アルケニル基はビニル基であることが好ましい。ポリオルガノシロキサン(A)がアルケニル基を有する場合、ポリオルガノシロキサン(A)とその他の成分とが架橋構造を形成すること可能となる。当該架橋構造を形成する際の反応性を向上させ易いという観点から、ポリオルガノシロキサン(A)がアルケニル基を有する場合には、ポリオルガノシロキサン(A)は、側鎖にアルケニル基を有することが好ましい。すなわち、R1~R2の少なくとも1個がアルケニル基であることが好ましい Preferred examples of the alkenyl group include vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group and octenyl group. Among these, the alkenyl group is preferably a vinyl group. When polyorganosiloxane (A) has an alkenyl group, it becomes possible for polyorganosiloxane (A) and other components to form a crosslinked structure. From the viewpoint of easily improving the reactivity when forming the crosslinked structure, when the polyorganosiloxane (A) has an alkenyl group, the polyorganosiloxane (A) may have an alkenyl group in the side chain. preferable. That is, at least one of R 1 to R 2 is preferably an alkenyl group
ポリオルガノシロキサン(A)において、式(a)におけるR1~R8の少なくとも1個がアルケニル基である場合、R1~R8を構成する全ての官能基に対するアルケニル基の比率(以下、「アルケニル基比率」という場合がある。)は、1モル%以上であることが好ましく、特に2モル%以上であることが好ましく、さらには3モル%以上であることが好ましい。また、50モル%以下であることが好ましく、特に40モル%以下であることが好ましく、さらには30モル%以下であることが好ましい。ポリオルガノシロキサン(A)が上記比率でアルケニル基を有することで、形成される剥離剤層中において、ポリオルガノシロキサン(A)とその他の成分とが良好な架橋構造を形成し易いものとなる。 In polyorganosiloxane (A), when at least one of R 1 to R 8 in formula (a) is an alkenyl group, the ratio of alkenyl groups to all functional groups constituting R 1 to R 8 (hereinafter referred to as " alkenyl group ratio") is preferably 1 mol % or more, particularly preferably 2 mol % or more, further preferably 3 mol % or more. Also, it is preferably 50 mol % or less, particularly preferably 40 mol % or less, further preferably 30 mol % or less. When the polyorganosiloxane (A) has alkenyl groups in the above ratio, the polyorganosiloxane (A) and other components easily form a good crosslinked structure in the formed release agent layer.
また、上記式(a)においては、R1~R8の少なくとも1個が、有機基であってもよい。なお、本明細書における「有機基」とは、上述したアルキル基、アリール基およびアルケニル基を含まない基をいう。このような有機基の例としては、ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン等の繰り返し構造をもつ有機基が挙げられる。このような有機基では、ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン等のそれぞれの片末端の原子がポリオルガノシロキサン(A)の末端または鎖中のケイ素原子に結合したものとなる。 In the above formula (a), at least one of R 1 to R 8 may be an organic group. The term "organic group" as used herein refers to a group that does not contain the aforementioned alkyl group, aryl group and alkenyl group. Examples of such organic groups include organic groups having repeating structures such as polyether, polyester and polyurethane. In such an organic group, one terminal atom of each polyether, polyester, polyurethane, etc. is bonded to the terminal of polyorganosiloxane (A) or to the silicon atom in the chain.
本実施形態におけるポリオルガノシロキサン(A)の重量平均分子量は、前述した通り14万以下である。ポリオルガノシロキサン(A)の重量平均分子量が14万を超えると、塗膜の乾燥の際に、当該塗膜を構成する塗布液の粘度が過度に上昇してしまう。これにより、塗膜のレベリングが生じ難くなり、塗膜表面に生じた塗工スジを良好に消失させることができないものとなる。このような問題をより回避し易い観点から、ポリオルガノシロキサン(A)の重量平均分子量は、13万以下であることが好ましく、特に12万以下であることが好ましく、さらには11万以下であることが好ましい。 The weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (A) in this embodiment is 140,000 or less as described above. If the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (A) exceeds 140,000, the viscosity of the coating liquid forming the coating film will excessively increase during drying of the coating film. As a result, leveling of the coating film is difficult to occur, and coating streaks formed on the surface of the coating film cannot be satisfactorily eliminated. From the viewpoint of avoiding such problems more easily, the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (A) is preferably 130,000 or less, particularly preferably 120,000 or less, and further preferably 110,000 or less. is preferred.
また、本実施形態におけるポリオルガノシロキサン(A)の重量平均分子量は、前述した通り7万以上である。ポリオルガノシロキサン(A)の重量平均分子量が7万未満であると、塗布液の粘度が過度に低いものとなる。この傾向は、塗膜の乾燥の際に、有機溶媒の揮発が進行した場合にも当てはまる。そのため、塗膜において、ポリオルガノシロキサン(A)同士およびポリオルガノシロキサン(A)とその他の成分との凝集が生じ易くなり、形成される剥離剤層の表面には、微細な凹凸が発生してしまう。このような問題をより回避し易い観点から、ポリオルガノシロキサン(A)の重量平均分子量は、8万以上であることが好ましく、特に9万以上であることが好ましい。 Moreover, the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (A) in this embodiment is 70,000 or more as described above. If the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (A) is less than 70,000, the viscosity of the coating liquid will be excessively low. This tendency also applies when the evaporation of the organic solvent progresses during the drying of the coating film. Therefore, in the coating film, aggregation between polyorganosiloxane (A) and between polyorganosiloxane (A) and other components tends to occur, and fine irregularities occur on the surface of the formed release agent layer. put away. From the viewpoint of avoiding such problems more easily, the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (A) is preferably 80,000 or more, particularly preferably 90,000 or more.
なお、本明細書における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により測定した標準ポリスチレン換算の値である。 In addition, the weight average molecular weight in this specification is the value of standard polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC) method.
本実施形態における剥離剤組成物中のポリオルガノシロキサン(A)の配合量に関し、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対するポリオルガノシロキサン(A)の固形成分比率は、前述した通り75質量%以上、85質量%以下である。上記固形成分比率が上記範囲であることで、優れた平滑性と優れた剥離性とを両立することが可能となる。この観点から、上記固形成分比率は、特に78質量%以上であることが好ましい。また、上記固形成分比率は特に82質量%以下であることが好ましい。 Regarding the blending amount of polyorganosiloxane (A) in the release agent composition in the present embodiment, polyorganosiloxane relative to the total amount of polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C) The solid component ratio of (A) is 75% by mass or more and 85% by mass or less as described above. When the solid component ratio is within the above range, it is possible to achieve both excellent smoothness and excellent peelability. From this point of view, the solid content ratio is preferably 78% by mass or more. Moreover, it is particularly preferable that the above-mentioned solid component ratio is 82% by mass or less.
(2)ポリオルガノシロキサン(B)
本実施形態におけるポリオルガノシロキサン(B)は、重量平均分子量が40万以上、60万以下であるとともに、前述した一般式(a)で示されるケイ素含有化合物の重合体である。
(2) Polyorganosiloxane (B)
The polyorganosiloxane (B) in the present embodiment has a weight average molecular weight of 400,000 or more and 600,000 or less, and is a polymer of the silicon-containing compound represented by the general formula (a) described above.
ポリオルガノシロキサン(B)に係る式(a)における、mの値およびR1~R8の構造は、それぞれポリオルガノシロキサン(A)について前述したものと同様である。 The value of m and the structures of R 1 to R 8 in formula (a) for polyorganosiloxane (B) are the same as those described above for polyorganosiloxane (A).
なお、ポリオルガノシロキサン(B)において、式(a)におけるR1~R8の少なくとも1個がアルケニル基である場合、アルケニル基比率は、1モル%以上であることが好ましく、特に2モル%以上であることが好ましく、さらには3モル%以上であることが好ましい。また、上記比率は、50モル%以下であることが好ましく、特に40モル%以下であることが好ましく、さらには30モル%以下であることが好ましい。ポリオルガノシロキサン(B)が上記比率でアルケニル基を有することで、形成される剥離剤層中において、ポリオルガノシロキサン(B)とその他の成分とが良好な架橋構造を形成し易いものとなる。 In polyorganosiloxane (B), when at least one of R 1 to R 8 in formula (a) is an alkenyl group, the alkenyl group ratio is preferably 1 mol % or more, particularly 2 mol %. It is preferably 3 mol % or more, more preferably 3 mol % or more. The above ratio is preferably 50 mol % or less, particularly preferably 40 mol % or less, further preferably 30 mol % or less. When the polyorganosiloxane (B) has alkenyl groups in the above ratio, the polyorganosiloxane (B) and other components easily form a good crosslinked structure in the formed release agent layer.
本実施形態におけるポリオルガノシロキサン(B)の重量平均分子量は、前述した通り60万以下である。ポリオルガノシロキサン(B)の重量平均分子量が60万を超えると、塗膜の乾燥の際に、当該塗膜を構成する塗布液の粘度が過度に上昇してしまう。これにより、塗膜のレベリングが生じ難くなり、塗膜表面に生じた塗工スジを良好に消失させることができないものとなる。このような問題をより回避し易い観点から、ポリオルガノシロキサン(B)の重量平均分子量は、55万以下であることが好ましく、特に50万以下であることが好ましい。 The weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (B) in this embodiment is 600,000 or less as described above. If the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (B) exceeds 600,000, the viscosity of the coating liquid forming the coating film will excessively increase during drying of the coating film. As a result, leveling of the coating film is difficult to occur, and coating streaks formed on the surface of the coating film cannot be satisfactorily eliminated. From the viewpoint of avoiding such problems more easily, the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (B) is preferably 550,000 or less, particularly preferably 500,000 or less.
また、本実施形態におけるポリオルガノシロキサン(B)の重量平均分子量は、前述した通り40万以上である。ポリオルガノシロキサン(B)の重量平均分子量が40万未満であると、塗布液の粘度が過度に低いものとなる。この傾向は、塗膜の乾燥の際に、有機溶媒の揮発が進行した場合にも当てはまる。そのため、塗膜において、ポリオルガノシロキサン(B)同士およびポリオルガノシロキサン(B)とその他の成分との凝集が生じ易くなり、形成される剥離剤層の表面には、微細な凹凸が発生してしまう。このような問題をより回避し易い観点から、ポリオルガノシロキサン(B)の重量平均分子量は、特に45万以上であることが好ましい。 Moreover, the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (B) in this embodiment is 400,000 or more as described above. If the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (B) is less than 400,000, the viscosity of the coating liquid will be excessively low. This tendency also applies when the evaporation of the organic solvent progresses during the drying of the coating film. Therefore, in the coating film, aggregation between polyorganosiloxane (B) and between polyorganosiloxane (B) and other components easily occurs, and fine irregularities occur on the surface of the formed release agent layer. put away. From the viewpoint of avoiding such problems more easily, the weight average molecular weight of the polyorganosiloxane (B) is preferably 450,000 or more.
本実施形態における剥離剤組成物中のポリオルガノシロキサン(B)の配合量に関し、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対するポリオルガノシロキサン(B)の固形成分比率は、前述した通り70質量%以下である。上記固形成分比率が70質量%を超えると、塗膜の乾燥の際に、当該塗膜を構成する塗布液の粘度が過度に上昇してしまう。これにより、塗膜のレベリングが生じ難くなり、塗膜表面に生じた塗工スジを良好に消失させることができないものとなる。このような問題をより回避し易い観点から、上記固形成分比率は、65質量%以下であることが好ましく、特に60質量%以下であることが好ましい。 Regarding the compounding amount of polyorganosiloxane (B) in the release agent composition in the present embodiment, the solid component ratio of polyorganosiloxane (B) to the total amount of polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C) is 70% by mass or less as described above. If the solid component ratio exceeds 70% by mass, the viscosity of the coating liquid forming the coating film will excessively increase during drying of the coating film. As a result, leveling of the coating film is difficult to occur, and coating streaks formed on the surface of the coating film cannot be satisfactorily eliminated. From the viewpoint of avoiding such problems more easily, the solid content ratio is preferably 65% by mass or less, and particularly preferably 60% by mass or less.
また、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対するポリオルガノシロキサン(B)の固形成分比率は、前述した通り30質量%以上である。上記固形成分比率が30質量%未満であると、塗布液の粘度が過度に低いものとなる。この傾向は、塗膜の乾燥の際に、有機溶媒の揮発が進行した場合にも当てはまる。そのため、塗膜において、ポリオルガノシロキサン(B)同士およびポリオルガノシロキサン(B)とその他の成分との凝集が生じ易くなり、形成される剥離剤層の表面には、微細な凹凸が発生してしまう。このような問題をより回避し易い観点から、上記固形成分比率は、35質量%以上であることが好ましく、特に40質量%以上であることが好ましい。 Moreover, the solid component ratio of polyorganosiloxane (B) to the total amount of polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C) is 30% by mass or more as described above. If the solid component ratio is less than 30% by mass, the viscosity of the coating liquid will be excessively low. This tendency also applies when the evaporation of the organic solvent progresses during the drying of the coating film. Therefore, in the coating film, aggregation between polyorganosiloxane (B) and between polyorganosiloxane (B) and other components easily occurs, and fine irregularities occur on the surface of the formed release agent layer. put away. From the viewpoint of avoiding such problems more easily, the solid content ratio is preferably 35% by mass or more, and particularly preferably 40% by mass or more.
さらに、本実施形態における剥離剤組成物中のポリオルガノシロキサン(B)の配合量に関し、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対するポリオルガノシロキサン(B)の固形成分比率は、5質量%以上であることが好ましい。また、上記固形成分比率は、15質量%以下であることが好ましい。上記固形成分比率が上記範囲であることで、優れた平滑性と優れた剥離性とを両立し易いものとなる。 Furthermore, regarding the amount of polyorganosiloxane (B) in the release agent composition in the present embodiment, polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C) with respect to the total amount The solid component ratio of the organosiloxane (B) is preferably 5% by mass or more. Moreover, the solid component ratio is preferably 15% by mass or less. When the solid component ratio is within the above range, it becomes easy to achieve both excellent smoothness and excellent peelability.
(3)分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)
本実施形態における分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)は、オルガノシロキサン骨格を含む分岐鎖を有するオルガノシロキサンオリゴマーであり、下記の一般式(b)で示される。本実施形態に係る塗布液では、剥離剤組成物が分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)を含有することにより、塗布液を用いて形成される剥離剤層が比較的高い弾性率を有し易いものとなり、それにより、所望の剥離性を達成することが可能となる。
The branched organosiloxane oligomer (C) in this embodiment is an organosiloxane oligomer having a branched chain containing an organosiloxane skeleton, and is represented by the following general formula (b). In the coating liquid according to the present embodiment, since the release agent composition contains the branched organosiloxane oligomer (C), the release agent layer formed using the coating liquid tends to have a relatively high elastic modulus. , which makes it possible to achieve the desired releasability.
式(b)中、p、q、rおよびsは1以上の整数である。また、Rの少なくとも2個はアルケニル基であることが好ましい。分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)がアルケニル基を有することで、分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)同士および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)とその他の成分との間で良好な架橋構造を形成し易いものとなり、それにより、形成される剥離剤層の弾性率をより向上させ易くなる。なお、分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)が、Rとしてアルケニル基を有する場合、当該アルケニル基が存在する部位は、主鎖であってもよいし、分岐鎖であってもよいし、それら両方であってもよい。 In formula (b), p, q, r and s are integers of 1 or more. At least two of R are preferably alkenyl groups. Since the branched organosiloxane oligomer (C) has an alkenyl group, it is easy to form a good crosslinked structure between the branched organosiloxane oligomer (C) and between the branched organosiloxane oligomer (C) and other components. This makes it easier to improve the elastic modulus of the formed release agent layer. In addition, when the branched organosiloxane oligomer (C) has an alkenyl group as R, the site where the alkenyl group is present may be the main chain, the branched chain, or both There may be.
上記アルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等が挙げられ、中でもビニル基が好ましい。 Examples of the alkenyl group include vinyl group, allyl group, propenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, etc. Among them, vinyl group is preferred.
分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)において、式(b)におけるRの少なくとも1個がアルケニル基である場合、アルケニル基比率は、1モル%以上であることが好ましく、特に2モル%以上であることが好ましく、さらには3モル%以上であることが好ましい。また、上記比率は、50モル%以下であることが好ましく、特に45モル%以下であることが好ましく、さらには40モル%以下であることが好ましい。分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)が上記比率でアルケニル基を有することで、良好な架橋構造を効果的に形成し易いものとなる。 In the branched organosiloxane oligomer (C), when at least one R in the formula (b) is an alkenyl group, the alkenyl group ratio is preferably 1 mol% or more, particularly 2 mol% or more. is preferred, and more preferably 3 mol % or more. Moreover, the above ratio is preferably 50 mol % or less, particularly preferably 45 mol % or less, further preferably 40 mol % or less. When the branched organosiloxane oligomer (C) has alkenyl groups in the above ratio, it becomes easy to effectively form a good crosslinked structure.
Rにおけるアルケニル基以外の官能基は限定されないものの、好ましい例としては、炭素数1~12のアルキル基が挙げられる。炭素数1~12のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられ、中でもメチル基が好ましい。なお、各Rは、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。 Functional groups other than alkenyl groups for R are not limited, but preferred examples thereof include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms. Examples of alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group and the like, with methyl group being preferred. In addition, each R may be the same or different.
分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の重量平均分子量は、1,000以上であることが好ましく、特に2,000以上であることが好ましく、さらには3,000以上であることが好ましい。また、上記重量平均分子量は、100,000以下であることが好ましく、特に50,000以下であることが好ましく、さらには10,000以下であることが好ましい。分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の重量平均分子量が上記範囲であることで、塗布液を用いて形成される剥離剤層の弾性率を比較的高い値に調整し易いものとなる。 The weight-average molecular weight of the branched organosiloxane oligomer (C) is preferably 1,000 or more, particularly preferably 2,000 or more, further preferably 3,000 or more. Also, the weight average molecular weight is preferably 100,000 or less, particularly preferably 50,000 or less, further preferably 10,000 or less. When the weight-average molecular weight of the branched organosiloxane oligomer (C) is within the above range, it becomes easy to adjust the elastic modulus of the release agent layer formed using the coating liquid to a relatively high value.
本実施形態における剥離剤組成物中の分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の配合量に関し、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対する分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の固形成分比率は、5質量%以上であることが好ましい。また、上記固形成分比率は、15質量%以下であることが好ましい。上記固形成分比率が上記範囲であることで、優れた平滑性と優れた剥離性とを両立し易いものとなる。 Regarding the amount of the branched organosiloxane oligomer (C) in the release agent composition in the present embodiment, the branched relative to the total amount of the polyorganosiloxane (A), the polyorganosiloxane (B) and the branched organosiloxane oligomer (C) The solid component ratio of the organosiloxane oligomer (C) is preferably 5% by mass or more. Moreover, the solid component ratio is preferably 15% by mass or less. When the solid component ratio is within the above range, it becomes easy to achieve both excellent smoothness and excellent peelability.
(4)その他の成分
本実施形態における剥離剤組成物は、上述したポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の他に、架橋剤、触媒、反応抑制剤、密着向上剤等のその他の成分を含有してもよい。
(4) Other components The release agent composition in the present embodiment contains, in addition to the above-described polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C), a cross-linking agent, a catalyst, a reaction Other components such as an inhibitor and an adhesion improver may be contained.
ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)または分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の少なくとも1種がアルケニル基を有する場合、本実施形態における剥離剤組成物は架橋剤を含有することが好ましい。これにより、形成される剥離剤層において架橋構造が良好に形成され、剥離剤層が比較的高い弾性率を有するものとなる。その結果、得られる剥離フィルムが、所望の剥離性を有し易いものとなる。 When at least one of polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B) or branched organosiloxane oligomer (C) has an alkenyl group, the release agent composition in the present embodiment preferably contains a cross-linking agent. . As a result, a cross-linked structure is formed satisfactorily in the release agent layer to be formed, and the release agent layer has a relatively high elastic modulus. As a result, the obtained release film tends to have desired release properties.
上記架橋剤としては、上述した架橋構造を形成できる限り特に限定されないものの、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)以外の、1分子中に少なくとも2個のケイ素原子に結合した水素原子を有するポリオルガノシロキサンを使用することが好ましい。かかるポリオルガノシロキサンとしては、例えば、ジメチルハイドロジェンシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン-メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖ジメチルシロキサン-メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、トリメチルシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、ポリ(ハイドロジェンシルセスキオキサン)等のポリオルガノハイドロジェンシロキサンが挙げられる。 The cross-linking agent is not particularly limited as long as it can form the above-described cross-linked structure, but at least 2 It is preferred to use polyorganosiloxanes having hydrogen atoms bonded to one silicon atom. Examples of such polyorganosiloxanes include dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, trimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymer, and trimethylsiloxy group-blocked methylhydrogensiloxane. Examples include polyorganohydrogensiloxanes such as genpolysiloxane and poly(hydrogensilsesquioxane).
上記架橋剤としてのポリオルガノシロキサンの重量平均分子量は、500以上であることが好ましく、特に1000以上であることが好ましい。また、当該重量平均分子量は、5000以下であることが好ましく、特に2000以下であることが好ましい。 The weight-average molecular weight of the polyorganosiloxane used as the cross-linking agent is preferably 500 or more, particularly preferably 1000 or more. Also, the weight average molecular weight is preferably 5,000 or less, particularly preferably 2,000 or less.
本実施形態における剥離剤組成物が架橋剤を含有する場合、剥離剤組成物中における架橋剤(D)の含有量は、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)が含有するアルケニル基のモル量の合計に対する、架橋剤(D)が含有するヒドロシリル基等の架橋性官能基のモル量の比が、1.0以上であることが好ましく、特に1.5以上であることが好ましく、さらには1.8以上であることが好ましい。また、上記比は、5.0以下であることが好ましく、特に3.0以下であることが好ましく、さらには2.0以下であることが好ましい。架橋剤の含有量が上記範囲であることで、形成される剥離剤層において良好な架橋構造を形成し易いものとなる。 When the release agent composition in the present embodiment contains a cross-linking agent, the content of the cross-linking agent (D) in the release agent composition is polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane The ratio of the molar amount of crosslinkable functional groups such as hydrosilyl groups contained in the crosslinking agent (D) to the total molar amount of alkenyl groups contained in the oligomer (C) is preferably 1.0 or more, particularly It is preferably 1.5 or more, more preferably 1.8 or more. The above ratio is preferably 5.0 or less, particularly preferably 3.0 or less, further preferably 2.0 or less. When the content of the cross-linking agent is within the above range, it becomes easy to form a favorable cross-linked structure in the formed release agent layer.
触媒としては、本実施形態における剥離剤組成物を硬化させることができるものであれば特に限定されないが、中でも白金族金属系化合物が好ましい。白金族金属系化合物としては、例えば、微粒子状白金、炭素粉末担体上に吸着された微粒子状白金、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸のオレフィン錯体、パラジウム、ロジウム等が挙げられる。剥離剤組成物がかかる触媒を含有することで、当該剥離剤組成物の硬化反応をより効率良く進行させることができる。 The catalyst is not particularly limited as long as it can cure the release agent composition of the present embodiment, but platinum group metal-based compounds are preferred. Examples of platinum group metal compounds include fine particle platinum, fine particle platinum adsorbed on a carbon powder carrier, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, olefin complexes of chloroplatinic acid, palladium, rhodium, and the like. . By including such a catalyst in the release agent composition, the curing reaction of the release agent composition can proceed more efficiently.
本実施形態における剥離剤組成物が触媒を含有する場合、当該触媒の含有量は、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量100質量部に対して、1質量部以上であることが好ましく、特に2質量部以上であることが好ましく、さらには5質量部以上であることが好ましい。また、触媒の含有量は、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量100質量部に対して、20質量部以下であることが好ましく、特に15質量部以下であることが好ましく、さらには10質量部以下であることが好ましい。触媒の含有量が上記範囲であることで、剥離剤組成物の硬化をより効率良く進行させ易くなる。 When the release agent composition in the present embodiment contains a catalyst, the content of the catalyst is 100 parts by mass of the total amount of polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C). is preferably 1 part by mass or more, particularly preferably 2 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more. In addition, the content of the catalyst is preferably 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C). In particular, it is preferably 15 parts by mass or less, more preferably 10 parts by mass or less. When the content of the catalyst is within the above range, curing of the release agent composition can be facilitated more efficiently.
(5)有機溶媒
本実施形態における有機溶媒としては、剥離剤組成物を希釈することができる限り特に限定されず、例えば、トルエン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素化合物、アセトン、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等を使用することができる。
(5) Organic solvent The organic solvent in the present embodiment is not particularly limited as long as it can dilute the release agent composition. Methyl isobutyl ketone and the like can be used.
また、本実施形態における有機溶媒としては、上述した有機溶媒の混合物を使用してもよく、特に、トルエンとメチルエチルケトンとの混合溶媒を使用することが好ましい。当該混合溶媒における、トルエンとメチルエチルケトンとの好ましい比率としては、トルエンとメチルエチルケトンとの合計量に対するトルエンの含有量の割合が、10質量%以上であることが好ましく、特に20質量%以上であることが好ましい。また、上記割合は、50質量%以下であることが好ましく、特に40質量%以下であることが好ましい。 Moreover, as the organic solvent in the present embodiment, a mixture of the above organic solvents may be used, and it is particularly preferable to use a mixed solvent of toluene and methyl ethyl ketone. As a preferred ratio of toluene and methyl ethyl ketone in the mixed solvent, the ratio of the content of toluene to the total amount of toluene and methyl ethyl ketone is preferably 10% by mass or more, particularly 20% by mass or more. preferable. Moreover, the above ratio is preferably 50% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or less.
(6)塗布液の粘度
本実施形態における粘着剤組成物は、有機溶媒を用いて固形分濃度30質量%に希釈して得られる塗布液の粘度が、200mPa・s以下であることが好ましく、特に190mPa・s以下であることが好ましく、さらには180mPa・s以下であることが好ましい。ここで、固形分濃度30質量%の塗布液の粘度は、塗膜を乾燥させる際における、当該塗膜を構成する塗布液の粘度の指標とすることができる。上述した粘度が200mPa・s以下であることで、本実施形態に係る塗布液を用いて形成された塗膜は、乾燥工程の際にレベリングが良好に生じ易いものとなり、それにより塗工スジを消失させ易いものとなる。一方、上述した粘度は、100mPa・s以上であることが好ましく、特に110mPa・s以上であることが好ましく、さらには120mPa・s以上であることが好ましい。上述した粘度が100mPa・s以上であることで、本実施形態に係る塗布液中および当該塗布液を用いて形成される塗膜中において、成分の凝集を効果的に抑制することができ、その結果、形成される剥離剤層の表面における微細な凹凸の発生を抑制し易くなる。なお、上述した粘度は、B型粘度計を用いて、測定温度:23℃、スピンドル:L2、回転数:60rpmの条件で測定したものである。なお、その測定方法の詳細は後述する試験例に記載されている。
(6) Viscosity of coating liquid The viscosity of the coating liquid obtained by diluting the adhesive composition in the present embodiment to a solid content concentration of 30% by mass using an organic solvent is preferably 200 mPa s or less, In particular, it is preferably 190 mPa·s or less, more preferably 180 mPa·s or less. Here, the viscosity of the coating liquid having a solid content concentration of 30% by mass can be used as an index of the viscosity of the coating liquid forming the coating film when the coating film is dried. When the viscosity is 200 mPa s or less, the coating film formed using the coating liquid according to the present embodiment is easily leveled during the drying process, thereby eliminating coating streaks. It becomes easy to disappear. On the other hand, the viscosity described above is preferably 100 mPa·s or more, particularly preferably 110 mPa·s or more, further preferably 120 mPa·s or more. When the viscosity is 100 mPa s or more, aggregation of components can be effectively suppressed in the coating liquid according to the present embodiment and in the coating film formed using the coating liquid. As a result, it becomes easier to suppress the occurrence of fine unevenness on the surface of the release agent layer to be formed. The viscosity described above was measured using a Brookfield viscometer under conditions of measurement temperature: 23° C., spindle: L2, and number of revolutions: 60 rpm. The details of the measurement method are described in test examples described later.
上述した固形分濃度30質量%に希釈した場合の粘度を満たし易いものとする観点から、本実施形態に係る塗布液の粘度は、0.5mPa・s以上であることが好ましく、特に0.6mPa・s以上であることが好ましい。また、本実施形態に係る塗布液の粘度は、0.8mPa・s以下であることが好ましく、特に0.7mPa・s以下であることが好ましい。なお、上述した粘度は、振動式粘度計を用いて、測定温度:23℃で測定したものである。 The viscosity of the coating liquid according to the present embodiment is preferably 0.5 mPa s or more, particularly 0.6 mPa, from the viewpoint of easily satisfying the viscosity when diluted to a solid content concentration of 30% by mass. * It is preferable that it is s or more. Moreover, the viscosity of the coating liquid according to the present embodiment is preferably 0.8 mPa·s or less, and particularly preferably 0.7 mPa·s or less. In addition, the viscosity mentioned above is measured at a measurement temperature of 23° C. using a vibrating viscometer.
(7)塗布液の調製方法
本実施形態に係る塗布液は、前述した剥離剤組成物を有機溶媒で希釈することで得ることができる。この場合、剥離剤組成物の各成分を予め混合した後に、それらを有機溶媒で希釈してもよく、あるいは、剥離剤組成物の各成分を順に有機溶媒に添加し、希釈してもよい。
(7) Method for Preparing Coating Liquid The coating liquid according to the present embodiment can be obtained by diluting the release agent composition described above with an organic solvent. In this case, each component of the release agent composition may be mixed in advance and then diluted with an organic solvent, or each component of the release agent composition may be added in order to an organic solvent for dilution.
また、前述した白金系触媒のように、有機溶媒に対して溶解し難い成分を使用する場合には、それ以外の成分を均一に混合し、それらを有機溶媒で希釈した後に、溶解し難い成分をそこへ添加して十分に撹拌することで、本実施形態に係る塗布液を得てもよい。 In addition, when using a component that is difficult to dissolve in an organic solvent, such as the platinum-based catalyst described above, the other components are uniformly mixed, and after diluting them with an organic solvent, the component that is difficult to dissolve may be added thereto and sufficiently stirred to obtain the coating liquid according to the present embodiment.
有機溶媒で希釈する際には、塗布液の固形分濃度が2.5質量%以上、3.5質量%以下となるように希釈する。 When diluting with an organic solvent, it is diluted so that the solid content concentration of the coating liquid is 2.5% by mass or more and 3.5% by mass or less.
本実施形態に係る塗布液は、固形分濃度が2.5質量%以上という比較的高い濃度であることにより、本実施形態に係る塗布液を調製するために必要となる有機溶媒の使用量を低減することができる。これにより、本実施形態に係る塗布液の製造コスト、および当該塗布液を使用して製造される剥離フィルムの製造コストを良好に低減することができる。この観点から、有機溶媒で希釈する際、塗布液の固形分濃度が2.6量%以上となるように希釈することが好ましく、特に2.7質量%以上となるように希釈することが好ましい。 The coating liquid according to the present embodiment has a relatively high solid content concentration of 2.5% by mass or more, so that the amount of organic solvent used for preparing the coating liquid according to the present embodiment can be reduced. can be reduced. As a result, the manufacturing cost of the coating liquid according to the present embodiment and the manufacturing cost of the release film manufactured using the coating liquid can be favorably reduced. From this point of view, when diluting with an organic solvent, it is preferable to dilute the coating liquid so that the solid content concentration is 2.6% by mass or more, and particularly preferably 2.7% by mass or more. .
また、本実施形態に係る塗布液は、固形分濃度が3.5質量%以下であることにより、塗布液の粘度が過度に上昇することを避けることができ、塗工し易いものとなる。この観点から、有機溶媒で希釈する際、塗布液の固形分濃度が3.4質量%以下となるように希釈することが好ましく、特に3.3質量%以下となるように希釈することが好ましい。 In addition, since the coating liquid according to the present embodiment has a solid content concentration of 3.5% by mass or less, it is possible to avoid an excessive increase in the viscosity of the coating liquid, which facilitates coating. From this point of view, when diluting with an organic solvent, it is preferable to dilute the coating liquid so that the solid content concentration is 3.4% by mass or less, and particularly preferably 3.3% by mass or less. .
2.セラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルム
本実施形態に係る塗布液は、剥離フィルムの製造に用いることが好適であり、特にセラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムの製造に用いることが好適である。このような剥離フィルムは、基材と、当該基材の片側に設けられた剥離剤層とを備えたものであることが好ましい。
2. Release Film for Ceramic Green Sheet Manufacturing Process The coating solution according to the present embodiment is preferably used for manufacturing a release film, and particularly preferably used for manufacturing a release film for a ceramic green sheet manufacturing process. Such a release film preferably comprises a substrate and a release agent layer provided on one side of the substrate.
(1)基材
基材としては、特に制限はなく、従来公知のものの中から任意のものを適宜選択して用いることができる。このような基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリプロピレンやポリメチルペンテン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニルなどのプラスチックからなるフィルムが挙げられ、単層であってもよいし、同種又は異種の2層以上の多層であってもよい。これらの中でもポリエステルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましく、さらには二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、加工時、使用時等において、埃等が発生しにくいため、例えば、埃等によるセラミックスラリー塗工不良等を効果的に防止することができる。さらに、ポリエチレンテレフタレートフィルムに帯電防止処理を行うことで、塗工不良等を防止する効果を高めることができる。
(1) Substrate The substrate is not particularly limited, and any substrate can be appropriately selected and used from conventionally known substrates. Examples of such substrates include films made of polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyolefins such as polypropylene and polymethylpentene, and plastics such as polycarbonate and polyvinyl acetate. Alternatively, it may be a multilayer of two or more layers of the same or different types. Among these, a polyester film is preferable, a polyethylene terephthalate film is particularly preferable, and a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is more preferable. Polyethylene terephthalate film is less likely to generate dust during processing, use, etc., so that, for example, it is possible to effectively prevent defects such as ceramic slurry coating failure due to dust and the like. Furthermore, by subjecting the polyethylene terephthalate film to antistatic treatment, the effect of preventing poor coating can be enhanced.
また、基材においては、その表面に設けられる剥離剤層との密着性を向上させる目的で、所望により片面または両面に、酸化法や凹凸化法などによる表面処理、あるいはプライマー処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ放電処理、クロム酸化処理(湿式)、火炎処理、熱風処理、オゾン、紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶射処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は、基材の種類に応じて適宜選ばれるが、一般にコロナ放電処理法が効果および操作性の面から好ましく用いられる。 In addition, for the purpose of improving adhesion to the release agent layer provided on the surface of the base material, one or both sides of the base material may optionally be subjected to a surface treatment such as an oxidation method or roughening method, or a primer treatment. can. Examples of the oxidation method include corona discharge treatment, plasma discharge treatment, chromium oxidation treatment (wet), flame treatment, hot air treatment, ozone, and ultraviolet irradiation treatment. A thermal spraying method and the like can be mentioned. These surface treatment methods are appropriately selected according to the type of substrate, but generally corona discharge treatment is preferably used from the viewpoint of effectiveness and operability.
基材は、以下のような表面粗さを有するものであることが好ましい。なお、以下では、基材における剥離剤層が設けられる面(本実施形態に係る塗布液が塗布される面)を「第1の面」とし、当該第1の面とは反対側の面を「第2の面」とする。 The substrate preferably has the following surface roughness. In the following description, the surface of the substrate on which the release agent layer is provided (the surface on which the coating liquid according to the present embodiment is applied) is referred to as the "first surface", and the surface opposite to the first surface is referred to as the "first surface". It is referred to as the "second surface".
基材における第1の面の算術平均粗さ(Ra)は、10.0nm以下であることが好ましく、特に8.0nm以下であることが好ましく、さらには6.0nm以下であることが好ましい。基材の第1の面の算術平均粗さ(Ra)が10.0nm以下であることで、得られる剥離フィルムの剥離面が優れた平滑性を有し易いものとなる。なお、基材における第1の面の算術平均粗さ(Ra)の下限値については特に限定されず、例えば、1.0nm以上であることが好ましく、特に1.5nm以上であることが好ましく、さらには2.0nm以上であることが好ましい。 The arithmetic mean roughness (Ra) of the first surface of the substrate is preferably 10.0 nm or less, particularly preferably 8.0 nm or less, and further preferably 6.0 nm or less. When the arithmetic mean roughness (Ra) of the first surface of the substrate is 10.0 nm or less, the release surface of the resulting release film tends to have excellent smoothness. The lower limit of the arithmetic mean roughness (Ra) of the first surface of the substrate is not particularly limited, and is preferably 1.0 nm or more, particularly preferably 1.5 nm or more. Furthermore, it is preferably 2.0 nm or more.
基材における第1の面の最大突起高さ(Rp)は、80nm以下であることが好ましく、特に70nm以下であることが好ましく、さらには40nm以下であることが好ましい。基材の第1の面の最大突起高さ(Rp)が80nm以下であることで、得られる剥離フィルムの剥離面が優れた平滑性を有し易いものとなる。なお、基材における第1の面の最大突起高さ(Rp)の下限値については特に限定されず、例えば、10nm以上であることが好ましく、特に15nm以上であることが好ましく、さらには20nm以上であることが好ましい。 The maximum protrusion height (Rp) of the first surface of the substrate is preferably 80 nm or less, particularly preferably 70 nm or less, and further preferably 40 nm or less. When the maximum protrusion height (Rp) of the first surface of the substrate is 80 nm or less, the release surface of the resulting release film tends to have excellent smoothness. The lower limit of the maximum projection height (Rp) on the first surface of the substrate is not particularly limited, and is preferably 10 nm or more, particularly preferably 15 nm or more, and further preferably 20 nm or more. is preferably
基材における第2の面の算術平均粗さ(Ra)は、20nm以上であることが好ましい。基材の第2の面の算術平均粗さ(Ra)が20nm以上であることで、剥離フィルムをロール状に巻き取った際に、剥離面と基材の第2の面とが密着し難いものとなり、それによりブロッキングの発生を抑制し易いものとなる。一方、基材における第2の面の算術平均粗さ(Ra)は、30nm以下であることが好ましい。基材の第2の面の算術平均粗さ(Ra)が30nm以下であることで、基材の第2の面の最大突起高さ(Rp)を後述する範囲に調整し易いものとなる。 The arithmetic average roughness (Ra) of the second surface of the substrate is preferably 20 nm or more. Since the arithmetic mean roughness (Ra) of the second surface of the substrate is 20 nm or more, when the release film is wound into a roll, the release surface and the second surface of the substrate are difficult to adhere to each other. This makes it easier to suppress the occurrence of blocking. On the other hand, the arithmetic mean roughness (Ra) of the second surface of the substrate is preferably 30 nm or less. When the arithmetic mean roughness (Ra) of the second surface of the substrate is 30 nm or less, the maximum projection height (Rp) of the second surface of the substrate can be easily adjusted within the range described below.
基材における第2の面の最大突起高さ(Rp)は、800nm以下であることが好ましく、特に600nm以下であることが好ましく、さらには400nm以下であることが好ましい。通常、長尺の剥離フィルムを用いてセラミックグリーンシートを成形した場合には、セラミックグリーンシートが積層された状態で剥離フィルムを巻き取り、ロール体として搬送や保管が行われる。ここで、基材の第2の面の最大突起高さ(Rp)が800nm以下であることで、上記ロール体において、基材の第2の面の凹凸形状がセラミックグリーンシートに転写され、セラミックグリーンシートの厚みが部分的に薄くなることを抑制し易くなる。また、基材における第2の面の最大突起高さ(Rp)は、200nm以上であることが好ましく、特に250nm以上であることが好ましく、さらには300nm以上であることが好ましい。基材の第2の面の最大突起高さ(Rp)が200nm以上であることで、剥離フィルムを製造する際の基材のハンドリング性がより良好なものとなる。特に、長尺の基材をガイドロールで送る際に、第2の面とガイドロールとの界面における空気の巻き込みを抑制し易くなり、その結果、基材の蛇行を抑制し、基材や得られた剥離フィルムを巻き取る際の巻きズレを抑制し易いものとなる。 The maximum protrusion height (Rp) of the second surface of the substrate is preferably 800 nm or less, particularly preferably 600 nm or less, and further preferably 400 nm or less. Generally, when a long release film is used to form a ceramic green sheet, the release film is wound up in a state in which the ceramic green sheets are laminated, and transported or stored as a roll body. Here, since the maximum projection height (Rp) of the second surface of the base material is 800 nm or less, in the roll body, the uneven shape of the second surface of the base material is transferred to the ceramic green sheet, and the ceramic It becomes easy to suppress the thickness of the green sheet from being partially thinned. Also, the maximum projection height (Rp) of the second surface of the substrate is preferably 200 nm or more, particularly preferably 250 nm or more, further preferably 300 nm or more. When the maximum protrusion height (Rp) of the second surface of the base material is 200 nm or more, the handleability of the base material when producing the release film becomes better. In particular, when a long base material is fed by the guide rolls, it becomes easier to suppress entrainment of air at the interface between the second surface and the guide rolls. It becomes easy to suppress winding misalignment when winding the separated release film.
さらに、基材における第2の面の算術平均粗さ(Ra)および最大突起高さ(Rp)が、共に上述した範囲である場合には、巻き取り時の巻きズレを効果的に抑制し易くなる。これにより、巻き取り張力を過度に高める必要がなくなり、巻き取り張力に起因する巻き芯部の変形を抑制し易くなる。 Furthermore, when both the arithmetic mean roughness (Ra) and the maximum projection height (Rp) of the second surface of the base material are within the ranges described above, it is easy to effectively suppress winding misalignment during winding. Become. This eliminates the need to excessively increase the winding tension, making it easier to suppress deformation of the winding core caused by the winding tension.
なお、基材における上述した表面粗さは、光干渉式表面形状観察装置等を用いて測定することができ、例えば、後述する試験例における剥離面の表面粗さと同様に測定することができる。 The above-described surface roughness of the substrate can be measured using an optical interference surface shape observation device or the like, and can be measured, for example, in the same manner as the surface roughness of the peeled surface in the test examples described later.
基材の厚さは、例えば、10μm以上であることが好ましく、特に15μm以上であることが好ましく、さらには20μm以上であることが好ましい。また、基材の厚さは、300μm以下であることが好ましく、特に200μm以下であることが好ましく、さらには125μm以下であることが好ましい。 The thickness of the base material is, for example, preferably 10 μm or more, particularly preferably 15 μm or more, further preferably 20 μm or more. Also, the thickness of the substrate is preferably 300 μm or less, particularly preferably 200 μm or less, and further preferably 125 μm or less.
(2)剥離剤層
上述した剥離剤層は、前述した剥離剤組成物の塗布液を用いて形成したものである。当該剥離剤層の厚さは、60nm以上であることが好ましく、特に70nm以上であることが好ましく、さらには80nm以上であることが好ましい。剥離剤層の厚さが60nm以上であることで、塗工時に溶剤がレベリングし、塗工スジがない塗工面を形成し易いものとなる。また、剥離剤層の厚さは、120nm以下であることが好ましく、特に110nm以下であることが好ましく、さらには100nm以下であることが好ましい。剥離剤層の厚さが120nm以下であることで、塗工時の溶剤揮発が速く、ポリオルガノシロキサンの凝集が抑えられ、微細な凹凸のない塗工面を形成し易いものとなる。
(2) Release Agent Layer The release agent layer described above is formed using the coating liquid of the release agent composition described above. The thickness of the release agent layer is preferably 60 nm or more, particularly preferably 70 nm or more, further preferably 80 nm or more. When the thickness of the release agent layer is 60 nm or more, the solvent levels during coating, making it easier to form a coated surface free of coating streaks. Also, the thickness of the release agent layer is preferably 120 nm or less, particularly preferably 110 nm or less, further preferably 100 nm or less. When the release agent layer has a thickness of 120 nm or less, the solvent evaporates quickly during coating, the aggregation of the polyorganosiloxane is suppressed, and a coated surface without fine irregularities can be easily formed.
(3)剥離フィルムの物性
上述した剥離フィルムにおける剥離面の算術平均粗さ(Ra)は、5nm以下であることが好ましく、特に4nm以下であることが好ましく、さらには2nm以下であることが好ましい。剥離面の算術平均粗さ(Ra)が5nm以下であることで、ピンホールや厚みむら等の欠陥の発生が抑制された、優れた性能を有するセラミックグリーンシートを製造し易いものとなる。なお、上記算術平均粗さ(Ra)の下限値は特に限定されず、例えば、1nm以上であることが好ましく、特に1.3nm以上であることが好ましく、さらには1.5nm以上であることが好ましい。
(3) Physical properties of release film The arithmetic mean roughness (Ra) of the release surface of the release film described above is preferably 5 nm or less, particularly preferably 4 nm or less, and further preferably 2 nm or less. . When the arithmetic mean roughness (Ra) of the peeled surface is 5 nm or less, it becomes easy to manufacture a ceramic green sheet having excellent performance in which defects such as pinholes and thickness unevenness are suppressed. The lower limit of the arithmetic mean roughness (Ra) is not particularly limited, and for example, it is preferably 1 nm or more, particularly preferably 1.3 nm or more, and further preferably 1.5 nm or more. preferable.
また、剥離フィルムにおける剥離面の最大突起高さ(Rp)は、80nm以下であることが好ましく、特に60nm以下であることが好ましく、さらには30nm以下であることが好ましい。剥離面の最大突起高さ(Rp)が80nm以下であることで、ピンホールや厚みむら等の欠陥の発生が抑制された、優れた性能を有するセラミックグリーンシートを製造し易いものとなる。なお、上記最大突起高さ(Rp)の下限値は特に限定されず、例えば、10nm以上であることが好ましく、特に15nm以上であることが好ましく、さらには20nm以上であることが好ましい。 The maximum protrusion height (Rp) of the release surface of the release film is preferably 80 nm or less, particularly preferably 60 nm or less, and further preferably 30 nm or less. When the maximum protrusion height (Rp) of the peeled surface is 80 nm or less, it becomes easy to manufacture a ceramic green sheet having excellent performance in which defects such as pinholes and thickness unevenness are suppressed. The lower limit of the maximum protrusion height (Rp) is not particularly limited. For example, it is preferably 10 nm or more, particularly preferably 15 nm or more, and further preferably 20 nm or more.
なお、本実施形態に係る塗布液を用いることで、上述したような、比較的低い剥離面の算術平均粗さ(Ra)および最大突起高さ(Rp)を実現することができる。また、剥離面における上述した表面粗さの測定方法の詳細は、後述する試験例に記載の通りである。 By using the coating liquid according to the present embodiment, it is possible to achieve relatively low arithmetic mean roughness (Ra) and maximum projection height (Rp) of the peeled surface as described above. Further, the details of the method for measuring the surface roughness of the peeled surface are as described in the later-described test examples.
上述した剥離フィルムでは、剥離面上に成形されたポリビニルブチラールフィルムから当該剥離フィルムを剥離する際に要する剥離力を、適宜設定することができるものの、例えば、50mN/40mm以下であることが好ましく、特に45mN/40mm以下であることが好ましく、さらには40mN/40mm以下であることが好ましい。上記剥離力が50mN/40mm以下であることにより、剥離フィルム上で成形されたセラミックグリーンシートを容易に剥離し易いものとなる。また、上記剥離力は、10mN/40mm以上であることが好ましく、特に20mN/40mm以上であることが好ましく、さらに30mN/40mm以上であることが好ましい。上記剥離力が10mN/40mm以上であることにより、成形されたセラミックグリーンシートを剥離フィルム上に積層したまま搬送や保管する際に、セラミックグリーンシートが剥離フィルムからズレたり脱落したりすることを抑制し易くなる。上述した剥離フィルムは、本実施形態に係る塗布液を用いて製造されたものであるが、当該塗布液は前述した組成を有する剥離剤組成物を希釈してなるものであることにより、上述のような剥離力に容易に設定することができる。なお、上述した剥離力の測定方法の詳細は、後述する試験例に記載の通りである。 In the above-described release film, the release force required for peeling the release film from the polyvinyl butyral film formed on the release surface can be set as appropriate, but for example, it is preferably 50 mN / 40 mm or less. In particular, it is preferably 45 mN/40 mm or less, more preferably 40 mN/40 mm or less. When the peeling force is 50 mN/40 mm or less, the ceramic green sheet formed on the peeling film can be easily peeled off. The peel force is preferably 10 mN/40 mm or more, particularly preferably 20 mN/40 mm or more, and more preferably 30 mN/40 mm or more. When the peel force is 10 mN/40 mm or more, when the molded ceramic green sheet is transported or stored while being laminated on the release film, the ceramic green sheet is prevented from slipping or falling off from the release film. becomes easier. The release film described above is manufactured using the coating liquid according to the present embodiment. It can be easily set to such a peel force. The details of the method for measuring the peel force described above are as described in the test examples described later.
(4)剥離フィルムの製造方法
上述した剥離フィルムの製造方法は、限定されないものの、以下の塗布工程、乾燥工程および硬化工程を含む方法であることが好ましい。すなわち、好ましい製造方法は、本実施形態に係る剥離剤組成物の塗布液を基材の片側に塗布し、基材の片側上に塗膜を形成する塗布工程と、塗膜中に含まれる前述した有機溶媒を乾燥させ、乾燥後塗膜を形成する乾燥工程と、乾燥後塗膜を硬化させ、剥離剤層を形成する硬化工程とを含む。
(4) Production method of release film Although the production method of the release film described above is not limited, it is preferably a method including the following coating step, drying step and curing step. That is, a preferred manufacturing method includes a coating step of applying a coating liquid of the release agent composition according to the present embodiment to one side of a substrate to form a coating film on one side of the substrate, and a drying step of drying the organic solvent to form a dried coating film; and a curing step of curing the dried coating film to form a release agent layer.
上記塗布工程において、塗布液を塗布する方法としては、従来公知の方法を使用することができ、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ダイコート法等を使用することができる。 In the coating step, as a method of applying the coating liquid, conventionally known methods can be used, such as gravure coating, bar coating, spray coating, spin coating, knife coating, and roll coating. , die coating method, etc. can be used.
また、上記塗布工程において、塗布液を塗布する量としては、形成しようとする剥離剤層の厚さ等に基づいて適宜設定することができるものの、例えば、上記乾燥工程において得られる乾燥後塗膜の単位面積当たりの質量が、0.06g/m2以上となるように塗布することが好ましく、特に0.07g/m2以上となるように塗布することが好ましく、さらには0.08g/m2以上となるように塗布することが好ましい。上記質量が0.06g/m2以上となるように塗布することで、塗工液がレベリングする時間を確保でき、塗工スジのない面状態を形成し易いものとなる。なお、本実施形態に係る塗布液は、前述した通り、固形分濃度が比較的高い値であることにより、上述したような比較的少ない量で塗布した場合であっても、十分な厚さを有する剥離剤層を形成することができる。また、上記乾燥工程において得られる乾燥後塗膜の単位面積当たりの質量が、0.12g/m2以下となるように塗布することが好ましく、特に0.11g/m2以下となるように塗布することが好ましく、さらには0.10g/m2以下となるように塗布することが好ましい。上記質量が0.12g/m2以下となるように塗布することで、溶剤揮発中の分子の凝集が抑えられ、微細な凹凸の無い面状態を形成し易いものとなる。 In addition, in the coating step, the amount of the coating liquid to be applied can be appropriately set based on the thickness of the release agent layer to be formed. It is preferable to apply so that the mass per unit area of is 0.06 g/m 2 or more, particularly preferably 0.07 g/m 2 or more, and more preferably 0.08 g/m 2 or more. It is preferable to apply so as to be 2 or more. By coating so that the mass is 0.06 g/m 2 or more, it is possible to ensure time for leveling of the coating liquid, and it becomes easy to form a surface state free of coating streaks. As described above, the coating liquid according to the present embodiment has a relatively high solid content concentration. It is possible to form a release agent layer having Further, the mass per unit area of the dried coating film obtained in the drying step is preferably 0.12 g/m 2 or less, and is preferably 0.11 g/m 2 or less. It is preferable to apply it, and more preferably, it is applied so as to be 0.10 g/m 2 or less. By coating so that the above mass is 0.12 g/m 2 or less, aggregation of molecules during solvent volatilization is suppressed, and a surface without fine irregularities can be easily formed.
また、塗布工程における塗布液の好ましい塗布量を、塗布直後の塗膜の厚さで示すと、当該厚さは、1500nm以上であることが好ましく、特に2000nm以上であることが好ましく、さらには2500nm以上であることが好ましい。また、上記厚さは、5000nm以下であることが好ましく、特に4000nm以下であることが好ましく、さらには3000nm以下であることが好ましい。 In addition, when the preferable coating amount of the coating liquid in the coating step is indicated by the thickness of the coating film immediately after coating, the thickness is preferably 1500 nm or more, particularly preferably 2000 nm or more, and further preferably 2500 nm. It is preferable that it is above. Further, the thickness is preferably 5000 nm or less, particularly preferably 4000 nm or less, further preferably 3000 nm or less.
上記乾燥工程においては、従来公知の方法により塗膜を乾燥させることができる。例えば、オーブン等を用いて塗膜を加熱することで、塗膜中の有機溶媒を揮発させ、塗膜を乾燥させることができる。この場合の加熱条件としては、加熱温度を90℃以上とすることが好ましく、特に110℃以上とすることが好ましい。また、加熱温度は、150℃以下とすることが好ましく、特に140℃以下とすることが好ましい。加熱時間としては、10秒以上とすることが好ましく、特に15秒以上とすることが好ましい。また、加熱時間は、120秒以下とすることが好ましく、特に60秒以下とすることが好ましい。なお、上記乾燥ための加熱は、後述する硬化工程における加熱を兼ねたものとすることもできる。 In the drying step, the coating film can be dried by a conventionally known method. For example, by heating the coating film using an oven or the like, the organic solvent in the coating film can be volatilized and the coating film can be dried. As for the heating conditions in this case, the heating temperature is preferably 90° C. or higher, and particularly preferably 110° C. or higher. Also, the heating temperature is preferably 150° C. or lower, particularly preferably 140° C. or lower. The heating time is preferably 10 seconds or longer, more preferably 15 seconds or longer. Also, the heating time is preferably 120 seconds or less, particularly preferably 60 seconds or less. Note that the heating for drying can also serve as the heating in the curing step, which will be described later.
上記硬化工程においては、従来公知の方法により乾燥後塗膜を硬化させることができるものの、乾燥後加熱を加熱することで硬化させることが好ましい。この場合の加熱条件としては、加熱温度を90℃以上とすることが好ましく、特に110℃以上とすることが好ましい。また、加熱温度は、150℃以下とすることが好ましく、特に140℃以下とすることが好ましい。加熱時間としては、10秒以上とすることが好ましく、特に15秒以上とすることが好ましい。また、加熱時間は、120秒以下とすることが好ましく、特に60秒以下とすることが好ましい。 In the curing step, the coating film can be cured after drying by a conventionally known method, but it is preferable to cure by heating after drying. As for the heating conditions in this case, the heating temperature is preferably 90° C. or higher, and particularly preferably 110° C. or higher. Also, the heating temperature is preferably 150° C. or lower, particularly preferably 140° C. or lower. The heating time is preferably 10 seconds or longer, more preferably 15 seconds or longer. Also, the heating time is preferably 120 seconds or less, particularly preferably 60 seconds or less.
(5)剥離フィルムの使用方法
上述した剥離フィルムは、セラミックグリーンシートを製造するために使用することが好適である。この場合、例えば、剥離フィルムにおける剥離面に対し、チタン酸バリウムや酸化チタンなどのセラミック材料を含有するセラミックスラリーを塗工した後、当該セラミックスラリーを乾燥させることでセラミックグリーンシートを得ることができる。塗工は、例えば、スロットダイ塗工方式やドクターブレード方式等を用いて行うことができる。
(5) Method of using release film The release film described above is preferably used for producing a ceramic green sheet. In this case, for example, a ceramic green sheet can be obtained by applying a ceramic slurry containing a ceramic material such as barium titanate or titanium oxide to the release surface of the release film and then drying the ceramic slurry. . Coating can be performed using, for example, a slot die coating method, a doctor blade method, or the like.
セラミックスラリーに含まれるバインダー成分の例としては、ブチラール系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。また、セラミックスラリーに含まれる溶媒の例としては、有機溶媒、水系溶媒等が挙げられる。 Examples of binder components contained in the ceramic slurry include butyral-based resins and acrylic-based resins. Examples of solvents contained in the ceramic slurry include organic solvents and aqueous solvents.
上述した剥離フィルムは、本実施形態に係る塗布液を用いて製造されたものであるため、前述した通り、剥離面における平滑性に優れるとともに、優れた剥離性を有する。そのため、上述した剥離フィルムを使用することで、ピンホールや厚みむら等の欠陥の発生や抑制された、優れた性能を有するセラミックグリーンシートを容易に製造することが可能となる。 Since the release film described above is manufactured using the coating liquid according to the present embodiment, it has excellent smoothness on the release surface and excellent releasability as described above. Therefore, by using the release film described above, it is possible to easily produce a ceramic green sheet having excellent performance in which the occurrence of defects such as pinholes and thickness unevenness is suppressed.
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiments described above are described to facilitate understanding of the present invention, and are not described to limit the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiments is meant to include all design changes and equivalents that fall within the technical scope of the present invention.
例えば、上述した剥離フィルムにおいては、基材と剥離剤層との間、または基材における剥離剤層とは反対側の面には、帯電防止層等の他の層が設けられてもよい。 For example, in the release film described above, another layer such as an antistatic layer may be provided between the substrate and the release agent layer, or on the surface of the substrate opposite to the release agent layer.
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Examples and the like, but the scope of the present invention is not limited to these Examples and the like.
〔実施例1〕
(1)剥離剤組成物の塗布液の調製
ポリオルガノシロキサン(A)としての側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン(アヅマックス社製,製品名「DMS-V46」,重量平均分子量:120,000,アルケニル基(ビニル基)比率:5モル%)80質量部(固形分として換算した量;以下同じ)と、ポリオルガノシロキサン(B)としての側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン(アヅマックス社製,製品名「VDT-163」,重量平均分子量:430,000,アルケニル基(ビニル基)比率:6モル%)10質量部と、分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)としての側鎖にビニル基を有する分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(信越シリコーン社製,製品名「X62-1387」,重量平均分子量:5600,アルケニル基(ビニル基)比率:31モル%)10質量部と、架橋剤(D)としてのトリメチルシロキシ基末端封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン(アヅマックス社製,製品名「HMS-991」,ヒドロシリル基比率:5モル%)と、反応抑制剤とを均一に混合し、剥離剤組成物を得た。ここで、架橋剤(D)の配合量は、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)が有するアルケニル基(ビニル基)のモル量の合計に対する、架橋剤(D)が含有するヒドロシリル基のモル量の比が2.0となる量とした。
[Example 1]
(1) Preparation of coating liquid for release agent composition Polydimethylsiloxane having a vinyl group in the side chain as polyorganosiloxane (A) (manufactured by Azmax Co., Ltd., product name “DMS-V46”, weight average molecular weight: 120,000 , alkenyl group (vinyl group) ratio: 5 mol%) 80 parts by mass (amount converted as solid content; the same applies hereinafter) and polydimethylsiloxane having a vinyl group in the side chain as polyorganosiloxane (B) (Azumax Co., Ltd. Co., Ltd., product name "VDT-163", weight average molecular weight: 430,000, alkenyl group (vinyl group) ratio: 6 mol%) and 10 parts by mass of branched organosiloxane oligomer (C) with a vinyl group on the side chain Branched organosiloxane oligomer (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd., product name “X62-1387”, weight average molecular weight: 5600, alkenyl group (vinyl group) ratio: 31 mol%) 10 parts by mass, and as a cross-linking agent (D) is uniformly mixed with a reaction inhibitor to obtain a release agent composition. rice field. Here, the amount of the cross-linking agent (D) is the total molar amount of alkenyl groups (vinyl groups) possessed by the polyorganosiloxane (A), the polyorganosiloxane (B), and the branched organosiloxane oligomer (C). The molar ratio of the hydrosilyl groups contained in the cross-linking agent (D) was adjusted to 2.0.
なお、上記剥離剤組成物中における、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対するポリオルガノシロキサン(A)の固形成分比率を算出すると、80質量%となる。後述する表1では、当該固形成分比率を、「A/(A+B+C)」の欄に記載する。また、上記剥離剤組成物中における、ポリオルガノシロキサン(B)および分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対するポリオルガノシロキサン(B)の固形成分比率を算出すると、50質量%となる。表1では、当該固形成分比率を、「B/(B+C)」の欄に記載する。 When calculating the solid component ratio of polyorganosiloxane (A) to the total amount of polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C) in the release agent composition, 80% by mass. In Table 1, which will be described later, the solid component ratio is described in the column of "A/(A+B+C)". Further, the solid content ratio of polyorganosiloxane (B) to the total amount of polyorganosiloxane (B) and branched organosiloxane oligomer (C) in the release agent composition is calculated to be 50% by mass. In Table 1, the solid component ratio is described in the "B/(B+C)" column.
次いで、得られた剥離剤組成物を、有機溶媒としてのトルエンとメチルエチルケトンとの混合溶媒(トルエン:メチルエチルケトン=3:7)で希釈し、さらに、白金系触媒(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製,製品名「SRX-212」)6.8質量部を添加して十分に撹拌することで、固形分濃度が3.0質量%である剥離剤組成物の塗布液を得た。 Next, the obtained release agent composition was diluted with a mixed solvent of toluene and methyl ethyl ketone (toluene: methyl ethyl ketone = 3:7) as an organic solvent, and a platinum catalyst (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., 6.8 parts by mass of product name "SRX-212") was added and sufficiently stirred to obtain a coating liquid of a release agent composition having a solid content concentration of 3.0% by mass.
(2)剥離剤層の形成
基材として、厚さ31μmのポリエチレンテレフタラート(PET)フィルムを用意した。当該PETフィルムの一方の面(第1の面)の算術平均高さ(Ra)は3nmであり、最大突起高さ(Rp)は30nmであった。また、上記PETフィルムの他方の面(第2の面)の算術平均粗さ(Ra)は26.7nmであり、最大突起高さ(Rp)は368nmであった。
(2) Formation of Release Agent Layer A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 31 μm was prepared as a substrate. One surface (first surface) of the PET film had an arithmetic mean height (Ra) of 3 nm and a maximum protrusion height (Rp) of 30 nm. The arithmetic average roughness (Ra) of the other surface (second surface) of the PET film was 26.7 nm, and the maximum protrusion height (Rp) was 368 nm.
上記基材における第1の面に対し、上記工程(1)において調製した剥離剤組成物の塗布液を、マイヤーバー♯2を用いて塗布した。このときの塗布量は、得られた塗膜を乾燥した後における単位面積当たりの質量が0.08g/m2となる量とした。上記塗布により得られた塗膜から有機溶媒を揮発させて乾燥させた後、オーブンにて125℃で30秒間加熱することにより、剥離剤組成物を硬化させ、厚さ90nm、塗布量0.09g/m2の剥離剤層を形成した。これにより、基材と、当該基材の片面上に設けられた剥離剤層と備える剥離フィルムを得た。 The coating liquid of the release agent composition prepared in the step (1) was applied to the first surface of the base material using Meyer bar #2. The coating amount at this time was such that the mass per unit area of the obtained coating film after drying was 0.08 g/m 2 . After the organic solvent was evaporated from the coating film obtained by the above coating and dried, the release agent composition was cured by heating at 125° C. for 30 seconds in an oven to a thickness of 90 nm and a coating amount of 0.09 g. /m 2 of release agent layer was formed. As a result, a release film including a substrate and a release agent layer provided on one side of the substrate was obtained.
〔実施例2~4,比較例1~6〕
使用するポリオルガノシロキサンの種類、並びに、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリオルガノシロキサン(B)、その他のポリオルガノシロキサンおよび分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の配合量を表1に記載の通りに変更した以外、実施例1と同様にして剥離フィルムを製造した。
[Examples 2 to 4, Comparative Examples 1 to 6]
The type of polyorganosiloxane to be used and the blending amounts of polyorganosiloxane (A), polyorganosiloxane (B), other polyorganosiloxane and branched organosiloxane oligomer (C) were changed as shown in Table 1. A release film was produced in the same manner as in Example 1, except that
〔試験例1〕(30質量%のトルエン溶液の粘度の測定)
実施例および比較例と同様にして剥離剤組成物の塗布液を調製した。但し、有機溶媒としてトルエンを使用するとともに、得られる塗布液の固形分濃度が30質量%となるように希釈した。
[Test Example 1] (Measurement of viscosity of 30% by mass toluene solution)
A coating solution of a release agent composition was prepared in the same manner as in Examples and Comparative Examples. However, toluene was used as an organic solvent, and the coating liquid obtained was diluted so that the solid content concentration was 30% by mass.
得られた塗布液の100g分について、B型粘度計(fungilab社製,製品名「VISCOLEAD」)を用いて、測定温度:23℃、スピンドル:L2、回転数:60rpmの条件で粘度(mPa・s)を測定した。その結果を表2に示す。 For 100 g of the obtained coating liquid, the viscosity (mPa · s) was measured. Table 2 shows the results.
〔試験例2〕(剥離面の平滑性の評価)
実施例および比較例にて製造した剥離フィルムにおける剥離面について、塗工スジの有無および微細凹凸の有無を目視にて確認し、以下の基準にて、剥離面の平滑性を評価した。結果を表2に示す。
(塗工スジ)
〇:塗工スジが確認できない。
×:塗工スジが確認できる。
(微細凹凸)
〇:微細凹凸が確認できない。
×:微細凹凸が確認できる。
[Test Example 2] (Evaluation of smoothness of release surface)
The release surfaces of the release films produced in Examples and Comparative Examples were visually checked for coating streaks and fine irregularities, and the smoothness of the release surfaces was evaluated according to the following criteria. Table 2 shows the results.
(Coating streak)
◯: Coating streaks cannot be observed.
x: Coating streaks can be confirmed.
(fine unevenness)
◯: Fine unevenness cannot be confirmed.
x: Fine unevenness can be confirmed.
〔試験例3〕(剥離面の表面粗さの測定)
ガラス板に両面テープを貼付し、実施例および比較例で得られた剥離フィルムを、剥離剤層とは反対側の面がガラス板側となるように上記両面テープを介してガラス板に固定した。その剥離フィルムの剥離面について、算術平均粗さ(Ra;nm)および最大突起高さ(Rp;nm)を、光干渉式表面形状観察装置(日本ビーコ社製,製品名「NT1100」)を使用し、PSIモードにて50倍率で観察し、得られた表面形状画像における91.2×119.8μmの範囲に基づいて測定した。結果を表2に示す。
[Test Example 3] (Measurement of surface roughness of peeled surface)
A double-sided tape was attached to a glass plate, and the release films obtained in Examples and Comparative Examples were fixed to the glass plate via the double-sided tape so that the surface opposite to the release agent layer was on the glass plate side. . Arithmetic mean roughness (Ra; nm) and maximum protrusion height (Rp; nm) of the release surface of the release film were measured using an optical interference surface profile observation device (manufactured by Nihon Veeco Co., Ltd., product name "NT1100"). Then, it was observed in the PSI mode at a magnification of 50, and measured based on the range of 91.2×119.8 μm in the obtained surface profile image. Table 2 shows the results.
〔試験例4〕(剥離力)
実施例および比較例にて製造してから常温で48時間保管した剥離フィルムにおいて、剥離剤層の剥離面に、アプリケーターを用いて、トルエンとエタノールとの混合溶媒(トルエン:エタノール=6:4)中にポリビニルブチラール(PVB)を溶解させてなる溶液(積水化学社製,製品名「BL-S」,PVB濃度:20質量%)を均一に塗布し、その後、乾燥機にて55℃で60秒間乾燥させた。これにより、剥離フィルム上に厚さ3μmのPVBフィルムが積層されてなる積層体を得た。
[Test Example 4] (Peeling force)
A mixed solvent of toluene and ethanol (toluene:ethanol=6:4) was applied to the release surface of the release agent layer of the release film produced in Examples and Comparative Examples for 48 hours using an applicator. A solution (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd., product name “BL-S”, PVB concentration: 20% by mass) obtained by dissolving polyvinyl butyral (PVB) in the inside is uniformly applied, and then dried at 55 ° C. for 60 minutes. Dried for seconds. As a result, a laminate was obtained in which a PVB film having a thickness of 3 μm was laminated on the release film.
得られた積層体を、室温23度、相対湿度50%の雰囲気下に24時間静置した後、当該積層体における剥離フィルムとは反対側の面に対し、アクリル粘着テープ(日東電工社製,製品名「31Bテープ」)を貼付し、その状態で40mm幅に裁断し、これを測定サンプルとした。 After the resulting laminate was allowed to stand for 24 hours in an atmosphere of room temperature of 23°C and relative humidity of 50%, an acrylic adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Co., Ltd., (Product name: "31B tape") was attached, and in that state, it was cut into a width of 40 mm, and this was used as a measurement sample.
当該測定サンプルの粘着テープ側を平板に固定し、引張試験機(島津製作所社製,製品名「AG-IS500N」)を用いて180°の剥離角度、100m/分の剥離速度でPVBフィルムから剥離フィルムを剥離し、剥離するのに必要な力(剥離力;mN/40mm)を測定した。当該測定を6回繰り返し、その平均値を算出した。その結果を表2に示す。 The adhesive tape side of the measurement sample is fixed to a flat plate, and a tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, product name “AG-IS500N”) is used to peel off from the PVB film at a peel angle of 180 ° and a peel speed of 100 m / min. The film was peeled off and the force required to peel it off (peeling force; mN/40 mm) was measured. The measurement was repeated 6 times and the average value was calculated. Table 2 shows the results.
ここで、表1に示す略称の詳細は以下の通りである。
[ポリオルガノシロキサン(A)]
DMS-V46:側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン(アヅマックス社製,製品名「DMS-V46」,重量平均分子量:120,000,アルケニル基(ビニル基)比率:5モル%)
DMS-V42:側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン(アヅマックス社製,製品名「DMS-V42」,重量平均分子量:70,000,アルケニル基(ビニル基)比率:8モル%)
DMS-V35:側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン(アヅマックス社製,製品名「DMS-V35」,重量平均分子量:50,000,アルケニル基(ビニル基)比率:12モル%)
[ポリオルガノシロキサン(B)]
VDT-163:側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン(アヅマックス社製,製品名「VDT-163」,重量平均分子量:430,000,アルケニル基(ビニル基)比率:50モル%)
[その他のポリオルガノシロキサン]
DMS-V52:側鎖にビニル基を有するポリジメチルシロキサン(アヅマックス社製,製品名「DMS-V52」,重量平均分子量:170,000,アルケニル基(ビニル基)比率:4モル%)
Here, the details of the abbreviations shown in Table 1 are as follows.
[Polyorganosiloxane (A)]
DMS-V46: Polydimethylsiloxane having a vinyl group in a side chain (manufactured by Azumax, product name “DMS-V46”, weight average molecular weight: 120,000, alkenyl group (vinyl group) ratio: 5 mol%)
DMS-V42: polydimethylsiloxane having a vinyl group in the side chain (manufactured by Azumax, product name “DMS-V42”, weight average molecular weight: 70,000, alkenyl group (vinyl group) ratio: 8 mol%)
DMS-V35: Polydimethylsiloxane having a vinyl group in a side chain (manufactured by Azmax Co., Ltd., product name “DMS-V35”, weight average molecular weight: 50,000, alkenyl group (vinyl group) ratio: 12 mol%)
[Polyorganosiloxane (B)]
VDT-163: Polydimethylsiloxane having a vinyl group in a side chain (manufactured by Azmax Co., Ltd., product name “VDT-163”, weight average molecular weight: 430,000, alkenyl group (vinyl group) ratio: 50 mol%)
[Other polyorganosiloxane]
DMS-V52: Polydimethylsiloxane having a vinyl group in a side chain (manufactured by Azmax Co., Ltd., product name "DMS-V52", weight average molecular weight: 170,000, alkenyl group (vinyl group) ratio: 4 mol%)
表2から明らかなように、実施例に係る剥離フィルムでは、剥離面における塗工スジおよび微細凹凸が確認されなかった。すなわち、実施例に係る剥離フィルムは、優れた平滑性を有するものであった。このことは、当該剥離面における表面粗さ(RaおよびRp)の値が比較例と比較して低いこととも一致した。 As is clear from Table 2, in the release films according to the examples, coating streaks and fine irregularities were not observed on the release surface. That is, the release films according to the examples had excellent smoothness. This also coincided with the fact that the values of surface roughness (Ra and Rp) on the peeled surface were lower than those of the comparative example.
また、実施例に係る剥離剤組成物の塗布液は、固形分濃度が30質量%である場合の粘度が200mPa・s未満であった。このため、実施例に係る剥離剤組成物の塗布液では、塗膜を乾燥させる際に良好なレベリングが生じ易く、その結果として、上述した優れた平滑性に繋がったと推測される。 Moreover, the coating liquid of the release agent composition according to the example had a viscosity of less than 200 mPa·s when the solid content concentration was 30% by mass. For this reason, it is presumed that the coating liquids of the release agent compositions according to the examples tended to cause good leveling when the coating film was dried, and as a result, the above-described excellent smoothness was achieved.
さらに、実施例に係る剥離フィルムでは、良好な剥離性を有するものであることも確認された。 Furthermore, it was confirmed that the release films according to the examples had good release properties.
本発明の剥離剤組成物の塗布液は、セラミックグリーンシート製造工程用剥離フィルムを製造するのに好適である。 The coating liquid of the release agent composition of the present invention is suitable for producing a release film for a ceramic green sheet production process.
Claims (5)
重量平均分子量が40万以上、60万以下であるポリオルガノシロキサン(B)と、
分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)と
を含有し、
前記ポリオルガノシロキサン(A)、前記ポリオルガノシロキサン(B)および前記分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対する前記ポリオルガノシロキサン(A)の固形成分比率が75質量%以上、85質量%以下であり、
前記ポリオルガノシロキサン(B)および前記分岐状オルガノシロキサンオリゴマー(C)の合計量に対する前記ポリオルガノシロキサン(B)の固形成分比率が30質量%以上、70質量%以下である
剥離剤組成物を、有機溶媒で固形分濃度2.5質量%以上、3.5質量%以下に希釈してなることを特徴とする剥離剤組成物の塗布液。 a polyorganosiloxane (A) having a weight average molecular weight of 70,000 or more and 140,000 or less;
a polyorganosiloxane (B) having a weight average molecular weight of 400,000 or more and 600,000 or less;
containing a branched organosiloxane oligomer (C),
The solid content ratio of the polyorganosiloxane (A) to the total amount of the polyorganosiloxane (A), the polyorganosiloxane (B) and the branched organosiloxane oligomer (C) is 75% by mass or more and 85% by mass or less. and
A release agent composition in which the solid content ratio of the polyorganosiloxane (B) to the total amount of the polyorganosiloxane (B) and the branched organosiloxane oligomer (C) is 30% by mass or more and 70% by mass or less, A coating liquid of a release agent composition, which is diluted with an organic solvent to a solid content concentration of 2.5% by mass or more and 3.5% by mass or less.
請求項1~3のいずれか一項に記載の剥離剤組成物の塗布液を前記基材の片側に塗布し、前記基材の片側上に塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜中に含まれる前記有機溶媒を乾燥させ、乾燥後塗膜を形成する乾燥工程と、
前記乾燥後塗膜を硬化させ、前記剥離剤層を形成する硬化工程と
を含むことを特徴とする製造方法。 A method for manufacturing a release film for a ceramic green sheet manufacturing process, comprising a base material and a release agent layer provided on one side of the base material,
A coating step of applying a coating liquid of the release agent composition according to any one of claims 1 to 3 to one side of the substrate to form a coating film on one side of the substrate;
A drying step of drying the organic solvent contained in the coating film to form a coating film after drying;
and a curing step of curing the dried coating film to form the release agent layer.
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