JP7012578B2 - 新規化合物及び該化合物の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、新規の多官能エポキシ化合物及び多官能フェノール化合物、並びに該化合物の製造方法に関する。

従来、エポキシ化合物は、硬化剤、酸発生剤、カチオン重合開始剤等と組み合わせて得られる硬化物の電気特性や耐熱性、接着性等が優れるため、電子材料や光学材料として用いられている。

下記特許文献１～４には、各種多官能エポキシ化合物が開示されている。

特開２００８－０１９３５７号公報 特開２０１６－１４７９７３号公報 特許５７６１６００号公報 ＷＯ２０１１／００１７８８

本発明の目的は、新規な多官能エポキシ化合物及び多官能フェノール化合物、並びに該化合物の工業的に好ましく経済的な製造方法を提供することにある。

本発明者は、鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が得られることを知見し、本発明に到達した。

式中のＲ^１～Ｒ^９は、本明細書中に記載の通りである。

また、本発明は、上記一般式（Ｉ）で表される化合物を製造する中間体として下記一般式（ＩＩ）を提供するものである。

式中のＲ^１～Ｒ^９は、本明細書中に記載の通りである。

更に、上記一般式（Ｉ）及び上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の工業的に好ましく経済的な製造方法を提供するものである。すなわち、本発明は、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を用いて上記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される化合物を製造する方法を提供するものである。

式中のＲ^１～Ｒ^９は、本明細書中に記載の通りである。

また、本発明は、上記一般式（ＩＩ）で表される化合物を用いて上記一般式（Ｉ）で表される化合物を製造する方法を提供するものである。

本発明によれば、保存安定性に優れた多官能エポキシ化合物を提供することができる。また、該多官能エポキシ化合物を製造する中間体として有用な多官能フェノール化合物を提供することができる。本発明によれば、それらの新規な工業的に好ましく経済的な製造方法もまた提供される。とりわけ、高選択的且つ高収率の製造方法が提供される。

以下、本発明の化合物及び該化合物の製造方法について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。すなわち、本発明は以下の通りである。

〔１〕 下記一般式（Ｉ）で表される化合物。

式中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子であり；
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環含有基又は下記一般式（ａ）で表される置換基であり；
該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該アリールアルコキシ基及び該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、及びＲ^８とＲ^９が互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は、１以上の置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４の少なくとも１つが、下記一般式（ａ）で表される置換基であるか、又はＲ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、及びＲ^３とＲ^４の少なくとも１つの組み合わせが環を形成する場合には、その形成された環における水素原子の少なくとも１つが下記一般式（ａ）で表される置換基で置換されている。

式中、Ｘ^３は、酸素原子又は硫黄原子であり；＊は結合部分を表す。

〔２〕 下記一般式（ＩＩ）で表される化合物。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環含有基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該アリールアルコキシ基及び該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、及びＲ^８とＲ^９が互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は、１以上の置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４の少なくとも１つが水酸基若しくは下記一般式（ｂ）で表される置換基であるか、又はＲ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、及びＲ^３とＲ^４の少なくとも１つの組み合わせが環を形成する場合には、その形成された環における水素原子の少なくとも１つが水酸基若しくは下記一般式（ｂ）で表される置換基で置換されている。

式中、Ｙは、炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２～１０のアルキルカルボニル基を表し；該アルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該アルキル基、該アリールアルキル基又は該アルキルカルボニル基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；＊は結合部分を表す。

〔３〕 下記一般式（ＩＩ－Ａ）で表される、〔２〕に記載の化合物。

式中、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５Ａ、Ｒ^６Ａ、Ｒ^Ａ７、Ｒ^８Ａ及びＲ^９Ａは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基であり；
該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該アリールアルコキシ基及び該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^Ａ３、Ｒ^３ＡとＲ^Ａ４、Ｒ^Ａ５とＲ^６Ａ、Ｒ^６ＡとＲ^７Ａ、Ｒ^７ＡとＲ^８Ａ、及びＲ^８ＡとＲ^９Ａが互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は、１以上の置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ及びＲ^４Ａの少なくとも１つが水酸基であるか、又はＲ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ、及びＲ^３ＡとＲ^４Ａの少なくとも１つの組み合わせが環を形成する場合には、その形成された環における水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換されている。

〔４〕 下記一般式（ＩＩ－Ｂ）で表される、〔２〕に記載の化合物。

式中、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４Ｂ、Ｒ^５Ｂ、Ｒ^６Ｂ、Ｒ^７Ｂ、Ｒ^８Ｂ及びＲ^９Ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環含有基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該アリールアルコキシ基及び該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂ、Ｒ^６ＢとＲ^７Ｂ、Ｒ^７ＢとＲ^８Ｂ、及びＲ^８ＢとＲ^９Ｂが互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は１以上の置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ及びＲ^４Ｂの少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基であるか、又はＲ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、及びＲ^３ＢとＲ^４Ｂの少なくとも１つの組み合わせが環を形成する場合には、その形成された環における水素原子の少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基で置換されている。

式中、Ｙは、炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２～１０のアルキルカルボニル基を表し；該アルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該アルキル基、該アリールアルキル基又は該アルキルカルボニル基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；＊は結合部分を表す。

〔５〕 上記一般式（ＩＩ）で表される化合物と、エピクロロヒドリンとを反応させる工程を含む、上記一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。

〔６〕以下の工程（４）を含む、〔５〕に記載の製造方法。
工程（４）：上記一般式（ＩＩ－Ａ）の化合物と、エピクロロヒドリンとを反応させて、一般式（Ｉ）で表される化合物を製造する。

〔７〕 下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物と、フェノールとを反応させる工程を含む、上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、一般式（ＩＩ）のそれらと同じである。

〔８〕 以下の工程（１）～（３）を含む、〔７〕に記載の一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。
工程（１）：下記一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物を、塩基の存在下又は非存在下で、スルホニル化剤、アルキル化剤又はアシル化剤と反応させて、下記一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物を製造する。

式中、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５Ａ、Ｒ^６Ａ、Ｒ^Ａ７、Ｒ^８Ａ及びＲ^９Ａは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基であり；
該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該アリールアルコキシ基及び該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^Ａ３、Ｒ^３ＡとＲ^Ａ４、Ｒ^Ａ５とＲ^６Ａ、Ｒ^６ＡとＲ^７Ａ、Ｒ^７ＡとＲ^８Ａ、及びＲ^８ＡとＲ^９Ａが互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は、１以上の置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ及びＲ^４Ａの少なくとも１つが水酸基であるか、又はＲ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ、及びＲ^３ＡとＲ^４Ａの少なくとも１つの組み合わせが環を形成する場合には、その形成された環における水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換されている。

式中、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４Ｂ、Ｒ^５Ｂ、Ｒ^６Ｂ、Ｒ^７Ｂ、Ｒ^８Ｂ及びＲ^９Ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環含有基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該アリールアルコキシ基及び該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂ、Ｒ^６ＢとＲ^７Ｂ、Ｒ^７ＢとＲ^８Ｂ、及びＲ^８ＢとＲ^９Ｂが互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は１以上の置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ及びＲ^４Ｂの少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基であるか、又はＲ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、及びＲ^３ＢとＲ^４Ｂの少なくとも１つの組み合わせが環を形成する場合には、その形成された環における水素原子の少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基で置換されている。

式中、Ｙは、炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２～１０のアルキルカルボニル基を表し；該アルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該アルキル基、該アリールアルキル基又は該アルキルカルボニル基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；＊は結合部分を表す。
工程（２）：上記一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物を、酸性触媒の存在下で、フェノールと反応させて、上記一般式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物を製造する。
工程（３）：塩基又は酸の存在下で、上記一般式（ＩＩ－Ｂ）の化合物を反応させて、上記一般式（ＩＩ－Ａ）の化合物を製造する。

〔９〕 〔５〕～〔８〕のいずれかに記載の製造方法を含む、一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。

本明細書において用いられる用語及び記号について以下に説明する。

本明細書中、置換基と記号（例えば、Ｘ^１、Ｒ^１、Ｙ等）に言及するときの用語「本明細書中に記載の通り」及び類似の用語は、記号の全ての定義並びに全ての例、好ましい例、より好ましい例、更に好ましい例及び特に好ましい例を参照することにより解釈する。

本明細書中、以下の略語及び接頭語が使用されることがあり、それらの意味は以下の通りである。
Ｍｓ：メチルスルホニル（ＣＨ_３ＳＯ_２－）
Ｍｅ：メチル
Ｂｎ：ベンジル（Ｃ_６Ｈ_５ＣＨ_２－）
Ｐｉｖ：ピバロイル（（ＣＨ_３）_３Ｃ－（Ｃ＝Ｏ）－）
ｎ－：ノルマル
ｓ－及びｓｅｃ－：セカンダリー
ｉ－及びｉｓｏ－：イソ
ｔ－及びｔｅｒｔ－：ターシャリー
ｃ－及びｃｙｃ－：シクロ
ｏ－：オルソ
ｍ－：メタ
ｐ－：パラ

本明細書中、「アルキル」のような一般的用語は、ｎ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル及びシクロブチルのような直鎖アルキル、分枝鎖アルキル及び環状アルキルの全てを含むと解釈する。しかしながら、「ブチル」のような具体的な用語が使用された場合は、直鎖の「ｎ－ブチル」と解釈するものとし、「ｔｅｒｔ－ブチル」のような分枝鎖異性体とは解釈しない。

本明細書中、用語「１以上の置換基で置換されていることがある」における置換基の数と種類については、それらが化学的に許容され、本発明の効果を示す限りは、特に制限はない。例えば、前記用語は、「置換基群（Ａ）から独立して選択される１以上の置換基（好ましくは１～２０個、より好ましくは１～１０個、更に好ましくは１～５個、更に好ましくは１～３個の置換基）で置換されていることがある」と解釈することができる。

上記置換基群（Ａ）は、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数７～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基及び炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基を含み、好ましくはハロゲン原子及び炭素原子数１～４のアルキル基、より好ましくはハロゲン原子からなる。

本明細書中、用語「１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがある」における二重結合及び三重結合の数は、それらが化学的に許容され、本発明の効果を示す限りは、特に制限はない。例えば、前記用語は、「１以上の単結合（好ましくは１～５個、より好ましくは１～３個、更に好ましくは１個の単結合）が、二重結合及び三重結合からなる群から独立して選択される１以上の不飽和結合（好ましくは１～５個、より好ましくは１～３個、更に好ましくは１個の不飽和結合）で置換されていることがある」と解釈することができる。

本明細書中、異性体を有する化合物については、全ての異性体及びそれらの混合物が本発明の範囲に含まれる。例えば、ある化合物に光学異性体が存在する場合は、全ての光学異性体及びそれらの混合物が本発明の範囲に含まれる。

本明細書中、一般的に、指定された炭素原子数を有する置換基の定義、意味及び範囲が記載されていない場合は、指定された炭素原子数とは異なる炭素原子数を有する同族の置換基の炭素原子数を適切に置き換えて、その定義、意味及び範囲が理解される。

本明細書中、一般的に、指定された炭素原子数を有する置換基の具体例が記載されていない場合は、指定された炭素原子数とは異なる炭素原子数を有する同族の置換基の具体例のうちの適切な例を参照できる。

本明細書中、ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が含まれる。ハロゲン原子は、フッ素原子であることが好ましい。

本明細書中、アルキル基には、直鎖アルキル基、分枝鎖アルキル基及び環状アルキル基が含まれる。炭素原子数１～１０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、アミル、ｉｓｏ－アミル、ｔｅｒｔ－アミル、ヘキシル、ヘプチル、イソヘプチル、ｔ－ヘプチル、ｎ－オクチル、イソオクチル、ｔ－オクチル、２－エチルヘキシル、ｎ－ノニル、ｎ－デシル、ビニル、１－プロペニル、イソプロペニル、エチニル、１－プロピニル、２－プロピニル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、モノフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、テトラフルオロエチル、トリフルオロエチル（例えば、２，２，２－トリフルオロエチル）、ジフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ヘキサフルオロプロピル、ペンタフルオロプロピル、テトラフルオロプロピル、トリフルオロプロピル、パーフルオロブチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等が挙げられる。

本明細書中、アルコキシ基には、直鎖アルコキシ基、分枝鎖アルコキシ基及び環状アルコキシ基が含まれる。炭素原子数１～１０のアルコキシ基としては、例えば、メチルオキシ（すなわち、メトシキ）、エチルオキシ（すなわち、エトシキ）、プロピルオキシ、ｉｓｏ－プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ｉｓｏ－ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２－エチルヘキシルオキシ、オクチルオキシ、デシルオキシ、ビニルオキシ、１－プロペニルオキシ、イソプロペニルオキシ、エチニルオキシ、１－プロピニルオキシ、２－プロピニルオキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロエトキシ（例えば、２，２，２－トリフルオロエトキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、メトキシエトキシ、メトキシエトキシエトキシ等が挙げられる。

本明細書中、炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えば、フェニル、１－ナフチル、２－ナフチル、アントラセン－１－イル、フェナントレン－１－イル、ｏ－トリル、ｍ－トリル、ｐ－トリル、４－ビニルフェニル、３－イソプロピルフェニル、４－イソプロピルフェニル、４－ブチルフェニル、４－イソブチルフェニル、４－ｔ－ブチルフェニル、４－ヘキシルフェニル、４－シクロヘキシルフェニル、４－オクチルフェニル、４－（２－エチルヘキシル）フェニル、２，３－ジメチルフェニル、２，４－ジメチルフェニル、２，５－ジメチルフェニル、２，６－ジメチルフェニル、３，４－ジメチルフェニル、３，５－ジメチルフェニル、２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル、２，５－ジ－ｔ－ブチルフェニル、２，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル、２，４－ジ－ｔ－ペンチルフェニル、２，５－ジ－ｔ－アミルフェニル、シクロヘキシルフェニル、ビフェニル、２，４，５－トリメチルフェニル、４－クロロフェニル、３，４－ジクロロフェニル、４－トリクロロフェニル、４－トリフルオロフェニル、パーフルオロフェニル等が挙げられる。

本明細書中、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ、１－ナフチルオキシ、２－ナフチルオキシ、ｏ－トリルオキシ、ｍ－トリルオキシ、ｐ－トリルオキシ、４－ビニルフェニルオキシ、３－イソプロピルフェニルオキシ、４－イソプロピルフェニルオキシ、４－ブチルフェニルオキシ、４－イソブチルフェニルオキシ、４－ｔ－ブチルフェニルオキシ、４－ヘキシルフェニルオキシ、４－シクロヘキシルフェニルオキシ、４－オクチルフェニルオキシ、４－（２－エチルヘキシル）フェニルオキシ、２，３－ジメチルフェニルオキシ、２，４－ジメチルフェニルオキシ、２，５－ジメチルフェニルオキシ、２，６－ジメチルフェニルオキシ、３，４－ジメチルフェニルオキシ、３，５－ジメチルフェニルオキシ、２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニルオキシ、２，５－ジ－ｔ－ブチルフェニルオキシ、２，６－ジ－ｔ－ブチルフェニルオキシ、２，４－ジ－ｔ－ペンチルフェニルオキシ、２，５－ジ－ｔ－アミルフェニルオキシ、シクロヘキシルフェニルオキシ、２，４，５－トリメチルフェニルオキシ、４－クロロフェニルオキシ、３，４－ジクロロフェニルオキシ、４－トリクロロフェニルオキシ、４－トリフルオロフェニルオキシ、パーフルオロフェニルオキシ等が挙げられる。

本明細書中、アリールアルキル基は、任意の数のアリール基（好ましくは１～３個、より好ましくは１個のアリール基）で置換されたアルキル基を意味する（ここで、アルキル基は上記の通りである）。
本明細書中、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基としては、例えば、ベンジル、フェネチル、２－フェニルプロピル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル、４－クロロフェニルメチル等が挙げられる。

本明細書中、アリールアルコキシ基は、任意の数のアリール基（好ましくは１～３個、より好ましくは１個のアリール基）で置換されたアルコキシ基を意味する（ここで、アルコキシ基は上記の通りである）。
本明細書中、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、２－フェニルプロピルオキシ、ジフェニルメチルオキシ、トリフェニルメチルオキシ、スチリルオキシ、シンナミルオキシ、４－クロロフェニルメチルオキシ等が挙げられる。

本明細書中、複素環は、芳香族であっても、非芳香族であっても構わない。
本明細書中、炭素原子数２～２０の複素環含有基としては、例えば、ピロリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル（すわなち、チオフェニル）、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、ユロリジル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、２－ピロリジノン－１－イル、２－ピペリドン－１－イル、２，４－ジオキシイミダゾリジン－３－イル、２，４－ジオキシオキサゾリジン－３－イルからなる群から選択される複素環基、並びにこれらの複素環基と炭素原子数１～８のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＣＯ－ＮＨ－及び－ＮＨ－ＣＯ－からなる群から選択される１以上の基（好ましくは１～３個、より好ましくは１個の基）との組み合わせからなる基が挙げられるが、これらに限定されない。

上記炭素原子数１～８のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、プロパン－２，２－ジイル基、ブチレン基、イソブチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基等が挙げられる。該アルキレン基は、酸素原子又は硫黄原子で中断されていてもよい。

本明細書中、アルキルスルホニル基は、（アルキル）－ＳＯ_２－基を意味する（ここで、アルキル基部分は上記の通りである）。
本明細書中、炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル、へプチルスルホニル、オクチルスルホニル、ノニルスルホニル、デシルスルホニル、フルオロメチルスルホニル、ジフルオロメチルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニル、クロロジフルオロメチルスルホニル、２，２，２－トリフルオロエチルスルホニル、ペンタフルオロエチルスルホニル等が挙げられる。メチルスルホニルはメタンスルホニル又はメシルとも言う。その類縁体及び誘導体についても同様である。従って、例えば、トリフルオロメチルスルホニルはトリフルオロメタンスルホニルとも言う。

本明細書中、アリールスルホニル基は、（アリール）－ＳＯ_２－基を意味する。（ここで、アリール基部分は上記の通りである）
本明細書中、炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基としては、例えば、フェニルスルホニル、４－メチルフェニルスルホニル、４-クロロフェニルスルホニル、２－ナフタレンスルホニル等が挙げられる。フェニルスルホニルはベンゼンスルホニルとも言う。その類縁体および誘導体についても同様である。例えば、４－メチルフェニルスルホニルは４－メチルベンゼンスルホニルとも言う。更に、４－メチルベンゼンスルホニルはｐ－トルエンスルホニルとも言う。

本明細書中、アルキルカルボニル基は、（アルキル）－Ｃ（＝Ｏ）－基を意味する（ここで、アルキル基部分は上記の通りである）。
本明細書中、炭素原子数２～１０のアルキルカルボニル基としては、例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ブチルカルボニル、ｓｅｃ－ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、ヘキシルカルボニル、へプチルカルボニル、オクチルカルボニル、ノニルカルボニル等が挙げられる。ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルはピバロイルとも言う。

本明細書中、Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、及びＲ^８とＲ^９が互いに結合して形成する環は、芳香族であっても、非芳香族であっても構わない。Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、及びＲ^８とＲ^９が互いに結合して形成する環としては、例えば、複素環（例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ラクタム環、ピリジン環、ピリミジン環、キノリン環、イミダゾール環、オキサゾール環、イミダゾリジン環、ピラゾリジン環等）、環状アルカン（例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等）、芳香環（例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環等）等が挙げられ、これらの環は他の環と縮合されていたり、置換されていたりする場合もある。Ｒ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^Ａ３、Ｒ^３ＡとＲ^Ａ４、Ｒ^Ａ５とＲ^６Ａ、Ｒ^６ＡとＲ^７Ａ、Ｒ^７ＡとＲ^８Ａ、及びＲ^８ＡとＲ^９Ａが互いに結合して形成する環、並びにＲ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂ、Ｒ^６ＢとＲ^７Ｂ、Ｒ^７ＢとＲ^８Ｂ、及びＲ^８ＢとＲ^９Ｂが互いに結合して形成する環についても同様である。

本発明の上記一般式（Ｉ）で表される化合物について説明する。

上記一般式（Ｉ）において、
Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子であり；
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環含有基又は上記一般式（ａ）で表される置換基である。
該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該アリールアルコキシ基及び該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、及びＲ^８とＲ^９が互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は、１以上の置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４の少なくとも１つ（好ましくは１つ又は２つ、より好ましくは１つ）が、下記一般式（ａ）で表される置換基であるか、又はＲ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、及びＲ^３とＲ^４の少なくとも１つの組み合わせ（好ましくは１つ又は２つ、より好ましくは１つの組み合わせ）が環を形成する場合には、その形成された環における水素原子の少なくとも１つ（好ましくは１つ又は２つ、より好ましくは１つ）が下記一般式（ａ）で表される置換基で置換されている。

生成物の有用性等の観点から、上記一般式（Ｉ）で表される化合物において、好ましい例は以下の通りである。
Ｘ^１及びＸ^２は酸素原子であり；Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基、炭素原子数６～１０のアリール基又は上記一般式（ａ）で表される置換基であり；
Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、及びＲ^８とＲ^９が互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり、これらの環は、上記一般式（ａ）で表される置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４の１つが上記一般式（ａ）で表される置換基であるか、又はＲ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、及びＲ^３とＲ^４の１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、そのベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の１つが上記一般式（ａ）で表される置換基で置換されている。

上記と同様の観点から、上記一般式（Ｉ）で表される化合物において、より好ましい例は以下の通りである。
Ｘ^１及びＸ^２は酸素原子であり；Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基又はフェニル基であり；Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基、フェニル基又は下記一般式（ａ）で表される置換基であり；
ただし、Ｒ^２又はＲ^３のいずれか一方が、上記一般式（ａ）で表される置換基であり、他方が水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基又はフェニル基である。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物としては、具体的には、下記の化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物の特に好ましい具体例は、上記の化合物（Ｉ－１）である。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物は、二量体、三量体又はより高次の多量体の形態であってもよく、それらの全てと任意の割合のそれらの任意の混合物が本発明の範囲に含まれる。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物の数平均分子量は、３７０～１０００であるのが好ましく、５００～７００であるのがさらに好ましい。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物のエポキシ当量は、１００～３０００ｇ／ｅｑ．であるのが好ましく、１５０～３００ｇ／ｅｑ．であるのがより好ましい。本発明において、エポキシ当量は、ＪＩＳ Ｋ７２３６：２００１（ＩＳＯ３００１：１９９９に対応）に準拠して求められる。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物の２５℃における粘度は、５００～６０００００ｍＰａ・ｓとすることができ、１０００～５０００００ｍＰａ・ｓであるのが好ましく、１００００～３０００００であるのがさらに好ましい。
尚、粘度は、化合物を良溶媒に希釈した後、Ｅ型粘度計を用いて測定した値を基に、溶液濃度から外挿した値である。

本発明の上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の例は、上記一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物及び上記一般式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物を含む。

本発明の上記一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物について説明する。

上記一般式（ＩＩ－Ａ）において、
Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５Ａ、Ｒ^６Ａ、Ｒ^Ａ７、Ｒ^８Ａ及びＲ^９Ａは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基又は炭素原子数２～２０の複素環含有基であり；
該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該アリールアルコキシ基及び該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^Ａ３、Ｒ^３ＡとＲ^Ａ４、Ｒ^Ａ５とＲ^６Ａ、Ｒ^６ＡとＲ^７Ａ、Ｒ^７ＡとＲ^８Ａ、及びＲ^８ＡとＲ^９Ａが互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は、１以上の置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ及びＲ^４Ａの少なくとも１つ（好ましくは１つ又は２つ、より好ましくは１つ）が水酸基であるか、又はＲ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ、及びＲ^３ＡとＲ^４Ａの少なくとも１つの組み合わせ（好ましくは１つ又は２つ、より好ましくは１つの組み合わせ）が環を形成する場合には、その形成された環における水素原子の少なくとも１つ（好ましくは１つ又は２つ、より好ましくは１つ）が水酸基で置換されている。

生成物の有用性等の観点から、一般式（ＩＩ－Ａ）において、好ましい例は以下の通りである。
Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５Ａ、Ｒ^６Ａ、Ｒ^Ａ７、Ｒ^８Ａ及びＲ^９Ａは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素原子数１～４のアルキル基又は炭素原子数６～１０のアリール基であり；Ｒ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^Ａ３、Ｒ^３ＡとＲ^Ａ４、Ｒ^Ａ５とＲ^６Ａ、Ｒ^６ＡとＲ^７Ａ、Ｒ^７ＡとＲ^８Ａ、及びＲ^８ＡとＲ^９Ａが、互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり、これらの環は、水酸基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ及びＲ^４Ａのいずれか１つが水酸基であるか、又はＲ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ、及びＲ^３ＡとＲ^４Ａの１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、そのベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の１つが水酸基で置換されている。

上記と同様の観点から、一般式（ＩＩ－Ａ）において、より好ましい例は以下の通りである。
Ｒ^１Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５Ａ、Ｒ^６Ａ、Ｒ^Ａ７、Ｒ^８Ａ及びＲ^９Ａは、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基又はフェニル基であり；Ｒ^２Ａ及びＲ^３Ａは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、炭素原子数１～４のアルキル基又はフェニル基であり；
ただし、Ｒ^２Ａ及びＲ^３Ａのいずれか一方が水酸基であり、他方が水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基又はフェニル基である。

上記一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物としては、具体的には、下記の化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

上記一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物の特に好ましい具体例は、上記の化合物（ＩＩ－Ａ－１）である。

本発明の上記一般式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物について説明する。

上記一般式（ＩＩ－Ｂ）において、
Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４Ｂ、Ｒ^５Ｂ、Ｒ^６Ｂ、Ｒ^７Ｂ、Ｒ^８Ｂ及びＲ^９Ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環含有基又は上記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
該アルキル基、該アルコキシ基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該アリールアルコキシ基及び該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂ、Ｒ^６ＢとＲ^７Ｂ、Ｒ^７ＢとＲ^８Ｂ、及びＲ^８ＢとＲ^９Ｂが互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は１以上の置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ及びＲ^４の少なくとも１つ（好ましくは１つ又は２つ、より好ましくは１つ）が上記一般式（ｂ）で表される置換基であるか、又はＲ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、及びＲ^３ＢとＲ^４Ｂの少なくとも１つの組み合わせ（好ましくは１つ又は２つ、より好ましくは１つの組み合わせ）が環を形成する場合には、その形成された環における水素原子の少なくとも１つが上記一般式（ｂ）で表される置換基で置換されている。

生成物の有用性等の観点から、一般式（ＩＩ－Ｂ）において、好ましい例は以下の通りである。
Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４Ｂ、Ｒ^５Ｂ、Ｒ^６Ｂ、Ｒ^７Ｂ、Ｒ^８Ｂ及びＲ^９Ｂは、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基、炭素原子数６～１０のアリール基又は上記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂ、Ｒ^６ＢとＲ^７Ｂ、Ｒ^７ＢとＲ^８Ｂ、及びＲ^８ＢとＲ^９Ｂが、互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり、上記一般式（ｂ）で表される置換基で置換されていることがあり；
ただし、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ及びＲ^４Ｂの１つが上記一般式（ｂ）で表される置換基であるか、又はＲ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、及びＲ^３ＢとＲ^４Ｂの１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、その形成されたベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の１つが上記一般式（ｂ）で表される置換基で置換されている。

上記と同様の観点から、一般式（ＩＩ－Ｂ）において、より好ましい例は以下の通りである。
Ｒ^１Ｂ、Ｒ^４Ｂ、Ｒ^５Ｂ、Ｒ^６Ｂ、Ｒ^７Ｂ、Ｒ^８Ｂ及びＲ^９Ｂは、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基、又はフェニル基であり；Ｒ^２Ｂ及びＲ^３Ｂは、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基、フェニル基又は上記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
ただし、Ｒ^２Ｂ及びＲ^３Ｂのいずれか一方が下記一般式（ｂ）で表される置換基であり、他方が水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基又はフェニル基である。

上記一般式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物としては、具体的には、下記の化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

上記一般式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物の好ましい具体例は、上記の化合物（ＩＩ－Ｂ－１）、（ＩＩ－Ｂ－５）、（ＩＩ－Ｂ－６）、（ＩＩ－Ｂ－７）及び（ＩＩ－Ｂ－８）であり、特に好ましい具体例は、上記の化合物（ＩＩ－Ｂ－１）である。

上記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物について説明する。

上記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、上記一般式（ＩＩ）のそれらと同じである。

上記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の例は、一般式（ＩＩＩ－Ａ）及び一般式（ＩＩＩ－Ｂ）を含む。

一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物は、以下に示す通りである。

一般式（ＩＩＩ－Ａ）において、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５Ａ、Ｒ^６Ａ、Ｒ^Ａ７、Ｒ^８Ａ及びＲ^９Ａは、一般式（ＩＩ－Ａ）のそれらと同じである。

一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物は、以下に示す通りである。

一般式（ＩＩＩ－Ｂ）において、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４Ｂ、Ｒ^５Ｂ、Ｒ^６Ｂ、Ｒ^７Ｂ、Ｒ^８Ｂ及びＲ^９Ｂは、一般式（ＩＩ－Ｂ）のそれらと同じである。

上記一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物としては、具体的には、下記の化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

上記一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物の好ましい具体例は、上記の化合物（ＩＩＩ－Ｂ－１）、（ＩＩＩ－Ｂ－５）、（ＩＩＩ－Ｂ－６）、（ＩＩＩ－Ｂ－７）及び（ＩＩＩ－Ｂ－８）であり、特に好ましい具体例は、上記の化合物（ＩＩＩ－Ｂ－１）である。

本発明の上記一般式（ＩＩ）で表される化合物は、上記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物及びフェノール化合物を用いて製造することができる。

上記一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法及び反応スキームに関して説明する。

一つの態様では、本発明の製造方法の例は、以下のスキームの通りである。以下のスキーム中の各化合物は本明細書中に記載の通りである。

上記スキーム中の工程（１）～（４）の反応条件などの詳細は後述する。

別の態様では、本発明の製造方法の例は、以下のスキームの通りである。

上記スキーム中、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ、Ｒ^４ａ、Ｒ^５ａ、Ｒ^６ａ、Ｒ^７ａ、Ｒ^８ａ及びＲ^９ａの例は以下の通りである。
それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数２～２０の複素環含有基であり；該アルキル基、該アリール基、該アリールオキシ基、該アリールアルキル基、該複素環含有基は、１以上の置換基で置換されていることがあり；該アルキル基及び該アリールアルキル基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、及びＲ^８とＲ^９が、互いに結合して、環を形成する場合があり、その形成された環は、１以上の置換基で置換されていることがある

生成物の有用性、収率、副生成物抑制及び経済効率等の観点から、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ、Ｒ^４ａ、Ｒ^５ａ、Ｒ^６ａ、Ｒ^７ａ、Ｒ^８ａ及びＲ^９ａの好ましい例は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～４のアルキル基又はフェニル基である。上記と同様の観点から、特に好ましくは、Ｒ^１ａ、Ｒ^３ａ、Ｒ^４ａ、Ｒ^５ａ、Ｒ^６ａ、Ｒ^７ａ、Ｒ^８ａ及びＲ^９ａは水素原子である。

Ｙ^ａの例は、炭素原子数１～４のアルキルスルホニル基、炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、炭素原子数１～４のアルキル基、炭素原子数１～４のアリールアルキル基又は炭素原子数２～１０のアルキルカルボニル基である（ここで、該アルキルスルホニル基、該アリールスルホニル基、該アルキル基及び該アリールアルキル基は、ハロゲン原子及び炭素原子数１～４のアルキル基からなる群から選択される、１～３個の置換基で置換されていてもよい）。上記と同様の観点から、Ｙ^ａは炭素原子数１～４のアルキルスルホニル基であることが好ましい。特に、Ｙ^ａはメチルスルホニル基であることが好ましい。

後述する実施例から理解できるように、Ｙ^１ａが炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基（具体的には、例えば、メチルスルホニル：Ｍｓ）であるとき、化合物（ＩＩ－Ｂ－ａ）及び（ＩＩ－Ａ－ａ）を合成するそれぞれの工程で、これらの化合物が単一の化合物として特に高い収率で得られ、かつ、異性体の生成も抑制される。従って、選択性、収率、副生成物の抑制及び経済効率等の観点から、化合物（ＩＩ－Ｂ－ａ）又は（ＩＩ－Ａ－ａ）が異性体を含まない単一の化合物として所望されるときに、上記スキームにおけるＹ^１ａが、メチルスルホニル（Ｍｓ）であることが特に好ましく、高い有用性を有する。

工程（１ａ）、工程（２ａ）、工程（３ａ）及び工程（４ａ）の詳細は、後述する工程（１）、工程（２）、工程（３）及び工程（４）のそれらとそれぞれ同じである（ただし、硫化剤との反応によるエピスルフィド化を除く）。

（工程（１））
工程（１）について説明する。工程（１）は、水酸基の誘導体化である。工程（１）は、一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物を、塩基の存在下又は非存在下で、誘導体化剤（例えば、スルホニル化剤、アルキル化剤又はアシル化剤）と反応させて、一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物を製造する工程である。

上記スキーム中の各化合物は本明細書中に記載の通りである。

（工程（１）の原料；一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物）
工程（１）の原料として、一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物を用いる。一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物は公知の化合物であるか、又は公知の化合物から公知の方法に準じて製造することができる。

（工程（１）で用いる誘導体化剤）
工程（１）で用いる誘導体化剤の例は、スルホニル化剤、アルキル化剤又はアシル化剤等を含む。

（工程（１）で用いるスルホニル化剤）
工程（１）で用いるスルホニル化剤の例は、塩化メタンスルホニル、臭化メタンスルホニル、塩化モノクロロメタンスルホニル、臭化モノクロロメタンスルホニル、塩化トルエンスルホニル、臭化トルエンスルホニル、塩化ニトロベンゼンスルホニル、臭化ニトロベンゼンスルホニル、塩化トリフルオロメタンスルホニル、臭化トリフルオロメタンスルホニル、無水メタンスルホン酸、無水トリフルオロメタンスルホン酸等を含むが、これらに限定されない。生成物の有用性、収率、副生成物の抑制及び経済効率等の観点から、スルホニル化剤の好ましい例は、塩化メタンスルホニル及び無水メタンスルホン酸を含む。

（工程（１）で用いるアルキル化剤）
工程（１）で用いるアルキル化剤の例は、塩化メチル、臭化メチル、ヨウ化メチル、ジメチル硫酸、塩化エチル、臭化エチル、ヨウ化エチル、ジエチル硫酸、臭化プロピル、ヨウ化プロピル、ジプロピル硫酸、臭化イソプロピル、ヨウ化イソプロピル、ジイソプロピル硫酸、臭化ブチル、ヨウ化ブチル、メタンスルホン酸ブチル、ジブチル硫酸、塩化ベンジル、臭化ベンジル等を含むが、これらに限定されない。反応性、選択性及び経済効率等の観点から、アルキル化剤の好ましい例は、ヨウ化メチル、ジメチル硫酸、塩化ベンジル及び臭化ベンジルを含む。

（工程（１）で用いるアシル化剤）
工程（１）で用いるアシル化剤の例は、一つの態様では、無水酢酸、塩化アセチル、臭化アセチル、無水トリフルオロ酢酸、無水ピバル酸、塩化ピバロイル、臭化ピバロイル等を含むが、これらに限定されない。反応性、選択性及び経済効率等の観点から、アシル化剤の好ましい例は、無水酢酸、塩化アセチル及び塩化ピバロイルを含む。工程（１）のアシル化剤の例は、別の態様では、前記例を含み、無水安息香酸、塩化ベンゾイル、臭化ベンゾイル等もまた含んでもよい。

生成物の有用性、収率、副生成物の抑制及び経済効率等の観点から、工程（１）で用いる誘導化剤としては、スルホニル化剤が好ましく、塩化メタンスルホニル及び無水メタンスルホン酸がより好ましい。ここで、生成物の有用性は、例えば、次工程の選択性及び収率等、並びに最終物の有用性等である。

（工程（１）における誘導化剤の使用量）
（工程（１）におけるスルホニル化剤、アルキル化剤及びアシル化剤の使用量）
工程（１）における誘導体化剤（例えば、スルホニル化剤、アルキル化剤又はアシル化剤）の使用量は、反応が進行する限りは、特に制限されない。当該使用量は適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、当該使用量は、一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物（原料）１モルに対して、通常１．０～２０．０当量、好ましくは１．０～５．０当量、より好ましくは１．０～１．５当量の範囲である。

（工程（１）における塩基）
工程（１）の反応は、塩基の存在下又は非存在下で、好ましくは塩基の存在下で行われる。工程（１）に使用される塩基の例は、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、アルカリ金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アルカリ金属カルボン酸塩（例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等）、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ－ブトキシド等）、アルカリ金属水素化物（例えば、水素化ナトリウム等）、アミン（例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、ピリジン等）を含むが、これらに限定されない。反応性及び経済効率等の観点から、工程（１）で用いる塩基の好ましい例は、アルカリ金属水酸化物類、アルカリ金属炭酸塩類、アルカリ金属水素化物、アミン、より好ましくはアミンを含む。上記と同じ観点から、塩基の好ましい具体的な例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、ピリジンより好ましくはトリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピリジンを含む。工程（１）で用いる塩基は、単独で又は２種以上を任意の割合で組み合わせて使用することができる。工程（１）で用いる塩基の形態は、反応が進行する限りは、特に制限されない。

（工程（１）における塩基の使用量）
工程（１）における塩基の使用量は、反応が進行する限りは、特に制限されない。塩基の使用量は、適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、塩基の使用量は、一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物（原料）１モルに対して、通常０（ゼロ）～１００当量、好ましくは１～５０当量、より好ましくは１～１０当量の範囲である。

（工程（１）における溶媒）
反応の円滑な進行等の観点から、工程（１）の反応は溶媒中で実施することが好ましい。工程（１）で用いる溶媒は、反応が進行する限りは、特に制限されない。溶媒の例は、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール等）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、トリグリム（ｔｒｉｇｌｙｍｅ）等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル等）、カルボン酸エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、アルキル尿素類（例えば、Ｎ，Ｎ’－ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）、芳香族炭化水素誘導体類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等）、ハロゲン化脂肪族炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン等）を含む。工程（１）で用いる溶媒は、単独で又は２種以上を任意の割合で組み合わせて使用することができる。

反応性及び経済効率等の観点から、工程（１）で用いる溶媒の好ましい例は、ケトン類、エーテル類、カルボン酸エステル類、アミド類、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類を含む。工程（１）で用いる溶媒の好ましい具体的な例は、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロメタンを含む。

（工程（１）における溶媒の使用量）
工程（１）における溶媒の使用量は、反応系の撹拌が十分にできる限りは、特に制限されない。収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物１モルに対して、通常０（ゼロ）～１０Ｌ（リットル）、好ましくは０．１～５Ｌ、より好ましく０．１～２Ｌの範囲である。２種以上の溶媒を組み合わせて用いる場合、それらの溶媒の割合は、反応が進行する限りは、特に制限されない。

（工程（１）の反応温度）
工程（１）の反応温度は、特に制限されない。収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、反応温度は、通常－２０℃（マイナス２０℃）～１５０℃、好ましくは－１０℃（マイナス１０℃）～１００℃の範囲である。

（工程（１）の反応時間）
工程（１）の反応時間は、特に制限されない。収率、副生成物の抑制および経済効率等の観点から、反応時間は、通常０．５時間～４８時間、好ましくは１時間～２４時間の範囲である。

（工程（２））
工程（２）について説明する。工程（２）は、フェノールとの反応によるビスフェノール部分の合成である。工程（２）は、一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物を、酸性触媒の存在下で、フェノールと反応させて、一般式（ＩＩ－Ｂ）の化合物を製造する工程である。工程（２）では、酸性触媒及びメルカプタン触媒の両方を用いる場合もある。

上記スキーム中の各化合物は本明細書中に記載の通りである。

工程（２）において、上記ビスフェノール化合物（ＩＩ－Ｂ）を製造するための条件は、従来公知の条件を採用することができる。

（工程（２）におけるフェノールの使用量）
工程（２）におけるフェノールの使用量は、反応が進行する限りは、特に制限されない。フェノールの使用量は、適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、フェノールの使用量は、一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物（原料）１モルに対して、通常２当量～１００当量、好ましくは２当量～５０当量、より好ましくは５当量～１０当量の範囲である。

（工程（２）で用いる酸性触媒）
工程（２）で用いる酸性触媒は、反応が進行する限りは、いずれの酸性触媒でもよい。酸性触媒の例は、スルホン酸類（例えば、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｍ－キシレンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、ヒドロキシメチルスルホン酸、２－ヒドロキシエチルスルホン酸、ヒドロキシプロピルスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、スルホサリチル酸、スルホフタル酸等）；硫酸；無水硫酸；発煙硫酸；クロロ硫酸、フルオロ硫酸；塩酸；塩化水素ガス；リン酸；オキシ塩化リン；カルボン酸類（例えば、シュウ酸、ギ酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等）；ヘテロポリ酸（ケイタングステン酸、リンタングステン酸等）；強酸性のイオン交換樹脂；活性白土；三フッ化ホウ素；無水塩化アルミニウム；塩化亜鉛等を含むが、これに限定されない。

反応性、選択性及び経済効率等の観点から、工程（２）で用いる酸性触媒の好ましい例は、メタンスルホン酸、硫酸、塩酸、塩化水素ガス及びオキシ塩化リンを含む。酸性触媒の形態は、反応が進行する限りは、特に制限されない。

（工程（２）における酸性触媒の使用量）
工程（２）における酸性触媒の使用量は、反応が進行する限りは、特に制限されない。酸性触媒の使用量は、適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物（原料）１モルに対して、通常０．０１当量～１．０当量、好ましくは０．１当量～０．８当量、より好ましくは０．２当量～０．５当量の範囲である。

（工程（２）のメルカプタン触媒）
更に、反応を促進するために、メルカプタン触媒を使用することもできる。工程（２）のメルカプタン触媒は、反応が進行する限りは、いずれのメルカプタン触媒でもよい。工程（２）のメルカプタン触媒の例は、アルキルメルカプタン類（例えば、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、ブチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、１，６－ヘキサンジチオール等）；芳香族メルカプタン類（チオフェノール、チオクレゾール等）；メルカプト有機酸類（例えば、メルカプト酢酸（チオグリコール酸）、３－メルカプトプロピオン酸、メルカプトウンデカン酸、チオ安息香酸等）；複素環族メルカプタン類（例えば、２－メルカプトベンゾチアゾール等）等を含むが、これらに限定されない。

反応性、選択性及び経済効率等の観点から、工程（２）のメルカプタン触媒の好ましい例は、メルカプト酢酸（チオグリコール酸）及び３－メルカプトプロピオン酸を含む。メルカプタン触媒の形態は、反応が進行する限りは、いずれの形態でもよい。

（工程（２）のメルカプタン触媒の使用量）
工程（２）のメルカプタン触媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。工程（２）のメルカプタン触媒の使用量は、当業者が適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、メルカプタン触媒の使用量は、一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物（原料）１モルに対して、通常０．０１当量～０．８当量、好ましくは０．０５当量～０．５当量、より好ましくは０．１当量～０．３当量の範囲を例示できる。

（工程（２）の溶媒）
工程（２）の反応は溶媒の存在下または非存在下で行うことができる。工程（２）の反応は無溶媒で行うことができる。工程（２）の反応では、必要に応じて溶媒を用いることもできる。工程（２）の反応で溶媒が使用される場合は、反応が進行する限りは、溶媒は特に制限されない。溶媒としては例えば、水、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸－ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、テキサノール等のエステル系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、イソ－又はｎ－プロパノール、イソ－又はｎ－ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、エトキシエチルプロピオネート等のエーテルエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等のＢＴＸ系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；テレピン油、Ｄ－リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（コスモ松山石油社製）、ソルベッソ＃１００（エクソン化学社製）等のパラフィン系溶媒；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、１，２－ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒；カルビトール系溶媒、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、これらの溶媒は１種又は２種以上の混合溶媒として使用することができる。

工程（２）の反応に使用できる溶媒の好ましい例は、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、１，２－ジクロロエタン、及び任意の割合のそれらの任意の組み合わせを含むが、これらに限定されない。

工程（２）の反応では、過剰のフェノールを溶媒として使用することもできる。

（工程（２）の溶媒の使用量）
工程（２）の反応に使用される溶媒の使用量は、反応が進行する限りは、いずれの量でもよい。反応効率および操作の容易さ等の観点から、工程（２）の反応に使用される溶媒の使用量は、一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物１モルに対して、通常０（ゼロ）～１０Ｌ（リットル）、好ましくは０～５Ｌの範囲を例示することができるが、使用量は、当業者が適切に調整することができる。２種以上の溶媒の組み合わせ（混合溶媒）を用いるときは、２種以上の溶媒の割合は、反応が進行する限りは、いずれの割合でもよい。

（工程（２）の反応温度）
反応温度は、特に制限されない。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、より具体的には、例えば、反応速度と生成物の安定性等の観点から、通常は２０～２００℃、好ましくは５０～１００℃、より好ましくは５０～８０℃の範囲を例示することができる。

（工程（２）の反応時間）
反応時間は、特に制限されない。収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、０．５時間～４８時間、好ましくは１時間～２４時間の範囲を例示できる。

（工程（２’））
工程（２’）における反応剤、触媒、溶媒、それらの使用量及び反応条件の例は、上記の工程（２）におけるそれらと同様である。

（工程（３））
工程（３）について説明する。工程（３）では、誘導化されている水酸基を遊離の水酸基に変換する。工程（３）は、塩基又は酸の存在下で、一般式（ＩＩ－Ｂ）の化合物を反応させて、一般式（ＩＩ－Ａ）の化合物を製造する工程である。

上記スキーム中の各化合物は本明細書中に記載の通りである。

（工程（３）における塩基又は酸）
工程（３）の反応では、その目的が達せられる限りは、塩基及び酸のどちらを用いても構わない

（工程（３）で用いる塩基）
工程（３）で用いる塩基の例は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、より好ましくは水酸化ナトリウムを含むが、これらに限定されない。塩基は、単独で又は２種以上を任意の割合で組み合わせて使用することができる。塩基の形態は、その目的が達せられる限りは、特に制限されない。塩基の形態の例は、塩基のみの固体、並びに任意の濃度の水溶液及び水以外の溶媒の溶液等を含む。塩基の形態の具体的な例は、フレーク、ペレット、ビーズ、パウダー、５～５０％水溶液（例えば、４８％水酸化ナトリウム水溶液、２５％水酸化ナトリウム水溶液、１５％水酸化ナトリウム水溶液）等を含むが、これらに限定されない。

（工程（３）で用いる酸）
工程（３）で用いる酸の例は、塩酸、硫酸、臭化水素酸等、フッ化水素酸、メタンスルホン酸、三フッ化ホウ素、三臭化ホウ素、好ましくは塩酸、硫酸を含むが、これらに限定されない。酸は、単独で又は２種以上を任意の割合で組み合わせて使用することができる。酸の形態は、その目的が達せられる限りは、特に制限されない。酸の形態の例は、酸のみの液体及びガス、並びに任意の濃度の水溶液（例えば３５％塩酸）及び水以外の溶媒の溶液等を含む。

（工程（３）における酸及び塩基の使用量）
工程（３）の反応で塩基を用いる場合、塩基の使用量は、その目的が達せられる限りは、特に制限されない。塩基の使用量は、適切に調整することができる。しかしながら、収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、塩基の使用量は、一般式（ＩＩ－Ｂ）の化合物（原料）１モルに対して、通常１当量～１００当量、好ましくは１当量～５０当量、より好ましくは１当量～１０当量の範囲である。工程（３）の反応で酸を用いる場合、酸の使用量は、塩基を用いる場合の塩基の使用量と同様である。

（工程（３）における溶媒）
反応の円滑な進行等の観点から、工程（３）の反応は溶媒中で実施することが好ましい。工程（３）用いる溶媒は、反応が進行する限りは、特に制限されない。工程（３）に使用される溶媒の例は、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、２－プロパノール、ブタノール等）、エーテル類（例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４－ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）、メチル－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、１，２－ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジグリム（ｄｉｇｌｙｍｅ）、トリグリム（ｔｒｉｇｌｙｍｅ）等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等）、ニトリル類（例えば、アセトニトリル等）、アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）等）、アルキル尿素類（例えば、Ｎ，Ｎ’－ジメチルイミダゾリジノン（ＤＭＩ）等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等）、芳香族炭化水素誘導体類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等）、ハロゲン化脂肪族炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン等）を含むが、これらに限定されない。溶媒は、単独で又は２種以上を任意の割合で組み合わせて使用することができる。

反応性及び経済効率等の観点から、工程（３）で用いる溶媒の好ましい例は、水、アルコール類、ケトン類、アミド類、芳香族炭化水素誘導体類、ハロゲン化脂肪族炭化水素類を含む。上記と同じの観点から、溶媒の好ましい具体的な例は、水、２―プロパノール、メチルイソプロピルケトン（ＭＩＰＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ－メチルピロリドン（ＮＭＰ）、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロメタンを含む。

（工程（３）における溶媒の使用量）
工程（３）における溶媒の使用量は、反応系の撹拌が十分にできる限りは、特に制限されない。収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、溶媒の使用量は、一般式（ＩＩ－Ｂ）の化合物１モルに対して、通常０（ゼロ）～１０Ｌ（リットル）、好ましくは０．１～５Ｌ、より好ましく０．１～２Ｌの範囲である。２種以上の溶媒を組み合わせて用いる場合、それら溶媒の割合は、反応が進行する限りは、特に制限されない。

（工程（３）の反応温度）
工程（３）の反応温度は、特に制限されない。収率、副生成物の抑制および経済効率等の観点から、通常－１０℃（マイナス１０℃）～１５０℃、好ましくは２０℃～１００℃の範囲である。

（工程（３）の反応時間）
工程（３）の反応時間は、特に制限されない。収率、副生成物抑制および経済効率等の観点から、通常０．５時間～４８時間、好ましくは０．５時間～２４時間、より好ましくは１時間～１２時間の範囲である。

（工程（４））
工程（４）について説明する。工程（４）は、エピクロロヒドリンとの反応によるエポキシ基の導入である。工程（４）は、エポキシ基を導入した後に、硫化剤との反応によるエピスルフィド化を含む場合がある。工程（４）は、一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物を、エピクロロヒドリンと反応させて、場合により続いて硫化剤と反応させて、一般式（Ｉ）の化合物を製造する工程である。

上記スキーム中の各化合物は本明細書中に記載の通りである。

エピクロロヒドリンとの反応は、公知の方法を用いることができる。エポキシ基の導入における条件は、目的と状況に応じて、適宜選択及び調整することができる。

（工程（４）におけるエピクロロヒドリンの使用量）
工程（４）におけるエピクロロヒドリンの使用量は、反応が進行する限りは、特に制限されない。エピクロロヒドリンの使用量は、適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物の水酸基１モルに対して、通常１当量～２００当量、好ましくは５当量～５０当量、より好ましくは１０当量～２０当量の範囲である。

反応の円滑な進行等の観点から、エピクロロヒドリンとの反応には、塩基又は酸性触媒を用いることができる。更に相間移動触媒を用いることもできる。

（工程（４）で用いる塩基）
工程（４）に使用される塩基の例は、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ土類金属水酸化物（例えば、水酸化カルシウム等）、アルカリ金属炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等）、アルカリ金属炭酸水素塩（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等）、アミン（例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデカ－７－エン（ＤＢＵ）、ピリジン等）を含むが、これらに限定されない。

反応性及び経済効率等の観点から、工程（４）で用いる塩基の好ましい例は、アルカリ金属水酸化物類を含む。上記と同じ観点から、塩基の好ましい具体的な例は、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム、より好ましくは水酸化ナトリウムを含む。塩基は、単独で又は２種以上を任意の割合で組み合わせて使用することができる。塩基の形態は、反応が進行する限りは、特に制限されない。

（工程（４）における塩基の使用量）
工程（４）における塩基の使用量は、反応が進行する限りは、特に制限されない。塩基の使用量は、適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、塩基の使用量は、一般式（ＩＩ－Ａ）の化合物の水酸基１モルに対して、通常０．１当量～１００当量、好ましくは１当量～５０当量、より好ましくは１当量～５当量の範囲である。

（工程（４）における酸性触媒）
工程（４）における酸性触媒は、反応が進行する限りは、特に制限されない。工程（４）における酸性触媒の例は、上記工程（２）における酸性触媒の例を含み、四塩化スズ、四塩化チタン、塩化マグネシウム、過マンガン酸カリウム、クロム酸カリウム等もまた含むが、これらに限定されない。

（工程（４）における酸性触媒の使用量）
工程（４）における酸性触媒の使用量は、反応が進行する限りは、特に制限されない。酸性触媒の使用量は、目的と状況に応じて、適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、酸性触媒の使用量は、一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物（原料）１モルに対して、通常０．０１当量～１．０当量、好ましくは０．０３当量～０．８当量、より好ましくは０．０５当量～０．５当量の範囲を例示できる。

（工程（４）で用いる相間移動触媒）
工程（４）で用いる相間移動触媒は、反応が進行する限りは、特に制限されない。相間移動触媒の例は、四級アンモニウム塩類（例えば、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムアイオダイド、水酸化テトラブチルアンモニウム、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩、トリブチルメチルアンモニウムクロライド、トリブチルメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウムブロマイド、水酸化トリメチルベンジルアンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ラウリルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムブロマイド、トリオクチルエチルアンモニウムクロライド、トリオクチルエチルアンモニウムブロマイド、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウムクロライド、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウムブロマイド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ミリスチルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムブロマイド、Ｎ，Ｎ－ジメチルピロリジニウムクロリド、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルピロリジニウムヨージド、Ｎ－ブチル－Ｎ－メチルピロリジニウムブロミド、Ｎ－ベンジル－Ｎ－メチルピロリジニウムクロリド、Ｎ－エチル－Ｎ－メチルピロリジニウムブロミド、Ｎ－ブチル－Ｎ－メチルモルホリニウムブロミド、Ｎ－ブチル－Ｎ－メチルモルホリニウムヨージド、Ｎ－アリル－Ｎ－メチルモルホリニウムブロミド、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンジルピペリジニウムクロリド、Ｎ－メチル－Ｎ－ベンジルピペリジニウムブロミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルピペリジニウムヨージド、Ｎ－メチル－Ｎ－エチルピペリジニウムアセテート、Ｎ－メチル－Ｎ－エチルピペリジニウムヨージド等）、クラウンエーテル類（１２－クラウン－４、１５－クラウン－５、１８－クラウン－６等）、ホスホニウム塩類（テトラｎ－ブチルホスホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラオクチルホスホニウムブロマイド）等を含む。工程（４）で用いる相間移動触媒の好ましい例は、四級アンモニウム塩（例えば、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩、トリブチルメチルアンモニウムクロライド、トリブチルメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリメチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、ベンジルラウリルジメチルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウムクロライド、ベンジルジメチルオクタデシルアンモニウムブロマイド及びミリスチルトリメチルアンモニウムブロマイド）を含む。

（工程（４）における相間移動触媒の使用量）
工程（４）における相間移動触媒の使用量は、反応が進行する限りは、特に制限されない。相間移動触媒の使用量は、適宜調整することができる。しかしながら、収率、副生成物抑制、経済効率等の観点から、相間移動触媒の使用量は、一般式（ＩＩ－Ａ）の化合物（原料）１モルに対して、通常０．０１当量～１．０当量、好ましくは０．０３当量～０．８当量、より好ましくは０．０５当量～０．５当量の範囲を例示できる。

（工程（４）における溶媒）
工程（４）の反応は溶媒の存在下または非存在下で行うことができる。工程（４）の反応は無溶媒で行うことができるが、必要に応じて溶媒を用いることもできる。溶媒を使用する場合、反応が進行する限りは、用いる溶媒は特に制限されない。工程（４）の反応に使用できる溶媒の例は、上記工程（２）の溶媒の例を含み、これらの溶媒は１種又は２種以上の混合溶媒として使用することができる。

工程（４）の反応に使用できる溶媒の好ましい例は、トルエン、クロロベンゼン、およびそれらの任意の割合の組み合わせを含むが、これらに限定されない。

工程（４）の反応では、過剰のエピクロロヒドリンを溶媒として使用することもできる。

（工程（４）における溶媒の使用量）
工程（４）の反応に使用される溶媒の使用量及び溶媒の割合等は、上記工程（２）におけるそれらと同様である。

（工程（４）の反応温度）
工程（４）の反応温度は、特に制限されない。収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、より具体的には、反応速度と生成物の安定性等の観点から、通常は２０～１５０℃、好ましくは３０～１００℃、より好ましくは３０～８０℃の範囲である。

（工程（４）の反応時間）
工程（４）の反応時間は、特に制限されない。収率、副生成物の抑制、経済効率等の観点から、通常０．５時間～４８時間、好ましくは１時間～２４時間の範囲である。

（エピスルフィド化）
場合により、エピクロロヒドリンとの反応に続いて、エポキシ基を硫化剤と反応させることにより、１以上のエポキシ基をエピスルフィド基に変換してもよい。エピスルフィド化は、公知の方法を用いることができる。エピスルフィド化における条件は、目的と状況に応じて、適宜選択及び調整することができる。硫化剤の例は、チオ尿素及びチオシアン酸（例えば、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸アンモニウム等）等、好ましくはチオ尿素を含む。

以下、実施例等を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

以下の実施例における分析方法は次の通りである。
（融点）
株式会社島津製作所製、示差走査熱量計 ＤＳＣ－６０を用いて測定した。
（ＮＭＲ）
バリアンテクノロジーズジャパンリミテッド株式会社（現在：アジレントテクノロジー株式会社）製、核磁気共鳴装置 Ｖａｒｉａｎ ｍｅｒｃｕｒｙ ＶＸ－３００ ＮＭＲを用いて測定した。
（ＩＲ）
ジャスコエンジニアリング株式会社製、フーリエ変換赤外分光光度計 ＦＴ／ＩＲ－４２０ Ａ１８を用いて測定した。
（ＬＣ－ＭＳ）
日本ウォーターズ株式会社製、液体クロマトグラフ質量分析計 Ｗａｔｅｒｓ ＬＣ／ＭＳ Ｑ－Ｔｏｆ Ｐｒｅｍｉｅｒ ＨＡＢ３０９を用いて測定した。
（ＨＰＬＣ）
株式会社島津製作所製、高速液体クロマトグラフィー ＬＣ２０１０Ａ ＨＴを用いて測定した。

［実施例１］化合物（ＩＩＩ－Ｂ－１）の製造

撹拌装置、窒素導入管及び温度計を付した１Ｌ四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、上記化合物（ＩＩＩ－Ａ－１）３０．００ｇと酢酸エチル３００ｍＬを加えた。０℃に冷却後、塩化メタンスルホニル１６．８６ｇを加え、トリエチルアミン１６．２５ｇを滴下した。混合物を０℃で１時間３０分間反応させた。室温まで昇温し、水２００ｍＬ及び酢酸エチル２００ｍＬを加え、有機層と水層を分離した。得られた有機層から溶媒を減圧留去した後、得られた粗生成物を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒を用いて晶析し、白色結晶３３．５８ｇ（収率８３％）を得た。各種分析により該白色結晶は目的物である化合物（ＩＩＩ－Ｂ－１）であることが確認された。分析結果を以下に示す。

（分析結果）
融点：１２６℃
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６）のケミカルシフト（ｐｐｍ）
７．６５－７．５６（ｍ，２Ｈ）、７．４０－７．２９（ｍ，３Ｈ）、７．２８－７．１８（ｍ，３Ｈ）、４．７４－４．６８（ｄｄ，１Ｈ）、３．４３（ｓ，３Ｈ）、３．３５－３．２６（ｄｄ，１Ｈ）、２．７４－２．６６（ｄｄ，１Ｈ）
ＩＲの吸収（ｃｍ^－１）
３０５０、３０２５、３０１２、１７０９、１３６３、１１８２、１１６６、８６３、５２０

［実施例２］化合物（ＩＩ－Ｂ－１）の製造

撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した１Ｌ四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、化合物（ＩＩＩ－Ｂ－１）の３３．５８ｇとフェノール７８．３９ｇを加え、６０℃に昇温した。３－メルカプトプロピオン酸２．３６ｇと３５％塩酸５．７９ｇを加え、オキシ塩化リン４．４３ｇを滴下した。混合物を６５～７０℃で１９時間反応させた後、４５℃に冷却し、トルエン６１．４０ｇを滴下することにより目的物を結晶化させた。室温まで冷却し、水２１．０１ｇを加え、２５％水酸化ナトリウム水溶液をｐＨ６になるまで滴下した。０℃まで冷却後、ろ過し、乾燥し、白色結晶４０．８４ｇ（収率７８％）を得た。各種分析により該白色結晶は目的物である化合物（ＩＩ－Ｂ－１）であることが確認された。分析結果を以下に示す。

（分析結果）
融点：２０８℃
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６）のケミカルシフト（ｐｐｍ）
９．２６（ｓ，１Ｈ）、９．２２（ｓ，１Ｈ）、７．３８－７．２４（ｍ，５Ｈ）、７．１８－７．１３（ｍ，１Ｈ）、７．０５－６．９８（ｍ，３Ｈ）、６．９４－６．９０（ｍ，２Ｈ）、６．８７－６．８３（ｍ，１Ｈ）、６．７３－６．６７（ｍ，４Ｈ）、４．１８－４．１２（ｄｄ，１Ｈ）、３．３２（ｓ，３Ｈ）、３．２３－３．１７（ｄｄ，１Ｈ）、２．７４－２．６６（ｄｄ，１Ｈ）
ＩＲの吸収（ｃｍ^－１）
３３８５、３０２６、１５１０、１３６２、１１７６、８３７

［実施例３］化合物（ＩＩ－Ａ－１）の製造

撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した１Ｌ四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、化合物（ＩＩ－Ｂ－１）の５２．０６ｇ及び１３．８％水酸化ナトリウム水溶液２５５．５６ｇを加えた。混合物を６０℃で６時間反応させた後、４－メチル－２－ペンタノン５０ｍＬを加え、有機層と水層を分離した。得られた水層に４－メチル－２－ペンタノン２００ｇを加え、３５％塩酸をｐＨ６になるまで滴下し、有機層と水層を分離した。これにより得られた有機層を温水５０ｇで２回洗浄し、溶媒を減圧留去し、得られた粗生成物を４－メチル－２－ペンタノンとトルエンの混合溶媒を用いて晶析し、白色結晶３９．２５ｇ（収率９０％）を得た。各種分析により該白色結晶は目的物である化合物（ＩＩ－Ａ－１）であることが確認された。化合物（ＩＩ－Ａ－１）は新規化合物である。分析結果を以下に示す。

（分析結果）
融点：１８９℃
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６）のケミカルシフト（ｐｐｍ）
９．１９（ｓ，１Ｈ）、９．１６（ｓ，１Ｈ）、９．０９（ｓ，１Ｈ）、７．３４－７．１２（ｍ，５Ｈ）、６．９８－６．９１（ｍ，４Ｈ）、６．７１－６．６６（ｍ，４Ｈ）、６．５６（ｓ，２Ｈ）、６．４１（ｓ，１Ｈ）、４．０２－３．９６（ｄｄ，１Ｈ）、３．０８－３．０１（ｄｄ，１Ｈ）、３．６９－２．６１（ｔ，１Ｈ）
ＩＲの吸収（ｃｍ^－１）
３５４５、３２６６、３０２５、２９７３、１５０８、１２３５、１１７８、８３７

［実施例４］化合物（ＩＩ－Ａ－１）の製造；水酸基を誘導体化しないビスフェノール部分の合成

撹拌子を入れた試験管に、化合物（ＩＩＩ－Ａ－１）の１．００ｇとフェノール３．１５ｇを加え、６０℃に昇温した。３－メルカプトプロピオン酸０．０５ｇと３５％塩酸０．１２ｇを加え、オキシ塩化リン０．０９ｇを滴下した。混合物を６５～７０℃で１３時間反応させた後、反応混合物のＬＣ－ＭＳ分析により、化合物（ＩＩ－Ａ－１）の異性体混合物の生成を確認した。得られた反応混合物のＨＰＬＣ分析（面積百分率）の結果、反応混合物中のフェノールを除く成分の組成は以下の通りであった。
化合物（ＩＩ－Ａ－１）の異性体混合物：６４％（内、化合物（ＩＩ－Ａ－１）が２０％）

実施例４では、一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物（具体的には、化合物（ＩＩＩ－Ａ－１））中の水酸基の誘導体化を行わずに、フェノールとの反応によるビスフェノール部分の合成を行った。その結果、目的化合物（ＩＩ－Ａ－１）が生成した。しかしながら、目的化合物の異性体も生成した。生成した異性体は以下のように推定された。

［実施例５］化合物（ＩＩＩ－Ｂ－２）の製造

撹拌装置、窒素導入管及び温度計を付した１Ｌ四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、化合物（ＩＩＩ－Ａ－１）の６．１６ｇ、ジメチルホルムアミド２８ｍＬ及び水酸化ナトリウム１．３２ｇを加えた。０℃に冷却後、ジメチル硫酸３．８２ｇを滴下した。混合物を３時間反応させた。トルエン１００ｍＬを加え、３５％塩酸１００ｍＬを滴下し、室温まで昇温し、有機層と水層を分離した。得られた有機層を水５０ｇ及び３５％塩酸１０ｇで一回洗浄し、溶媒を減圧留去し、茶色結晶６．４８ｇ（収率９９％）を得た。本明細書中の他の実施例と同様に、各種分析により該茶色結晶は目的物である化合物（ＩＩＩ－Ｂ－２）であることが確認された。化合物（ＩＩＩ－Ｂ－２）は公知化合物である。

［実施例６］化合物（ＩＩ－Ｂ－２）の製造

撹拌子を入れた試験管に、化合物（ＩＩＩ－Ｂ－２）の１．００ｇとフェノール２．９６ｇを加え、６０℃に昇温した。３－メルカプトプロピオン酸０．０４ｇと３５％塩酸０．１１ｇを加え、オキシ塩化リン０．０８ｇを滴下した。混合物を６５～７０℃で８時間反応させた後、更に３－メルカプトプロピオン酸０．０４ｇと３５％塩酸０．１１ｇを加え、オキシ塩化リン０．０８ｇを滴下した。混合物を更に８時間反応させた後、反応混合物のＬＣ－ＭＳ分析により、化合物（ＩＩ－Ｂ－２）の異性体混合物の生成を確認した。得られた反応混合物のＨＰＬＣ分析（面積百分率）の結果、反応混合物中のフェノールを除く成分の組成は以下の通りであった。
化合物（ＩＩ－Ｂ－２）の異性体混合物：７１％（内、化合物（ＩＩ－Ｂ－２）が３４％）

実施例６では、一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物（具体的には、化合物（ＩＩＩ－Ａ－１））中の水酸基をメトキシ基に誘導体化した後、フェノールとの反応によるビスフェノール部分の合成を行った。その結果、目的化合物（ＩＩ－Ｂ－２）が生成した。しかしながら、目的化合物の異性体も生成した。生成した異性体は以下のように推定された。

［実施例７］化合物（ＩＩ－Ｂ－３）の製造

撹拌装置、窒素導入管及び温度計を付した１Ｌ四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、化合物（ＩＩＩ－Ａ－１）を５．００ｇ、ジメチルホルムアミド３２ｍＬ及び炭酸カリウム７．７０ｇを加えた。０℃に冷却後、ベンジルブロミド４．１９ｇを滴下した。室温まで昇温した後、混合物を１時間反応させた。水及び酢酸エチルを加え、有機層と水層を分離した。得られた有機層を水で一回洗浄し、溶媒を減圧留去した後、得られた粗生成物を酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒を用いて晶析し、白色結晶３．２４ｇ（収率４６％）を得た。本明細書中の他の実施例と同様に、各種分析により該白色結晶は目的物である化合物（ＩＩＩ－Ｂ－３）であることが確認された。化合物（ＩＩＩ－Ｂ－３）は公知化合物である。

［実施例８］化合物（ＩＩ－Ａ－１）の製造

撹拌子を入れた試験管に、化合物（ＩＩＩ－Ｂ－３）の１．００ｇとフェノール２．２５ｇを加え、６０℃に昇温した。３－メルカプトプロピオン酸０．０３ｇと３５％塩酸０．０８ｇを加え、オキシ塩化リン０．０６ｇを滴下した。混合物を６５～７０℃で７時間反応させた後、反応混合物のＬＣ－ＭＳ分析により、化合物（ＩＩ－Ａ－１）の異性体混合物及び化合物（ＩＩＩ－Ａ－１）の生成を確認した。得られた反応混合物のＨＰＬＣ分析（面積百分率）の結果、反応混合物中のフェノールを除く成分の組成は以下の通りであった。
化合物（ＩＩ－Ａ－１）の異性体混合物：２３％（内、化合物（ＩＩ－Ａ－１）が１５％）
化合物（ＩＩＩ－Ａ－１）：２１％

［実施例９］化合物（ＩＩＩ－Ｂ－４）の製造

撹拌装置、窒素導入管及び温度計を付した１Ｌ四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、化合物（ＩＩＩ－Ａ－１）の５．００ｇ及びジクロロメタン１１２ｍＬを加えた。０℃に冷却後、ピリジン２．６５ｇ及びピバリン酸クロリド２．８２ｇを滴下した。室温まで昇温した後、混合物を３日間反応させた。塩化アンモニウム水溶液を加え、有機層と水層を分離した。得られた有機層に２５％水酸化ナトリウム水溶液を加え、４０分撹拌後、有機層と水層を分離した。得られた有機層を水で一回洗浄し、溶媒を減圧留去し、白色結晶６．４９ｇ（収率９９％）を得た。本明細書中の他の実施例と同様に、各種分析により該白色結晶は目的物である化合物（ＩＩＩ－Ｂ－４）であることが確認された。化合物（ＩＩＩ－Ｂ－４）は公知化合物である。

［実施例１０］化合物（ＩＩ－Ａ－１）の製造

撹拌子を入れた試験管に、化合物（ＩＩＩ－Ｂ－４）の１．００ｇとフェノール２．２９ｇを加え、６０℃に昇温した。３－メルカプトプロピオン酸０．０３ｇと３５％塩酸０．０８ｇを加え、オキシ塩化リン０．０６ｇを滴下した。６５～７０℃で３３時間反応させた後、反応混合物のＬＣ－ＭＳ分析により、化合物（ＩＩ－Ａ－１）の異性体混合物、化合物（ＩＩ－Ｂ－４）及び化合物（ＩＩＩ－Ａ－１）の生成を確認した。得られた反応混合物のＨＰＬＣ分析（面積百分率）の結果、反応混合物中のフェノールを除く成分の組成は以下の通りであった。
化合物（ＩＩ－Ａ－１）の異性体混合物：２７％（内、化合物（ＩＩ－Ａ－１）が２２％）
化合物（ＩＩ－Ｂ－４）：３１％化合物（ＩＩＩ－Ａ－１）：９％

［実施例１１］化合物（Ｉ－１）の製造

撹拌装置、窒素導入管、還流冷却管及び温度計を付した１Ｌ四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、化合物（ＩＩ－Ａ－１）の３１．３１ｇ、エピクロロヒドリン１５４．２１ｇ及び７５％トリブチルメチルアンモニウムクロリド水溶液０．５０ｇを加えた。混合物を７０℃で反応させた。その後、減圧下６０℃で共沸脱水しながら、２５％水酸化ナトリウム水溶液４１．５３ｇを滴下した。滴下後、水の留出がなくなったら、１２０℃まで昇温しながらエピクロロヒドリンを減圧留去した。１１０℃に冷却後、トルエンを滴下して粗生成物を溶解させた。１０～２０℃まで冷却した後、不溶物をろ過により取り除いた。ろ液を再び６０℃に加熱し、７５％トリブチルメチルアンモニウムクロリド水溶液０．５０ｇ及び２５％水酸化ナトリウム水溶液３．１６ｇを加え、２時間撹拌した。１０％リン酸二水素ナトリウム水溶液をｐＨ６になるまで加え、有機層と水層を分離した。得られた有機層を温水３４．１０ｇで二回洗浄し、溶媒を減圧留去し、淡黄色粘調物４４．５４ｇ（収率９９％ エポキシ当量１９２）を得た。各種分析により該淡黄色粘調物は目的物である化合物（Ｉ－１）であることが確認された。分析結果を以下に示す。

（分析結果）
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＤＭＳＯ－ｄ_６）のケミカルシフト（ｐｐｍ）
７．３６－７．２１（ｍ，５Ｈ）、７．１７－７．１２（ｍ，２Ｈ）、７．０７－７．０３（ｍ，２Ｈ）、６．９２－６．８７（ｍ，４Ｈ）、６．８３－６．７９（ｄｄ，１Ｈ）、６．７２－６．６９（ｄｄ，１Ｈ）、６．６０－６．５９（ｄ，１Ｈ）、４．３２－４．１９（ｍ，３Ｈ）、４．１１－４．０５（ｄｄ，１Ｈ）、３．８７－３．７３（ｍ，３Ｈ）、３．３４－３．２５（ｍ，３Ｈ）、３．２１－３．１４（ｄｄ，１Ｈ）、２．８５－２．７８（ｍ，３Ｈ）、２．７２－２．６４（ｍ，４Ｈ）
ＩＲの吸収（ｃｍ^－１）
３０５７、３０２７、３０００、２９２５、１５０８、１２４５、１１８２、１０３２、８３１

［評価例１及び比較評価例１］保存安定性評価
２－ブタノンに化合物（Ｉ－１）及びアデカレジンＥＰ－４１００（ＡＤＥＫＡ社製ビスフェノールＡ型エポキシ化合物）を溶解させた組成物を、それぞれ６０℃で５日放置した。下記の評価基準により保存安定性を評価した。
○：変化なし
×：増粘あるいはゲル化

表１より、本発明の多官能エポキシ化合物は、保存安定性に優れることが明らかである。

Claims (15)

1. 下記一般式（Ｉ）で表される化合物。
   

   

   
   式中、Ｘ^１及びＸ^２は、それぞれ独立に、酸素原子又は硫黄原子であり；
   Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環基、複素環基と炭素原子数１～８のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＣＯ－ＮＨ－及び－ＮＨ－ＣＯ－からなる群から選択される１以上の基との組み合わせからなる炭素原子数２～２０の基、又は下記一般式（ａ）で表される置換基であり；
   該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^７とＲ^８、及びＲ^８とＲ^９が互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり；
   ただし、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４の少なくとも１つが、下記一般式（ａ）で表される置換基であるか、又はＲ^１とＲ^２、Ｒ^２とＲ^３、及びＲ^３とＲ^４の少なくとも１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、その形成されたベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の少なくとも１つが下記一般式（ａ）で表される置換基で置換されている。
   

   

   
   式中、Ｘ^３は、酸素原子又は硫黄原子であり；＊は結合部分を表す。
2. Ｒ ^１ 、Ｒ ^２ 、Ｒ ^３ 、Ｒ ^４ 、Ｒ ^５ 、Ｒ ^６ 、Ｒ ^７ 、Ｒ ^８ 及びＲ ^９ が、それぞれ独立に、水素原子又は上記一般式（ａ）で表される置換基であり、
   Ｒ ^１ 、Ｒ ^２ 、Ｒ ^３ 及びＲ ^４ の少なくとも１つが、上記一般式（ａ）で表される置換基である、請求項１に記載の化合物。
3. Ｒ ^１ 、Ｒ ^２ 、Ｒ ^３ 及びＲ ^４ の１つが、上記一般式（ａ）で表される置換基である、請求項１又は２に記載の化合物。
4. 下記一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物。
   

   

   
   式中、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５Ａ、Ｒ^６Ａ、Ｒ^７Ａ 、Ｒ^８Ａ及びＲ^９Ａは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環基、又は複素環基と炭素原子数１～８のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＣＯ－ＮＨ－及び－ＮＨ－ＣＯ－からなる群から選択される１以上の基との組み合わせからなる炭素原子数２～２０の基であり；
   該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ ^３Ａ 、Ｒ^３ＡとＲ ^４Ａ 、Ｒ ^５Ａ とＲ^６Ａ、Ｒ^６ＡとＲ^７Ａ、Ｒ^７ＡとＲ^８Ａ、及びＲ^８ＡとＲ^９Ａが互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり；
   ただし、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ及びＲ^４Ａの少なくとも１つが水酸基であるか、又はＲ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ、及びＲ^３ＡとＲ^４Ａの少なくとも１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、その形成されたベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換されている。
5. Ｒ ^１Ａ 、Ｒ ^２Ａ 、Ｒ ^３Ａ 、Ｒ ^４Ａ 、Ｒ ^５Ａ 、Ｒ ^６Ａ 、Ｒ ^７Ａ 、Ｒ ^８Ａ 及びＲ ^９Ａ は、それぞれ独立に、水素原子又は水酸基であり；
   Ｒ ^１Ａ 、Ｒ ^２Ａ 、Ｒ ^３Ａ 及びＲ ^４Ａ の少なくとも１つが水酸基である、請求項４に記載の化合物。
6. Ｒ ^１Ａ 、Ｒ ^２Ａ 、Ｒ ^３Ａ 及びＲ ^４Ａ のいずれか１つが水酸基である、請求項４又は５に記載の化合物。
7. 下記一般式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物。
   

   

   
   式中、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４Ｂ、Ｒ^５Ｂ、Ｒ^６Ｂ、Ｒ^７Ｂ、Ｒ^８Ｂ及びＲ^９Ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環基、複素環基と炭素原子数１～８のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＣＯ－ＮＨ－及び－ＮＨ－ＣＯ－からなる群から選択される１以上の基との組み合わせからなる炭素原子数２～２０の基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
   該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂ、Ｒ^６ＢとＲ^７Ｂ、Ｒ^７ＢとＲ^８Ｂ、及びＲ^８ＢとＲ^９Ｂが互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり；
   ただし、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ及びＲ^４Ｂの少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基であるか、又はＲ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、及びＲ^３ＢとＲ^４Ｂの少なくとも１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、その形成されたベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基で置換されている。
   

   

   
   式中、Ｙは、炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、又は炭素原子数２～１０のアルキルカルボニル基を表し；＊は結合部分を表す。
8. Ｒ ^１Ｂ 、Ｒ ^２Ｂ 、Ｒ ^３Ｂ 、Ｒ ^４Ｂ 、Ｒ ^５Ｂ 、Ｒ ^６Ｂ 、Ｒ ^７Ｂ 、Ｒ ^８Ｂ 及びＲ ^９Ｂ は、それぞれ独立に、水素原子又は上記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
   Ｒ ^１Ｂ 、Ｒ ^２Ｂ 、Ｒ ^３Ｂ 及びＲ ^４Ｂ の少なくとも１つが上記一般式（ｂ）で表される置換基である、請求項７に記載の化合物。
9. Ｒ ^１Ｂ 、Ｒ ^２Ｂ 、Ｒ ^３Ｂ 及びＲ ^４Ｂ の１つが上記一般式（ｂ）で表される置換基である、請求項７又は８に記載の化合物。
10. Ｙは、炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基、又は炭素原子数２～１０のアルキルカルボニル基を表し；＊は結合部分を表す、請求項７～９のいずれか１項に記載の化合物。
11. Ｙは、炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基を表し；＊は結合部分を表す、請求項７～１０のいずれか１項に記載の化合物。
12. 請求項４～６のいずれか１項に記載の上記一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物と、エピクロロヒドリンとを反応させる工程を含む、請求項１に記載の上記一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。
13. 下記一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物と、フェノールとを反応させる工程を含む、下記一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物の製造方法。
    

    

    
    式中、Ｒ^１Ｂ 、Ｒ^２Ｂ 、Ｒ^３Ｂ 、Ｒ^４Ｂ 、Ｒ^５Ｂ 、Ｒ^６Ｂ 、Ｒ^７Ｂ 、Ｒ^８Ｂ 及びＲ^９Ｂ は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環基、複素環基と炭素原子数１～８のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＣＯ－ＮＨ－及び－ＮＨ－ＣＯ－からなる群から選択される１以上の基との組み合わせからなる炭素原子数２～２０の基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
    該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ ^１Ｂ とＲ ^２Ｂ 、Ｒ ^２Ｂ とＲ ^３Ｂ 、Ｒ ^３Ｂ とＲ ^４Ｂ 、Ｒ ^５Ｂ とＲ ^６Ｂ 、Ｒ ^６Ｂ とＲ ^７Ｂ 、Ｒ ^７Ｂ とＲ ^８Ｂ 、及びＲ ^８Ｂ とＲ ^９Ｂ が互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり；
    ただし、Ｒ ^１Ｂ 、Ｒ ^２Ｂ 、Ｒ ^３Ｂ 及びＲ ^４Ｂ の少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基であるか、又はＲ ^１Ｂ とＲ ^２Ｂ 、Ｒ ^２Ｂ とＲ ^３Ｂ 、及びＲ ^３Ｂ とＲ ^４Ｂ の少なくとも１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、その形成されたベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基で置換されている。
    

    

    
    式中、Ｙは、炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、又は炭素原子数２～１０のアルキルカルボニル基を表し；＊は結合部分を表す。
    

    

    
    式中、Ｒ^１Ａ 、Ｒ^２Ａ 、Ｒ^３Ａ 、Ｒ^４Ａ 、Ｒ^５Ａ 、Ｒ^６Ａ 、Ｒ^７Ａ 、Ｒ^８Ａ 及びＲ^９Ａ は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環基又は複素環基と炭素原子数１～８のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＣＯ－ＮＨ－及び－ＮＨ－ＣＯ－からなる群から選択される１以上の基との組み合わせからなる炭素原子数２～２０の基であり；
    該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１Ａ とＲ^２Ａ 、Ｒ^２Ａ とＲ^３Ａ 、Ｒ^３Ａ とＲ^４Ａ 、Ｒ^５Ａ とＲ^６Ａ 、Ｒ^６Ａ とＲ^７Ａ 、Ｒ^７Ａ とＲ^８Ａ 、及びＲ^８Ａ とＲ^９Ａ が互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり；
    ただし、Ｒ^１Ａ 、Ｒ^２Ａ 、Ｒ^３Ａ 及びＲ^４Ａ の少なくとも１つが水酸基であるか、又はＲ^１Ａ とＲ^２Ａ 、Ｒ^２Ａ とＲ^３Ａ 、及びＲ^３Ａ とＲ^４Ａ の少なくとも１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、その形成されたベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換されている。
14. 以下の工程（１）～（３）を含む、請求項１３に記載の製造方法。
    工程（１）：下記一般式（ＩＩＩ－Ａ）で表される化合物を、塩基の存在下又は非存在下で、スルホニル化剤、又はアシル化剤と反応させて、下記一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物を製造する。
    

    

    
    式中、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５Ａ、Ｒ^６Ａ、Ｒ^７Ａ 、Ｒ^８Ａ及びＲ^９Ａは、それぞれ独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環基、又は複素環基と炭素原子数１～８のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＣＯ－ＮＨ－及び－ＮＨ－ＣＯ－からなる群から選択される１以上の基との組み合わせからなる炭素原子数２～２０の基であり；
    該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ 、Ｒ^３ＡとＲ^４Ａ 、Ｒ^５Ａ とＲ^６Ａ、Ｒ^６ＡとＲ^７Ａ、Ｒ^７ＡとＲ^８Ａ、及びＲ^８ＡとＲ^９Ａが互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり；
    ただし、Ｒ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ及びＲ^４Ａの少なくとも１つが水酸基であるか、又はＲ^１ＡとＲ^２Ａ、Ｒ^２ＡとＲ^３Ａ、及びＲ^３ＡとＲ^４Ａの少なくとも１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、その形成されたベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の少なくとも１つが水酸基で置換されている。
    

    

    
    式中、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４Ｂ、Ｒ^５Ｂ、Ｒ^６Ｂ、Ｒ^７Ｂ、Ｒ^８Ｂ及びＲ^９Ｂは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数６～２０のアリール基、炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、炭素原子数７～２０のアリールアルコキシ基、炭素原子数２～２０の複素環基、複素環基と炭素原子数１～８のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－Ｏ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－、－Ｓ－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｓ－、－ＣＯ－ＮＨ－及び－ＮＨ－ＣＯ－からなる群から選択される１以上の基との組み合わせからなる炭素原子数２～２０の基又は下記一般式（ｂ）で表される置換基であり；
    該アルキル基、該アルコキシ基、該アリールアルキル基及び該アリールアルコキシ基中の１以上の単結合が、二重結合及び／又は三重結合で置換されていることがあり；Ｒ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、Ｒ^３ＢとＲ^４Ｂ、Ｒ^５ＢとＲ^６Ｂ、Ｒ^６ＢとＲ^７Ｂ、Ｒ^７ＢとＲ^８Ｂ、及びＲ^８ＢとＲ^９Ｂが互いに結合して、ベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合があり；
    ただし、Ｒ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ及びＲ^４Ｂの少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基であるか、又はＲ^１ＢとＲ^２Ｂ、Ｒ^２ＢとＲ^３Ｂ、及びＲ^３ＢとＲ^４Ｂの少なくとも１つの組み合わせがベンゼン環又はシクロヘキサン環を形成する場合には、その形成されたベンゼン環又はシクロヘキサン環における水素原子の少なくとも１つが下記一般式（ｂ）で表される置換基で置換されている。
    

    

    
    式中、Ｙは、炭素原子数１～１０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、又は炭素原子数２～１０のアルキルカルボニル基を表し；＊は結合部分を表す。
    工程（２）：上記一般式（ＩＩＩ－Ｂ）で表される化合物を、酸性触媒の存在下で、フェノールと反応させて、下記一般式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物を製造する。
    

    

    
    式中のＲ^１Ｂ、Ｒ^２Ｂ、Ｒ^３Ｂ、Ｒ^４Ｂ、Ｒ^５Ｂ、Ｒ^６Ｂ、Ｒ^７Ｂ、Ｒ^８Ｂ及びＲ^９Ｂは、一般式（ＩＩＩ－Ｂ）のそれらと同じである。
    工程（３）：塩基又は酸の存在下で、上記一般式（ＩＩ－Ｂ）で表される化合物を反応させて、下記一般式（ＩＩ－Ａ）で表される化合物を製造する。
    

    

    
    式中のＲ^１Ａ、Ｒ^２Ａ、Ｒ^３Ａ、Ｒ^４Ａ、Ｒ^５Ａ、Ｒ^６Ａ、Ｒ ^７Ａ 、Ｒ^８Ａ及びＲ^９Ａは、一般式（ＩＩＩ－Ａ）のそれらと同じである。
15. 請求項１３又は１４に記載の製造方法を含む、請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物の製造方法。