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JP6969351B2 - Semiconductor fine particle compositions, quantum dots, coating liquids containing them, ink compositions, and their uses. - Google Patents

Semiconductor fine particle compositions, quantum dots, coating liquids containing them, ink compositions, and their uses. Download PDF

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JP6969351B2 JP2017242558A JP2017242558A JP6969351B2 JP 6969351 B2 JP6969351 B2 JP 6969351B2 JP 2017242558 A JP2017242558 A JP 2017242558A JP 2017242558 A JP2017242558 A JP 2017242558A JP 6969351 B2 JP6969351 B2 JP 6969351B2
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Description

本発明は、半導体微粒子組成物および量子ドット、およびそれらを含有する塗工液とインキ組成物、インクジェットインキ、およびそれらを使用した塗工物と印刷物、波長変換フィルム、カラーフィルター、発光素子に関する。 The present invention relates to semiconductor fine particle compositions and quantum dots, coating liquids and ink compositions containing them, inkjet inks, coating materials and printed materials using them, wavelength conversion films, color filters, and light emitting elements.

本発明の主要構成をなす量子ドットは、量子力学に従う独特な光学特性を発現させるために、電子を微小な空間に閉じ込めるために形成された極小さな粒(ドット)である。1粒の量子ドットの大きさは、直径1ナノメートルから数10ナノメートルであり、約1万個以下の原子で構成されている。発する蛍光の波長が、粒の大きさで連続的に制御できること、蛍光強度の波長分布が対称性の高いシャープな発光が得られることから近年注目を集めている。
量子ドットは、人体を透過しやすい波長に蛍光を調整でき、体内のあらゆる場所に送達できることより発光材料として生体イメージング用途(非特許文献1)、褪色の恐れがない波長変換材料として太陽電池用途(特許文献1)、鮮明な発光材料、波長変換材料としてエレクトロニクス・フォトニクス用途(特許文献2,3)への展開検討が行われている。
Quantum dots, which are the main constituents of the present invention, are extremely small particles (dots) formed to confine electrons in a minute space in order to exhibit unique optical properties according to quantum mechanics. The size of one quantum dot is from 1 nanometer to several tens of nanometers in diameter, and is composed of about 10,000 or less atoms. In recent years, attention has been focused on the fact that the wavelength of the emitted fluorescence can be continuously controlled by the grain size and that sharp emission with high symmetry in the wavelength distribution of the fluorescence intensity can be obtained.
Quantum dots can be adjusted for fluorescence to a wavelength that easily penetrates the human body and can be delivered to any location in the body, so they are used for bioimaging as a light emitting material (Non-Patent Document 1), and as a wavelength conversion material without the risk of fading (solar cell applications). Patent Document 1), a clear light emitting material, and a wavelength conversion material are being studied for development in electronics and photonics applications (Patent Documents 2 and 3).

これらの用途に展開するときに、微細なパターンを形成することが必要になる。パターン形成のために感光材料を用いて、レジスト液作成し、マスクを介して光照射する方法が提案されている(特許文献4)。しかし、感光材料や光照射時に量子ドットが劣化したり、現像で取り除く部分にも量子ドットが含まれ、量子ドット材料の利用効率が悪いなどの問題があった。
レジスト化しない方法としてインクジェット法が知られている。これまで、インクジェット法に用いることのできる量子ドットインキは作成されていない。
When developing for these applications, it is necessary to form fine patterns. A method of preparing a resist solution using a photosensitive material for pattern formation and irradiating it with light through a mask has been proposed (Patent Document 4). However, there are problems that the quantum dots are deteriorated when the photosensitive material or light is irradiated, and the quantum dots are also contained in the portion removed by development, and the utilization efficiency of the quantum dot material is poor.
The inkjet method is known as a method of not resisting. So far, quantum dot inks that can be used in the inkjet method have not been produced.

特開2006−216560号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2006-216560 特開2008−112154号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-11254 特開2009−251129号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-251129 特開2015−127733号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-127733

神隆、「半導体量子ドット、その合成法と生命科学への応用」、生産と技術、第63巻、第2号、2011年、p58〜p65Kamitaka, "Semiconductor Quantum Dots, Their Synthesis Methods and Applications to Life Sciences", Production and Technology, Vol. 63, No. 2, 2011, p58-p65 Journal of the American chemical society 2007 129 15432-15433Journal of the American chemical society 2007 129 15432-15433

本発明の目的は、半導体微粒子組成物の諸特性、特に量子ドットの蛍光特性を損なうことなく、塗工液やインキ、特にインクジェット法で印刷可能なインキを提供することであり、それを使用して、特性や経時安定性に優れた塗工物や印刷物、より具体的には、蛍光特性に優れた波長変換フィルムやカラーフィルター、発光素子を提供することである。 An object of the present invention is to provide a coating liquid or an ink, particularly an ink that can be printed by an inkjet method, without impairing various characteristics of the semiconductor fine particle composition, particularly the fluorescence characteristics of quantum dots, and the use thereof is used. Further, it is an object of the present invention to provide a coated or printed matter having excellent characteristics and stability over time, more specifically, a wavelength conversion film, a color filter and a light emitting element having excellent fluorescence characteristics.

本発明者は、前記課題を解決するために、鋭意検討した結果、特定組成の半導体微粒子組成物とすることで、量子ドットなどの諸特性を損なうことなく、前記塗工液やインキ、特にインクジェット法で印刷可能なインキを作製し、それらを使用した前記塗工物、印刷物、特にインキジェット法による印刷物、さらにはそれらを利用した波長変換フィルム、カラーフィルター、発光素子が提供可能であることを見出した。 As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor has made a semiconductor fine particle composition having a specific composition, so that the coating liquid and ink, particularly inkjet, without impairing various properties such as quantum dots. It is possible to produce inks that can be printed by the method, and to provide the coated matter and printed matter using them, particularly the printed matter by the ink jet method, and the wavelength conversion film, the color filter, and the light emitting element using them. I found it.

すなわち、本発明は、コア/シェル構造を有する半導体微粒子(A)と、前記シェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)と、溶剤とを含有することを特徴とする半導体微粒子組成物に関する。 That is, the present invention relates to a semiconductor fine particle composition comprising a semiconductor fine particle (A) having a core / shell structure, fine particles (B) consisting only of compounds constituting the shell, and a solvent.

また、本発明は、前記コア/シェル構造を有する半導体微粒子(A)と、前記シェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)との重量比が、1:99〜99:1であることを特徴とする前記の半導体微粒子組成物に関する。 Further, in the present invention, the weight ratio of the semiconductor fine particles (A) having the core / shell structure to the fine particles (B) composed only of the compounds constituting the shell is 1:99 to 99: 1. The present invention relates to the above-mentioned semiconductor fine particle composition.

また、本発明は、前記シェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)が、ZnS粒子を含有することを特徴とする前記の半導体微粒子組成物に関する。 The present invention also relates to the semiconductor fine particle composition, wherein the fine particles (B) composed of only the compounds constituting the shell contain ZnS particles.

また、本発明は、前記コア/シェル構造を有する半導体微粒子(A)が、量子ドットであることを特徴とする前記の半導体微粒子組成物に関する。 The present invention also relates to the semiconductor fine particle composition, wherein the semiconductor fine particles (A) having a core / shell structure are quantum dots.

また、本発明は、さらに樹脂を含有することを特徴とする前記の半導体微粒子組成物に関する。 The present invention also relates to the above-mentioned semiconductor fine particle composition, which further contains a resin.

また、本発明は、前記半導体微粒子組成物を含有することを特徴とする塗工液に関する。 The present invention also relates to a coating liquid containing the semiconductor fine particle composition.

また、本発明は、前記塗工液を使用してなる塗工物に関する。 The present invention also relates to a coated product using the coating liquid.

また、本発明は、前記半導体微粒子組成物を含有することを特徴とするインキ組成物に関する。 The present invention also relates to an ink composition comprising the semiconductor fine particle composition.

また、本発明は、前記インキ組成物を含有することを特徴とするインクジェットインキに関する。 The present invention also relates to an inkjet ink containing the ink composition.

また、本発明は、前記インキ組成物を使用してなる印刷物に関する。 The present invention also relates to a printed matter made by using the ink composition.

また、本発明は、前記塗工液またはインキ組成物を使用して形成された波長変換フィルムに関する。 The present invention also relates to a wavelength conversion film formed by using the coating liquid or the ink composition.

また、本発明は、前記塗工液またはインキ組成物を使用して形成されたカラーフィルターに関する。 The present invention also relates to a color filter formed by using the coating liquid or the ink composition.

また、本発明は、発光層が前記塗工液またはインキ組成物を使用して形成された発光素子に関する。 The present invention also relates to a light emitting device in which the light emitting layer is formed by using the coating liquid or the ink composition.

本発明により、半導体微粒子組成物の諸特性、特に量子ドットの蛍光特性を損なうことなく、塗工液やインキ、特にインクジェット法で印刷可能なインキが提供される。また、それを使用して、特性や経時安定性に優れた塗工物や印刷物、より具体的には、蛍光特性に優れた波長変換フィルムやカラーフィルター、発光素子が提供される。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention provides a coating liquid or an ink, particularly an ink that can be printed by an inkjet method, without impairing various characteristics of the semiconductor fine particle composition, particularly the fluorescence characteristics of quantum dots. Further, by using it, a coated or printed matter having excellent characteristics and stability over time, more specifically, a wavelength conversion film, a color filter and a light emitting element having excellent fluorescence characteristics are provided.

以下、本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.

<半導体微粒子組成物と量子ドット>
本発明の主要構成をなす量子ドットは、特定の半導体微粒子からなる組成物であり、半導体微粒子は、無機物を成分とする半導体である。
(半導体微粒子(A))
本発明の半導体微粒子は、コア/シェル構造を有する。
本発明の半導体は、2族元素、10属元素、11族元素、12族元素、13族元素、14族元素、15族元素および16族元素で示される元素の群から選ばれる単体、または2種以上の元素を含む化合物からなる半導体である。具体的には、Si、Ge、Sn、Se、Te、B、C(ダイアモンドを含む)、P、Co、Au、BN、BP、BAs、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、AlN、AlP、AlAs、AlSb、GaN、GaP、GaAs、GaSb、ZnO、ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdSe、CdSeZn、CdTe、HgS、HgSe、HgTe、BeS、BeSe、BeTe、MgS、MgSe、GeS、GeSe、GeTe、SnS、SnSe、SnTe、PbO、PbS、PbSe、PbTe、CuF、CuCl、CuBr、CuI、Si、Ge、Al、(Al、Ga、In)(S、Se、Te)、AlCOおよび二つまたはそれ以上のそのような材料の適切な組み合わせが挙げられる。
前記のうち好ましくは化合物半導体である。化合物半導体は、Zn、Cd、B、Al、Ga、In、C、Si、Ge、Sn、N、P、As、Sb、Pb、S,Se,Teで示される元素群から選ばれる少なくとも2種の元素を含む化合物からなる半導体である。
さらに好ましくは、人に対する安全性が懸念される元素を除いた、Zn、B、Al、Ga、In、C、Si、Ge、Sn、N、P、S,Teで示される元素群から選ばれる少なくとも2種の元素を含む化合物からなる半導体である。可視光を発光する用途では、バンドギャップの狭さからInを構成元素として含む半導体が、さらに好ましい。
<Semiconductor fine particle composition and quantum dots>
The quantum dots constituting the main constitution of the present invention are compositions composed of specific semiconductor fine particles, and the semiconductor fine particles are semiconductors containing an inorganic substance as a component.
(Semiconductor fine particles (A))
The semiconductor fine particles of the present invention have a core / shell structure.
The semiconductor of the present invention is a single element selected from the group of elements represented by Group 2 elements, Group 10 elements, Group 11 elements, Group 12 elements, Group 13 elements, Group 14 elements, Group 15 elements and Group 16 elements, or 2 It is a semiconductor made of a compound containing more than one kind of element. Specifically, Si, Ge, Sn, Se, Te, B, C (including diamond), P, Co, Au, BN, BP, BAs, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InN, InP, InAs, InSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdSeZn, CdTe, HgS, HgSe, HgSe BeSe, BeTe, MgS, MgSe, GeS, GeSe, GeTe, SnS, SnSe, SnTe, PbO, PbS, PbSe, PbTe, CuF, CuCl, CuBr, CuI, Si 3 N 4, Ge 3 N 4, Al 2 O 3 , (Al, Ga, In) 2 (S, Se, Te) 3 , Al 2 CO 3 and the appropriate combination of two or more such materials.
Of the above, a compound semiconductor is preferable. The compound semiconductor is at least two kinds selected from the element group represented by Zn, Cd, B, Al, Ga, In, C, Si, Ge, Sn, N, P, As, Sb, Pb, S, Se and Te. It is a semiconductor composed of a compound containing the above elements.
More preferably, it is selected from the group of elements represented by Zn, B, Al, Ga, In, C, Si, Ge, Sn, N, P, S and Te, excluding the elements that may be safe for humans. It is a semiconductor composed of a compound containing at least two kinds of elements. For applications that emit visible light, semiconductors containing In as a constituent element are more preferable because of the narrow bandgap.

このうち、本発明で好適に用いられるコア/シェル型の半導体微粒子(A)は、コアを形成する半導体成分と異なる半導体成分でコア構造を被覆された構造となる。外部がバントギャップの大きい半導体をすることで、光などのエネルギー励起によって生成された励起子(電子−正孔対)はコア内に閉じ込められる。その結果、半導体微粒子表面での無輻射遷移の確率が減少し、発光の量子収率および半導体量子ドットの蛍光特性の安定性が向上する。量子ドットとして使用される場合に、前記の条件を満たす好適な材料の組合せとしては、CdSe/ZnS、CdSe/ZnSe、CdS/ZnS、CdSe/CdS、CdTe/CdS、InP/ZnS、PbSe/PbS、GaP/ZnS、Si/ZnS、InN/GaN、InP/CdSSe、InP/ZnSeTe、InGaP/ZnSe、InGaP/ZnS、Si/AlP、InP/ZnSTe、InGaP/ZnSTe、InGaP/ZnSSeなどが挙げられる。
また、微粒子(A)のシェル成分としては、ZnS、CdS、ZnSeなどが良く用いられるが、この中でも微粒子(A)のコア成分がInを構成元素として含む半導体微粒子の場合、ZnSが元素毒性がなく、量子ドットとしての励起子閉じ込めなどの特性的にも特に優れており、好適に使用される。
Of these, the core / shell type semiconductor fine particles (A) preferably used in the present invention have a structure in which the core structure is covered with a semiconductor component different from the semiconductor component forming the core. Since the outside is a semiconductor with a large bunt gap, excitons (electron-hole pairs) generated by energy excitation such as light are confined in the core. As a result, the probability of non-radiative transition on the surface of the semiconductor fine particles is reduced, and the quantum yield of light emission and the stability of the fluorescence characteristics of the semiconductor quantum dots are improved. When used as quantum dots, suitable combinations of materials satisfying the above conditions include CdSe / ZnS, CdSe / ZnSe, CdS / ZnS, CdSe / CdS, CdTe / CdS, InP / ZnS, PbSe / PbS, and the like. Examples thereof include GaP / ZnS, Si / ZnS, InN / GaN, InP / CdSSe, InP / ZnSeTe, InGaP / ZnSe, InGaP / ZnS, Si / AlP, InP / ZnSTe, InGaP / ZnSTe, and InGaP / ZnSSe.
Further, ZnS, CdS, ZnSe and the like are often used as the shell component of the fine particles (A), but among them, when the core component of the fine particles (A) is a semiconductor fine particle containing In as a constituent element, ZnS is elementally toxic. However, it is particularly excellent in characteristics such as exciton confinement as a quantum dot, and is preferably used.

本発明の半導体微粒子(A)の無機材料部分の平均粒径は0.5nm〜100nmであることが好ましく、所望の特性が得られる粒径を選択することができる。コアシェル型の場合、一つの半導体微粒子の中に複数のシェル微粒子を含有してもよい。単一半導体組成である場合の半導体微粒子の平均粒径および、コアシェル型のコアの平均粒径は0.5nm〜10nmであることが好ましい。平均粒径が0.5nm未満となる合成は困難であり、また、量子ドットの場合、10nmを超えると量子閉じ込め効果が得られず、求める蛍光が得られない。量子ドットにおいては同じ材料であってもコア粒径を変えることで蛍光波長を任意に変化出来ることが特徴であり、求める蛍光波長に応じて粒径を設定することになる。シェルの平均厚みは無機材料部分の粒子半径とコア粒子半径の差に相当するが、シェルの厚みが薄いとシェルの強度や閉じ込め効果が十分でなく、厚すぎると全体粒径が大きくなるため塗工液やインキにした場合の分散性に劣ったり、量子ドットの場合、励起方法によってはコアを励起させることが難しくなる。また、被覆材料を含む微粒子全体の平均粒径は2nm〜1μmであることが好ましい。半導体微粒子(A)の形状は、球状に限らず、棒状、円盤状、そのほかの形状であっても良い。 The average particle size of the inorganic material portion of the semiconductor fine particles (A) of the present invention is preferably 0.5 nm to 100 nm, and a particle size that gives desired characteristics can be selected. In the case of the core-shell type, a plurality of shell fine particles may be contained in one semiconductor fine particle. The average particle size of the semiconductor fine particles in the case of a single semiconductor composition and the average particle size of the core-shell type core are preferably 0.5 nm to 10 nm. It is difficult to synthesize an average particle size of less than 0.5 nm, and in the case of quantum dots, if it exceeds 10 nm, the quantum confinement effect cannot be obtained and the desired fluorescence cannot be obtained. The feature of quantum dots is that the fluorescence wavelength can be arbitrarily changed by changing the core particle size even if the same material is used, and the particle size is set according to the desired fluorescence wavelength. The average thickness of the shell corresponds to the difference between the particle radius of the inorganic material part and the core particle radius. In the case of quantum dots, it is difficult to excite the core depending on the excitation method. Further, the average particle size of the entire fine particles including the coating material is preferably 2 nm to 1 μm. The shape of the semiconductor fine particles (A) is not limited to a spherical shape, and may be a rod shape, a disk shape, or any other shape.

(微粒子(B))
また、本発明の半導体微粒子組成物は、前記コア/シェル型の半導体微粒子(A)のシェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)を含有することを特徴とする。ここで、半導体微粒子(A)のシェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)の構成物には、後述するリガンドは含まないものとする。リガンドは、吸着しているため、着脱する可能性があるからである。
半導体微粒子組成物は、塗工液やインキの分散安定性、およびそれらを使用した塗工物、印刷物の環境耐性、安定性の向上のために、無機粒子や樹脂を用いた場合がある。しかし、半導体微粒子の特性発揮に悪影響を与えることがあるため、種類が限定されたり、必要最低限の量に抑えたりする必要がある。
ここで、半導体微粒子のシェルを構成する化合物と同様の化合物で構成される微粒子(B)であれば、これらの悪影響は大幅に低減するため、半導体微粒子の特性発揮を維持しつつ、半導体微粒子組成物の塗工液やインキの分散安定性、およびそれらを使用した塗工物、印刷物の環境耐性、安定性の向上が可能となる。
(Particles (B))
Further, the semiconductor fine particle composition of the present invention is characterized by containing fine particles (B) composed of only compounds constituting the shell of the core / shell type semiconductor fine particles (A). Here, it is assumed that the composition of the fine particles (B) composed of only the compounds constituting the shell of the semiconductor fine particles (A) does not contain the ligand described later. This is because the ligand is adsorbed and may be attached or detached.
In the semiconductor fine particle composition, inorganic particles or a resin may be used in order to improve the dispersion stability of the coating liquid or ink, and the environmental resistance and stability of the coated matter or printed matter using them. However, since the characteristics of the semiconductor fine particles may be adversely affected, it is necessary to limit the types or limit the amount to the minimum necessary.
Here, if the fine particles (B) are made of the same compound as the compound constituting the shell of the semiconductor fine particles, these adverse effects are significantly reduced, so that the semiconductor fine particle composition is maintained while maintaining the characteristics of the semiconductor fine particles. It is possible to improve the dispersion stability of coating liquids and inks of materials, and the environmental resistance and stability of coated materials and printed materials using them.

微粒子(B)の成分としては、上述の微粒子(A)のシェル成分と同様に、ZnS、CdS、ZnSeなどが好適に用いられ、さらにこの中でもZnSが元素毒性がなく、好ましい。 As the component of the fine particles (B), ZnS, CdS, ZnSe and the like are preferably used as in the shell component of the fine particles (A) described above, and among these, ZnS is preferable because it has no elemental toxicity.

本発明の微粒子(B)の無機材料部分の平均粒径は0.5nm〜100nm、であることが好ましく、被覆材料を含む微粒子全体の平均粒径は2nm〜1μmであることが好ましい。微粒子(A)と同様、小さすぎると合成が困難であり、大き過ぎると、分散安定性や使用後の環境耐性を損なう恐れがある。微粒子(B)/微粒子(A)の粒径比は特に規定されるものではないが、球状粒子の細密充填の隙間に入れる半径比が約0.29であることを考慮すると、塗工物や印刷物としての最終形態になった際に、ランダムではあるが全体として均一に充填させるには、粒子の形状や粒子径分布も考慮して概ね0.25〜4の間、微粒子(A)の細密充填の隙間を小径の微粒子(B)で埋めて緻密化したい時は0.25以下、逆に大径の微粒子(B)の細密充填の隙間に微粒子(A)を均等配置して特性向上を狙うには4以上が好ましい。なお、半導体微粒子(A)および/または(B)の形状は、球状に限らず、棒状、円盤状、そのほかの形状であっても良く、その場合は。前記の粒径比での区分けは異なってくることになり、その意味でもあくまでも目安としての数字である。 The average particle size of the inorganic material portion of the fine particles (B) of the present invention is preferably 0.5 nm to 100 nm, and the average particle size of the entire fine particles including the coating material is preferably 2 nm to 1 μm. As with the fine particles (A), if they are too small, they are difficult to synthesize, and if they are too large, the dispersion stability and environmental resistance after use may be impaired. The particle size ratio of the fine particles (B) / fine particles (A) is not particularly specified, but considering that the radius ratio to be inserted into the gap of the fine filling of the spherical particles is about 0.29, the coated material or When the final form of the printed matter is reached, in order to fill the particles uniformly as a whole, the fine particles (A) are finely divided between 0.25 to 4 in consideration of the shape of the particles and the particle size distribution. When you want to fill the filling gap with small diameter fine particles (B) and make it denser, 0.25 or less, and conversely, evenly arrange the fine particles (A) in the fine packing gap of the large diameter fine particles (B) to improve the characteristics. 4 or more is preferable for aiming. The shapes of the semiconductor fine particles (A) and / or (B) are not limited to spherical shapes, but may be rod-shaped, disk-shaped, or other shapes, in which case. The classification based on the particle size ratio will be different, and in that sense, it is just a guideline.

本発明でのコア/シェル構造を有する半導体微粒子(A)と、シェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)との重量比が、1:99〜99:1であることが好ましい。この比率は微粒子(B)を添加することによる微粒子(B)の直接作用による良好な効果と過剰添加で生じる悪影響、および微粒子(B)による微粒子(A)への希釈効果とのバランスで決定される。微粒子(B)の添加量が1以下の場合は実質的な効果が見られないことが多い。また、一般的な量子ドットでは励起光吸収効率が低いことが多いため、波長変換フィルムやカラーフィルターへの使用の場合は、微粒子(A)の重量比を大きく下げることは好ましくない。しかし、発光素子の場合は光励起以外の方法をとるので、いわゆる有機ドーパントと同様に微粒子(A)の重量比を大きく下げた方が好ましい場合が多い。また微粒子(A)の塗工液、インキおよび塗工物、印刷物としての最終形態での半導体微粒子(A)の組成比を調整するために、さらに、微粒子(B)とは異なる組成の無機化合物や、樹脂の添加することを妨げるものではない。 The weight ratio of the semiconductor fine particles (A) having a core / shell structure in the present invention to the fine particles (B) composed only of the compounds constituting the shell is preferably 1:99 to 99: 1. This ratio is determined by the balance between the good effect of the addition of the fine particles (B) due to the direct action of the fine particles (B), the adverse effect caused by the excessive addition, and the diluting effect of the fine particles (B) on the fine particles (A). NS. When the amount of the fine particles (B) added is 1 or less, no substantial effect is often seen. Further, since the excitation light absorption efficiency is often low in general quantum dots, it is not preferable to significantly reduce the weight ratio of the fine particles (A) when used in a wavelength conversion film or a color filter. However, in the case of a light emitting device, since a method other than photoexcitation is used, it is often preferable to significantly reduce the weight ratio of the fine particles (A) as in the case of so-called organic dopants. Further, in order to adjust the composition ratio of the semiconductor fine particles (A) in the final form of the coating liquid of the fine particles (A), the ink and the coated product, and the printed matter, an inorganic compound having a composition different from that of the fine particles (B) is further adjusted. Or, it does not prevent the addition of the resin.

本発明の半導体微粒子(A)および半導体微粒子(B)はさらに有機物で被覆処理されていても良い。これらの有機物は被覆材料または保護材料と称されたり、特に合成時には微粒子表面の処理剤、さらには量子ドットの場合には、リガンドまたは配位子と呼ばれることも多い。一般的に被覆材料として用いることのできる有機物としては、無機半導体微粒子の金属部分に吸着する強い極性、または非共有電子対を有し、さらに、炭素鎖や芳香環が連結した構造、ポリアルキレングリコール構造などを有することで、塗液やインキとして使用する溶剤や樹脂との親和性が高い部分構造を有する有機物である。このような有機物は一般的には、有機および無機顔料や無機化合物材料の分散剤や、洗剤やエマルジョン形成などの際に使用される界面活性剤、乳化剤として良く知られているものであり、本発明でもこれらの化合物を使用することが出来る。また、金属錯体の配位子(リガンド)として使用される部分構造を有する化合物、特に金属への配位座を2個以上有するキレート配位子構造を有する化合物は、半導体微粒子の金属部分へ吸着しやすく、かつ脱離しにくいため、使用することが可能である。 The semiconductor fine particles (A) and the semiconductor fine particles (B) of the present invention may be further coated with an organic substance. These organic substances are often referred to as coating materials or protective materials, and are often referred to as treatment agents for the surface of fine particles during synthesis, and even in the case of quantum dots, ligands or ligands. Organic substances that can be generally used as a coating material have a strong polarity that adsorbs to the metal portion of the inorganic semiconductor fine particles, or an unshared electron pair, and further have a structure in which a carbon chain or an aromatic ring is linked, and a polyalkylene glycol. By having a structure or the like, it is an organic substance having a partial structure having a high affinity with a solvent or resin used as a coating liquid or an ink. Such organic substances are generally well known as dispersants for organic and inorganic pigments and inorganic compound materials, and surfactants and emulsifiers used in detergents and emulsion formation. These compounds can also be used in the invention. Further, a compound having a partial structure used as a ligand of a metal complex, particularly a compound having a chelate ligand structure having two or more coordination bonds to a metal, is adsorbed on the metal portion of the semiconductor fine particles. It is easy to use and difficult to remove, so it can be used.

本発明で特に合成時に処理剤として用いることのできる有機物は沸点が高く、アルキル鎖部分の相互作用が期待できる、炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有する有機物が好ましい。また、半導体微粒子への作用を強固にするために極性基を有してもよく、処理できる有機物として、有機酸、有機アミン、硫黄含有有機物、リン含有有機物があげられる。 In the present invention, the organic substance that can be used as a treatment agent at the time of synthesis is preferably an organic substance having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure, which has a high boiling point and can be expected to interact with an alkyl chain portion. Further, it may have a polar group in order to strengthen the action on the semiconductor fine particles, and examples of the organic substance that can be treated include organic acids, organic amines, sulfur-containing organic substances, and phosphorus-containing organic substances.

有機酸としては、末端にカルボン酸を有する化合物を用いることができ、芳香環、エーテル基を含むことができ、分子中にカルボン酸を複数有していても構わない。具体例として、安息香酸、ビフェニルカルボン酸、ブチル安息香酸、ヘキシル安息香酸、シクロヘキシル安息香酸、ナフタレンカルボン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、エチルヘキサン酸、ヘキセン酸、オクテン酸、シトロネル酸、スベリン酸、エチレングリコールビス(4-カルボキシフェニル)エーテル、(2-ブトキシエトキシ)酢酸などがあげられる。
炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有する有機酸としては、有機酸のうち、炭素数8以上のアルキル基を有する化合物であり、具体的には、ノナン酸、デカン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、トリコサン酸、リグノセリン酸、オレイン酸、エイコサジエン酸、リノレン酸、セバシン酸、(2-オクチルオキシ)酢酸、等があげられる。
As the organic acid, a compound having a carboxylic acid at the terminal can be used, an aromatic ring and an ether group can be contained, and a plurality of carboxylic acids may be contained in the molecule. Specific examples include benzoic acid, biphenylcarboxylic acid, butylbenzoic acid, hexylbenzoic acid, cyclohexylbenzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, hexanoic acid, heptanic acid, octanoic acid, ethylhexanoic acid, hexenoic acid, octenoic acid, citronellic acid, and sverin. Acids, ethylene glycol bis (4-carboxyphenyl) ether, (2-butoxyethoxy) acetic acid and the like can be mentioned.
The organic acid having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure is a compound having an alkyl group having 8 or more carbon atoms among the organic acids, and specifically, nonanoic acid, decanoic acid, lauric acid, and myristin. Examples thereof include acids, palmitic acid, stearic acid, trichosanoic acid, lignoseric acid, oleic acid, eicosazienoic acid, linolenic acid, sebacic acid, (2-octyloxy) acetic acid and the like.

有機アミンとしては、末端にアミノ基を有する化合物を用いることができ、芳香環
n−ブチルアミン、iso−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、シクロヘキシルアミンがあげられる。
炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有する有機アミンとしては、
オクチルアミン、ドデカアミン、ヘプタデカン-9-アミン、N,N-ジメチル-n-オクチルアミンなどがあげられる。
As the organic amine, a compound having an amino group at the terminal can be used, and examples thereof include aromatic ring n-butylamine, iso-butylamine, tert-butylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, and cyclohexylamine.
As an organic amine having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure,
Examples thereof include octylamine, dodecaamine, heptadecane-9-amine, N, N-dimethyl-n-octylamine and the like.

硫黄含有有機物としては、チオール類とジスルフィド類があげられる。
チオール類としては、アリルメルカプタン、1,3-ベンゼンジメタンチオール、2-アミノ-5-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール、3-アミノ-5-メルカプト-1,2,4-トリアゾールブタンチオール、n-ヘキサンチオール、n−ヘプタンチオール、などがあげられる。
炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有するチオール類の硫黄含有有機物としては、ドデカンチオール、1-ドコサンチオール、tert-ドデシルメルカプタン等があげられる。
ジスルフィド類としては、ビス(4-クロロ-2-ニトロフェニル)ジスルフィド、ヘキシルスルフィド、3,3',5,5'-テトラクロロジフェニルジスルフィド等があげられる。
炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有するスルフィド類の硫黄含有有機物としては、ドデシルジスルフィド、オクタデシルジスルフィド、ドデシルオクタデシルジスルフィドなどがあげられる。
Examples of sulfur-containing organic substances include thiols and disulfides.
Thiols include allyl mercaptan, 1,3-benzenedimethanethiol, 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazolebutanethiol. , N-hexanethiol, n-heptanethiol, and the like.
Examples of sulfur-containing organic substances of thiols having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure include dodecanethiol, 1-docosanthiol, tert-dodecyl mercaptan and the like.
Examples of disulfides include bis (4-chloro-2-nitrophenyl) disulfide, hexyl sulfide, 3,3', 5,5'-tetrachlorodiphenyl disulfide and the like.
Examples of the sulfur-containing organic substances of sulfides having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure include dodecyl disulfide, octadecyl disulfide, and dodecyl octadecyl disulfide.

リン含有有機物としては、リン酸ブチル、リン酸ヘキシル、リン酸ジイソプロピル、(2-エチルヘキシル)ホスホン酸モノ-2-エチルヘキシル、プロピルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸メチル、イソプロピルホスホン酸ヘキシルなどがあげられる。
炭素数8以上のアルキル基を部分構造として有するリン含有有機物としては、リン酸オクチル、リン酸ジドデシル、リン酸ドデシル、ドデシルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸ドデシル、デシルホスホン酸、デシルホスホン酸イソプロピルなどがあげられる。
Examples of phosphorus-containing organic substances include butyl phosphate, hexyl phosphate, diisopropyl phosphate, mono-2-ethylhexyl phosphonate (2-ethylhexyl), propylphosphonic acid, hexylphosphonic acid, methyl hexylphosphonate, and hexyl isopropylphosphonate. can give.
Examples of phosphorus-containing organic substances having an alkyl group having 8 or more carbon atoms as a partial structure include octyl phosphate, didodecyl phosphate, dodecyl phosphate, dodecylphosphonic acid, dodecyl hexylphosphonate, decylphosphonic acid, and isopropyl decylphosphonate. Be done.

本発明の半導体微粒子(A)および/または(B)の合成方法としては、ガラス中で作成する方法、水溶液中で合成する方法、有機溶媒中で合成する方法など、一般的に知られている方法を用いることができる。特に、InP/ZnSコアシェル型量子ドットに関しては技術文献「Journal of American Chemical Society.2007,129,15432−15433」、「Journal of American Chemical Society.2016,138,5923−5929」、InCuS2/ZnSコアシェル型量子ドットに関しては技術文献「JournalofAmericanChemicalSociety.2009,131,5691−5697」技術文献「ChemistryofMaterials.2009,21,2422−2429」、Si量子ドットに関しては技術文献「JournalofAmericanChemicalSociety.2010,132,248−253」記載されている方法を参照して合成することができる。 As a method for synthesizing the semiconductor fine particles (A) and / or (B) of the present invention, a method for producing in glass, a method for synthesizing in an aqueous solution, a method for synthesizing in an organic solvent, and the like are generally known. The method can be used. In particular, regarding InP / ZnS core-shell type quantum dots, the technical documents "Journal of American Chemical Society. 2007, 129, 15432-15433", "Journal of American Chemical Science. 2016, 138, 5923-59" Technical document "JournalofAmericanChemicalSociacy.2009,131,5691-5697" for quantum dots, technical document "ChemistryofMaterials.2009,21,242-2249" for Si quantum dots, technical document "JournalofAmelician. It can be synthesized by referring to the methods used.

本発明の半導体微粒子(B)の作製方法としては、半導体微粒子(A)のシェル形成過程とは別の方法で合成したり、塊状化合物や粗大粒子を原料として粉砕法によって作製することもできるが、半導体微粒子(A)のシェル形成過程とは同一の方法で合成する方が、不純物混入の種類、量の差異や生成粒子の物性の差異が少なく好ましい。ただし、確実に微粒子(B)を得るためには、シェル形成とは異なった温度、時間などの条件の微調整や、 新たに結晶成長の核となる成分の添加、すなわち作製する粒子と異なる組成の造核剤や 作製する粒子と同組成の微細な種結晶の添加が必要な場合もある。造核剤、種結晶添加により微粒子(A)と(B)を同時に、所望の組成比で生成させることも可能となる。 As a method for producing the semiconductor fine particles (B) of the present invention, it may be synthesized by a method different from the shell forming process of the semiconductor fine particles (A), or it may be produced by a pulverization method using a massive compound or coarse particles as a raw material. It is preferable to synthesize the semiconductor fine particles (A) by the same method as the shell forming process because there are few differences in the type and amount of impurities mixed in and the physical properties of the produced particles. However, in order to surely obtain fine particles (B), fine adjustment of conditions such as temperature and time different from shell formation and addition of a new core component of crystal growth, that is, a composition different from that of the particles to be produced. In some cases, it may be necessary to add a nucleating agent or fine seed crystals having the same composition as the particles to be produced. By adding a nucleating agent and seed crystals, fine particles (A) and (B) can be simultaneously produced at a desired composition ratio.

また、既に被覆材料で表面処理された半導体微粒子組成物と入替えたい別の被覆材料とを溶剤中で撹拌するか、既に被覆材料で表面処理された半導体微粒子組成物を遠心沈降などで溶剤をおおよそ取り除いた後、入替えたい別の被覆材料を含む溶剤に半導体ナノ粒子を再分散させる方法などで、半導体微粒子の被覆材料を交換することができ、これによって塗工液やインキに好適な所望の溶剤や樹脂との親和性の高い被覆材料に表面処理することで、目的とする塗工物や印刷物という最終形態を得ることができる。 In addition, the semiconductor fine particle composition that has already been surface-treated with the coating material and another coating material to be replaced are stirred in a solvent, or the semiconductor fine particle composition that has already been surface-treated with the coating material is roughly subjected to the solvent by centrifugal sedimentation or the like. After removal, the coating material of the semiconductor fine particles can be replaced, such as by redispersing the semiconductor nanoparticles in a solvent containing another coating material to be replaced, which is a desired solvent suitable for coating liquids and inks. By surface-treating a coating material having a high affinity with a resin or a resin, the final form of the desired coated or printed matter can be obtained.

本発明の半導体微粒子(A)が量子ドットの場合、塗工液やインキ中の量子ドットは、赤色と緑色のように、複数の発光ピークを得るために、それに対応した粒径の異なる複数種の量子ドットを混合して用いることもでき、その比率は合計でインキ中の含有率の範囲で、自由に選択することができる。 When the semiconductor fine particles (A) of the present invention are quantum dots, the quantum dots in the coating liquid or the ink have a plurality of types having different particle sizes in order to obtain a plurality of emission peaks, such as red and green. Quantum dots can be mixed and used, and the ratio can be freely selected within the range of the content in the ink in total.

<溶剤と樹脂、添加剤>
本発明で使用される溶剤としては、トルエン、1,2,3−トリクロロプロパン、1,3-ブチレングリコール、1,3-ブチレングリコールジアセテート、1,4−ジオキサン、2−ヘプタノン、2−メチル−1,3−プロパンジオール、3,5,5-トリメチル-2-シクロヘキセン-1-オン、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メチル−1,3−ブタンジオール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、3-メトキシブタノール、3−メトキシブチルアセテート、4−ヘプタノン、m−キシレン、m−ジエチルベンゼン、m−ジクロロベンゼン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、n−ブチルアルコール、n−ブチルベンゼン、n−プロピルアセテート、N−メチルピロリドン、o−キシレン、o−クロロトルエン、o−ジエチルベンゼン、o−ジクロロベンゼン、P−クロロトルエン、P−ジエチルベンゼン、sec−ブチルベンゼン、tert−ブチルベンゼン、γ―ブチロラクトン、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ターシャルターシャルブタノール、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸n−アミル、酢酸n−ブチル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、及び二塩基酸エステル等が挙げられる。
このうちインクジェット法で印刷するためには、吐出ヘッドでの乾燥を防ぐために、常圧における沸点が120℃以上の溶剤である必要がある。常圧における沸点が120℃以上の溶剤の例を挙げる。1,4-ブタンジオール(228℃)、1,3-ブタンジオール(208℃)、2-エチル-1-ヘキサノール(185℃)、ベンジルアルコール(205℃)、ジイソブチルケトン(168℃)、シクロヘキサノン(156℃)、ジアセトンアルコール(168℃)、酢酸ブチル(121℃)、酢酸メトキシブチル(171℃)、酢酸セロソルブ(156℃)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(146℃)、酢酸アミル(130℃)、乳酸メチル(145℃)乳酸エチル(154℃)、乳酸ブチル(188℃)、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート(145℃)、エチレングリコールモノメチルエーテル(125℃)、エチレングリコールモノエチルエーテル(134℃)、エチレングリコールモノブチルエーテル(171℃)、エチレングリコール(197℃)、プロピレングリコール(187℃)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(121℃)、メトキシメチルブタノール(173℃)、ジエチレングリコールジメチルエーテル(162℃)、エチレングリコールジエチルエーテル(121℃)、パークロロエチレン(121℃)、ジクロロベンゼン(180℃)、N-メチル-2-ピロリドン(202℃)、ジメチルホルムアミド(153℃)、3-エトキシプロピオン酸エチル(170℃)、γ―ブチロラクトン(203℃)、ジメチルスルホキシシド(189℃)などがあげられる。
溶解性から炭化水素系の常圧における沸点が120℃以上の溶剤が好ましく、特に芳香族炭化水素系の常圧における沸点が120℃以上の溶剤は好ましい。
<Solvent and resin, additives>
The solvent used in the present invention includes toluene, 1,2,3-trichloropropane, 1,3-butylene glycol, 1,3-butylene glycol diacetate, 1,4-dioxane, 2-heptanone, and 2-methyl. -1,3-Propanediol, 3,5,5-trimethyl-2-cyclohexene-1-one, 3,3,5-trimethylcyclohexanone, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-1,3-butanediol , 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutyl acetate, 3-methoxybutanol, 3-methoxybutyl acetate, 4-heptanone, m-xylene, m-diethylbenzene, m-dichlorobenzene , N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, n-butyl alcohol, n-butylbenzene, n-propyl acetate, N-methylpyrrolidone, o-xylene, o-chlorotoluene, o-diethylbenzene, o- Dichlorobenzene, P-chlorotoluene, P-diethylbenzene, sec-butylbenzene, tert-butylbenzene, γ-butyrolactone, water, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, tershal tarshalbutanol, isobutyl alcohol, isophorone, ethylene glycol diethyl ether, Ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monotarsial butyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol Monohexyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, diisobutyl ketone, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoisopropyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, cyclo Hexanol, cyclohexanol acetate, cyclohexanone, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glyco Lumethyl Ether Acetate, Dipropylene Glycol Monoethyl Ether, Dipropylene Glycol Monobutyl Ether, Dipropylene Glycol Monopropyl Ether, Dipropylene Glycol Monomethyl Ether, Diacetone Alcohol, Triacetin, Tripropylene Glycol Monobutyl Ether, Tripropylene Glycol Monomethyl Ether, Propylene Glycol diacetate, propylene glycol phenyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether propio Nate, benzyl alcohol, methylisobutylketone, methylcyclohexanol, n-amyl acetate, n-butyl acetate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, propyl acetate, dibasic acid ester and the like can be mentioned.
Of these, in order to print by the inkjet method, it is necessary to use a solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher at normal pressure in order to prevent drying at the ejection head. An example of a solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher at normal pressure is given. 1,4-Butanediol (228 ° C), 1,3-Butanediol (208 ° C), 2-ethyl-1-hexanol (185 ° C), benzyl alcohol (205 ° C), diisobutylketone (168 ° C), cyclohexanone (18 ° C) 156 ° C), diacetone alcohol (168 ° C), butyl acetate (121 ° C), methoxybutyl acetate (171 ° C), cellosolve acetate (156 ° C), propylene glycol monomethyl ether acetate (146 ° C), amyl acetate (130 ° C). , Methyl Lactate (145 ° C.) Ethyl Lactate (154 ° C.), Butyl Lactate (188 ° C.), Ethylene Glycol Monomethyl Ether Acetate (145 ° C.), Ethylene Glycol Monomethyl Ether (125 ° C.), Ethylene Glycol Monoethyl Ether (134 ° C.), Ethylene glycol monobutyl ether (171 ° C), ethylene glycol (197 ° C), propylene glycol (187 ° C), propylene glycol monomethyl ether (121 ° C), methoxymethylbutanol (173 ° C), diethylene glycol dimethyl ether (162 ° C), ethylene glycol diethyl Ether (121 ° C), perchloroethylene (121 ° C), dichlorobenzene (180 ° C), N-methyl-2-pyrrolidone (202 ° C), dimethylformamide (153 ° C), ethyl 3-ethoxypropionate (170 ° C) , Gamma-butyrolactone (203 ° C.), dimethylsulfoxyside (189 ° C.) and the like.
From the viewpoint of solubility, a hydrocarbon-based solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher at normal pressure is preferable, and an aromatic hydrocarbon-based solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher at normal pressure is particularly preferable.

常圧における沸点が120℃以上の炭化水素系溶剤としては、オクタン(125℃)、デカン(174℃)、1−デセン(171℃)、デカヒドロナフタレン(191℃)、ブチルシクロヘキサン(180℃)、2,3,−ジメチルヘプタン(140℃)などがあげられる。
常圧における沸点が120℃以上の芳香族炭化水素系溶剤としては、キシレン(138℃)、メシチレン(164℃)、メチルナフタレン(245℃)、tert−ブチルベンゼン(168℃)、n−ブチルベンゼン(183℃)等があげられる。
Hydrocarbon solvents having a boiling point of 120 ° C or higher at normal pressure include octane (125 ° C), decane (174 ° C), 1-decene (171 ° C), decahydronaphthalene (191 ° C), and butylcyclohexane (180 ° C). , 2,3, -Dimethylheptane (140 ° C.) and the like.
Examples of the aromatic hydrocarbon solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher at normal pressure include xylene (138 ° C.), mesitylene (164 ° C.), methylnaphthalene (245 ° C.), tert-butylbenzene (168 ° C.), and n-butylbenzene. (183 ° C) and the like.

また、本発明のインクジェットインキでは、沸点が120℃未満の溶剤も含有することができる。含有する溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、ブタノール、イソブタノール、ターシャリーブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ノルマルプロピル、酢酸イソプロピル、1,4-ジオキサン、メチルターシャリーブチルエーテル、イソプロピルエーテル)、エチレングリコールジメチルエーテル、塩化メチレン、トリクロロエチレン、フルオロカーボン、ブロモプロパン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、アセトニトリル、1,3-ジオキソランなどを挙げることができる。
沸点が120℃未満の溶剤は、揮発分中0〜60%の範囲内で混合することが好ましい。これ以上の含有率では、インキの乾燥が早くなり、インクジェットの吐出が困難になる。
Further, the inkjet ink of the present invention can also contain a solvent having a boiling point of less than 120 ° C. Solvents contained include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, normal propyl alcohol, butanol, isobutanol, tertiary butanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, methyl acetate, normal propyl acetate, isopropyl acetate, 1,4. -Dioxane, methyl tertiary butyl ether, isopropyl ether), ethylene glycol dimethyl ether, methylene chloride, trichloroethylene, fluorocarbon, bromopropane, chloroform, tetrahydrofuran, dimethyl carbonate, diethyl carbonate, acetonitrile, 1,3-dioxolane and the like.
Solvents having a boiling point of less than 120 ° C. are preferably mixed in the range of 0 to 60% of the volatile content. If the content is higher than this, the ink dries quickly and it becomes difficult to eject the ink jet.

樹脂としては、石油系樹脂、マレイン酸樹脂、ニトロセルロース、セルロースアセテートブチレート、環化ゴム、塩化ゴム、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、ビニル樹脂、又はブチラール樹脂等があげられ、塗工、印刷方式や基材により適時選択することができる。さらに、含有してもよい樹脂として、直鎖オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート(PEN)系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂およびシルセスキオキサン系紫外線硬化樹脂などが挙げられる。 Examples of the resin include petroleum-based resin, maleic acid resin, nitrocellulose, cellulose acetate butyrate, cyclized rubber, rubber chloride, alkyd resin, acrylic resin, polyester resin, amino resin, vinyl resin, butyral resin and the like. It can be selected in a timely manner depending on the coating, printing method and base material. Further, as the resin that may be contained, a linear olefin resin, an aromatic polyether resin, a polyimide resin, a fluorene polycarbonate resin, a fluorene polyester resin, a polycarbonate resin, a polyamide (aramid) resin, and a polyarylate Resins, polysulfone resins, polyether sulfone resins, polyparaphenylene resins, polyamideimide resins, polyethylene naphthalate (PEN) resins, fluorinated aromatic polymer resins, (modified) acrylic resins, epoxy Examples thereof include based resins, allyl ester-based curable resins and silsesquioxane-based ultraviolet curable resins.

本発明の塗工液、インキには、表面張力を調整し印刷基材上でのインキの濡れ性を確保する目的で、界面活性剤を添加してもよい。本発明では、陽イオン性、陰イオン性、両性、非イオン性の何れの界面活性剤も用いる事が可能である。
陽イオン性界面活性剤としては、脂肪酸アミン塩、脂肪族4級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩などが挙げられる。
A surfactant may be added to the coating liquid and the ink of the present invention for the purpose of adjusting the surface tension and ensuring the wettability of the ink on the printing substrate. In the present invention, any cationic, anionic, amphoteric, or nonionic surfactant can be used.
Examples of the cationic surfactant include fatty acid amine salts, aliphatic quaternary ammonium salts, benzalkonium salts, benzethonium chloride, pyridinium salts, and imidazolinium salts.

陰イオン性界面活性剤としては、脂肪酸石鹸、N−アシル−N−メチルグリシン塩、N−アシル−N−メチル−β−アラニン塩、N−アシルグルタミン酸塩、アシル化ペプチド、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸エステル塩、アルキルスルホ酢酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、N−アシルメチルタウリン、硫酸化油、高級アルコール硫酸エステル塩、第二級高級アルコール硫酸エステル塩、アルキルエーテル硫酸塩、第二級高級アルコールエトキシサルフェート、脂肪酸アルキロールアミド硫酸エステル塩、アルキルエーテルリン酸エステル塩、アルキルリン酸エステル塩などが挙げられる。
両性界面活性剤としては、カルボキシベタイン型、スルホベタイン型、アミノカルボン酸塩、イミダゾリニウムベタインなどが挙げられる。
非イオン界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレン二級アルコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンステロールエーテル、ポリオキシエチレンラノリン誘導体ポリオキシエチレンポリプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンヒマシ油、硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアミンオキサイド、アセチレングリコール、アセチレンアルコールなどが挙げられる。
Anionic surfactants include fatty acid soaps, N-acyl-N-methylglycine salts, N-acyl-N-methyl-β-alanine salts, N-acylglutamates, acylated peptides, alkylsulfonates, etc. Alkylbenzene sulphonate, alkylnaphthalen sulphonate, dialkyl sulfosuccinic acid ester salt, alkyl sulfoacetate salt, α-olefin sulfonate, N-acylmethyl taurine, sulfated oil, higher alcohol sulfate ester salt, secondary higher alcohol Examples thereof include sulfate ester salts, alkyl ether sulfate salts, secondary higher alcohol ethoxysulfates, fatty acid alkylolamide sulfate ester salts, alkyl ether phosphate ester salts, and alkyl phosphate ester salts.
Examples of the amphoteric tenside agent include carboxybetaine type, sulfobetaine type, aminocarboxylate, and imidazolinium betaine.
Examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene secondary alcohol ether, polyoxyethylene alkylphenyl ether, polyoxyethylene sterol ether, polyoxyethylene lanolin derivative polyoxyethylene polypropylene alkyl ether, polyoxyethylene glycerin fatty acid ester, and poly. Oxyethylene castor oil, hardened castor oil, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, polyethylene glycol fatty acid ester, fatty acid monoglyceride, polyglycerin fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, propylene glycol fatty acid ester, sucrose fatty acid ester, fatty acid alkanolamide, polyoxyethylene Examples thereof include fatty acid amide, polyoxyethylene alkylamine, alkylamine oxide, acetylene glycol, and acetylene alcohol.

界面活性剤のなかでも、印刷基材への濡れ性を向上させるためにも、表面張力調整剤を用いる事が好ましく、具体的には、アセチレンジオール系、シリコン系、アクリル系、フッ素系が好ましい。上記の界面活性剤は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Among the surfactants, it is preferable to use a surface tension adjusting agent in order to improve the wettability to the printing substrate, and specifically, acetylenediol-based, silicon-based, acrylic-based, and fluorine-based are preferable. .. The above-mentioned surfactant may be used alone or in combination of two or more.

本発明の塗工液、インキは可塑剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤、加水分解防止剤等の種々の添加剤も使用することができる。 As the coating liquid and ink of the present invention, various additives such as plasticizers, ultraviolet inhibitors, light stabilizers, antioxidants, and hydrolysis inhibitors can also be used.

<印刷方式>
本発明の塗工物、印刷物は、基材上に本発明の塗工液を成膜、または塗布することで得ることができる。公知の湿式成膜法、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、キャピラリ−コート法、ノズルコート法等の塗布法を用いて作製することができる。
基材としては、ガラス板や樹脂板などが挙げられる。
<Printing method>
The coated matter and printed matter of the present invention can be obtained by forming or coating the coating liquid of the present invention on a substrate. Known wet film forming methods such as spin coating method, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, spray coating method, screen printing method, It can be produced by using a coating method such as a flexographic printing method, an offset printing method, an inkjet printing method, a capillary coating method, and a nozzle coating method.
Examples of the base material include a glass plate and a resin plate.

このうち本発明に用いるインクジェット印刷方式として、記録媒体に対しインクジェットインキを1回だけ吐出して記録するシングルパス方式、及び、記録媒体の最大記録幅の間を、記録媒体の搬送方向と直行する方向に短尺のシャトルヘッドを往復走査させながら記録を行うシリアル型方式の何れを採用しても良い。またインクジェット記録装置としては、インクジェットインキを吐出するインクジェットヘッド(インク吐出手段)と、インクジェットヘッドから吐出されたインキを乾燥させる乾燥工程を備える必要がある。インクジェットヘッドからインキが吐出されると、吐出されたインキは印刷基材上に着弾し画像が記録され、画像は印刷基材が搬送されるに従い、乾燥装置内に搬送され、乾燥処理が行われる。 Of these, the inkjet printing method used in the present invention is a single-pass method in which inkjet ink is ejected to a recording medium only once for recording, and a method perpendicular to the transport direction of the recording medium between the maximum recording width of the recording medium. Any serial type method in which recording is performed while reciprocating scanning a short shuttle head in the direction may be adopted. Further, the inkjet recording device needs to include an inkjet head (ink ejection means) for ejecting inkjet ink and a drying step for drying the ink ejected from the inkjet head. When the ink is ejected from the inkjet head, the ejected ink lands on the printing substrate and an image is recorded, and the image is conveyed into the drying device as the printing substrate is conveyed and the drying process is performed. ..

インクジェット法には特に制限は無く、公知の方法、例えば静電誘引力を利用してインキを吐出させる電荷制御方法、ピエゾ素子の振動圧力を利用するドロップオンデマンド方式(圧力パルス方式)、電気信号を音響ビームに変えインキに照射して放射圧を利用しインキを吐出させる音響インクジェット方式、及びインキを加熱して気泡を形成し、生じた圧力を利用するサーマルインクジェット(バブルジェット(登録商標))方式等の何れであっても良い。 The inkjet method is not particularly limited, and is known as a known method, for example, a charge control method for ejecting ink by using an electrostatic attraction, a drop-on-demand method (pressure pulse method) using the vibration pressure of a piezo element, or an electric signal. An acoustic inkjet method that converts the ink into an acoustic beam and irradiates the ink to eject the ink using radiation pressure, and a thermal inkjet method that heats the ink to form bubbles and uses the generated pressure (Bubble Jet (registered trademark)). Any method may be used.

またインクジェット法で用いるインクジェットヘッドは、オンデマンド方式でもコンティニアス方式でも構わない。さらに吐出法式としては、電気‐機械変換方式(例:シングルキャビティー型、ダブルキャビティー型、ベンダー型、ピストン型、シェアモード型、シェアードウォール型等)、電気‐熱変換方式(例:サーマルインクジェット型、バブルジェット(登録商標)型等)、静電吸引方式(例:電解制御型、スリットジェット型等)、及び放電方式(例:スパークジェット型等)などを具体的な例として挙げる事ができるが、何れの吐出方式を用いても構わない。なお、インクジェット法により記録を行う際に使用するインクノズル等については特に制限はなく、目的に応じて適宜選択する事ができる。 The inkjet head used in the inkjet method may be an on-demand method or a continuous method. Further, as the discharge method, an electric-mechanical conversion method (eg, single cavity type, double cavity type, bender type, piston type, shared mode type, shared wall type, etc.), an electric-heat conversion method (eg, thermal inkjet). Specific examples include molds, bubble jet (registered trademark) types, electrostatic suction methods (eg, electrolytic control type, slit jet type, etc.), and discharge methods (eg, spark jet type, etc.). However, any discharge method may be used. The ink nozzle or the like used when recording by the inkjet method is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose.

インクジェットヘッドから吐出されるインクの液滴量としては、乾燥負荷軽減効果が大きく、画像品質の向上という点でも、0.2〜20ピコリットル(pL)が好ましく、1〜15ピコリットル(pL)がより好ましい。 As the amount of ink droplets ejected from the inkjet head, 0.2 to 20 picolitres (pL) are preferable, and 1 to 15 picolitres (pL) are preferable from the viewpoint of greatly reducing the drying load and improving image quality. Is more preferable.

本発明の最終形態である波長変換フィルムおよびカラーフィルターは、光源からの光を吸収させ、吸収されなかった透過光または光吸収によって生じた蛍光発光によって所望の波長の光を取り出す際に用いられるものである。特に本発明において量子ドットを使用する場合には、優れた量子収率の蛍光発光を利用することになる。本発明の波長変換フィルムは、本発明の塗工液またはインキ組成物を基材に塗布することで得られ、緑色と赤色の蛍光色を発する量子ドットを含有させた塗工または印刷フィルムで、主にディスプレイパネルや照明において光源の青色光を白色光に変換する、あるいは色調の整っていない疑似白色光などを所望の色調に調整する平面状の部材である。 The wavelength conversion film and color filter, which are the final forms of the present invention, are used for absorbing light from a light source and extracting light of a desired wavelength by transmitted light that has not been absorbed or fluorescence emission generated by light absorption. Is. In particular, when quantum dots are used in the present invention, fluorescence emission with an excellent quantum yield will be used. The wavelength conversion film of the present invention is a coating or printing film obtained by applying the coating liquid or the ink composition of the present invention to a substrate and containing quantum dots emitting fluorescent colors of green and red. It is a planar member that converts blue light of a light source into white light mainly in a display panel or lighting, or adjusts pseudo-white light having an unbalanced color tone to a desired color tone.

また、本発明のカラーフィルターは、本発明の塗工液またはインキ組成物を用いてフィルターセグメントの少なくとも一つのセグメントを形成することで得られるカラーフィルターであり、特に液晶ディスプレイパネルに使用されるものであり、具体的には、ガラス等の透明な基板の表面に3種以上の異なる色相の微細なストライプ状のフィルターセグメントを平行または交差して配置したもの、あるいは微細なモザイク状のフィルターセグメントを縦横一定の配列に配置したものからなっている。本発明においては、従来の白色光源から青、緑、赤の光を取り出す光吸収型カラーフィルターとは異なり、主に青色LEDなどを光源に、蛍光フィルターによって緑、赤を取り出すものである。量子ドットを使用した場合、光吸収による減光ではなく量子収率の高い蛍光での取出しになるためエネルギーロスが減るとともに、波長分布が狭く純色に近い色が得られるため、高効率のディスプレイを作製可能である。 Further, the color filter of the present invention is a color filter obtained by forming at least one segment of a filter segment using the coating liquid or the ink composition of the present invention, and is particularly used for a liquid crystal display panel. Specifically, a fine striped filter segment having three or more different hues arranged in parallel or crossing each other on the surface of a transparent substrate such as glass, or a fine mosaic-like filter segment. It consists of those arranged in a constant vertical and horizontal arrangement. In the present invention, unlike the light absorption type color filter that extracts blue, green, and red light from a conventional white light source, green and red are extracted mainly by a blue LED or the like as a light source and a fluorescent filter. When quantum dots are used, energy loss is reduced because the fluorescence is extracted with high quantum yield instead of dimming due to light absorption, and the wavelength distribution is narrow and colors close to pure colors can be obtained, resulting in a highly efficient display. It can be manufactured.

カラーフィルターの製造は、一般的には、ベタ塗りの薄膜を作製後に、パターニング露光と現像での不要部取り除きというレジスト法によって作製することが多く、本発明における微粒子組成物においても適用することは可能であるが、工程数の違いによる生産性および現像工程での材料ロスがないという低コスト観点から、本発明においてはインクジェット法を適用することが有利である。 In general, a color filter is often manufactured by a resist method of patterning exposure and removing unnecessary parts in development after producing a solid thin film, and it cannot be applied to the fine particle composition of the present invention. Although it is possible, it is advantageous to apply the inkjet method in the present invention from the viewpoint of productivity due to the difference in the number of processes and low cost of no material loss in the developing process.

また、本発明の最終形態の一つである塗工液またはインキ組成物を使用して形成された発光層を有する発光素子について詳細に説明する。 Further, a light emitting device having a light emitting layer formed by using a coating liquid or an ink composition, which is one of the final forms of the present invention, will be described in detail.

本発明における発光素子は、一般には電界発光素子と称され、陽極と陰極間に一層または多層の有機層を形成した素子から構成されるが、ここで、一層型電界発光素子とは、陽極と陰極との間に発光層のみからなる素子を指す。一方、多層型電界発光素子とは、発光層の他に、発光層への正孔や電子の注入を容易にしたり、発光層内での正孔と電子との再結合を円滑に行わせたりすることを目的として、正孔注入層、正孔輸送層、正孔阻止層、電子注入層などを積層させたものを指す。また、発光層と陽極との間で発光層に隣接して存在し、発光層と陽極、又は発光層と、正孔注入層若しくは正孔輸送層とを隔離する役割をもつ層であるインターレイヤー層を挿入しても良い。したがって、多層型電界発光素子の代表的な素子構成としては、(1)陽極/正孔注入層/発光層/陰極、(2)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/陰極、(3)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極、(4)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極、(5)陽極/正孔注入層/発光層/正孔阻止層/電子注入層/陰極、(6)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/正孔阻止層/電子注入層/陰極、(7)陽極/発光層/正孔阻止層/電子注入層/陰極、(8)陽極/発光層/電子注入層/陰極(9)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/インターレイヤー層/発光層/陰極、(10)陽極/正孔注入層/インターレイヤー層/発光層/電子注入層/陰極、(11)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/インターレイヤー層/発光層/電子注入層/陰極、等の多層構成で積層した素子構成が考えられる。 The light emitting device in the present invention is generally referred to as an electroluminescent element, and is composed of an element in which a single layer or a multilayer organic layer is formed between an anode and a cathode. Here, the single-layer electroluminescent element is an anode. Refers to an element consisting only of an electroluminescent layer between the cathode and the light emitting layer. On the other hand, the multi-layer electroluminescent element facilitates the injection of holes and electrons into the light emitting layer in addition to the light emitting layer, and facilitates the recombination of holes and electrons in the light emitting layer. It refers to a stack of a hole injection layer, a hole transport layer, a hole blocking layer, an electron injection layer, and the like. Further, an interconnect layer that exists adjacent to the light emitting layer between the light emitting layer and the anode and has a role of separating the light emitting layer and the anode or the light emitting layer from the hole injection layer or the hole transport layer. Layers may be inserted. Therefore, typical element configurations of the multilayer electro-emitting element are (1) anode / hole injection layer / light emitting layer / cathode, and (2) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / cathode. , (3) anode / hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode, (4) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode, (5) anode / positive Pore injection layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron injection layer / cathode, (6) anode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / hole blocking layer / electron injection layer / cathode, (7) Anodic / light emitting layer / hole blocking layer / electron injection layer / cathode, (8) anode / light emitting layer / electron injection layer / cathode (9) anode / hole injection layer / hole transport layer / interlayer layer / light emitting layer / Cathode, (10) Anodium / hole injection layer / interlayer layer / light emitting layer / electron injection layer / cathode, (11) anode / hole injection layer / hole transport layer / interlayer layer / light emitting layer / electron injection It is conceivable that the element structure is laminated with a multi-layer structure such as a layer / cathode.

また、上述した各層は、それぞれ二層以上の層構成により形成されても良く、いくつかの層が繰り返し積層されていても良い。そのような例として、近年、光取り出し効率の向上を目的に、上述の多層型電界発光素子の一部の層を多層化する「マルチ・フォトン・エミッション」と呼ばれる素子構成が提案されている。これは例えば、ガラス基板/陽極/正孔輸送層/電子輸送性発光層/電子注入層/電荷発生層/発光ユニット/陰極から構成される電界発光素子に於いて、電荷発生層と発光ユニットの部分を複数層積層するといった方法が挙げられる。 Further, each of the above-mentioned layers may be formed by a layer structure of two or more layers, or several layers may be repeatedly laminated. As such an example, in recent years, for the purpose of improving the light extraction efficiency, an element configuration called "multi-photon emission" in which a part of the layers of the above-mentioned multi-layer electroluminescent element is multi-layered has been proposed. This is, for example, in an electroluminescent element composed of a glass substrate / anode / hole transport layer / electron transporting light emitting layer / electron injection layer / charge generating layer / light emitting unit / cathode. A method of laminating a plurality of layers of the portions can be mentioned.

正孔注入層には、発光層に対して優れた正孔注入効果を示し、かつ陽極界面との密着性と薄膜形成性に優れた正孔注入層を形成できる正孔注入材料が用いられる。また、このような材料を多層積層させ、正孔注入効果の高い材料と正孔輸送効果の高い材料とを多層積層させた場合、それぞれに用いる材料を正孔注入材料、正孔輸送材料と呼ぶことがある。本発明の電界発光素子用材料は、正孔注入材料、正孔輸送材料いずれにも好適に使用することができる。これら正孔注入材料や正孔輸送材料は、正孔移動度が大きく、イオン化エネルギーが通常5.5eV以下と小さい必要がある。このような正孔注入層としては、より低い電界強度で正孔を発光層に輸送する材料が好ましく、さらに正孔の移動度が、例えば10〜10V/cmの電界印加時に、少なくとも10−6cm/V・秒であるものが好ましい。本発明の電界発光素子用材料と混合して使用することができる、他の正孔注入材料および正孔輸送材料としては、上記の好ましい性質を有するものであれば特に制限はなく、従来、光導伝材料において正孔の電荷輸送材料として慣用されているものや、電界発光素子の正孔注入層に使用されている公知のものの中から任意のものを選択して用いることができる。 For the hole injection layer, a hole injection material that exhibits an excellent hole injection effect on the light emitting layer and can form a hole injection layer having excellent adhesion to the anode interface and thin film forming property is used. Further, when such a material is laminated in multiple layers and a material having a high hole injection effect and a material having a high hole transport effect are laminated in multiple layers, the materials used for each are referred to as a hole injection material and a hole transport material. Sometimes. The material for an electroluminescent device of the present invention can be suitably used for both a hole injection material and a hole transport material. These hole injection materials and hole transport materials need to have a large hole mobility and a small ionization energy of usually 5.5 eV or less. As such a hole injection layer, a material that transports holes to the light emitting layer with a lower electric field strength is preferable, and further , when an electric field with a hole mobility of, for example, 10 4 to 10 6 V / cm is applied, at least. It is preferably 10-6 cm 2 / V · sec. The other hole injecting material and hole transporting material that can be mixed with the electroluminescent device material of the present invention are not particularly limited as long as they have the above-mentioned preferable properties. Any material can be selected and used from those commonly used as hole charge transport materials in transmission materials and known materials used for the hole injection layer of electroluminescent devices.

このような正孔注入材料や正孔輸送材料としては、具体的には、例えばトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体およびピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体(、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系誘導体、アニリン系共重合体、導電性高分子オリゴマー(特にチオフェンオリゴマー)等をあげることができる。 Specific examples of such hole injecting materials and hole transporting materials include triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives and pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, and arylamine derivatives. , Amino-substituted carcon derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives (, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilben derivatives, silazane derivatives, polysilane-based derivatives, aniline-based copolymers, conductive polymer oligomers (particularly thiophene oligomers), etc. Can be done.

このうち、好適なものとして、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物を用いることもできる。例えば、2個の縮合芳香族環を分子内に有する4,4’−ビス(N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ)ビフェニル等や、トリフェニルアミンユニットが3つスターバースト型に連結された4,4’,4”−トリス(N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ)トリフェニルアミン等をあげることができる。また、正孔注入材料として銅フタロシアニンや水素フタロシアニン等のフタロシアニン誘導体も挙げられる。さらに、その他、芳香族ジメチリデン系化合物、p型Si、p型SiC等の無機化合物も正孔注入材料や正孔輸送材料として使用することができる。 Of these, porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds can also be used as suitable ones. For example, 4,4'-bis (N- (1-naphthyl) -N-phenylamino) biphenyl having two fused aromatic rings in the molecule, or three triphenylamine units linked in a starburst type. Examples thereof include 4,4', 4 "-tris (N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino) triphenylamine, etc., and copper phthalocyanine, hydrogen phthalocyanine, etc. as the hole injection material. Further, phthalocyanine derivatives can also be mentioned. In addition, inorganic compounds such as aromatic dimethylidene compounds, p-type Si and p-type SiC can also be used as hole injection materials and hole transport materials.

さらに、正孔注入層に使用できる材料としては、酸化モリブデン(MnO)、酸化バナジウム(VO)、酸化ルテニウム(RuO)、酸化銅(CuO)、酸化タングステン(WO)、酸化イリジウム(IrO)などの無機酸化物もあげられる。 Further, materials that can be used for the hole injection layer include molybdenum oxide (MnO x ), vanadium oxide (VO x ), ruthenium oxide (RuO x ), copper oxide (CuO x ), tungsten oxide (WO x ), and iridium oxide. Inorganic oxides such as (IrO x ) can also be mentioned.

上に説明した正孔注入層を形成するには、上述の化合物を、例えば真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、LB法等の公知の方法により薄膜化する。正孔注入層の膜厚は、特に制限はないが、通常は5nm〜5μmである。 In order to form the hole injection layer described above, the above-mentioned compound is thinned by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, or an LB method. The film thickness of the hole injection layer is not particularly limited, but is usually 5 nm to 5 μm.

インターレイヤー層に用いる材料として、ポリビニルカルバゾール及びその誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体、アリールアミン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等の芳香族アミンを含むポリマーが例示される。また、インターレイヤー層の成膜方法は、高分子量の材料を用いる場合には、溶液からの成膜による方法が例示される。 Examples of the material used for the interlayer layer include polyvinylcarbazole and its derivatives, polyarylene derivatives having aromatic amines in the side chain or main chain, arylamine derivatives, and polymers containing aromatic amines such as triphenyldiamine derivatives. Further, as the film forming method of the interlayer layer, when a high molecular weight material is used, a method of forming a film from a solution is exemplified.

溶液からのインターレイヤー層の成膜には、公知の湿式成膜法、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、インクジェットプリント法、キャピラリ−コート法、ノズルコート法等の塗布法を用いることができる。 For the film formation of the interlayer layer from the solution, known wet film forming methods such as spin coating method, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, etc. A coating method such as a dip coating method, a spray coating method, a screen printing method, a flexo printing method, an offset printing method, an inkjet printing method, a capillary coating method, or a nozzle coating method can be used.

インターレイヤー層の厚さは、用いる材料によって最適値が異なり、駆動電圧と発光効率が適度な値となるように選択すればよく、通常、1nm〜1μmであり、好ましくは2〜500nmであり、より好ましくは5〜200nmである。 The optimum value of the thickness of the interlayer layer differs depending on the material used, and it may be selected so that the drive voltage and the luminous efficiency are appropriate values. Usually, it is 1 nm to 1 μm, preferably 2 to 500 nm. More preferably, it is 5 to 200 nm.

一方、電子注入層には、発光層に対して優れた電子注入効果を示し、かつ陰極界面との密着性と薄膜形成性に優れた電子注入層を形成できる電子注入材料が用いられる。そのような電子注入材料の例としては、金属錯体化合物、含窒素五員環誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェノキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ペリレンテトラカルボン酸誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、シロール誘導体、トリアリールホスフィンオキシド誘導体、ポリキノリン及びその誘導体、ポリキノキサリン及びその誘導体、ポリフルオレン及びその誘導体、カルシウムアセチルアセトナート、酢酸ナトリウムなどが挙げられる。また、セシウム等の金属をバソフェナントロリンにドープした無機/有機複合材料や、第50回応用物理学関連連合講演会講演予稿集、No.3、1402頁、2003年発行記載のBCP、TPP、T5MPyTZ等も電子注入材料の例として挙げられるが、素子作成に必要な薄膜を形成し、陰極からの電子を注入できて、電子を輸送できる材料であれば、特にこれらに限定されるものではない。 On the other hand, as the electron injection layer, an electron injection material that exhibits an excellent electron injection effect on the light emitting layer and can form an electron injection layer having excellent adhesion to the cathode interface and thin film forming property is used. Examples of such electron-injected materials include metal complex compounds, nitrogen-containing five-membered ring derivatives, fluorenone derivatives, anthraquinodimethane derivatives, diphenoquinone derivatives, thiopyrandioxide derivatives, perylenetetracarboxylic acid derivatives, fleolenilidenemethane. Examples thereof include derivatives, anthron derivatives, silol derivatives, triarylphosphin oxide derivatives, polyquinolin and its derivatives, polyquinoxalin and its derivatives, polyfluorene and its derivatives, calcium acetylacetonate, sodium acetate and the like. Inorganic / organic composite materials in which a metal such as cesium is doped with vasophenanthroline, and the proceedings of the 50th Joint Lecture Meeting on Applied Physics, No. BCP, TPP, T5MPyTZ, etc. described on page 3, 1402, published in 2003 are also given as examples of electron injection materials, but they can form a thin film necessary for device fabrication, inject electrons from the cathode, and transport electrons. As long as it is a material, it is not particularly limited to these.

上記電子注入材料の中で好ましいものとしては、金属錯体化合物、含窒素五員環誘導体、シロール誘導体、トリアリールホスフィンオキシド誘導体が挙げられる。本発明に使用可能な好ましい金属錯体化合物としては、8−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属錯体が好適である。8−ヒドロキシキノリンまたはその誘導体の金属錯体の具体例としては、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(4−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(5−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、トリス(5−フェニル−8−ヒドロキシキノリナート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(1−ナフトラート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(2−ナフトラート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(4−シアノ−1−ナフトラート)アルミニウム、ビス(4−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(1−ナフトラート)アルミニウム、ビス(5−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(2−ナフトラート)アルミニウム、ビス(5−フェニル−8−ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)アルミニウム、ビス(5−シアノ−8−ヒドロキシキノリナート)(4−シアノ−1−ナフトラート)アルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)クロロアルミニウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(o−クレゾラート)アルミニウム等のアルミニウム錯体化合物、トリス(8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(4−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(5−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、トリス(2−メチル−5−フェニル−8−ヒドロキシキノリナート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(1−ナフトラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(2−ナフトラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(4−シアノ−1−ナフトラート)ガリウム、ビス(2、4−ジメチル−8−ヒドロキシキノリナート)(1−ナフトラート)ガリウム、ビス(2、5−ジメチル−8−ヒドロキシキノリナート)(2−ナフトラート)ガリウム、ビス(2−メチル−5−フェニル−8−ヒドロキシキノリナート)(フェノラート)ガリウム、ビス(2−メチル−5−シアノ−8−ヒドロキシキノリナート)(4−シアノ−1−ナフトラート)ガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)クロロガリウム、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(o−クレゾラート)ガリウム等のガリウム錯体化合物の他、8−ヒドロキシキノリナートリチウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)銅、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)マンガン、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)ベリリウム、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)亜鉛、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナート)亜鉛等の金属錯体化合物が挙げられる。 Among the electron-injected materials, preferred examples include a metal complex compound, a nitrogen-containing five-membered ring derivative, a silol derivative, and a triarylphosphine oxide derivative. As a preferable metal complex compound that can be used in the present invention, a metal complex of 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof is suitable. Specific examples of the metal complex of 8-hydroxyquinoline or a derivative thereof include tris (8-hydroxyquinolinate) aluminum, tris (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) aluminum, and tris (4-methyl-8-). Hydroxyquinolinate) Aluminum, Tris (5-Methyl-8-Hydroxyquinolinate) Aluminum, Tris (5-phenyl-8-Hydroxyquinolinate) Aluminum, Bis (8-Hydroxyquinolinate) (1-naphtholat) ) Aluminum, bis (8-hydroxyquinolinate) (2-naphtholat) Aluminum, bis (8-hydroxyquinolinate) (phenorate) aluminum, bis (8-hydroxyquinolinate) (4-cyano-1-naphtholate) ) Aluminum, bis (4-methyl-8-hydroxyquinolinate) (1-naphtholate) aluminum, bis (5-methyl-8-hydroxyquinolinate) (2-naphtholate) aluminum, bis (5-phenyl-8) -Hydroxyquinolinate) (phenorate) aluminum, bis (5-cyano-8-hydroxyquinolinate) (4-cyano-1-naphtholate) aluminum, bis (8-hydroxyquinolinate) chloroaluminum, bis (8) -Aluminum complex compounds such as hydroxyquinolinate (o-cresolate) aluminum, tris (8-hydroxyquinolinate) gallium, tris (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) gallium, tris (4-methyl- 8-Hydroxyquinolinate) gallium, tris (5-methyl-8-hydroxyquinolinate) gallium, tris (2-methyl-5-phenyl-8-hydroxyquinolinate) gallium, bis (2-methyl-8) -Hydroxyquinolinate) (1-naphtholate) gallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) (2-naphtholate) gallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) (phenorate) gallium , Bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) (4-cyano-1-naphtholate) gallium, bis (2,4-dimethyl-8-hydroxyquinolinate) (1-naphtholate) gallium, bis (2) , 5-Dimethyl-8-Hydroxyquinolinate) (2-naphtholate) gallium, bis (2-methyl-5-phenyl-8-hydroxyquinolinate) (phenorate) gallium, bis (2-methyl-5- Cyano-8-hydroxyquinolinate) (4-cyano-1-naphtholate) gallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) chlorogallium, bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) ( In addition to gallium complex compounds such as o-cresolate) gallium, 8-hydroxyquinolinate lithium, bis (8-hydroxyquinolinate) copper, bis (8-hydroxyquinolinate) manganese, bis (10-hydroxybenzo [h] ] Kinolinate) Metal complex compounds such as berylium, bis (8-hydroxyquinolinate) zinc, and bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinate) zinc can be mentioned.

また、本発明に使用可能な電子注入材料の内、好ましい含窒素五員環誘導体としては、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体があげられ、具体的には、2,5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−オキサゾール、2,5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−チアゾール、2,5−ビス(1−フェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−(4’−tert−ブチルフェニル)−5−(4”−ビフェニル)1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、1,4−ビス[2−(5 −フェニルオキサジアゾリル)]ベンゼン、1,4−ビス[2−(5−フェニルオキサジアゾリル)−4−tert−ブチルベンゼン]、2−(4’−tert− ブチルフェニル)−5−(4”−ビフェニル)−1,3,4−チアジアゾール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−チアジアゾール、1,4−ビス[2−(5−フェニルチアジアゾリル)]ベンゼン、2−(4’−tert−ブチルフェニル)−5−(4”−ビフェニル)−1,3,4−トリアゾール、2,5−ビス(1−ナフチル)−1,3,4−トリアゾール、1,4−ビス[2−(5−フェニルトリアゾリル)]ベンゼン等が挙げられる。 Among the electron-injected materials that can be used in the present invention, preferred examples of the nitrogen-containing five-membered ring derivative include an oxadiazole derivative, a thiazole derivative, an oxadiazole derivative, a thiadiazole derivative, and a triazole derivative. , 5-bis (1-phenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (1-phenyl) -1,3,4-thiazole, 2,5-bis (1-phenyl) -1, 3,4-Oxadiazole, 2- (4'-tert-butylphenyl) -5- (4 "-biphenyl) 1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (1-naphthyl) -1 , 3,4-Oxadiazole, 1,4-bis [2- (5-phenyloxadiazolyl)] benzene, 1,4-bis [2- (5-phenyloxadiazolyl) -4-tert-butyl Benzene], 2- (4'-tert-butylphenyl) -5- (4 "-biphenyl) -1,3,4-thiadiazole, 2,5-bis (1-naphthyl) -1,3,4-thiadiazole , 1,4-Bis [2- (5-phenylthiazolyl)] benzene, 2- (4'-tert-butylphenyl) -5- (4 "-biphenyl) -1,3,4-triazole, 2 , 5-Bis (1-naphthyl) -1,3,4-triazole, 1,4-Bis [2- (5-phenyltriazolyl)] benzene and the like can be mentioned.

さらに、電子注入層に使用できる材料としては、酸化亜鉛(ZnO)、酸化チタン(TiO)などの無機酸化物もあげられる。 Further, examples of the material that can be used for the electron injection layer include inorganic oxides such as zinc oxide (ZnO) and titanium oxide (TiO 2).

さらに、正孔阻止層には、発光層を経由した正孔が電子注入層に達するのを防ぎ、薄膜形成性に優れた層を形成できる正孔阻止材料が用いられる。そのような正孔阻止材料の例としては、ビス(8−ヒドロキシキノリナート)(4−フェニルフェノラート)アルミニウム等のアルミニウム錯体化合物や、ビス(2−メチル−8−ヒドロキシキノリナート)(4−フェニルフェノラート)ガリウム等のガリウム錯体化合物、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(BCP)等の含窒素縮合芳香族化合物が挙げられる。 Further, as the hole blocking layer, a hole blocking material that can prevent holes that have passed through the light emitting layer from reaching the electron injection layer and can form a layer having excellent thin film forming properties is used. Examples of such hole blocking materials include aluminum complex compounds such as bis (8-hydroxyquinolinate) (4-phenylphenanthrate) aluminum and bis (2-methyl-8-hydroxyquinolinate) ( Examples thereof include gallium complex compounds such as 4-phenylphenolate) gallium and nitrogen-containing condensed aromatic compounds such as 2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline (BCP).

本発明の電界発光素子の発光層としては、以下の機能を併せ持つものが好適である。
注入機能;電界印加時に陽極または正孔注入層より正孔を注入することができ、陰極または電子注入層より電子を注入することができる機能
輸送機能;注入した電荷(電子と正孔)を電界の力で移動させる機能
発光機能;電子と正孔の再結合の場を提供し、これを発光につなげる機能
ただし、正孔の注入されやすさと電子の注入されやすさには、違いがあってもよく、また正孔と電子の移動度で表される輸送能に大小があってもよい。
As the light emitting layer of the electroluminescent element of the present invention, one having the following functions is suitable.
Injection function; A function that can inject holes from the anode or hole injection layer when an electric field is applied, and can inject electrons from the cathode or electron injection layer. Transport function; Electric charge (electrons and holes) injected Light emitting function; a function that provides a field for recombination of electrons and holes and connects them to light emission. However, there is a difference between the ease of hole injection and the ease of electron injection. Also, the transport capacity expressed by the mobility of holes and electrons may be large or small.

本発明の塗工液またはインキ組成物を使用して形成された発光層は好適に用いることが出来る。本発明の塗工液またはインキ組成物を使用して形成された発光層を得るために、本発明の塗工液またはインキ組成物に他の発光性の化合物と組み合わせて発光層を形成することができる。 The light emitting layer formed by using the coating liquid or the ink composition of the present invention can be preferably used. In order to obtain a light emitting layer formed by using the coating liquid or ink composition of the present invention, the light emitting layer is formed by combining the coating liquid or ink composition of the present invention with other light emitting compounds. Can be done.

本発明の塗工液またはインキ組成物を使用して形成された発光層をえるために、本発明の塗工液またはインキ組成物に添加しても良い、青色から緑色の発光を示す化合物としては、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物を用いることができる。 As a compound exhibiting blue to green light emission that may be added to the coating liquid or ink composition of the present invention in order to obtain a light emitting layer formed by using the coating liquid or ink composition of the present invention. Can be used as a fluorescent whitening agent such as benzothiazole-based, benzimidazole-based, benzoxazole-based, metal chelated oxynoid compound, and styrylbenzene-based compound.

前記金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス(8−キノリノール)アルミニウム等の8−ヒドロキシキノリン系金属錯体や、ジリチウムエピントリジオン等が好適な化合物としてあげることができる。 Examples of the metal chelated oxinoid compound include 8-hydroxyquinoline-based metal complexes such as tris (8-quinolinol) aluminum and dilithium epintridione as suitable compounds.

また、前記スチリルベンゼン系化合物としては、例えば、ジスチリルピラジン誘導体も、発光層の材料として用いることができる。このほか、ポリフェニル系化合物も、本発明の塗工液またはインキ組成物に加えても良い。 Further, as the styrylbenzene compound, for example, a distyrylpyrazine derivative can also be used as a material for the light emitting layer. In addition, a polyphenyl compound may be added to the coating liquid or ink composition of the present invention.

さらに、上述した蛍光増白剤、金属キレート化オキシノイド化合物およびスチリルベンゼン系化合物等以外に、例えば12−フタロペリノン、1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエン、1,1,4,4−テトラフェニル−1,3−ブタジエン、ナフタルイミド誘導体、ペリレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラジリン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ピロロピロール誘導体、スチリルアミン誘導体、クマリン系化合物、高分子化合物、9,9’,10,10’−テトラフェニル−2,2’−ビアントラセン、PPV(ポリパラフェニレンビニレン)誘導体、ポリフルオレン誘導体やそれら共重合体等が挙げられる。さらにビス(2−メチル−8−キノリノラート)(パラ−フェニルフェノラート)アルミニウム(III)、ビス(2−メチル−8−キノリノラート)(1−ナフトラート)アルミニウム(III)等のフェノラート配位子と、置換8−キノリノラート配位子を同時に有する金属錯体が挙げられる。 Further, in addition to the above-mentioned fluorescent whitening agent, metal chelated oxynoid compound, styrylbenzene compound and the like, for example, 12-phthaloperinone, 1,4-diphenyl-1,3-butadiene, 1,1,4,4-tetraphenyl -1,3-butadiene, naphthalimide derivative, perylene derivative, oxadiazole derivative, aldazine derivative, pyrazirin derivative, cyclopentadiene derivative, pyrolopyrrole derivative, styrylamine derivative, coumarin compound, polymer compound, 9,9', Examples thereof include 10,10'-tetraphenyl-2,2'-biantrasen, PPV (polyparaphenylene vinylene) derivatives, polyfluorene derivatives and their copolymers. Further, with phenolic ligands such as bis (2-methyl-8-quinolinolate) (para-phenylphenolate) aluminum (III) and bis (2-methyl-8-quinolinolate) (1-naphtholate) aluminum (III), Examples thereof include metal complexes having a substituted 8-quinolinolate ligand at the same time.

白色の発光を得る場合の発光層としては特に制限はないが、下記のものを用いることができる。電界発光積層構造体の各層のエネルギー準位を規定し、トンネル注入を利用して発光させるもの(欧州特許第0390551号公報)。
同じくトンネル注入を利用する素子で実施例として白色発光素子が記載されているもの(特開平3−230584号公報)。二層構造の発光層が記載されているもの(特開平2−220390号公報および特開平2−216790号公報)。発光層を複数に分割してそれぞれ発光波長の異なる材料で構成されたもの(特開平4−51491号公報)。青色発光体(蛍光ピーク380〜480nm)と緑色発光体(480〜580nm)とを積層させ、さらに赤色蛍光体を含有させた構成のもの(特開平6−207170号公報)。青色発光層が青色蛍光色素を含有し、緑色発光層が赤色蛍光色素を含有した領域を有し、さらに緑色蛍光体を含有する構成のもの(特開平7−142169号公報)。
The light emitting layer for obtaining white light emission is not particularly limited, but the following can be used. An electroluminescent laminated structure that defines the energy level of each layer and emits light by using tunnel injection (European Patent No. 0390551).
Similarly, an element using tunnel injection and a white light emitting element is described as an example (Japanese Patent Laid-Open No. 3-230584). A light emitting layer having a two-layer structure is described (Japanese Patent Laid-Open No. 2-220390 and JP-A-2-216790). A light emitting layer is divided into a plurality of layers and each is composed of a material having a different emission wavelength (Japanese Patent Laid-Open No. 4-51491). A structure in which a blue light emitter (fluorescence peak 380 to 480 nm) and a green light emitter (480 to 580 nm) are laminated and further contained a red phosphor (Japanese Patent Laid-Open No. 6-207170). A structure in which the blue light emitting layer contains a blue fluorescent dye, the green light emitting layer has a region containing a red fluorescent dye, and further contains a green phosphor (Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-142169).

さらに、本発明の電界発光素子の陽極に使用される材料は、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電気伝導性化合物またはこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としては、Au等の金属、CuI、ITO、SnO、ZnO等の導電性材料が挙げられる。この陽極を形成するには、これらの電極物質を、蒸着法やスパッタリング法等の方法で薄膜を形成させることができる。この陽極は、上記発光層からの発光を陽極から取り出す場合、陽極の発光に対する透過率が10%より大きくなるような特性を有していることが望ましい。また、陽極のシート抵抗は、数百Ω/□以下としてあるものが好ましい。さらに、陽極の膜厚は、材料にもよるが通常10nm〜1μm、好ましくは10〜200nmの範囲で選択される。 Further, as the material used for the anode of the electroluminescent element of the present invention, a metal, an alloy, an electrically conductive compound or a mixture thereof having a large work function (4 eV or more) as an electrode material is preferably used. Specific examples of such an electrode material include metals such as Au and conductive materials such as CuI, ITO, SnO 2, and ZnO. In order to form this anode, these electrode materials can be formed into a thin film by a method such as a thin film deposition method or a sputtering method. When the light emitted from the light emitting layer is taken out from the anode, it is desirable that the anode has a property that the transmittance of the anode with respect to the light emitted is larger than 10%. Further, the sheet resistance of the anode is preferably several hundred Ω / □ or less. Further, the film thickness of the anode is usually selected in the range of 10 nm to 1 μm, preferably 10 to 200 nm, depending on the material.

また、本発明の電界発光素子の陰極に使用される材料は、仕事関数の小さい(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物およびこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム・銀合金、アルミニウム/酸化アルミニウム、アルミニウム・リチウム合金、インジウム、希土類金属などが挙げられる。この陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。ここで、発光層からの発光を陰極から取り出す場合、陰極の発光に対する透過率は10%より大きくすることが好ましい。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω/□以下が好ましく、さらに、膜厚は通常10nm〜1μm、好ましくは50〜200nmである。 Further, as the material used for the cathode of the electroluminescent element of the present invention, a metal having a small work function (4 eV or less), an alloy, an electrically conductive compound, or a mixture thereof is used as an electrode material. Specific examples of such an electrode material include sodium, sodium-potassium alloy, magnesium, lithium, magnesium / silver alloy, aluminum / aluminum oxide, aluminum / lithium alloy, indium, rare earth metal and the like. This cathode can be produced by forming a thin film of these electrode materials by a method such as vapor deposition or sputtering. Here, when the light emitted from the light emitting layer is taken out from the cathode, the transmittance of the cathode with respect to the light emitted is preferably larger than 10%. The sheet resistance of the cathode is preferably several hundred Ω / □ or less, and the film thickness is usually 10 nm to 1 μm, preferably 50 to 200 nm.

本発明の電界発光素子を作製する方法については、上記の材料および方法により陽極、発光層、必要に応じて正孔注入層、および必要に応じて電子注入層を形成し、最後に陰極を形成すればよい。また、陰極から陽極へ、前記と逆の順序で電界発光素子を作製することもできる。 Regarding the method for producing the electroluminescent device of the present invention, an anode, a light emitting layer, a hole injection layer if necessary, and an electron injection layer if necessary are formed by the above materials and methods, and finally a cathode is formed. do it. Further, the electroluminescent device can be manufactured from the cathode to the anode in the reverse order of the above.

この電界発光素子は、透光性の基板上に作製する。この透光性基板は電界発光素子を支持する基板であり、その透光性については、400〜700nmの可視領域の光の透過率が50%以上、好ましくは90%以上であるものが望ましく、さらに平滑な基板を用いるのが好ましい。 This electroluminescent element is manufactured on a translucent substrate. This translucent substrate is a substrate that supports an electroluminescent element, and its translucency is preferably such that the transmittance of light in the visible region of 400 to 700 nm is 50% or more, preferably 90% or more. It is preferable to use a smoother substrate.

これら基板は、機械的、熱的強度を有し、透明であれば特に限定されるものではないが、例えば、ガラス板、合成樹脂板などが好適に用いられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英などで成形された板が挙げられる。また、合成樹脂板としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエーテルサルファイド樹脂、ポリサルフォン樹脂などの板が挙げられる。 These substrates are not particularly limited as long as they have mechanical and thermal strength and are transparent, but for example, a glass plate, a synthetic resin plate, or the like is preferably used. Examples of the glass plate include plates formed of soda-lime glass, barium / strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, quartz and the like. Examples of the synthetic resin plate include a plate such as a polycarbonate resin, an acrylic resin, a polyethylene terephthalate resin, a polyether sulfide resin, and a polysulfon resin.

本発明の電界発光素子の発光層を除く各層の形成方法としては、真空蒸着、電子線ビーム照射、スパッタリング、プラズマ、イオンプレーティング等の乾式成膜法、もしくはスピンコーティング、ディッピング、フローコーティング等の湿式成膜法のいずれかの方法を適用することができる。また、特表2002−534782や、S.T.Lee, et al., Proceedings of SID’02, p.784(2002)に記載されているLITI(Laser Induced Thermal Imaging、レーザー熱転写)法や、印刷(オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、スクリーン印刷)、インクジェット等の方法を適用することもできる。 As a method for forming each layer excluding the light emitting layer of the electroluminescent element of the present invention, a dry film forming method such as vacuum vapor deposition, electron beam irradiation, sputtering, plasma, ion plating, or spin coating, dipping, flow coating, etc. Any method of the wet film forming method can be applied. In addition, the special table 2002-543782 and S.A. T. Lee, et al. , Proceedings of SID'02, p. The LITI (Laser Induced Thermal Imaging) method described in 784 (2002), printing (offset printing, flexographic printing, gravure printing, screen printing), inkjet printing, and the like can also be applied.

ポリマー材料を除く有機層は、特に分子堆積膜であることが好ましい。ここで分子堆積膜とは、気相状態の材料化合物から沈着され形成された薄膜や、溶液状態または液相状態の材料化合物から固体化され形成された膜のことであり、通常この分子堆積膜は、LB法により形成された薄膜(分子累積膜)とは凝集構造、高次構造の相違や、それに起因する機能的な相違により区分することができる。また特開昭57−51781号公報に開示されているように、樹脂等の結着剤と材料化合物とを溶剤に溶かして溶液とした後、これをスピンコート法等により薄膜化することによっても、有機層を形成することができる。各層の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚が厚すぎると一定の光出力を得るために大きな印加電圧が必要となり効率が悪くなり、逆に膜厚が薄すぎるとピンホール等が発生し、電界を印加しても充分な発光輝度が得にくくなる。したがって、各層の膜厚は、1nmから1μmの範囲が適しているが、10nmから0.2μmの範囲がより好ましい。 The organic layer excluding the polymer material is particularly preferably a molecular deposition film. Here, the molecular deposition film is a thin film deposited and formed from a material compound in a gas phase state, or a film solidified and formed from a material compound in a solution state or a liquid phase state, and is usually this molecular deposition film. Can be classified from the thin film (molecular cumulative film) formed by the LB method by the difference in aggregate structure, higher-order structure, and the functional difference caused by the difference. Further, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-57181, a binder such as a resin and a material compound are dissolved in a solvent to form a solution, which is then thinned by a spin coating method or the like. , An organic layer can be formed. The film thickness of each layer is not particularly limited, but if the film thickness is too thick, a large applied voltage is required to obtain a constant light output, resulting in inefficiency. On the contrary, if the film thickness is too thin, pinholes, etc. Is generated, and it becomes difficult to obtain sufficient emission brightness even when an electric field is applied. Therefore, the film thickness of each layer is preferably in the range of 1 nm to 1 μm, but more preferably in the range of 10 nm to 0.2 μm.

また、電界発光素子の温度、湿度、雰囲気等に対する安定性向上のために、素子の表面に保護層を設けたり、樹脂等により素子全体を被覆や封止を施したりしても良い。特に素子全体を被覆や封止する際には、光によって硬化する光硬化性樹脂が好適に使用される。 Further, in order to improve the stability of the electroluminescent element with respect to temperature, humidity, atmosphere and the like, a protective layer may be provided on the surface of the element, or the entire element may be coated or sealed with a resin or the like. In particular, when coating or sealing the entire element, a photocurable resin that is cured by light is preferably used.

本発明の電界発光素子に印加する電流は通常、直流であるが、パルス電流や交流を用いてもよい。電流値、電圧値は、素子破壊しない範囲内であれば特に制限はないが、素子の消費電力や寿命を考慮すると、なるべく小さい電気エネルギーで効率良く発光させることが望ましい。 The current applied to the electroluminescent device of the present invention is usually direct current, but pulse current or alternating current may be used. The current value and voltage value are not particularly limited as long as they do not destroy the element, but considering the power consumption and life of the element, it is desirable to efficiently emit light with as little electric energy as possible.

本発明の電界発光素子の駆動方法は、パッシブマトリクス法のみならず、アクティブマトリックス法での駆動も可能である。また、本発明の電界発光素子から光を取り出す方法としては、陽極側から光を取り出すボトム・エミッションという方法のみならず、陰極側から光を取り出すトップ・エミッションという方法にも適用可能である。これらの方法や技術は、城戸淳二著、「電界発光のすべて」、日本実業出版社(2003年発行)に記載されている。 The method for driving the electroluminescent element of the present invention can be driven not only by the passive matrix method but also by the active matrix method. Further, as a method of extracting light from the electroluminescent element of the present invention, it can be applied not only to a method of bottom emission in which light is extracted from the anode side but also to a method of top emission in which light is extracted from the cathode side. These methods and techniques are described in Junji Kido, "All about Electroluminescence", Nihon Jitsugyo Publishing Co., Ltd. (published in 2003).

本発明の電界発光素子のフルカラー化方式の主な方式としては、3色塗り分け方式、色変換方式、カラーフィルター方式が挙げられる。3色塗り分け方式では、シャドウマスクを使った蒸着法や、インクジェット法や印刷法が挙げられる。また、特表2002−534782や、S.T.Lee, et al., Proceedings of SID’02, p.784(2002)に記載されているレーザー熱転写法(Laser Induced Thermal Imaging、LITI法ともいわれる)も用いることができる。色変換方式では、青色発光の発光層を使って、蛍光色素を分散した色変換(CCM)層を通して、青色より長波長の緑色と赤色に変換する方法である。カラーフィルター方式では、白色発光の電界発光素子を使って、液晶用カラーフィルターを通して3原色の光を取り出す方法であるが、これら3原色に加えて、一部白色光をそのまま取り出して発光に利用することで、素子全体の発光効率をあげることもできる。 The main method of the full colorization method of the electroluminescent element of the present invention includes a three-color painting method, a color conversion method, and a color filter method. Examples of the three-color painting method include a vapor deposition method using a shadow mask, an inkjet method, and a printing method. In addition, the special table 2002-543782 and S.A. T. Lee, et al. , Proceedings of SID'02, p. The laser thermal transfer method described in 784 (2002) (also referred to as Laser Induced Thermo Imaging, LITI method) can also be used. The color conversion method is a method of converting from blue to green and red having a longer wavelength than blue through a color conversion (CCM) layer in which a fluorescent dye is dispersed by using a light emitting layer that emits blue light. The color filter method uses an electroluminescent element that emits white light to extract light of the three primary colors through a color filter for liquid crystal. In addition to these three primary colors, some white light is extracted as it is and used for light emission. As a result, the luminous efficiency of the entire element can be increased.

さらに、本発明の電界発光素子は、マイクロキャビティ構造を採用しても構わない。これは、電界発光素子は、発光層が陽極と陰極との間に挟持された構造であり、発光した光は陽極と陰極との間で多重干渉を生じるが、陽極及び陰極の反射率、透過率などの光学的な特性と、これらに挟持された有機層の膜厚とを適当に選ぶことにより、多重干渉効果を積極的に利用し、素子より取り出される発光波長を制御するという技術である。これにより、発光色度を改善することも可能となる。この多重干渉効果のメカニズムについては、J.Yamada等によるAM−LCD Digest of Technical Papers,OD−2,p.77〜80(2002)に記載されている。 Further, the electroluminescent device of the present invention may adopt a microcavity structure. This is because the electroluminescent element has a structure in which a light emitting layer is sandwiched between an anode and a cathode, and the emitted light causes multiple interference between the anode and the cathode, but the reflectance and transmission of the anode and the cathode are transmitted. It is a technology that positively utilizes the multiple interference effect and controls the emission wavelength extracted from the element by appropriately selecting the optical characteristics such as the rate and the film thickness of the organic layer sandwiched between them. .. This also makes it possible to improve the emission chromaticity. For the mechanism of this multiple interference effect, refer to J.M. AM-LCD Digital Papers by Yamada et al., OD-2, p. 77-80 (2002).

以上述べたように、本発明の塗工液またはインキ組成物を使用して形成された発光層を用いた電界発光素子は、低い駆動電圧で長時間の発光を得ることが可能である。故に、本電界発光素子は、壁掛けテレビ等のフラットパネルディスプレイや各種の平面発光体として、さらには、複写機やプリンター等の光源、液晶ディスプレイや計器類等の光源、表示板、標識灯等への応用が考えられる。 As described above, the electroluminescent element using the light emitting layer formed by using the coating liquid or the ink composition of the present invention can obtain long-term light emission with a low driving voltage. Therefore, this electroluminescent element can be used as a flat panel display such as a wall-mounted television or various flat light emitters, as well as a light source such as a copier or a printer, a light source such as a liquid crystal display or an instrument, a display board, an indicator lamp, or the like. Can be applied.

以下、実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に特に限定されるものではない。なお、実施例中、「部」および「%」は「重量部」および「重量%」を表す。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not particularly limited to the examples. In the examples, "parts" and "%" represent "parts by weight" and "% by weight".

<半導体微粒子(量子ドット)の合成>
QD:InP/ZnSコアシェル型量子ドットは技術文献「Inorganic Chemistry 2016,(17)、pp8381−8386」の記載に従い、次のように合成した。また、シェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)もこのシェル部分合成過程に準じて合成した。
<Semiconductor fine particles (quantum dots) synthesis>
QD: InP / ZnS core-shell quantum dots were synthesized as follows according to the description of the technical document "Inorganic Chemistry 2016, (17), pp8831-8386". In addition, fine particles (B) composed of only the compounds constituting the shell were also synthesized according to this shell partial synthesis process.

<量子ドット分散液QD−1の合成・調整>
酢酸インジウム1.35部、オクタン酸亜鉛1.30部 ステアリン酸4.65部、1−オクタデセン92.7部をフラスコに入れ100℃に加熱した。その後、その温度で減圧留去した。フラスコ内をアルゴンガスでみたし、300℃に加熱した。別途、水のないグローボックス中で調製した、トリス(トリメチルシリル)フォスフィン1.16部を添加したヘキサン溶液23部を注入し、280℃9分反応して、急冷した。この溶液15部、1-オクタデセン46部、オレイルアミン11.5部をフラスコ入れ、15分撹拌し、ついで、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛を4.3部加えた。反応フラスコ内をアルゴンで置換して、170℃まで45分で昇温し、170℃にて2時間の間、保温した。冷却し、アセトンを加えて、遠心沈降にて分離した。沈降ペーストをトルエン分散し、処理剤としドデカンチオール3.7部を加えて、室温で24時間撹拌して減圧濃縮後、アセトンを加えて、遠心沈降にて分離した。再び、トルエンに分散して、固形分濃度10%に調製し、ドデカンチオールで表面処理された量子ドット分散液QD−1を得た。
<Synthesis and adjustment of quantum dot dispersion liquid QD-1>
1.35 parts of indium acetate, 1.30 parts of zinc octanate, 4.65 parts of stearic acid, and 92.7 parts of 1-octadecene were placed in a flask and heated to 100 ° C. Then, it was distilled off under reduced pressure at that temperature. The inside of the flask was filled with argon gas and heated to 300 ° C. Separately, 23 parts of a hexane solution containing 1.16 parts of tris (trimethylsilyl) phosphine prepared in a waterless glove box was injected, reacted at 280 ° C. for 9 minutes, and rapidly cooled. 15 parts of this solution, 46 parts of 1-octadecene and 11.5 parts of oleylamine were placed in a flask, stirred for 15 minutes, and then 4.3 parts of zinc dibenzyldithiocarbamate was added. The inside of the reaction flask was replaced with argon, the temperature was raised to 170 ° C. in 45 minutes, and the temperature was kept at 170 ° C. for 2 hours. After cooling, acetone was added, and the mixture was separated by centrifugal sedimentation. The precipitated paste was dispersed in toluene, 3.7 parts of dodecanethiol was added as a treatment agent, the mixture was stirred at room temperature for 24 hours, concentrated under reduced pressure, acetone was added, and the paste was separated by centrifugation. It was dispersed in toluene again to prepare a solid content concentration of 10%, and a quantum dot dispersion liquid QD-1 surface-treated with dodecanethiol was obtained.

<量子ドット分散液QD−2の調整>
量子ドット分散液QD−1を、トルエンを用いて固形分濃度1%に希釈した。同量の5%ヘキサンチオールのトルエン溶液を添加し、12時間撹拌した。ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。トリメチルベンゼンを用いて、固形分濃度10%に調製し、ヘキサンチオールで表面処理された量子ドット分散液QD−2を得た。
<Adjustment of quantum dot dispersion liquid QD-2>
The quantum dot dispersion QD-1 was diluted with toluene to a solid content concentration of 1%. The same amount of a toluene solution of 5% hexanethiol was added, and the mixture was stirred for 12 hours. Purification was performed by the reprecipitation method using hexane and ethanol. Using trimethylbenzene, the solid content concentration was adjusted to 10%, and the surface-treated quantum dot dispersion liquid QD-2 was obtained with hexanethiol.

<微粒子(B)分散液NP−1の合成・調整>
1-オクタデセン60部、オレイルアミン11.5部をフラスコ入れ、15分撹拌し、ついで、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛を4.3部加えた。反応フラスコ内をアルゴンで置換して、170℃まで45分で昇温し、170℃にて2時間の間、保温した。冷却し、アセトンを加えて、遠心沈降にて分離した。沈降ペーストをトルエン分散し、処理剤としドデカンチオール3.7部を加えて、室温で24時間撹拌して減圧濃縮後、アセトンを加えて、遠心沈降にて分離した。再び、トルエンに分散して、固形分濃度10%に調製し、ドデカンチオールで表面処理された微粒子分散液NP−1を得た。
<Synthesis and adjustment of fine particle (B) dispersion liquid NP-1>
60 parts of 1-octadecene and 11.5 parts of oleylamine were placed in a flask, stirred for 15 minutes, and then 4.3 parts of zinc dibenzyldithiocarbamate was added. The inside of the reaction flask was replaced with argon, the temperature was raised to 170 ° C. in 45 minutes, and the temperature was kept at 170 ° C. for 2 hours. After cooling, acetone was added, and the mixture was separated by centrifugal sedimentation. The precipitated paste was dispersed in toluene, 3.7 parts of dodecanethiol was added as a treatment agent, the mixture was stirred at room temperature for 24 hours, concentrated under reduced pressure, acetone was added, and the paste was separated by centrifugation. It was dispersed in toluene again to prepare a solid content concentration of 10%, and a fine particle dispersion NP-1 surface-treated with dodecanethiol was obtained.

<微粒子(B)分散液NP−2の調整>
微粒子分散液NP−1を、トルエンを用いて固形分濃度1%に希釈した。同量の5%ヘキサンチオールのトルエン溶液を添加し、12時間撹拌した。ヘキサンとエタノールを用いて再沈殿法で精製を行った。トリメチルベンゼンを用いて、固形分濃度10%に調製し、ヘキサンチオールで表面処理された微粒子分散液NP−2を得た。
<Preparation of fine particle (B) dispersion liquid NP-2>
The fine particle dispersion NP-1 was diluted with toluene to a solid content concentration of 1%. The same amount of a toluene solution of 5% hexanethiol was added, and the mixture was stirred for 12 hours. Purification was performed by the reprecipitation method using hexane and ethanol. Using trimethylbenzene, the solid content concentration was adjusted to 10%, and a fine particle dispersion NP-2 surface-treated with hexanethiol was obtained.

<樹脂溶液1の調整>
パラフィンワックス155(日本精蝋製)をデカンにNV10%となるように溶解した。
<Adjustment of resin solution 1>
Paraffin wax 155 (manufactured by Nippon Seiro) was dissolved in decan so as to have an NV of 10%.

<樹脂溶液2の調整>
セパラブル4口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にキシレン70.0部を仕込み、80℃に昇温し、反応容器内を窒素置換した後、滴下管よりn−ブチルメタクリレート18.0部、メタクリル酸メチル12.0部、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4部の混合物を2時間かけて滴下した。滴下終了後、更に3時間反応を継続し、重量平均分子量(Mw)26000のアクリル樹脂の溶液を得た。室温まで冷却した後、樹脂溶液約2gをサンプリングして180℃、20分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶液に不揮発分が20重量%になるようにキシレンを添加して樹脂溶液2を調製した。
<Adjustment of resin solution 2>
A reaction vessel equipped with a thermometer, a cooling tube, a nitrogen gas introduction tube, and a stirrer was charged with 70.0 parts of xylene in a separable 4-neck flask, the temperature was raised to 80 ° C., the inside of the reaction vessel was replaced with nitrogen, and then the dropping tube was used. A mixture of 18.0 parts of n-butyl methacrylate, 12.0 parts of methyl methacrylate and 0.4 parts of 2,2'-azobisisobutyronitrile was added dropwise over 2 hours. After completion of the dropping, the reaction was continued for another 3 hours to obtain a solution of an acrylic resin having a weight average molecular weight (Mw) of 26000. After cooling to room temperature, about 2 g of the resin solution was sampled, heated and dried at 180 ° C. for 20 minutes to measure the non-volatile content, and xylene was added to the previously synthesized resin solution so that the non-volatile content was 20% by weight. The resin solution 2 was prepared.

<インクジェットインキの作成>
(実施例1〜8、比較例1〜2)
表1に示したインキ組成にて、密閉できる容器に、量子ドット溶液、微粒子(B)溶液(比較例には添加しない)、樹脂溶液、溶剤の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、浸透してインクジェットインキを作成した。
<Creation of inkjet ink>
(Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 2)
With the ink composition shown in Table 1, weigh the quantum dot solution, the fine particle (B) solution (not added to the comparative example), the resin solution, and the solvent in this order in a container that can be sealed, and then seal the ink 3 Penetrated for minutes to create an inkjet ink.

<評価方法>
以下の評価方法で得られた評価結果を表1に示す。
(粘度測定)
25℃にて、振動式粘度計ビスコメイトVM−10A−L(SEKONIC社製)を用いて、測定した。
(外観検査)
インキ外観濁りなく透明な状態を〇、濁りを△、析出物が生じたものを×として、△〜×ではインキを作成することができない。
インクジェット吐出性印刷パターン通りに吐出できたものを〇、ノズルつまり等異常があったものを×とし、×では印刷することができない。
印刷物外観印字パターン通りの画像を〇、かすれが見られる場合を〇△、歪んだ画像を△、印刷パターンの形跡なく付着した状態を×として、△~×は不適である。
(インクジェット吐出試験条件)
印刷機DimatixMaterialsPrinter
カートリッジ10DimatixMaterialsCartriges、10pL
印刷パターン1mm間隔の格子模様
基板丸カバーガラス・松浪ガラス工業製
基板温度30℃
印刷後乾燥40℃20分
(量子収率測定)
測定機絶対PL量子収率測定装置C9920−02
励起波長400nm積分範囲375−425nm
蛍光積分範囲430−800nm
QY(量子収率)維持率は印刷初期のQYを1として、4週間後の比率を示した。
<Evaluation method>
Table 1 shows the evaluation results obtained by the following evaluation methods.
(Viscosity measurement)
The measurement was performed at 25 ° C. using a vibrating viscometer Viscomate VM-10A-L (manufactured by SEKONIC).
(Visual inspection)
Ink appearance It is not possible to make ink with Δ to ×, where 〇 is a transparent state without turbidity, Δ is turbidity, and × is a precipitate.
Inkjet ejection property 〇 is the one that can be ejected according to the printing pattern, × is the one that has an abnormality such as nozzle clogging, and × cannot be printed.
Appearance of printed matter △ ~ × is inappropriate, where 〇 is the image according to the print pattern, 〇 △ is the case where faintness is seen, Δ is the distorted image, and × is the state where the image is attached without any evidence of the print pattern.
(Inkjet ejection test conditions)
Printing Press DimaticsMaterialsPrinter
Cartridge 10DimaticsMaterialsCartriges, 10pL
Printed circuit board with grid pattern at 1 mm intervals Round cover glass, manufactured by Matsunami Glass Industry Substrate temperature 30 ° C
Dry after printing 40 ° C for 20 minutes (quantum yield measurement)
Measuring machine Absolute PL quantum yield measuring device C9920-02
Excitation wavelength 400nm Integral range 375-425nm
Fluorescence integration range 430-800 nm
The QY (quantum yield) maintenance rate was set to 1 at the initial stage of printing, and the ratio after 4 weeks was shown.

Figure 0006969351
Figure 0006969351

本発明のインクジェットインキを用いると、インクジェット印刷可能であり、量子収率も高く印刷できることが確認された。その他の塗工液、インキを用いて他の塗工法、印刷法で作製した塗工物、印刷物もほぼ同等の特性を有すると想定され、これらを使用した波長変換フィルム、カラーフィルターが所望の性能を発揮できることが示された。 It was confirmed that the inkjet ink of the present invention can be used for inkjet printing and can be printed with a high quantum yield. It is assumed that other coating liquids, coatings made by printing methods using ink, and printed matter have almost the same characteristics, and wavelength conversion films and color filters using these have the desired performance. It was shown that it can exert.

<電界発光素子の作成>
以下に記載のとおり、電界発光素子を作成した。実施例においては、特に断りのない限り、混合比は全て重量比を示す。蒸着(真空蒸着)は10−6Torrの真空中にて、基板の加熱や冷却といった温度制御はしない条件下で行った。
インクジェット吐出試験条件
印刷機DimatixMaterialsPrinter
カートリッジ10DimatixMaterialsCartriges、10pL
印刷パターン ベタ(2mm×2mmの素子が合計6つ形成される1.2cm×1.2cm範囲の面積)
基板温度30℃
印刷後乾燥40℃20分
また、素子の発光特性は、発光素子面積2mm×2mmの電界発光素子を用いて特性を測定した。
<Creation of electroluminescent element>
As described below, an electroluminescent device was created. In the examples, all mixing ratios indicate weight ratios unless otherwise specified. Thin-film deposition (vacuum vapor deposition) was performed in a vacuum of 10-6 Torr under conditions where temperature control such as heating and cooling of the substrate was not performed.
Inkjet ejection test conditions Printing machine DimaticsMaterialsPrinter
Cartridge 10DimaticsMaterialsCartriges, 10pL
Print pattern solid (area in the range of 1.2 cm x 1.2 cm where a total of 6 elements of 2 mm x 2 mm are formed)
Substrate temperature 30 ° C
After printing and drying at 40 ° C. for 20 minutes, the light emitting characteristics of the element were measured using an electroluminescent element having a light emitting element area of 2 mm × 2 mm.

(実施例9)
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−1を1部、微粒子(B)分散液NP−1を1部、樹脂溶液1を2部、次いで、溶剤としてデカンを60部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、浸透してインクジェットインキを作成した。
洗浄したITO電極付きガラス板上に、PEDOT/PSS(ポリ(3,4−エチレンジオキシ)−2,5−チオフェン/ポリスチレンスルホン酸、Heraeus社製CLEVIOUS(登録商標) P VP CH8000)をスピンコート法にて製膜し、110℃にて20分間乾燥させて膜厚35nmの正孔注入層を得た。次いで、ポリ(N―ビニルカルバゾール)を、1.0重量%の濃度でモノクロロベンゼンに溶解させ、スピンコート法で製膜し110℃にて20分間乾燥させて、35nmの膜厚の正孔輸送層を形成した。その上に、作成したインクジェットインキを用い、上述の条件でインクジェット吐出性印刷で20nmの膜厚の発光層を形成したその上に、Avantama社製 酸化亜鉛のイソプロパノール分散液 N−10を、スピンコート法で製膜し、80nmの電子輸送層を形成した。最後に、アルミニウム(Al)を200nm蒸着して電極を形成し、電界発光素子を得た。この素子は、8Vにて外部量子効率3.5%、発光輝度15000(cd/m2)の赤色発光を示し、その発光スペクトルのピーク波長は653nmであり、半値全幅は55nmであった。この素子を発光輝度1000(cd/m2)で室温にて定電流駆動したときの輝度半減寿命は1000時間以上であった。また、電流密度10(mA/cm)で駆動させた時の発光効率は3.5(cd/A)、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の相対輝度(=(100時間後の輝度)/(初期輝度))は0.85であった。
(Example 9)
In a container that can be sealed, 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-1, 1 part of the fine particle (B) dispersion liquid NP-1, 2 parts of the resin solution 1, and then 60 parts of decan as a solvent are weighed in this order. Then, it was sealed and infiltrated for 3 minutes to prepare an inkjet ink.
PEDOT / PSS (poly (3,4-ethylenedioxy) -2,5-thiophene / polystyrene sulfonic acid, CLEVIOUS (registered trademark) PVP CH8000 manufactured by Heraeus) is spin-coated on the cleaned glass plate with ITO electrode. A film was formed by the method and dried at 110 ° C. for 20 minutes to obtain a hole injection layer having a film thickness of 35 nm. Next, poly (N-vinylcarbazole) was dissolved in monochlorobenzene at a concentration of 1.0% by weight, a film was formed by a spin coating method, and dried at 110 ° C. for 20 minutes to transport holes having a film thickness of 35 nm. Formed a layer. Using the prepared inkjet ink, a light emitting layer having a film thickness of 20 nm was formed by inkjet ejection printing under the above conditions, and then spin-coated with an isopropanol dispersion N-10 of zinc oxide manufactured by Avantama. A film was formed by the method to form an electron transport layer of 80 nm. Finally, aluminum (Al) was vapor-deposited at 200 nm to form an electrode, and an electroluminescent device was obtained. This element exhibited red emission at 8 V with an external quantum efficiency of 3.5% and an emission luminance of 15,000 (cd / m2), the peak wavelength of the emission spectrum was 653 nm, and the full width at half maximum was 55 nm. When this device was driven at a constant current at room temperature with a luminous brightness of 1000 (cd / m2), the luminance half life was 1000 hours or more. The luminous efficiency when driven at a current density of 10 (mA / cm 2 ) is 3.5 (cd / A), and the relative brightness after continuous driving for 100 hours in an environment of 80 ° C. (= (100 hours). Later brightness) / (initial brightness)) was 0.85.

(実施例10)
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−2を1部、微粒子(B)分散液NP−2を1部、樹脂溶液2を2部、次いで、溶剤としてトリメチルベンゼンを60部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、浸透してインクジェットインキを作成した。
これを実施例9のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例9と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。この素子は、8Vにて外部量子効率4.4%、発光輝度25000(cd/m2)の緑色発光を示し、その発光スペクトルのピーク波長は545nmであり、半値全幅は45nmであった。この素子を発光輝度1000(cd/m2)で室温にて定電流駆動したときの輝度半減寿命は1000時間以上であった。また、電流密度10(mA/cm2)で駆動させた時の発光効率は6.1(cd/A)、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の相対輝度(=(100時間後の輝度)/(初期輝度))は0.90であった。
(Example 10)
In a container that can be sealed, weigh 1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-2, 1 part of the fine particle (B) dispersion liquid NP-2, 2 parts of the resin solution 2, and then 60 parts of trimethylbenzene as a solvent. After that, the ink was sealed and infiltrated for 3 minutes to prepare an inkjet ink.
Each layer was prepared in the same manner as in Example 9 except that this was replaced with the inkjet ink of Example 9 to form a light emitting layer, and an electroluminescent element was obtained. This element exhibited green emission with an external quantum efficiency of 4.4% and an emission luminance of 25,000 (cd / m2) at 8 V, the peak wavelength of the emission spectrum was 545 nm, and the full width at half maximum was 45 nm. When this device was driven at a constant current at room temperature with a luminous brightness of 1000 (cd / m2), the luminance half life was 1000 hours or more. The luminous efficiency when driven at a current density of 10 (mA / cm2) is 6.1 (cd / A), and the relative brightness after 100 hours of continuous driving in an environment of 80 ° C. (= (after 100 hours). Luminance) / (initial luminance)) was 0.90.

(実施例11)
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−2を0.1部、微粒子(B)分散液NP−2を1.9部、樹脂溶液2を2部、次いで、溶剤としてトリメチルベンゼンを60部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、浸透してインクジェットインキを作成した。
これを実施例9のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例9と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。この素子は、8Vにて外部量子効率5.5%、発光輝度33000(cd/m2)の緑色発光を示し、その発光スペクトルのピーク波長は542nmであり、半値全幅は30nmであった。この素子を発光輝度1000(cd/m2)で室温にて定電流駆動したときの輝度半減寿命は1000時間以上であった。また、電流密度10(mA/cm2)で駆動させた時の発光効率は8.2(cd/A)、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の相対輝度(=(100時間後の輝度)/(初期輝度))は0.92であった。
(Example 11)
In a container that can be sealed, 0.1 part of the quantum dot dispersion liquid QD-2, 1.9 parts of the fine particle (B) dispersion liquid NP-2, 2 parts of the resin solution 2, and then 60 parts of trimethylbenzene as a solvent. Weighed in order, then sealed and infiltrated for 3 minutes to make an inkjet ink.
Each layer was prepared in the same manner as in Example 9 except that this was replaced with the inkjet ink of Example 9 to form a light emitting layer, and an electroluminescent element was obtained. This element exhibited green emission with an external quantum efficiency of 5.5% and an emission luminance of 33000 (cd / m2) at 8 V, the peak wavelength of the emission spectrum was 542 nm, and the full width at half maximum was 30 nm. When this device was driven at a constant current at room temperature with a luminous brightness of 1000 (cd / m2), the luminance half life was 1000 hours or more. The luminous efficiency when driven at a current density of 10 (mA / cm2) is 8.2 (cd / A), and the relative brightness after 100 hours of continuous driving in an environment of 80 ° C. (= (after 100 hours). Luminance) / (initial luminance)) was 0.92.

(比較例3)
密閉できる容器に、量子ドット分散液QD−2を2部、樹脂溶液2を2部、次いで、溶剤としてトリメチルベンゼンを60部の順番で計量し、その後、密閉して、3分間、浸透してインクジェットインキを作成した。
これを実施例9のインクジェットインキに変えて発光層を形成する以外は実施例9と同様に各層を作成し、電界発光素子を得た。この素子は、8Vにて外部量子効率2.9%、発光輝度12000(cd/m2)の緑色発光を示し、その発光スペクトルのピーク波長は546nmであり、半値全幅は60nmであった。この素子を発光輝度1000(cd/m2)で室温にて定電流駆動したときの輝度半減寿命は1000時間以上であった。また、電流密度10(mA/cm2)で駆動させた時の発光効率は3.3(cd/A)、および80℃の環境で100時間連続駆動させた後の相対輝度(=(100時間後の輝度)/(初期輝度))は0.79であった。
(Comparative Example 3)
In a container that can be sealed, weigh 2 parts of the quantum dot dispersion QD-2, 2 parts of the resin solution 2, and then 60 parts of trimethylbenzene as the solvent, then seal and infiltrate for 3 minutes. Inkjet ink was created.
Each layer was prepared in the same manner as in Example 9 except that this was replaced with the inkjet ink of Example 9 to form a light emitting layer, and an electroluminescent element was obtained. This element exhibited green emission at 8 V with an external quantum efficiency of 2.9% and an emission luminance of 12000 (cd / m2), the peak wavelength of the emission spectrum was 546 nm, and the full width at half maximum was 60 nm. When this device was driven at a constant current at room temperature with a luminous brightness of 1000 (cd / m2), the luminance half life was 1000 hours or more. The luminous efficiency when driven at a current density of 10 (mA / cm2) is 3.3 (cd / A), and the relative brightness after 100 hours of continuous driving in an environment of 80 ° C. (= (after 100 hours). Luminance) / (initial luminance)) was 0.79.

本発明の半導体微粒子組成物からなるインクジェットインキを用いてイ発光素子を作成することにより、発光特性および安定性に優れた素子を作成することができた。その他の塗工液、インキを用いて他の塗工法、印刷法で作製した発光素子においても優れた特性を発揮できると想定される。 By producing a light emitting device using the inkjet ink made of the semiconductor fine particle composition of the present invention, it was possible to produce an element having excellent light emitting characteristics and stability. It is expected that excellent characteristics can be exhibited in light emitting devices manufactured by other coating methods and printing methods using other coating liquids and inks.

Claims (12)

コア/シェル構造を有する半導体微粒子(A)と、前記シェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)と、溶剤とを含有することを特徴とする半導体微粒子組成物であって、
コア/シェル構造を有する半導体微粒子(A)と、前記シェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)との質量比が、1:5〜5:1であることを特徴とする請求項1記載の半導体微粒子組成物
A semiconductor fine particle composition comprising a semiconductor fine particle (A) having a core / shell structure, fine particles (B) composed only of compounds constituting the shell, and a solvent .
The first aspect of claim 1, wherein the mass ratio of the semiconductor fine particles (A) having a core / shell structure to the fine particles (B) composed only of the compounds constituting the shell is 1: 5 to 5: 1. Semiconductor fine particle composition .
シェルを構成する化合物のみからなる微粒子(B)が、ZnS粒子を含有することを特徴とする請求項記載の半導体微粒子組成物。 The semiconductor fine particle composition according to claim 1 , wherein the fine particles (B) composed of only the compounds constituting the shell contain ZnS particles. コア/シェル構造を有する半導体微粒子(A)が、量子ドットであることを特徴とする請求項1または2記載の半導体微粒子組成物。 The semiconductor fine particle composition according to claim 1 or 2 , wherein the semiconductor fine particles (A) having a core / shell structure are quantum dots. さらに樹脂を含有することを特徴とする請求項1ないしいずれか記載の半導体微粒子組成物。 The semiconductor fine particle composition according to any one of claims 1 to 3, further comprising a resin. 請求項1ないしいずれか記載の半導体微粒子組成物を含有することを特徴とする塗工液。 A coating liquid comprising the semiconductor fine particle composition according to any one of claims 1 to 4. 請求項記載の塗工液を用いて形成された塗工物。 A coated product formed by using the coating liquid according to claim 5. 請求項1ないしいずれか記載の半導体微粒子組成物を含有することを特徴とするインキ組成物。 An ink composition comprising the semiconductor fine particle composition according to any one of claims 1 to 4. 請求項記載のインキ組成物を含有することを特徴とするインクジェットインキ。 An inkjet ink comprising the ink composition according to claim 7. 請求項記載のインキ組成物を用いて形成された印刷物。 A printed matter formed by using the ink composition according to claim 7. 請求項記載の塗工液、または請求項記載のインキ組成物を用いて形成された波長変換フィルム。 A wavelength conversion film formed by using the coating liquid according to claim 5 or the ink composition according to claim 7. 請求項記載の塗工液、または請求項記載のインキ組成物を用いて形成されたカラーフィルター。 A color filter formed by using the coating liquid according to claim 5 or the ink composition according to claim 7. 発光層が請求項記載の塗工液、または請求項記載のインキ組成物を用いて形成された発光素子。

A light emitting device in which the light emitting layer is formed by using the coating liquid according to claim 5 or the ink composition according to claim 7.

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