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JP7171386B2 - 超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置 - Google Patents

超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置 Download PDF

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JP7171386B2 JP2018219467A JP2018219467A JP7171386B2 JP 7171386 B2 JP7171386 B2 JP 7171386B2 JP 2018219467 A JP2018219467 A JP 2018219467A JP 2018219467 A JP2018219467 A JP 2018219467A JP 7171386 B2 JP7171386 B2 JP 7171386B2
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Description

本発明は、超純水製造装置を例えば新規に設置して立ち上げる際に用いられる超純水製造装置の立ち上げ方法、及びこの立ち上げ方法を適用可能な超純水製造装置に関する。
半導体の製造工程などで利用される超純水製造装置は、ユースポイント(使用場所)へ向う被処理水の流路を含む水処理系によって、流路上を流れる被処理水を水処理して超純水を得る。この種の超純水製造装置は、一次純水製造部及び二次純水製造部を主に備えている。一次純水製造部は、例えば原水中の懸濁物質を除去する前処理部と、前処理水中の全有機炭素(TOC)成分やイオン成分を除去する逆浸透膜装置やイオン交換装置と、を用いて一次純水を製造する。一方、二次純水製造部は、一次純水中に残留する微粒子、コロイダル物質、有機物、金属、陰イオンなどを除去することによって二次純水(超純水)を製造する。
ここで、超純水製造装置を例えば新規に設置して立ち上げるために、その設置場所で超純水製造装置の例えば組み立て作業を行う場合に、上記した水処理系内に対する微粒子、生菌、全有機炭素成分の混入や、被処理水の流路を構成している配管からの金属成分の溶出などが生じるといった課題がある。そこで、この対策として、超純水製造装置の通常運転に先立ち、超純水製造装置内の水処理系を予め洗浄することが行われている(例えば特許文献1参照)。
特開2004-122020号公報
しかしながら、上述した洗浄を長期間にわたって継続させた後でも、超純水製造装置で製造された超純水が、所期の製造スペック内に収まらないことがある。例えば、超純水製造装置内の配管類の接続箇所などが煩雑に接続された場合や、超純水製造装置を設置する環境の清浄性に課題がある場合には、例えば粒径の比較的大きい金属粒子や砂などが、ユースポイントの前段に配置された限外ろ過膜装置などに捕捉されたままの状態で水処理系内に存在していることがある。この際、金属粒子などの成分の溶出が水処理系内で長期間続き、この結果、製造される超純水の水質は、継続的に悪化した状態となる。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、超純水製造装置の立ち上げ期間を短縮することができる超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置を提供することを目的とする。
本発明の超純水製造装置の立ち上げ方法は、被処理水を流すための流路と、前記流路上に設けられ、前記被処理水をユースポイントの前段で水処理する限外ろ過膜装置と、を少なくとも含む水処理系を備えた超純水製造装置の立ち上げ方法であって、前記流路上における前記限外ろ過膜装置の前段に、仮置きのフィルタ装置を設置する工程と、前記仮置きのフィルタ装置の設置後に、前記流路に沿って送水を開始することにより前記水処理系を洗浄する工程と、前記送水による洗浄の開始から所定の期間経過後に、前記仮置きのフィルタ装置を前記超純水製造装置から分離する工程と、を有している。
前述した洗浄は、殺菌処理を含むものである。さらに、前記分離する工程の後、前記流路に沿った送水を開始し、所期の製造スペック内に収まる超純水が得られるまで水処理を行う工程を実施する。また、前記超純水製造装置は、前記流路上における前記仮置きのフィルタ装置の上流側にタンクをさらに備えている。また、前記流路は、前記限外ろ過膜装置を通過した後、前記タンクに戻る循環ラインを有している。さらに、前記所定の期間は、前記洗浄の開始に伴い、前記循環ライン内の水量と流量から計算される循環回数が、例えば0.5~2200回となる期間であることが望ましい。
一方、本発明の超純水製造装置は、被処理水を流すための流路と、前記流路上に設けられ、前記被処理水をユースポイントの前段で水処理する限外ろ過膜装置と、前記流路上における前記限外ろ過膜装置の前段に設けられ、前記流路に対して仮置きのフィルタ装置の着脱を可能にするフィルタ着脱機構と、を備えている。
上述した仮置きのフィルタ装置は、例えば精密ろ過膜装置である。また、前記流路は、第1の配管で構成されている。一方、前記フィルタ着脱機構は、前記流路から一旦分岐すると共に前記仮置きのフィルタ装置を経由しつつ前記流路の下流側で合流する分岐流路を構成した第2の配管を、前記第1の配管に対して、取り外し可能に接続する複数の継手と、前記第1の配管における前記分岐の位置と前記合流の位置との間に設けられた第1の開閉弁と、を備えている。さらに、前記第2の配管上には、例えば、前記仮置きのフィルタ装置の前後に一対の第2の開閉弁などがそれぞれ設けられている。
本発明によれば、超純水製造装置の立ち上げ期間を短縮することができる超純水製造装置の立ち上げ方法及び超純水製造装置を提供することが可能である。
本発明の実施形態に係る超純水製造装置の構成を概略的に示すブロック図。 図1の超純水製造装置が備える二次純水製造部の構成を示すブロック図。 図2の二次純水製造部から仮置きの精密ろ過膜装置を分離した状態を示す図。 本発明の実施形態に係る超純水製造装置の立ち上げ方法を示すフローチャート。 図2の二次純水製造部とは、被処理水の循環ラインが一部異なる構成例を示した図。 図3の精密ろ過膜装置の分離状態とは異なる他の分離状態を例示した図。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
図1に示すように、本実施形態に係る超純水製造装置10は、被処理水を水処理して超純水を得る装置であって、前処理部12、一次純水製造部14、被処理水の流路31、タンク16、二次純水製造部18、を含む水処理系15を備えている。前処理部12は、原水として、市水、井水、工業用水などを導入する。この前処理部12は、原水の水質などに応じて適宜の構成を有し、原水の懸濁物質を除去して前処理水を生成する。前処理部12は、例えば砂ろ過装置や精密ろ過装置などを備え、さらに、必要に応じて被処理水の温度を調節するための熱交換器などを有している。
一次純水製造部14は、前処理水中の有機成分、イオン成分、溶存ガスなどを除去して一次純水を製造し、この一次純水をタンク(TK)16に供給する。一次純水製造部14は、例えば、逆浸透膜装置、イオン交換装置(陽イオン交換装置、陰イオン交換装置、混床式イオン交換装置など)、紫外線酸化装置、及び脱気装置(真空脱気装置、脱気膜装置など)のうちの1つ以上を適宜組み合わせて構成される。一次純水は、例えば全有機炭素(TOC:Total Organic Carbon)濃度が5μgC/L以下、抵抗率が17MΩ・cm以上である。タンク16は、一次純水を貯留し、その必要量を二次純水製造部18に供給する。
一方、二次純水製造部18は、一次純水製造部14により製造された一次純水中の不純物を除去して超純水となる二次純水を製造し、超純水の使用場所であるユースポイント(POU:Point Of Use)20に供給する。流路31は、被処理水を流すための流路であって、水処理系15を構成する前処理部12、一次純水製造部14及び二次純水製造部18によって水処理された被処理水をユースポイント20へ向けて送る。また、図1、図2に示すように、上記したタンク16は、流路31上における後記の精密ろ過膜装置(仮置きのフィルタ装置)27の上流側に備えられている。さらに、流路31は、後記の限外ろ過膜装置28を通過した後、タンク16に戻る循環ライン31bを有している。ここで、図1、図2の例では、循環ライン31bは、最下流に位置するユースポイント20の位置から、タンク16及び二次純水製造部18を経由して、ユースポイント20の位置へ戻る経路を構成している。つまり、ユースポイント20を通過した余剰分の超純水は、流路31の循環ライン31bを通ってタンク16にて回収される。
具体的には、図2、図3に示すように、二次純水製造部18は、サークルポンプ(被処理水供給ポンプ)22、熱交換器(HEX:Heat Exchanger)23、紫外線酸化装置(TOC-UV)24、膜脱気装置(MDG:membrane degasifier)25、ポリッシャ26、フィルタ着脱機構30、限外ろ過膜(UF:Ultrafiltration Membrane)装置28、及び微粒子計29を備えている。
サークルポンプ22は、タンク16内に収容された被処理水(一次純水)を熱交換器23に供給する被処理水供給ポンプである。熱交換器23は、サークルポンプ22から供給された被処理水の温度を調節する。この際、被処理水は、熱交換器23によって例えば25±3℃に温度調節されることが好ましい。
紫外線酸化装置24は、熱交換器23で温度調節された被処理水(一次純水)に紫外線を照射して、被処理水中の微量有機物を分解除去する。紫外線酸化装置24は、例えば紫外線ランプを有し、波長185nm付近の紫外線を発生させる。紫外線酸化装置24は、波長254nm付近の紫外線を発生させるものであってもよい。このような紫外線酸化装置24内で被処理水に紫外線が照射されると、紫外線が被処理水を分解してOHラジカルを生成し、このOHラジカルが、被処理水中の有機物を酸化分解する。
膜脱気装置25は、気体透過性の膜の二次側を減圧して、一次側を通流する被処理水中の溶存ガスのみを二次側に透過させて除去する装置である。ポリッシャ26は、陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂とが混合された混床式のイオン交換樹脂を有し、被処理水の中の微量の陽イオン成分及び陰イオン成分を吸着除去する非再生型の混床式イオン交換装置である。
後に詳述するフィルタ着脱機構(フィルタ取付・取外機構)30は、被処理水の流路31上における限外ろ過膜装置28の前段(直前)に設けられており、前記流路31に対して、精密ろ過膜装置27の着脱を可能にする。限外ろ過膜装置28は、流路31上における最下流のユースポイント20の前段(直前)に設けられている。
限外ろ過膜装置28は、複数の中空糸型モジュールを有しており、この中空糸型モジュールの1つあたりの通水流量は、5m3/h以上である。一般的には10m3/h以上である。流路31上に設けられたこの限外ろ過膜装置28は、ポリッシャ26(又は装着時の精密ろ過膜装置27)による被処理水を、ユースポイント20の前段でさらに水処理することにより、例えば粒子径50nm以上の微粒子を除去して超純水(二次純水)を得る。
ここで、本実施形態の超純水製造装置10における製造スペック内の超純水(所期の水質条件を満足する超純水)は、粒子径50nm以上の粒子の数が200個/L以下であり、また、全有機炭素濃度が1μgC/L以下であり、さらには抵抗率が18MΩ・cm以上である。微粒子計29は、限外ろ過膜装置28によって水処理された二次純水(超純水)中の粒子の粒径を計測する。
次に、フィルタ着脱機構30及び仮置きの精密ろ過膜装置27について詳述する。フィルタ着脱機構30は、図2、図3に示すように、複数の継手36、37、41、42及び開閉弁(第1の開閉弁)33を備えている。一方、精密ろ過膜(MF:Microfiltration Membrane)装置27は、後段の限外ろ過膜装置28の膜の孔径よりも大きい孔径の膜を備えている。この精密ろ過膜の孔径は、特に限定されないものの、0.2μm以上の粒子を分離するろ過精度を有しているものがより好ましい。これは、本発明において早期立ち上がりを阻害する原因物質が、比較的大きな微粒子であることから、比較的大きい孔径の精密ろ過膜で十分だからである。さらに、このような精密ろ過膜は、実質的に膜本数が低減されて圧力損失が小さくなるため、良好な通水性能が得られる。
精密ろ過膜としては、表層ろ過式のものでも、デプスろ過式のものでもよい。後者のデプスろ過式の精密ろ過膜は、多くの通水流量を確保でき、これにより、使用する膜本数が少なく安価なため、より好ましい。
なお、デプスろ過式の精密ろ過膜は、一般的に、超純水製造装置の前段側、例えば、一次純水製造部に設置される逆浸透膜のガードフィルター等、もしくは前処理部に用いられるが、本実施形態のように二次純水製造部に適用しようとする場合、デプスろ過式の精密ろ過膜では孔径が大きすぎるため、微細微粒子の除去は期待できないと考えていたので、立ち上げにて効果を示すことは意外性を持つものであった。
表層ろ過式の精密ろ過膜としては、HDCIIシリーズ、ポリファインIIシリーズ(以上Pall社製)など、デプスろ過式の精密ろ過膜としては、Betafineシリーズ(スリーエムジャパン社製)、プロファイルII、ネクシスシリーズ、プロファイルUPシリーズ(以上Pall社製)等を好適に用いることが可能である。
つまり、精密ろ過膜装置27は、超純水製造装置10内の例えば配管類から脱離した金属粒子(異物)や、超純水製造装置10の設置環境中から水処理系15内に混入した砂など、を捕捉することが可能となる。
精密ろ過膜装置27は、仮置きの(一時的な)保護フィルタ(Temporary Guard Filter)装置である。この精密ろ過膜装置27は、超純水製造装置10を例えば新規に設置して立ち上げる際には、超純水製造装置10に取り付けられているものの、超純水製造装置の立ち上げ完了後には、超純水製造装置10から、フィルタ着脱機構30を介して、取り外し(撤去)される。
ここで、被処理水の流路31は、配管31aによって構成されている。また、精密ろ過膜装置27を仮置きするために、流路31から一旦分岐すると共に精密ろ過膜装置27を経由しつつ当該流路31の下流側で合流する分岐流路32を構成するための配管(第2の配管)32aが用意されている。つまり、精密ろ過膜装置27は、配管32aの途中に介在される。
図2、図3に示すように、継手41、42は、配管32aを、配管31aに対して、取り外し可能に接続する。また、継手36、37も、配管32aを、配管31aに対して、取り外し可能に接続している。具体的には、継手36、37は、開閉弁34、35と共に配管32aを、配管31aから取り外し可能としている。本実施形態では、図3に示すように、主に、継手41、42を介して、配管31aから、配管32a及び仮置きの精密ろ過膜装置27を取り外す態様を例示する。
開閉弁33は、配管31aにおける前記分岐の位置と前記合流の位置との間に設けられており、配管31a内に対する通水と遮断(非通水)とを切り換える。また、配管32a上には、仮置きの精密ろ過膜装置27の前後に一対の開閉弁(第2の開閉弁)34、35がそれぞれ設けられている。開閉弁34、35は、配管32a内に対する通水と遮断(非通水)とを切り換える。
したがって、図2に示すように、例えば、精密ろ過膜装置27が設置されている状態で、流路31から一旦分岐し分岐流路32及び精密ろ過膜装置27を経て流路31の下流側で合流する経路で送水する場合には、開閉弁33が閉じられる一方で、開閉弁34、35が開かれる。また、図3に示すように、超純水製造装置10から精密ろ過膜装置27が分離(撤去)されている状態や、図2に示すように、精密ろ過膜装置27が設置されている状態を含めて、分岐流路32及び精密ろ過膜装置27を経由させない経路で流路31に対して送水する場合には、開閉弁33が開かれる一方で、開閉弁34、35が閉じられる。
次に、本実施形態に係る超純水製造装置10の立ち上げ方法(超純水製造装置10による超純水の製造方法)を、図1~図3に加え、図4に示すフローチャートに基づき説明する。超純水製造装置10の立ち上げに際して、まず、ポリッシャ26、限外ろ過膜装置28、流路31(配管31a)などの組み付けに加え、フィルタ着脱機構30を介して、図2、図4に示すように、超純水製造装置10本体に仮置きの精密ろ過膜装置27を設置(組み付け)する(S1)。
精密ろ過膜装置27の設置後には、配管31a上の開閉弁33を閉じる一方で、配管32a(分岐流路32)上の開閉弁34、35を開く。精密ろ過膜装置27のこのような設置後に、例えば前処理部12の前段から、分岐流路32及び循環ライン31bを含む流路31に沿って送水を開始することにより、図1、図2、図4に示すように、前処理部12、一次純水製造部14内の各装置、上記した流路31、ポリッシャ26、限外ろ過膜装置28などを含む水処理系15を洗浄する(S2)。この際、超純水製造装置10内の例えば配管類から脱離した金属粒子や、水処理系15に混入した砂などが、精密ろ過膜装置27によって捕捉される。
前述した洗浄において、水処理系15を洗浄するための送水用の水(洗浄水)は、一次純水がよい。また、このような洗浄は、当該洗浄の開始に伴い、ユースポイント20の位置を通過した洗浄のための水(洗浄水)が、少なくとも、循環ライン31bを一巡して前記ユースポイント20の位置へ戻る所定の期間以上実施される。
前記洗浄の開始に伴い、循環ライン31b内の水量と流量から計算される循環回数は、0.5~2200回が好ましく、1~1000回がより好ましく、40~500回がさらに好ましい。また、通水時間は、0.25時間~1000時間が好ましく、0.5時間~720時間がより好ましく、24時間~170時間がさらに好ましい。なお、異物は循環系の前段側に多く含まれているため、循環回数が0.5回でも効果は得られるが、1回を超えると効果は大きくなる。
循環回数や通水時間が少ない場合、精密ろ過膜で異物を十分補足できないため、立ち上げ時間の短縮効果が得られなくなる。一方、循環回数や通水時間が多い場合、精密ろ過膜に捕捉された異物が例えば粉砕されて後段に流出するため、立ち上げ時間の短縮効果が得られなくなる。なお、敷設された配管の長さや口径、分岐の数などによって最も適した条件は異なってくるのが、上記範囲のなかで適宜条件を選定して洗浄を実施する。
ここで、所定の期間は、例えば一週間などであってもよい。また、洗浄中については、前処理部12、一次純水製造部14及び二次純水製造部18内の各装置は、稼働状態とされる。前述したような洗浄により、超純水製造装置10内の例えば配管類から脱離した金属粒子などが精密ろ過膜装置27によって捕捉される。
洗浄の開始から所定の期間経過後に(S3のYES)、金属粒子などを捕捉した精密ろ過膜装置27を超純水製造装置10から撤去(分離)する(S4)。具体的には、送水を停止した後、配管32a(分岐流路32)上の開閉弁34、35を閉じる。さらに、図3に示すように、継手41、42を介して、配管32aと共に仮置きの精密ろ過膜装置27の取り外しを行う。
精密ろ過膜装置27を撤去した後、開閉弁33を開くとともに、前処理部12、一次純水製造部14及び二次純水製造部18内の各装置を稼働状態にし、さらに循環ライン31bを含む流路31に沿った送水(前処理部12への原水の供給)を開始して、水処理系15による水処理を実施する(S5)。なお、撤去するステップ(S4)と水処理を実施するステップ(S5)との操作の間、送水を停止せずに洗浄を行うことも可能である。その場合、開閉弁33を開き、同時に、もしくは、しかる後、開閉弁34、35を閉じる。そして、精密ろ過膜装置27の取り外しを行えばよい。この水処理は、先に例示した所期の製造スペック内に収まる超純水が得られる(超純水の水質がスペックインする)まで、継続される(S6)。この際、二次純水(超純水)中の粒子の粒径が製造スペック内であるか否かについては、微粒子計29によって計測される。この後、製造スペック内に収まる超純水が得られた場合(S6のYES)、超純水製造装置10の立ち上げが完了となる(S7)。
ここで、本実施形態の超純水製造装置10の立ち上げ方法では、限外ろ過膜装置28の前段(直前)に精密ろ過膜装置27を設置した状態で水処理系15内の洗浄を開始し、所定の期間経過後に、例えば金属粒子や砂などを捕捉した精密ろ過膜装置27を、超純水製造装置10から撤去(分離)したうえで、水処理を実施するので、水処理系15内から上記した金属粒子や砂などを取り去ることができる。したがって、本実施形態の超純水製造装置10の立ち上げ方法によれば、水処理系15内に存在し得る例えば砂や金属粒子の成分の溶出などが続き、超純水の水質が低下したままの状態になることなどを回避できる。すなわち、精密ろ過膜装置27の撤去後の水処理では、所期の製造スペック内に収まる超純水が迅速に得られ、これにより、超純水製造装置10の立ち上げ期間を短縮することができる。
なお、本操作のいずれかの段階で、過酸化水素等による二次純水製造部18内の殺菌操作を行うことが可能である。この場合、ポリッシャ26、及び/もしくは、限外ろ過膜装置28をバイパスするライン(図示していない)を用いて、ポリッシャ26、及び/もしくは、限外ろ過膜装置28を系(水処理系15)から外し、二次純水製造部18のいずれか、例えば、タンク16、もしくはポンプ22の吸入側に設けられた分岐バルブを用いて、系内に過酸化水素を添加する。しかる後、所定時間循環を行なう。十分な殺菌処理が行われた後、過酸化水素水をいずれかの場所から排水する。系内の過酸化水素がなくなった後、ポリッシャ26及び/もしくは、限外ろ過膜装置28のバイパスを行うことを停止する。
また、本発明の超純水製造装置の立ち上げ方法において、イオン交換樹脂をポリッシャ26本体内に充填していない状態でポリッシャ26を含めた水処理系15の洗浄を行い、いずれかの段階で洗浄操作を止めてポリッシャ26本体内にイオン交換樹脂を充填するようにしてもよい。
さらに、以上の操作は、ユースポイント20を含む循環ライン31bを適用して説明したが、図5に示すように、ユースポイント20をバイパスした循環ライン31cを用いることも可能である。その場合には、いずれかの段階で、循環ライン内にユースポイント20を含ませる操作をすることになる。なお、より立ち上がりの時間を短縮するためには、ユースポイント20を含んだ循環ライン31bでの立ち上げ方法を選択することが好ましい。
また、サークルポンプ22による給水を補足するために、図5に示すように、ポリッシャ26と継手36との間にブースタポンプ43を設けてもよい。このようなブースタポンプ43は、図2、図3に例示した二次純水製造部や、後述する図6に示す二次純水製造部に、追加することも可能である。
一方、超純水製造装置10の装置構成に対して、上述したような仮置きのフィルタ装置(精密ろ過膜装置27)を備えていない超純水製造装置を用い、洗浄水による洗浄を行ったうえで、水処理を実施した場合、このような洗浄及び水処理を例えば4カ月の期間、継続したとしても、製造スペック内に収まる超純水が得られないことが検証されている。この場合、限外ろ過膜装置28内の中空糸型モジュールに金属粉や砂などが捕捉されたままの状態となっており、捕捉された異物が時間とともに粉砕され後段に流出することが原因で製造スペック内に収まらなかったのである。そこで、限外ろ過膜装置28内の全ての中空糸型モジュールを新品と交換して再度の水処理を実施したことで、ようやく製造スペック内に収まる超純水が得られた。
また、超純水製造装置10と同じ装置構成の超純水製造装置を用い、精密ろ過膜装置27を取り付けた状態のまま、洗浄水による洗浄、及び水処理も実施した場合、このような洗浄及び水処理を例えば3カ月の期間、継続したとしても、製造スペック内に収まる超純水が得られないことが検証されている。この場合、精密ろ過膜装置27内に例えば目視可能なサイズの金属粉や砂などが捕捉されており、精密ろ過膜装置27を撤去した後、再度の水処理を実施したことで、ようやく製造スペック内に収まる超純水が得られた。
これに対して、本実施形態の超純水製造装置10の立ち上げ方法によれば、精密ろ過膜装置27を設置した状態で、過酸化水素を含む洗浄液を用いた洗浄を1週間行った後、超純水製造装置10から、例えば金属粒子や砂などを捕捉した精密ろ過膜装置27を、撤去したうえで、水処理を実施することで、直ちに、製造スペック内に収まる超純水が得られたことが検証されている。
既述したように、本実施形態の超純水製造装置10の立ち上げ方法(及びこの立ち上げ方法を適用可能な超純水製造装置10)によれば、仮置きのフィルタ装置(精密ろ過膜装置27)及びフィルタ着脱機構30を有効に活用した洗浄及び水処理を実施することで、超純水製造装置10の立ち上げ期間の短縮化を図ることができる。なお、図3に示したフィルタ着脱機構30に代えて、図6に示すように、フィルタ着脱機構40を超純水製造装置及びその立ち上げ方法に適用することも可能である。このフィルタ着脱機構40の場合、開閉弁34、35を閉じた後、継手36、37を介して、開閉弁34、35と共に、配管32(分岐流路32a)及び精密ろ過膜装置27が撤去(分離)される。開閉弁34、35及び配管32aと共に仮置きの精密ろ過膜装置27を、超純水製造装置10から撤去した後には、継手36、37における配管32aを取り付けていた部位に、例えば閉塞プラグ(止め栓)38、39などが取り付けられることになる。
以上、本発明を実施の形態により具体的に説明したが、本発明は、この実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、実施形態に示される全構成要素からいくつかの構成要素を削除してもよいし、上記実施形態に開示した複数の構成要素を適宜組み合わせることも可能である。
10…超純水製造装置、12…前処理部、14…一次純水製造部、15…水処理系、16…タンク(TK)、18…二次純水製造部、20…ユースポイント(POU)、22…サークルポンプ、23…熱交換器(HEX)、24…紫外線酸化装置(TOC-UV)、25…膜脱気装置(MDG)、26…ポリッシャ、27…精密ろ過膜装置(MF)、28…限外ろ過膜装置(UF)、29…微粒子計、30,40…フィルタ着脱機構、31…流路、31a…配管(第1の配管)、31b,31c…循環ライン、32…分岐流路、32a…配管(第2の配管)、33…開閉弁(第1の開閉弁)、34,35……開閉弁(第2の開閉弁)、36,37,41,42…継手、38,39…閉塞プラグ。

Claims (12)

  1. 被処理水を流すための流路と、前記流路上に設けられ、前記被処理水をユースポイントの前段で水処理する限外ろ過膜装置と、を少なくとも含む水処理系を備えた超純水製造装置の立ち上げ方法であって、
    前記流路上における前記限外ろ過膜装置の前段に、仮置きのフィルタ装置と、前記流路から一旦分岐すると共に前記仮置きのフィルタ装置を経由しつつ前記流路の下流側で合流する分岐流路と、を設置する工程と、
    前記仮置きのフィルタ装置の設置後に、前記流路に沿って純水の送水を開始することにより前記水処理系を洗浄する工程と、
    前記純水の送水による洗浄の開始から所定の期間経過後に、前記仮置きのフィルタ装置と前記分岐流路とを前記超純水製造装置から分離する工程と、
    を有する超純水製造装置の立ち上げ方法。
  2. 前記洗浄は、殺菌処理を含む、
    請求項1に記載の超純水製造装置の立ち上げ方法。
  3. 前記分離する工程の後、前記流路に沿って前記被処理水の送水を開始し所期の製造スペック内に収まる超純水が得られるまで水処理を行う工程、
    をさらに有する請求項1又は2に記載の超純水製造装置の立ち上げ方法。
  4. 前記超純水製造装置は、前記分岐流路上における前記仮置きのフィルタ装置の上流側にタンクをさらに備え、
    前記流路は、前記限外ろ過膜装置を通過した後、前記タンクに戻る循環ラインを有し、
    前記洗浄において、前記送水された前記純水を前記循環ラインに循環させる、
    請求項1から3までのいずれか1項に記載の超純水製造装置の立ち上げ方法。
  5. 前記所定の期間は、前記洗浄の開始に伴い、前記循環ライン内の水量と流量から計算される循環回数が、0.5~2200回となる期間である、
    請求項4に記載の超純水製造装置の立ち上げ方法。
  6. 前記仮置きのフィルタ装置は、0.2μm以上の粒子を分離するろ過精度を有する、
    請求項1から5までのいずれか1項に記載の超純水製造装置の立ち上げ方法。
  7. 前記限外ろ過膜装置は、複数の中空糸型モジュールを有し、
    前記中空糸型モジュールの1つあたりの通水流量は、10m3/h以上である、
    請求項1から6までのいずれか1項に記載の超純水製造装置の立ち上げ方法。
  8. 所期の製造スペック内に収まる超純水は、粒子径50nm以上の粒子の数が200個/L以下である、
    請求項1から7までのいずれか1項に記載の超純水製造装置の立ち上げ方法。
  9. 被処理水を流すための流路と、
    前記流路上に設けられ、前記被処理水をユースポイントの前段で水処理する限外ろ過膜装置と、
    前記流路上における前記限外ろ過膜装置の前段に設けられ、前記流路に対して仮置きのフィルタ装置の着脱を可能にするフィルタ着脱機構と、を備え、
    前記流路は、第1の配管で構成され、
    前記フィルタ着脱機構は、
    前記流路から一旦分岐すると共に前記仮置きのフィルタ装置を経由しつつ前記流路の下流側で合流する分岐流路を構成する第2の配管を、前記第1の配管に対して、取り外し可能に接続する複数の継手と、
    前記第1の配管における前記分岐の位置と前記合流の位置との間に設けられた第1の開閉弁と、
    を備える超純水製造装置。
  10. 前記仮置きのフィルタ装置は、精密ろ過膜装置である、
    請求項9に記載の超純水製造装置。
  11. 前記第2の配管上には、前記仮置きのフィルタ装置の前後に一対の第2の開閉弁がそれぞれ設けられている、
    請求項に記載の超純水製造装置。
  12. 前記流路上における前記仮置きのフィルタ装置の上流側にタンクをさらに備え、
    前記流路は、前記限外ろ過膜装置を通過した後、前記タンクに戻る循環ラインを有する、請求項9から11までのいずれか1項に記載の超純水製造装置。
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