JP6839554B2 - 高周波回路基板 - Google Patents
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Description
このような構成によれば、電流容量を確保しつつ、小型化が可能な高周波回路基板を提供することができる。
このような構成によれば、回路パターンから見たバイアス給電線路のインピーダンスを高くすることで、電源側に流入する高周波信号を減衰することができる。
このような構成によれば、コンデンサとスロットとを用いて、電源側に流入する高周波信号をより確実に減衰することができる。
このような構成によれば、複数のスロットによって電源側に流入する高周波信号をより確実に減衰することができる。
このような構成によれば、回路パターンから見たバイアス給電線路のインピーダンスを高くすることで、電源側に流入する高周波信号をより確実に減衰することができる。
このような構成によれば、減衰する高周波信号の帯域幅を広帯域化することができる。
このような構成によれば、簡単な構成によってスタブを構成することができる。
このような構成によれば、簡単な構成によってスタブを構成することができる。
このような構成によれば、簡単な構成によってスタブを構成することができる。
このような構成によれば、高周波信号をより一層減衰させることができる。
図1は、本発明の第1実施形態に係る高周波回路基板の構成例を示す模式図である。図1に示すように第1実施形態に係る高周波回路基板1は、GND層20、誘電体層30、および、バイアス給電線路40を有し、筐体10の上に配置されている。
図6は、本発明の第2実施形態の構成例を示す図である。なお、図6において、図5と対応する部分には同一の符号を付してその説明を省略する。図6では、図5と比較すると、増幅器61の給電点Pからλ/4波長離れた位置に、定在波の節がくるように共振回路50が配置されている。
図8は、本発明の第3実施形態の構成例を示す図である。なお、図8において、図6と対応する部分には同一の符号を付してその説明を省略する。図8では図6と比較すると、給電点Pからλ/4離れたバイアス給電線路70に対してコンデンサ63が接続されている。また、コンデンサ63の接続点からλ/4〜5λ/12の位置に共振回路50が接続されている。これら以外の構成は、図6と同様である。
図10は、本発明の第4実施形態の構成例を示す図である。第4実施形態では、複数の共振回路50を直列接続して使用する。より詳細には、第4実施形態では、複数のスロット21をバイアス給電線路70に沿って設ける。なお、直列接続する際には、隣接する共振回路50の節同士の距離が、(2n+1)λ/4(n=0,1,2,・・・)となるように設定される。
図13は、本発明の第5実施形態の構成例を示す図である。第5実施形態では、共振周波数が異なる複数の共振回路50−1,50−2を直列接続して使用する。なお、共振回路50−1,50−2は、図2と同様の構成とされるが、共振周波数が異なるように構成される。また、直列接続する際には、共振回路50−1,50−2の節同士の距離が、(2n+1)λ/4(n=0,1,2,・・・)となるように設定される。また、共振回路50−1は共振周波数がf1に設定され、共振回路50−2は共振周波数がf2に設定される。なお、一例として、f1>f2に設定することができる。
以上の各実施形態は一例であって、本発明が上述したような場合のみに限定されるものでないことはいうまでもない。例えば、共振回路50として、図15(A)〜(I)に示す構造のものを使用するようにしてもよい。
ができるので、利得特性が不安定になったり、発振したりすることを防止できる。
10 筐体
11 ザグリ部
20 GND層(第2導体層)
21 スロット
21a 空隙部(第1空隙部)
21b 空隙部(第2空隙部)
21c 空隙部(第3空隙部)
22 スタブ
30 誘電体層
40 バイアス給電線路(第1導体層)
50 共振回路
60 回路パターン
61 増幅器
62 整合回路
63 コンデンサ
70 バイアス給電線路
Claims (7)
- 高周波信号を伝搬する回路パターンと、バイアス給電線路の回路パターンとを少なくとも有する高周波回路基板において、
前記バイアス給電線路を有する第1導体層と、
前記第1導体層と誘電体層を挟んで配置されるとともに、前記第1導体層と直流的に遮断された第2導体層と、を少なくとも有し、
前記第2導体層には、前記バイアス給電線路と電磁結合して前記高周波信号に対応する所定の周波数で共振するスロットが形成されており、
前記所定の周波数の波長をλとする場合に、前記高周波信号を伝搬する前記回路パターンから、前記バイアス給電線路側にλ/4離れた位置に接続されたコンデンサから、電源側にλ/4〜5λ/12離れた位置に定在波の節が生じるように前記スロットが配置されている
ことを特徴とする高周波回路基板。 - 高周波信号を伝搬する回路パターンと、バイアス給電線路の回路パターンとを少なくとも有する高周波回路基板において、
前記バイアス給電線路を有する第1導体層と、
前記第1導体層と誘電体層を挟んで配置されるとともに、前記第1導体層と直流的に遮断された第2導体層と、を少なくとも有し、
前記第2導体層には、前記バイアス給電線路と電磁結合して前記高周波信号に対応する所定の周波数で共振するスロットが形成されており、
前記スロットが前記バイアス給電線路に沿って複数配置されており、
前記所定の周波数の波長をλとする場合に、前記高周波信号を伝搬する前記回路パターンから、前記バイアス給電線路側にλ/4の奇数倍離れた位置に定在波の節が生じるように複数の前記スロットがそれぞれ配置されている
ことを特徴とする高周波回路基板。 - 複数の前記スロットは、異なる共振周波数を有することを特徴とする請求項2に記載の高周波回路基板。
- 前記スロットは、前記第2導体層において前記バイアス給電線路に沿って設けられた第1空隙部および第2空隙部と、
前記第2導体層において前記第1空隙部および前記第2空隙部を接続する第3空隙部と、
を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の高周波回路基板。 - 前記第3空隙部は、前記バイアス給電線路に沿う方向において、前記第1空隙部および前記第2空隙部の端部に形成されていることを特徴とする請求項4に記載の高周波回路基板。
- 前記第1空隙部、前記第2空隙部、および、前記第3空隙部は、互いの端部を接続したスタブを形成し、
前記バイアス給電線路は、前記スタブの少なくとも一部を覆設する
ことを特徴とする請求項4または5に記載の高周波回路基板。 - 前記バイアス給電線路に直交する方向において、前記スタブの幅は、前記バイアス給電線路の幅と略一致することを特徴とする請求項6に記載の高周波回路基板。
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