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JP7013274B2 - 液体吐出ヘッドの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、液体吐出ヘッドの製造方法に関するものである。
液体吐出ヘッドはインクジェット記録装置等の液体吐出装置に用いられ、流路形成部材と基板とを有する。流路形成部材は基板の上に設けられており、液体の流路や吐出口を形成している。基板には液体供給口が形成されており、液体供給口から流路に供給された液体は、吐出口から吐出されて紙等の記録媒体に着弾する。
特許文献1には、第1及び第2のネガ型の感光性樹脂を用いて基板上に流路形成部材を形成する、液体吐出ヘッドの製造方法が開示されている。この方法では、基板上に第1の感光性樹脂層を形成した後に露光を行い、第1の感光性樹脂層に液体流路のパターンを潜像させる。次いで、その上に第2の感光性樹脂層を積層した後に露光を行い、第2の感光性樹脂層に吐出口のパターンを潜像させる。そして、これらの感光性樹脂層を加熱した後に、一括現像することによって、流路形成部材を得る。この加熱は、露光後ベークもしくはPEB(Post Exposure Bake)と呼ばれ、この加熱により露光後の潜像パターンを安定させることができる。
特開2015-104876号公報
本発明者らの検討によれば、上記方法において、第1の感光性樹脂層の未露光部分がPEB時の加熱により軟化及び流動し、その流動に追従する形で第2の感光性樹脂層が変形することがあった。その結果、流路形成部材の表面(基板とは反対側の面)の平坦性が低下することがあった。
従って、本発明は、流路形成部材の平坦性低下を抑制し、良好な形状の液体吐出ヘッドの製造に資することのできる液体吐出ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様により、
第1の面に液体吐出エネルギー発生素子を備える基板と、液体吐出口を有し前記第1の面との間に液体流路を形成する流路形成部材と、を備える液体吐出ヘッドの製造方法であって、
(1)前記第1の面に、ネガ型の第1の感光性樹脂層を設ける工程と、
(2)前記第1の感光性樹脂層に、前記液体流路のパターンの潜像を露光により形成する工程と、
(3)前記第1の感光性樹脂層の上に、ネガ型の第2の感光性樹脂層を設ける工程と、
(4)前記第2の感光性樹脂層に、前記液体吐出口のパターンの潜像を露光により形成する工程と、
(5)前記第1及び第2の感光性樹脂層を、前記第1の感光性樹脂層の軟化温度未満の温度で加熱して、前記第2の感光性樹脂層の非潜像部のビッカース硬さを、工程(6)後の前記非潜像部のビッカース硬さの80%以上にする工程と、
(6)前記第1及び第2の感光性樹脂層を前記第1の感光性樹脂層の軟化温度以上の温度で加熱する工程と、
をこの順に有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法が提供される。
本発明によれば、流路形成部材の平坦性低下を抑制し、良好な形状の液体吐出ヘッドの製造に資することのできる液体吐出ヘッドの製造方法が提供される。
液体吐出ヘッドの一例を示す斜視模式図である。 本発明の一実施形態に係る液体吐出ヘッドの製造方法を説明するための断面模式図である。 PEBにおける昇温方法の例を示す概念図である。 本発明の別の実施形態に係る液体吐出ヘッドの製造方法を説明するための断面模式図である。 比較例で得られた液体吐出ヘッドを示す断面模式図である。
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しつつ説明するが、本発明はこれによって限定されるものではない。
<液体吐出ヘッド>
図1に、本発明によって製造することのできる液体吐出ヘッドの一例を示す。液体吐出ヘッドは、基板1と、流路形成部材21とを有する。基板1は、例えばシリコンで形成される。以下、基板1の表面(図1における上面)を第1の面22と呼ぶことがある。基板1の第1の面22には、液体吐出エネルギー発生素子2が形成されている。液体吐出エネルギー発生素子2の例としては発熱抵抗体や圧電素子が挙げられる。液体吐出エネルギー発生素子2は、第1の面22と接するように形成されていてもよいし、第1の面22に対して一部が浮いた状態で形成されていてもよい。また、第1の面22にはバンプ23が形成されており、バンプ23を介して基板外部から供給された電力によって液体吐出エネルギー発生素子2が駆動される。基板1には、第1の面22からその裏面である第2の面24まで貫通する液体供給口3が形成されている。液体供給口3は、流路形成部材21の形成前、形成途中、形成後のどの段階で形成してもよい。流路形成部材21は、第1の面22との間に液体流路を形成する。液体供給口3から供給された液体は、駆動された液体吐出エネルギー発生素子2によってエネルギーが与えられ、流路形成部材21に形成された液体吐出口25から吐出される。
基板1の第1の面22と第2の面24は、平坦であっても凹凸を有していてもよい。例えば、第1の面22は、その面上に配線を設けることまたは機能層を局所的に配置することに起因して、凹凸を有する場合がある。このとき、凹凸が大きいほど、後の工程で流路形成部材を形成する際に平坦性が低下しやすくなる。本発明はこのような場合に特に有効であり、例えば第一の面が1μmを超える凹凸を有している場合、本発明の効果がより顕著に得られる。
基板1は、第1の面22に開口する穴を有していてもよい。穴は、液体供給口3のような貫通口であってもよい。あるいは穴は、第1の面22に開口するが第二の面24には開口しない有底穴であってもよい。
<液体吐出ヘッドの製造方法>
液体吐出ヘッドの製造方法は、以下の工程をこの順に有する。
(1)基板の第1の面に、ネガ型の第1の感光性樹脂層(以下、「第1樹脂層」と呼ぶことがある)を設ける工程。
(2)第1樹脂層に、液体流路のパターンの潜像を露光により形成する工程。
(3)第1樹脂層の上に、ネガ型の第2の感光性樹脂層(以下、「第2樹脂層」と呼ぶことがある)を設ける工程。
(4)第2樹脂層に、液体吐出口のパターンの潜像を露光により形成する工程。
(5)第1樹脂層及び第2樹脂層を、第1樹脂層の軟化温度(以下、「第1軟化温度」と呼ぶことがある)未満の温度で加熱して、第2樹脂層の非潜像部のビッカース硬さを、工程(6)後の前記非潜像部のビッカース硬さの80%以上にする工程。なお、以下、第2樹脂層の軟化温度を「第2軟化温度」と呼ぶことがある。
(6)第1樹脂層及び第2樹脂層を第1軟化温度以上の温度で加熱する工程。
なお、流路形成部材は、液体流路の側壁を構成する流路壁と、液体吐出口が形成された吐出口形成部材と、を含むことができる。吐出口形成部材は、典型的には、液体吐出口が形成された板状である。第1樹脂層を用いて流路壁を形成し、第2樹脂層を用いて吐出口形成部材を形成することができる。
また、第1及び第2軟化温度は、いずれも露光前の樹脂層の軟化温度を意味する。
以下、本発明の一形態に係る液体吐出ヘッドの製造方法を説明する。図2は、図1に示す液体吐出ヘッドのA-A’断面に対応した断面模式図である。図2では、流路形成部材21の形成前に液体供給口3(貫通口)を形成し、第1樹脂層6の形成をドライフィルム5の転写により行う場合を示している。
・基板
まず、図2(a)に示すように、第1の面22に液体吐出エネルギー発生素子2を有する基板1を用意する。液体吐出エネルギー発生素子2は、例えばSiNまたはSiOで形成される保護膜(不図示)で覆われている。
基板1には、液体供給口3が形成されている。液体供給口3は、基板1の第1の面22及び第2の面24に開口する貫通口である。液体供給口3の形成方法としては、レーザー加工、反応性イオンエッチング、サンドブラスト、ウェットエッチングを例示できる。流路形成部材21の形成途中や形成後に液体供給口3を形成する場合も、前記方法を用いることができる。
・ドライフィルム(第1樹脂層用)
次に、図2(b)に示すように、支持体4で支持されたドライフィルム5を用意する。支持体4としては、樹脂フィルム、ガラス、シリコンを例示できる。支持体4は、後で除去することを考えると、剥離により容易に除去可能な樹脂フィルムが好ましい。樹脂フィルムの材料としてはPET(ポリエチレンテレフタレート)やポリイミド、ポリアミド、ポリアラミド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、シクロオレフィンポリマーを例示できる。
ドライフィルム5は、ネガ型の感光性樹脂を用いて形成する。このような樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂を例示できる。エポキシ樹脂としてはビスフェノールA型やクレゾールノボラック型や脂環式のエポキシ樹脂、アクリル樹脂としてはポリメチルメタクリレート、ウレタン樹脂としてはポリウレタンを例示できる。これらの樹脂を溶解する溶媒としては、PGMEA(プロピレングリコールメチルエーテルアセテート)、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、キシレンを例示できる。感光性樹脂には、適宜光酸発生剤を添加することができる。
感光性樹脂の溶液を乾燥すること、例えばこれらを合成した樹脂溶液を乾燥することで、ドライフィルムを得ることができる。得られたドライフィルムは、感光性樹脂の種類や乾燥後に残存している溶媒の比率によって軟化温度が異なる。
軟化温度は、次の方法で求めることができる。縦横10mm角(一辺が10mmの正方形)の開口部を有する基板を用意し、開口部は充填剤を用いて塞いでおく(非開口部の基板と開口部の充填剤とが平面を形成するように)。基板にはSUS(ステンレス鋼)やSiなど熱伝導性の良いものを用いる。基板上に開口部を覆うようにドライフィルムを形成し、その後充填剤を取り除く。このとき、ドライフィルムの厚みは5μm~30μmとする。この状態で基板とドライフィルムを一定温度で60秒間加熱し、開口部上と非開口部上のドライフィルム表面の段差を測定する。段差の測定には接触式の段差計や非接触式の光学式測定機などを用いることができる。ここでいう段差は、開口部におけるドライフィルム落ち込みが最も大きい部分と、非開口部におけるドライフィルム落ち込みが無い部分のとの間の、ドライフィルム表面の高さの差」を意味する。測定温度を変化させて同様の測定を行い、段差が形成時のドライフィルム厚みの1%を超える最低温度を、軟化温度とする。なお、この方法は、第1樹脂層用に限らず第2樹脂層用のドライフィルムの軟化温度を求めるために利用できる。またこの方法は、ドライフィルムの軟化温度に限らず、スピンコートやスリットコートなどの塗布法によって形成した感光性樹脂層の軟化温度を求めるために利用できる。
感光性樹脂としてポジ型とネガ型があるが、最終的に非潜像部を流路形成部材として残すことから、基板との密着性や部材自体の硬度をより高くしやすいネガ型感光性樹脂を使用する。
感光性樹脂を、適宜溶媒に溶解して支持体上にスピンコートやスリットコート等で塗布し、乾燥することで支持体上にドライフィルム5を形成することができる。ドライフィルム5の膜厚は特に限定されないが、例えば第1樹脂層の厚さが3μm以上、50μm以下となるように決めることができる。
ドライフィルム5を形成する感光性樹脂の軟化温度、したがって第1軟化温度は、50℃以上であることが好ましい。これにより、PEBを行う際に、第1樹脂層6が軟化及び流動することによる平坦性低下を抑制することが容易となる。
・第1樹脂層の形成
次に図2(c)に示すように、基板1の第1の面22に対して、支持体4で支持されたドライフィルム5を転写し、基板1上に流路形成部材21の一部(例えば流路壁)を形成するための第1樹脂層6を形成する。第1樹脂層6は、基板1の第1の面22の表面に、平坦性良く形成されていることが好ましい。例えば第1樹脂層6の表面の凹凸が5μm以下で形成されるように、転写時の条件(例えば温度及び圧力)を設定することができる。
第1樹脂層6の表面の凹凸は、接触式の段差計や非接触式の光学式測定機を用い、第1樹脂層が形成されている全領域にわたって段差を測定することで得られる(測定された段差のうちの最大値を、凹凸の値として採用する)。基板面に配線や機能層などが設けられている場合など、特定の箇所が顕著な凹凸を有している場合、測定の簡便性のため、代表して該当箇所だけを測定することもできる。
転写時の温度に関して、第1軟化温度よりも高温で転写を行うことで樹脂を軟化させ、基板1の第1の面22の表面を、第1樹脂層6によって、より良好に(平坦性良く)被覆できる。
なお、第1の面22上への第1樹脂層6の形成は、ドライフィルム転写法に替えて、スピンコートやスリットコートなどの塗布法で行うこともできる。これらの方法を用いる場合でも、前記と同様に、第1軟化温度は50℃以上であることが好ましい。また第1樹脂層6は、基板1の第1の面22の表面に、平坦性良く形成されていることが好ましい。平坦性良く形成するために、感光性樹脂に溶媒を加えた樹脂溶液の粘度を高くすることができる。粘度が高いと、塗布された樹脂溶液が基板面の凹凸に追従しにくく、その結果、塗布膜の平坦性をより良くすることができる。
スピンコートやスリットコートにより第1の面22上に第1樹脂層6を形成する場合も、液体供給口3は第1樹脂層6の形成前、形成途中、形成後のどの段階でも形成することができる。ただし第1樹脂層6の形成前に液体供給口3を形成する場合、液体供給口3内に樹脂が入り込むことを防止するため、液体供給口の開口の封止や液体供給口内部の穴埋め等の方法を実施することが好ましい。
・第1樹脂層の露光
次に図2(d)に示すように、第1樹脂層6に、液体流路のパターン7の潜像を露光により形成する。第1樹脂層6の非潜像部によって、流路形成部材21の流路壁を形成することができる。第1樹脂層6がネガ型感光性樹脂層なので、パターン7は非露光部である。
・第2樹脂層の形成
次に図2(e)に示すように、流路形成部材21の一部(例えば吐出口形成部材)を形成するために、第1樹脂層6の上に第2樹脂層8を形成する。第2樹脂層8の形成方法としてスピンコート、スリットコート、あるいはドライフィルム転写法を例示できる。これらの方法のうち、第2樹脂層8の表面平坦性の観点から、エッジビードを回避できるドライフィルム転写法を用いることが好ましい。第2樹脂層に用いる感光性樹脂としては、第1樹脂層と同様の理由からネガ型感光性樹脂を使用する。
ドライフィルム転写法の場合、下層である第1樹脂層6の表面を良好に被覆するため、この転写時の温度は第2軟化温度よりも高温に設定することが好ましい。これにより、第2樹脂層8を軟化させながら転写することができる。また、第1樹脂層6の軟化及び流動の防止の観点から、この転写時の温度は第1軟化温度よりも低いことが好ましい。すなわち、この転写時の温度は第2軟化温度よりも高温且つ、第1軟化温度よりも低温に設定することが好ましい。こうすることで、第1樹脂層6の平坦性を維持しつつ、第1樹脂層6上に第2樹脂層8を良好に被覆させることが容易にできる。なお、この場合、第2軟化温度が、第1軟化温度よりも低いことになる。
吐出性能の観点から第2樹脂層8は平坦性良く形成されていることが好ましく、例えば転写された第2樹脂層8の表面の凹凸が5μm以下となるように、この転写時の条件(例えば温度及び圧力)を設定することができる。第2樹脂層8の表面の凹凸は、第1樹脂層の場合と同様にして測定することができる。
第2樹脂層8の膜厚は特に限定されないが、例えば3μm以上、50μm以下とすることができる。
なお、特には前述のように第2樹脂層8をドライフィルム転写法で形成する場合、温度の制御性の観点から、第1軟化温度と第2軟化温度の温度差が10℃以上あることが好ましい。また、第2軟化温度が、第1軟化温度よりも低いことが好ましい。したがって、第1軟化温度に対して、第2軟化温度が10℃以上低いことが好ましい。例えば、第1軟化温度が50℃以上の第1樹脂層と、第2軟化温度が40℃以下である第2樹脂層を用いることができる。
・第2樹脂層の露光
次に図2(f)に示すように、第2樹脂層8に、液体吐出口のパターン9の潜像を露光により形成する。第2樹脂層8の非潜像部によって、流路形成部材21の吐出口形成部材を形成することができる。第2樹脂層8がネガ型感光性樹脂層であれば、パターン9は非露光部である。
・露光後ベーク
次に第1樹脂層6及び第2樹脂層8に対して加熱すなわちPEBを行う。PEBは、感光性樹脂を露光した際に起きる酸発生反応を加速させ、微細なパターンを良好に形成するために有効である。このPEBにより、流路形成部材21を構成するための第1樹脂層6及び第2樹脂層8の露光部のパターンが安定する。
第1及び第2樹脂層にネガ型の感光性樹脂を用いた場合、露光後にPEBを行うことで酸を触媒にした架橋反応が起こり、現像時に溶解しないネガ型パターンが得られる。このネガ型パターンは、PEBによる架橋反応が進むほどパターンが安定するとともにその硬度が上がる。PEBによる架橋反応を完了させ、最終到達硬度にするために必要な温度及び時間は感光性樹脂によって異なるが、必要温度が感光性樹脂の軟化温度よりも高温であった場合、未露光部の感光性樹脂が軟化し、その形状が変化する懸念がある。流路形成部材21は、第1樹脂層6由来の部分と第2樹脂層8由来の部分により構成される。これらの層は液体流路を形成するために互いに異なる露光領域を持っている。第1樹脂層6は、基板1の第1の面22と直接接触している。そのため、PEB時に用いる温度が第1軟化温度よりも高温の場合、第1樹脂層6の未露光部が軟化して流動すること、特には凹凸部や貫通口内に流動することがある。第1樹脂層6の未露光部上に積層された第2樹脂層8には露光部と未露光部が存在し、PEBの間に架橋反応によって露光部の硬化が進行する。しかし、この硬化が十分進んでいない段階で、第1樹脂層6の未露光部が流動した場合、それに追従して第2樹脂層8が変形する懸念がある。
第2樹脂層8が軟化しても、その下に位置する第1樹脂層6が軟化及び流動しなければ、第2樹脂層8は変形を起こさない。また第1樹脂層6が軟化及び流動しても、第2樹脂層8自身の硬度が十分高ければ、第2樹脂層8は変形しない。そのため、第1軟化温度未満での加熱により第2樹脂層8が十分な硬度になっていれば、その後は、第2樹脂層8の変形を起こすことなく第2樹脂層8が最終到達硬度になるまで加熱を行うことができる。したがって、第1軟化温度未満の温度領域でPEBを行って第2樹脂層8の硬化を進め(工程(5))、その後、第1軟化温度以上の温度領域でPEBを行う(工程(6))ことが有効である。以下、PEBを行う際の、第1軟化温度未満の温度領域を「STEP1温度領域」と呼び、第1軟化温度以上の温度領域を「STEP2温度領域」と呼ぶことがある。なお、工程(5)において、第2樹脂層8は軟化してもよいし、軟化しなくてもよい。
図3にPEBにおける昇温方法の例を概念的に示す。図3の横軸はPEB時間、縦軸はPEB温度である。図3に示した「高勾配昇温」の例では、第1軟化温度より高い温度(最終温度)まで高温度勾配で昇温(昇温速度は一定)し、その後、温度を当該温度に保つ。この場合、STEP1温度領域での加熱時間が短いため、第2樹脂層8は、その硬化進行が不十分なままSTEP2温度領域での加熱を経験する。したがって、第2樹脂層8の変形が起きる懸念がある。それに対し、「低勾配昇温」の例では当該温度まで加熱する際の昇温が遅く、第2樹脂層8はSTEP1温度領域での加熱を長時間経験する。そのため、第2樹脂層8は、その硬度が十分高まってからSTEP2温度領域での加熱を経験する。したがって、第2樹脂層8の変形を抑制することが容易である。
好ましくは、図3の「単段階昇温」の例に示すように、高温度勾配で昇温を行い、次いでSTEP1温度領域内における高温域で昇温を止めて一定温度にする(昇温を止める替わりに低温度勾配の昇温を行ってもよい)。次いで再び高温度勾配で昇温を行い、最終温度に到達した後に温度を一定に保つ。この例では、低勾配昇温の例に比べて、早期にSTEP1温度領域内における高温域で加熱することができるので、PEBにかかる時間を短縮することができる。ここでいうSTEP1温度領域内における高温域は、第1軟化温度から-10℃以内の範囲であることが好ましい。また、図3の「多段階昇温」の例に示すように、STEP1温度領域内で、必要に応じて、高温度勾配から温度一定(もしくは低温度勾配)にして高温度勾配に戻す操作を複数回行ってもよい。
STEP1温度領域でのPEB(工程(5))において、第2樹脂層8の非潜像部の硬度が最終到達硬度(工程(6)の後の当該非潜像部の硬度)の80%以上になるよう加熱を行う。こうすることで、STEP2温度領域における加熱(工程(6))時に第1樹脂層6が軟化したとしても、第2樹脂層8の変形を良好に抑制することができる。第2樹脂層8の最終到達硬度に対する工程(5)の後の硬度の比は、100%未満とすることができ、さらには90%以下とすることができる。
なお、硬度としては、インデンター等を用いて測定したビッカース硬さを用いる。JISZ2244に示されるように、正四角すいのダイヤモンド圧子を、測定物(第2樹脂層の非潜像部)の表面に押し込み、その試験力(F)を解除した後、表面に残ったくぼみの対角線長さを測定し、硬度を求める。試験温度は23℃±5℃とする。当該硬度が第1樹脂層の硬度の影響を受ける可能性がある場合、測定箇所は第1樹脂層の非潜像部の上で且つ第2樹脂層の非潜像部とする。
STEP1温度領域でのPEBを実施した後、第1樹脂層6及び第2樹脂層8を最終到達硬度まで硬化させるため、STEP2温度領域でのPEBを実施する(工程(6))。このとき、前段階すなわち工程(5)で第2樹脂層8の露光部の硬化が既に進行している。そのため、工程(6)では、第1樹脂層6の未露光部が軟化及び流動したとしても第2樹脂層8の変形を抑制しつつ、最終到達硬度まで硬化させるために必要な温度及び時間で加熱を行うことができる。STEP2温度領域でのPEBにおいても、温度勾配の切り替えを複数回行ってもよい。
PEBに用いる加熱方法の例として、基板の第2の面24をホットプレートに接触させる方法や、第1樹脂層及び第2樹脂層が形成された基板をオーブンに投入する方法が挙げられる。ほかにも第1樹脂層及び第2樹脂層が形成された基板を、第2樹脂層の側から、特にはハロゲンランプ等の非接触式の熱源を用いて、加熱する方法が挙げられる。流路形成部材21の平坦性を維持する観点から、第2樹脂層の側から基板を加熱する方法が好ましい。第2樹脂層側から加熱を行うことで、最表面の層である第2樹脂層8が、その下層である第1樹脂層6よりも先に加熱される。これにより第2樹脂層8の露光部の硬化が第1樹脂層6の未露光部の軟化及び流動よりも先に進行し、流路形成部材21の平坦性がより良好に維持される。
・現像
次に図2(h)に示すように、液体流路のパターン7及び液体吐出口のパターン9を現像する。これにより、液体流路10及び液体吐出口25を有する流路形成部材21を形成し、液体吐出ヘッドを得ることができる。このとき、必要に応じて基板をダイシングソー等によって切断分離して個々の液体吐出ヘッドにチップ化する。また、適宜、液体吐出エネルギー発生素子を駆動させる電気配線を行い、液体供給用のチップタンク部材を接合する。
上記液体吐出ヘッドの製造方法においては、流路形成部材の平坦性低下を防ぎつつ、PEB時の最高温度を、第1軟化温度以上かつ第2軟化温度以上とすることができる。
以下、図2及び図4を参照しつつ本発明をより具体的に説明する。図4は、図1の液体吐出ヘッドのA-A’断面に対応した断面模式図である。
<実施例1>
まず、図2(a)に示すように、第1の面22側にTaSiNからなる液体吐出エネルギー発生素子2を有する基板1を用意した。基板1としてはシリコンの(100)基板を用いた。基板1はSiNで形成された保護膜(不図示)を有していた。基板1には、液体供給口3が形成されていた。液体供給口3は基板1の第1の面22及び第2の面24に開口する貫通口であった。液体供給口3は、RIE(リアクティブイオンエッチング)方式にてボッシュプロセスで形成した。
次に、図2(b)に示すように、支持体4に支持されたドライフィルム5を用意した。支持体4には厚み100μmのPETフィルムを用い、そのドライフィルム形成面には離型処理を施した。ドライフィルム5形成用の塗液として、エポキシ樹脂(DIC(株)製、商品名;EPICLON N-695)及び光酸発生剤(サンアプロ(株)製、商品名;CPI-210S)をPGMEAに溶解させた溶液を用意した。この塗液を、支持体4のドライフィルム形成面上に塗布し、オーブンによって90℃で乾燥させることでドライフィルム5を形成した。ドライフィルム5の軟化温度(したがって第1樹脂層6の軟化温度)は55℃であった。
次に、図2(c)に示すように、基板1の第1の面22に対して、支持体4で支持されたドライフィルム5を60℃の温度条件で貼り合わせた。その後、支持体4を剥離して除去した。このようにして、ドライフィルムを支持体から基板に転写することにより、流路形成部材21の一部(流路壁)となる第1樹脂層6(ネガ型感光性樹脂層)を形成した。転写はロール式ラミネーターにて行った。転写後の第1樹脂層6の厚みは15.0μmであり、その表面の凹凸は白色干渉計にて測定したところ2.0μmであった。
次に、図2(d)に示すように、露光装置を用い、露光波長365nmの光を1000J/mの露光量で用いて第1樹脂層6に露光を行い、液体流路のパターン7を形成した。
次に、図2(e)に示すように、流路形成部材21の一部(吐出口形成部材)を形成するための第2樹脂層8を形成した。第2樹脂層8形成用の塗液として、エポキシ樹脂(三菱ケミカル(株)製、商品名;157S70)と光酸発生剤(サンアプロ(株)製、商品名;LW-S1)をPGMEAに溶解させた溶液を用意した。
この塗液を、第1樹脂層6の上にスピンコーターで塗布し、300rpmで30分間回転乾燥させることで(温度は室温)、第2樹脂層8(ネガ型感光性樹脂層)を形成した。第2樹脂層8の厚みは5.0μmであり、その表面の凹凸は白色干渉計にて測定したところ2.0μmであった。第2樹脂層8の軟化温度は40℃であった。
次に、図2(f)に示すように、露光装置を用い、露光波長365nmの光を10000J/mの露光量で用いて第2樹脂層8に露光を行い、液体吐出口のパターン9を形成した。
次に、基板の第2の面24をホットプレートに接触させ、50℃で5分(工程(5))、続けて90℃で5分(工程(6))のPEBを行った。基板の熱伝導性が高いため、昇温時間(室温から50℃までの昇温時間及び50℃から90℃までの昇温時間)は無視できるほど短時間であった。
このとき50℃で5分のPEBの後、第2樹脂層8の流路形成部材21になる部分(非潜像部)の硬度を測定したところ、41.5HV1であった。なお、硬度は、試験力9.8Nで測定したビッカース硬さである。また、90℃5分のPEBの後、第2樹脂層8の非潜像部の硬度を測定したところ、50.5HV1であり、表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ3.0μmであった。全ての例において、第2樹脂層8の非潜像部(露光部)のうち、第1樹脂層6の非潜像部(露光部)の上に位置する部分の硬度を測定した。
次に、図2(g)に示すように、PGMEAに浸すことで、液体流路のパターン7及び液体吐出口のパターン9の現像を行い、液体流路10及び液体吐出口25を形成し、流路形成部材21を得た。
最後に、完成した液体吐出ヘッドの流路形成部材21の表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ3.0μmであった。
<実施例2>
PEB条件を変更した以外は実施例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造し、各種測定を行った。
PEBにおいては、基板の第2の面24をホットプレートに接触させ、40℃で5分、50℃で5分、80℃で5分、90℃で5分と続けてPEBを行った。このとき50℃で5分のPEBの後、第2樹脂層8の非潜像部の硬度を測定したところ、45.0HV1であった。また、90℃で5分のPEBの後、第2樹脂層8の非潜像部の硬度を測定したところ、50.5HV1であり、表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ2.5μmであった。
完成した液体吐出ヘッドの流路形成部材21の表面の凹凸は2.5μmであった。
<実施例3>
実施例1と同様にして、基板1を用意した(図4(a))。また、実施例1と同様にドライフィルム5形成用の塗液を用意し、この塗液を支持体4のドライフィルム形成面上に塗布し、オーブンによって120℃で乾燥させることでドライフィルム5を形成した(図4(b))。ドライフィルム5の軟化温度は65℃であった。
次に、転写温度を70℃としたこと以外は実施例1と同様にして、ドライフィルムを支持体から基板に転写した(図4(c))。転写後の第1樹脂層6の厚みは15.0μmであり、その表面の凹凸は白色干渉計にて測定したところ2.5μmであった。
次に、実施例1と同様にして第1樹脂層6に露光を行い、液体流路のパターン7を形成した(図4(d))。
次に、図4(e)に示すように、支持体11に支持されたドライフィルム12を用意した。支持体11には厚み100μmのPETフィルムを用い、ドライフィルム形成面には離型処理を施した。ドライフィルム12形成用の塗液として、エポキシ樹脂(三菱ケミカル(株)製、商品名;157S70)と光酸発生剤(サンアプロ(株)製、商品名;LW-S1)をPGMEAに溶解させた溶液を用意した。この塗液を、支持体11のドライフィルム形成面上に塗布し、オーブンによって70℃で乾燥させることでドライフィルム12を形成した。ドライフィルム12の軟化温度(したがって第2樹脂層8の軟化温度)は38℃であった。
次に、図4(f)に示すように、第1樹脂層6に対して、支持体11で支持されたドライフィルム12を55℃の温度条件で貼り合わせた。その後、支持体11を剥離して除去した。このようにして、ドライフィルムを支持体から基板に転写することによ、流路形成部材21の一部(吐出口形成部材)を形成するための第2樹脂層8(ネガ型感光性樹脂層)を形成した。転写は、ロール式ラミネーターにて行った。転写後の第2樹脂層8の厚みは5.0μmであり、その表面の凹凸は白色干渉計にて測定したところ1.0μmであった。
次に、実施例1と同様にして第2樹脂層8に露光を行い、液体吐出口のパターン9を形成した(図4(g))。
次に、実施例1と同様にして、PEBを行った。このとき50℃で5分のPEBの後、第2樹脂層8の流路形成部材21になる部分(非潜像部)の硬度を測定したところ、43.0HV1であった。また、90℃5分のPEBの後、第2樹脂層8の非潜像部の硬度を測定したところ、50.5HV1であり、表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ2.0μmであった。
次に、実施例1と同様にして現像を行った(図4(h))。最後に、完成した液体吐出ヘッドの流路形成部材21の表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ2.0μmであった。
<実施例4>
PEB条件を変更した以外は実施例3と同様にして、液体吐出ヘッドを製造し、各種測定を行った。
PEBにおいては、第1樹脂層6及び第2樹脂層8が形成された基板1を、第2樹脂層8側から、ハロゲンランプを用いて加熱することにより、50℃で5分、続けて90℃で5分のPEBを行った。このとき50℃5で分のPEBの後、第2樹脂層8の非潜像部の硬度を測定したところ、41.5HV1であった。また、90℃で5分のPEBの後、第2樹脂層8の非潜像部の硬度を測定したところ、50.5HV1であり、表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ1.5μmであった。
完成した液体吐出ヘッドの流路形成部材21の表面の凹凸は1.5μmであった。
<比較例1>
実施例1と同様にして、基板1を用意した(図2(a))。また、実施例1と同様にして、ドライフィルム5を用意した(図2(b))。ただし、ドライフィルム5の軟化温度は60℃とした。
次に、転写温度を65℃としたこと以外は実施例1と同様にして、ドライフィルムを支持体から基板に転写した(図2(c))。転写後の第1樹脂層6の厚みは15.0μmであり、その表面の凹凸は白色干渉計にて測定したところ2.3μmであった。
次に、実施例1と同様にして第1樹脂層6に露光を行い、液体流路のパターン7を形成した(図2(d))。次に、実施例1と同様にして第2樹脂層8を形成した(図2(e))。第2樹脂層8の厚みは5.0μmであり、その表面の凹凸は白色干渉計にて測定したところ4.0μmであった。
次に、実施例1と同様にして第2樹脂層8に露光を行い、液体吐出口のパターン9を形成した(図2(f))。次に、基板の第2の面24をホットプレートに接触させ、90℃で5分のPEBを行った。このPEBの後、第2樹脂層8の非潜像部の硬度を測定したところ、50.5HV1であり、表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ15.5μmであった。
次に、実施例1と同様にして、現像を行った。最後に、完成した液体吐出ヘッドの流路形成部材21の表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ15.5μmであった。このとき、図5に模式的に示すように、第2樹脂層8の非潜像部のうち、液体流路パターン7(第1樹脂層6の潜像部)の上に位置していた部分が、落ち込んでいた。
<比較例2>
PEB条件を変更した以外は比較例1と同様にして、液体吐出ヘッドを製造し、各種測定を行った。
PEBにおいては、基板の第2の面24をホットプレートに接触させ、70℃で5分、続けて90℃で5分のPEBを行った。このとき70℃で5分のPEBの後、第2樹脂層8の非潜像部の硬度を測定したところ、47.5HV1であった。また、90℃で5分のPEBの後、第2樹脂層8の非潜像部の硬度を測定したところ、50.5HV1であり、表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ12.5μmであった。
完成した液体吐出ヘッドの表面の凹凸を白色干渉計にて測定したところ12.5μmであった。本例においても、比較例1と同様、第2樹脂層8の非潜像部のうち、液体流路パターン7の上に位置していた部分が、落ち込んでいた。
表1に各例の条件と測定結果をまとめた。
1:基板
2:液体吐出エネルギー発生素子
3:液体供給口
6:第1の感光性樹脂層
7:液体流路のパターン
8:第2の感光性樹脂層
9:液体吐出口のパターン
10:液体流路
22:第1の面
24:第2の面
25:液体吐出口
Figure 0007013274000001

Claims (9)

  1. 第1の面に液体吐出エネルギー発生素子を備える基板と、液体吐出口を有し前記第1の面との間に液体流路を形成する流路形成部材と、を備える液体吐出ヘッドの製造方法であって、
    (1)前記第1の面に、ネガ型の第1の感光性樹脂層を設ける工程と、
    (2)前記第1の感光性樹脂層に、前記液体流路のパターンの潜像を露光により形成する工程と、
    (3)前記第1の感光性樹脂層の上に、ネガ型の第2の感光性樹脂層を設ける工程と、
    (4)前記第2の感光性樹脂層に、前記液体吐出口のパターンの潜像を露光により形成する工程と、
    (5)前記第1及び第2の感光性樹脂層を、前記第1の感光性樹脂層の軟化温度未満の温度で加熱して、前記第2の感光性樹脂層の非潜像部のビッカース硬さを、工程(6)後の前記非潜像部のビッカース硬さの80%以上にする工程と、
    (6)前記第1及び第2の感光性樹脂層を前記第1の感光性樹脂層の軟化温度以上の温度で加熱する工程と、
    をこの順に有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
  2. 前記工程(5)及び(6)において、前記第1及び第2の感光性樹脂層が設けられた基板を、前記第2の感光性樹脂層の側から加熱する、
    請求項1に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  3. 前記第1の感光性樹脂層の軟化温度が50℃以上である、
    請求項1または2に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  4. 前記工程(3)において、支持体で支持されたドライフィルムを前記第1の感光性樹脂層の上に転写することにより、前記第2の感光性樹脂層を設ける、
    請求項1~3のいずれか一項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  5. 前記第1の感光性樹脂層の軟化温度より低い温度で、前記転写を行う、
    請求項4に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  6. 前記第1の感光性樹脂層の軟化温度に対して、前記第2の感光性樹脂層の軟化温度が10℃以上低い、
    請求項1~5のいずれか一項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  7. 前記第2の感光性樹脂層の軟化温度が40℃以下である、
    請求項6に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  8. 前記工程(5)よりも前の段階で、前記基板が、前記第1の面に開口する穴を有する、
    請求項1~7のいずれか一項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
  9. 前記工程(6)より後に、前記液体流路のパターンの潜像及び液体吐出口のパターンの潜像を現像する工程を有する
    請求項1~8のいずれか一項に記載の液体吐出ヘッドの製造方法。
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