JP7002519B2 - 電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法 - Google Patents
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Description
(1)篩い分けようとする球状シリコン微粉末を粗い分級装置に入れて粗い分級を行い、粒度がTop cut55μm以上である粗粒度製品Aと粒度がそれ以外の細粒度製品Bとを得る粗い分級ステップと、
(2)ステップ(1)で得られた細粒度製品Bを精密分級装置に入れて精密分級を行い、粗大粒子の数が低減された球状シリコン微粉末製品Cを得る精密分級ステップと、
(3)ステップ(2)で得られた球状シリコン微粉末製品Cを、気流分散下でミキサーに入れ、ステップ(1)で得られた粗粒度製品Aの球状シリコン微粉末と混合させて粒度配合を行うことで、電子パッケージング用の球状シリコン微粉末を得る粒度配合ステップと、
を含む技術的解決手段によって実現できる。
電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、この方法では、篩い分けようとする球状シリコン微粉末から粗い分級及び精密分級によって粗大粒子を除去し、次に、粗い分級後に粗大粒子の制御の要件を満たす球状シリコン微粉末と、精密分級後の球状シリコン微粉末との粒度配合を行い、均一に混合させて電子パッケージング用の球状シリコン微粉末を調製して得た。
実施例1に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、
(1)篩い分けようとする球状シリコン微粉末を粗い分級装置に入れて粗い分級を行い、粗粒度製品A及び細粒度製品Bを得る粗い分級ステップと、
(2)ステップ(1)で得られた細粒度製品Bを精密分級装置に入れて精密分級を行い、球状シリコン微粉末製品Cを得る精密分級ステップと、
(3)ステップ(2)で得られて球状シリコン微粉末製品Cを気流分散下でミキサーに入れ、ステップ(1)で得られた粗大粒子制御の要件を満たす球状シリコン微粉末と混合させ、電子パッケージング用の球状シリコン微粉末を得る粒度配合ステップとを含み、
粗粒度製品Aとは、粒度がTop cut55μm以上である球状シリコン微粉末のことをいい、細粒度製品Bとは、粒度がTop cut55μm以下の球状シリコン微粉末のことをいい、細粒度製品Bの粒度は、D50:0.1~30μmが好ましく、球状シリコン微粉末製品Cとは、粗大粒子の数を10個以下に制御する球状シリコン微粉末のことをいい、球状シリコン微粉末製品Cの粒度は、D50:6~40μmが好ましく、後続の精密分級の円滑性の要件を満たすために、粗い分級によって細粒度製品Bにおける粗大粒子の含有量を制御した。
実施例2に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、ステップ(1)における細粒度製品Bは、粒度がTop cut55μm以下の球状シリコン微粉末であった。
実施例2~3に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、ステップ(1)における粗い分級装置は、サイクロン分離器、渦分類器、振動スクリーン又は揺動スクリーンであった。
実施例2~4に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、ステップ(2)における精密分級装置は、気流分級機、ボールトン振動ふるい機、超音波振動ふるい機、揺動振動ふるい機、リニア振動ふるい機、又は気流スクリーン機であった。
実施例2~5に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、ステップ(3)に記載の使用されるミキサーは、高撹拌機、二次元ミキサー、三次元ミキサー、ダブルコーンミキサー、V型ミキサー、無重力ミキサー、円錐ミキサー又はコールターミキサーであった。
実施例2~6に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、ステップ(3)で使用されるミキサーの負荷係数を0.3~0.5にした。
実施例2~7に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、ステップ(3)に記載の粒度配合において、ステップ(2)に記載の球状シリコン微粉末製品Cと、ステップ(1)で得られて粗大粒子制御の要件を満たす球状シリコン微粉末との質量比は0.70:0.25であった。
実施例2~7に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、ステップ(3)に記載の粒度配合において、ステップ(2)に記載の球状シリコン微粉末製品Cと、ステップ(1)で得られて粗大粒子制御の要件を満たす球状シリコン微粉末との質量比は0.75:0.35であった。
実施例2~7に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、ステップ(3)に記載の粒度配合において、ステップ(2)に記載の球状シリコン微粉末製品Cと、ステップ(1)で得られて粗大粒子制御の要件を満たす球状シリコン微粉末との質量比は0.72:0.30であった。
実施例2~8に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、ステップ(1)に記載の球状シリコン微粉末は異なる粒径の多角形であるシリコン微粉末をガス燃焼炎法によって調製して得られたものであって、多角形結晶シリコン微粉末の粒径をD50:0.1~60μmにするように制御した。
電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、
(1)粒径がD50:0.1~60μmにするように制御された多角形であるシリコン微粉末を選択してガス燃焼炎法によって球状シリコン微粉末を調製して得る高温球状化処理ステップと、
(2)球状シリコン微粉末を粗い分級を行い、粗粒度製品A及び細粒度製品Bを得る粗い分級ステップと、
(3)ステップ(1)で得られた細粒度製品Bを精密分級を行い、球状シリコン微粉末製品Cを得る精密分級ステップと、
(4)ステップ(3)で得られた球状シリコン微粉末製品Cとステップ(1)で得られて粗大粒子制御の要件を満たすシリコン微粉末を質量比0.75:0.35で混合させ、ミキサーの負荷係数を0.3にして、均一に混合させた後、完成品を得る粒度配合ステップとを含み、
実施例12によって得られた完成品の粒度はD10:1.82μm、D50:6.88μm、D90:12.6μmであり、粒度分布には二つのピークが現れて、比表面積は6.0m2/gであり、粗大粒子を10個以下にするように制御した。
電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、
(1)粒径をD50:0.1~60μmにするように制御した多角形であるシリコン微粉末を選択してガス燃焼炎法によって球状シリコン微粉末を調製して得る高温球状化処理ステップと、
(2)粗い分級:球状シリコン微粉末を粗い分級、粗粒度製品A及び細粒度製品Bを得る粗い分級ステップと、
(3)精密分級:ステップ(1)で得られた細粒度製品Bを精密分級を行い、球状シリコン微粉末製品Cを得る精密分級ステップと、
(4)ステップ(3)で得られた球状シリコン微粉末製品Cとステップ(1)で得られて粗大粒子制御の要件を満たすシリコン微粉末とを質量比0.70:0.30で混合させ、ミキサーの負荷係数を0.4にし、均一に混合させた後、完成品を得る粒度配合ステップとを含み、
実施例13によって得られた完成品の粒度はD10:1.85μm、D50:7.00μm、D90:12.59μmであり、粒度分布には二つのピークが現れて、比表面積は5.5m2/gであり、粗大粒子を10個以下にするように制御した。
電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法であって、
(1)粒径をD50:0.1~60μmにするように制御した多角形であるシリコン微粉末を選択してガス燃焼炎法によって球状シリコン微粉末を調製して得る高温球状化処理ステップと、
(2)粗い分級:球状シリコン微粉末を、粗い分級を行い、粗粒度製品A及び細粒度製品Bを得る粗い分級ステップと、
(3)精密分級:ステップ(1)で得られた細粒度製品Bを、精密分級を行い、球状シリコン微粉末製品Cを得る精密分級ステップと、
(4)ステップ(3)で得られた球状シリコン微粉末製品Cと、ステップ(1)で得られた粗大粒子制御の要件を満たすシリコン微粉末とを質量比0.75:0.25で混合させ、ミキサーの負荷係数を0.5にし、均一に混合させた後、完成品を得る粒度配合ステップとを含み、
比較例1によって得られた完成品の粒度はD10:1.88μm、D50:7.12μm、D90:12.67μmであり、粒度分布には二つのピークが現れ、比表面積は5.1m2/gであり、粗大粒子は10個以下に制御した。
ステップ(3)によって得られたシリコン微粉末製品Cを選択し、粒度配合を行わず、その粒度はD10:3~5μm、D50:6~9μm、D90:10~15μmであり、粒度分級は単一ピーク分布(Unimodal distribution)を示し、比表面積は約1m2/gであり、粗大粒子を10個以下にするように制御した。
Claims (4)
- (1)篩い分けようとする球状シリコン微粉末を粗い分級装置に入れて粗い分級を行い、粒度がTop cut55μm以上である粗粒度製品Aと粒度がそれ以外の細粒度製品Bとを得る粗い分級ステップと、
(2)ステップ(1)で得られた細粒度製品Bを精密分級装置に入れて精密分級を行い、粗大粒子の数が低減された球状シリコン微粉末製品Cを得る精密分級ステップと、
(3)ステップ(2)で得られた球状シリコン微粉末製品Cを、気流分散下でミキサーに入れ、ステップ(1)で得られた粗粒度製品Aの球状シリコン微粉末と混合させて粒度配合を行うことで、電子パッケージング用の球状シリコン微粉末を得る粒度配合ステップと、を含み、
ステップ(3)に記載の粒度配合において、ステップ(2)に記載の球状シリコン微粉末製品Cとステップ(1)で得られた粗粒度製品Aの球状シリコン微粉末との質量比が0.75:0.35~0.70:0.30である電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法。 - ステップ(1)に記載の粗い分級装置は、サイクロン分離器、渦分類器、振動スクリーン又は揺動スクリーン機であることを特徴とする請求項1に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法。
- ステップ(2)に記載の精密分級装置は、気流分級機、ボールトン振動ふるい機、超音波振動ふるい機、揺動振動ふるい機、リニア振動ふるい機、又は気流スクリーン機であることを特徴とする請求項1に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法。
- ステップ(3)で使用されるミキサーは、高撹拌機、二次元ミキサー、三次元ミキサー、ダブルコーンミキサー、V型ミキサー、無重力ミキサー、円錐ミキサー又はコールターミキサーであることを特徴とする請求項1に記載の電子パッケージング用の球状シリコン微粉末の調製方法。
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CN112591756A (zh) * | 2020-11-30 | 2021-04-02 | 江苏联瑞新材料股份有限公司 | 一种高纯低放射性球形硅微粉及其制备方法 |
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CN113735149A (zh) * | 2021-09-17 | 2021-12-03 | 江苏联瑞新材料股份有限公司 | 高导热底部填充胶用球形氧化铝粉的制备方法 |
CN113880097B (zh) * | 2021-11-12 | 2023-09-01 | 联瑞新材(连云港)有限公司 | 降低ic封装不良率的球形硅微粉的制备方法 |
CN114874644B (zh) * | 2022-04-21 | 2023-07-25 | 吉安豫顺新材料有限公司 | 一种包覆型球形硅微粉的制备方法 |
KR102628774B1 (ko) * | 2023-04-28 | 2024-01-23 | 주식회사 이녹스에코엠 | 이차전지 음극재용 실리콘 분말 및 이의 제조 방법 |
CN117326563B (zh) * | 2023-09-28 | 2024-03-22 | 吉安豫顺新材料有限公司 | 一种车载覆铜板用低杂质硅微粉的制备方法及系统 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001064522A (ja) | 1999-08-27 | 2001-03-13 | Toray Ind Inc | 半導体封止用樹脂組成物 |
JP2011225391A (ja) | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 電子部品材料用Si粉末 |
JP2012206923A (ja) | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Tmc Kk | シリコン微粉末の製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101474584B (zh) * | 2009-01-19 | 2011-10-05 | 连云港东海铭友高科硅微粉有限公司 | 一种电子级无定型硅微粉的生产方法 |
CN101570332B (zh) * | 2009-06-12 | 2011-04-20 | 中国地质大学(武汉) | 一种高纯度、低放射性球形硅微粉的制备方法 |
CN103506304B (zh) * | 2013-09-12 | 2016-05-11 | 中信重工机械股份有限公司 | 一种超声波湿法筛分装置 |
CN103937294B (zh) * | 2014-05-08 | 2017-02-01 | 连云港华威硅微粉有限公司 | 一种高密度集成电路封装用硅微粉的制备方法 |
CN107827117B (zh) * | 2017-11-22 | 2020-12-22 | 江苏联瑞新材料股份有限公司 | 一种多峰形分布球形二氧化硅微粉的制备方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001064522A (ja) | 1999-08-27 | 2001-03-13 | Toray Ind Inc | 半導体封止用樹脂組成物 |
JP2011225391A (ja) | 2010-04-19 | 2011-11-10 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 電子部品材料用Si粉末 |
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