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JP6895215B2 - Flux composition for flow soldering - Google Patents

Flux composition for flow soldering Download PDF

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JP6895215B2 JP2018178004A JP2018178004A JP6895215B2 JP 6895215 B2 JP6895215 B2 JP 6895215B2 JP 2018178004 A JP2018178004 A JP 2018178004A JP 2018178004 A JP2018178004 A JP 2018178004A JP 6895215 B2 JP6895215 B2 JP 6895215B2
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    • B23K35/3612Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents

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Description

本発明は、はんだ付け用フラックス組成物に関する。 The present invention relates to a flux composition for soldering.

電子基板と電子部品とのはんだ付け方法としては、いわゆるリフローはんだ付け法の他に、電子基板に仮留めした電子部品を噴流する溶融はんだに接触させることによりはんだ付けする方法、いわゆるフローはんだ付け法も採用されている。このフローはんだ付け法では、噴流する溶融はんだに接触させる前に、例えば特許文献1に記載のようなフラックス組成物が用いられる。
一方で、近年のはんだの鉛フリー化に伴い、高融点のはんだが用いられる傾向にある。最も利用されている鉛フリーはんだ合金は、スズ(Sn)−銀(Ag)−銅(Su)系のはんだ合金、いわゆるSAC系のはんだ合金である。このSAC系のはんだ合金は、従来のスズ−鉛の共晶はんだと比較して、酸化した銅箔へのぬれ広がりが悪くなる。そのため、SAC系のはんだ合金を用いたはんだ広がり試験で、80%以上となるようなフラックス組成物はなかった。
As a method of soldering an electronic board and an electronic component, in addition to the so-called reflow soldering method, a method of soldering an electronic component temporarily fixed to the electronic board by contacting it with a jet of molten solder, a so-called flow soldering method. Has also been adopted. In this flow soldering method, for example, a flux composition as described in Patent Document 1 is used before being brought into contact with the jetted molten solder.
On the other hand, with the recent trend toward lead-free solder, solder having a high melting point tends to be used. The most used lead-free solder alloys are tin (Sn) -silver (Ag) -copper (Su) -based solder alloys, so-called SAC-based solder alloys. This SAC-based solder alloy has poor wettability and spread on the oxidized copper foil as compared with the conventional tin-lead eutectic solder. Therefore, in the solder spreading test using the SAC-based solder alloy, there was no flux composition having a flux composition of 80% or more.

特開平8−243787号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-243787

本発明は、鉛フリーはんだを用いる場合でも、はんだぬれ性が十分に優れるはんだ付け用フラックス組成物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a flux composition for soldering, which has sufficiently excellent solder wetting property even when lead-free solder is used.

前記課題を解決すべく、本発明は、以下のようなはんだ付け用フラックス組成物を提供するものである。
本発明のはんだ付け用フラックス組成物は、(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤、並びに、(D)炭素数12〜24の脂肪族カルボン酸と炭素数1〜4のアルコールからなる高級脂肪族エステルを含有することを特徴とするものである。
In order to solve the above problems, the present invention provides the following flux composition for soldering.
The soldering flux composition of the present invention comprises (A) a rosin-based resin, (B) an activator, (C) a solvent, and (D) an aliphatic carboxylic acid having 12 to 24 carbon atoms and 1 to 4 carbon atoms. It is characterized by containing a higher aliphatic ester composed of the alcohol of.

本発明のはんだ付け用フラックス組成物においては、前記(D)成分の配合量が、前記フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上5質量%以下であることが好ましい。 In the flux composition for soldering of the present invention, the blending amount of the component (D) is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition.

本発明によれば、鉛フリーはんだを用いる場合でも、はんだぬれ性が十分に優れるはんだ付け用フラックス組成物を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to provide a flux composition for soldering having sufficiently excellent solder wetting property even when lead-free solder is used.

本実施形態のはんだ付け用フラックス組成物(以下、単に「フラックス組成物」ともいう)は、以下説明する(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤および(D)高級脂肪族エステルを含有するものである。
本明細書において、鉛フリーはんだとは、鉛を添加しないはんだ金属または合金のことをいう。ただし、鉛フリーはんだ中に、不可避的不純物として鉛が存在することは許容されるが、この場合に、鉛の量は、300質量ppm以下であることが好ましい。
The soldering flux composition of the present embodiment (hereinafter, also simply referred to as “flux composition”) is described below as (A) rosin-based resin, (B) activator, (C) solvent and (D) higher fat. It contains a group ester.
In the present specification, the lead-free solder refers to a solder metal or alloy to which lead is not added. However, it is permissible for lead to be present as an unavoidable impurity in the lead-free solder, but in this case, the amount of lead is preferably 300 mass ppm or less.

鉛フリーはんだにおけるはんだ合金としては、具体的には、Sn−Ag、Sn−Ag−Cu、Sn−Cu、Sn−Ag−Bi、Sn−Bi、Sn−Ag−Cu−Bi、Sn−Sb、Sn−Zn−Bi、Sn−Zn、Sn−Zn−Al、Sn−Ag−Bi−In、Sn−Ag−Cu−Bi−In−Sb、In−Agなどが挙げられる。これらの中でも、はんだ接合の強度の観点から、Sn−Ag−Cu系のはんだ合金が好ましく用いられている。そして、Sn−Ag−Cu系のはんだの融点は、通常200℃以上250℃以下である。なお、Sn−Ag−Cu系のはんだの中でも、銀含有量が低い系のはんだの融点は、210℃以上250℃以下(より好ましくは、220℃以上240℃以下)である。 Specific examples of the solder alloy in lead-free solder include Sn-Ag, Sn-Ag-Cu, Sn-Cu, Sn-Ag-Bi, Sn-Bi, Sn-Ag-Cu-Ci, and Sn-Sb. Examples thereof include Sn-Zn-Bi, Sn-Zn, Sn-Zn-Al, Sn-Ag-Bi-In, Sn-Ag-Cu-Bi-In-Sb, and In-Ag. Among these, Sn-Ag-Cu based solder alloys are preferably used from the viewpoint of the strength of the solder joint. The melting point of the Sn—Ag—Cu-based solder is usually 200 ° C. or higher and 250 ° C. or lower. Among the Sn—Ag—Cu-based solders, the solder having a low silver content has a melting point of 210 ° C. or higher and 250 ° C. or lower (more preferably 220 ° C. or higher and 240 ° C. or lower).

[(A)成分]
本実施形態に用いる(A)ロジン系樹脂としては、ロジン類およびロジン系変性樹脂が挙げられる。ロジン類としては、ガムロジン、ウッドロジンおよびトール油ロジンなどが挙げられる。ロジン系変性樹脂としては、不均化ロジン、重合ロジン、水素添加ロジンおよびこれらの誘導体などが挙げられる。水素添加ロジンとしては、完全水添ロジン、部分水添ロジン、並びに、不飽和有機酸((メタ)アクリル酸などの脂肪族の不飽和一塩基酸、フマル酸、マレイン酸などのα,β−不飽和カルボン酸などの脂肪族不飽和二塩基酸、桂皮酸などの芳香族環を有する不飽和カルボン酸など)の変性ロジンである不飽和有機酸変性ロジンの水素添加物(「水添酸変性ロジン」ともいう)などが挙げられる。これらのロジン系樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[(A) component]
Examples of the (A) rosin-based resin used in the present embodiment include rosins and rosin-based modified resins. Examples of rosins include gum rosin, wood rosin and tall oil rosin. Examples of the rosin-based modified resin include disproportionated rosins, polymerized rosins, hydrogenated rosins and derivatives thereof. Hydrogenated rosins include fully hydrogenated rosins, partially hydrogenated rosins, and aliphatic unsaturated monobasic acids such as unsaturated organic acids ((meth) acrylic acid, and α, β- such as fumaric acid and maleic acid. Hydrogenated additive of unsaturated organic acid-modified rosin, which is a modified rosin of aliphatic unsaturated dibasic acid such as unsaturated carboxylic acid, unsaturated carboxylic acid having an aromatic ring such as cinnamic acid, etc. Also called "rosin"). One of these rosin-based resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

(A)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、0.5質量%以上20質量%以下であることが好ましく、1質量%以上10質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上6質量%以下であることが特に好ましい。(A)成分の配合量が前記下限以上であれば、ブリッジやつららの発生をより確実に抑制できる。他方、(A)成分の配合量が前記上限以下であれば、フラックス残さをより少なくできる。 The blending amount of the component (A) is preferably 0.5% by mass or more and 20% by mass or less, and more preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition. It is particularly preferable that it is 2% by mass or more and 6% by mass or less. When the blending amount of the component (A) is at least the above lower limit, the generation of bridges and icicles can be suppressed more reliably. On the other hand, if the blending amount of the component (A) is not more than the above upper limit, the flux residue can be further reduced.

[(B)成分]
活性剤としては、有機酸、非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤、およびアミン系活性剤などが挙げられる。これらの活性剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
有機酸としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸などの他に、その他の有機酸が挙げられる。
モノカルボン酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、ブチリック酸、バレリック酸、カプロン酸、エナント酸、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ツベルクロステアリン酸、アラキジン酸、ベヘニン酸、リグノセリン酸、およびグリコール酸などが挙げられる。
ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、およびジグリコール酸などが挙げられる。
その他の有機酸としては、ダイマー酸、レブリン酸、乳酸、アクリル酸、安息香酸、サリチル酸、アニス酸、クエン酸、およびピコリン酸などが挙げられる。
本実施形態において、(B)成分は、スルーホールのぬれ上がりの観点から、コハク酸を含有することが好ましい。
[(B) component]
Examples of the activator include organic acids, non-dissociative activators composed of non-dissociative halogenated compounds, and amine-based activators. One of these activators may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
Examples of the organic acid include monocarboxylic acids, dicarboxylic acids and the like, as well as other organic acids.
Monocarboxylic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enant acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, tubercrostearic acid , Arakidic acid, behenic acid, lignoseric acid, and glycolic acid.
Examples of the dicarboxylic acid include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, tartaric acid, and diglycolic acid.
Other organic acids include dimer acid, levulinic acid, lactic acid, acrylic acid, benzoic acid, salicylic acid, anis acid, citric acid, picolin acid and the like.
In the present embodiment, the component (B) preferably contains succinic acid from the viewpoint of wetting through holes.

非解離性のハロゲン化化合物からなる非解離型活性剤としては、ハロゲン原子が共有結合により結合した非塩系の有機化合物が挙げられる。このハロゲン化化合物としては、塩素化物、臭素化物、フッ化物のように塩素、臭素、フッ素の各単独元素の共有結合による化合物でもよいが、塩素、臭素およびフッ素の任意の2つまたは全部のそれぞれの共有結合を有する化合物でもよい。これらの化合物は、水性溶媒に対する溶解性を向上させるために、例えばハロゲン化アルコールやハロゲン化カルボキシルのように水酸基やカルボキシル基などの極性基を有することが好ましい。ハロゲン化アルコールとしては、例えば臭素化アルコール(2,3−ジブロモプロパノール、2,3−ジブロモブタンジオール、トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール(TDBD)、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、およびトリブロモネオペンチルアルコールなど)、塩素化アルコール(1,3−ジクロロ−2−プロパノール、および1,4−ジクロロ−2−ブタノールなど)、フッ素化アルコール(3−フルオロカテコールなど)、および、その他これらに類する化合物が挙げられる。ハロゲン化カルボキシルとしては、ヨウ化カルボキシル(2−ヨード安息香酸、3−ヨード安息香酸、2−ヨードプロピオン酸、5−ヨードサリチル酸、および5−ヨードアントラニル酸など)、塩化カルボキシル(2−クロロ安息香酸、および3−クロロプロピオン酸など)、臭素化カルボキシル(2,3−ジブロモプロピオン酸、2,3−ジブロモコハク酸、2−ブロモ安息香酸など)、および、その他これらに類する化合物が挙げられる。 Examples of the non-dissociative activator composed of a non-dissociative halogenated compound include non-salt organic compounds in which halogen atoms are covalently bonded. The halogenated compound may be a compound formed by a covalent bond of each single element of chlorine, bromine, and fluorine, such as chlorinated compound, brominated compound, and fluoride, but any two or all of chlorine, bromine, and fluorine can be used. It may be a compound having a covalent bond of. These compounds preferably have polar groups such as hydroxyl groups and carboxyl groups, such as alcohol halides and carboxyl halides, in order to improve solubility in aqueous solvents. Examples of the halogenated alcohol include brominated alcohols (2,3-dibromopropanol, 2,3-dibromobutanediol, trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol (TDBD), 1,4. -Dibromo-2-butanol, tribromoneopentyl alcohol, etc.), chlorinated alcohol (1,3-dichloro-2-propanol, and 1,4-dichloro-2-butanol, etc.), fluorinated alcohol (3-fluoro, etc.) (Catecol, etc.) and other similar compounds. Halogenated carboxyls include carboxyl iodide (2-iodobenzoic acid, 3-iodobenzoic acid, 2-iodopropionic acid, 5-iodosalicylic acid, and 5-iodoanthranic acid, etc.) and carboxyl chloride (2-chlorobenzoic acid). , And 3-chloropropionic acid), carboxylated carboxylates (2,3-dibromopropionic acid, 2,3-dibromosuccinic acid, 2-bromobenzoic acid, etc.), and other similar compounds.

アミン系活性剤としては、アミン類(エチレンジアミンなどのポリアミンなど)、アミン塩類(トリメチロールアミン、シクロヘキシルアミン、ジエチルアミンなどのアミンやアミノアルコールなどの有機酸塩や無機酸塩(塩酸、硫酸、臭化水素酸など))、アミノ酸類(グリシン、アラニン、アスパラギン酸、グルタミン酸、およびバリンなど)、アミド系化合物などが挙げられる。具体的には、ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン塩(塩酸塩、コハク酸塩、アジピン酸塩、セバシン酸塩など)、トリエタノールアミン、モノエタノールアミン、および、これらのアミンの臭化水素酸塩などが挙げられる。 Amine-based activators include amines (polyamines such as ethylenediamine), amine salts (amines such as trimethylolamine, cyclohexylamine, diethylamine, organic acid salts such as aminoalcohol, and inorganic acid salts (hydrochloride, sulfuric acid, bromide). Hydrogenic acid, etc.)), amino acids (glycine, alanine, aspartic acid, glutamate, and valine, etc.), amide compounds, and the like. Specifically, diphenylguanidine hydrobromide, cyclohexylamine hydrobromide, diethylamine salts (salts, succinates, adipates, sebacates, etc.), triethanolamine, monoethanolamine, and , Hydrobromide of these amines and the like.

(B)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.5質量%以上10質量%以下であることが好ましく、1質量%以上8質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上5質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限以上であれば、はんだ付け性を向上でき、他方、前記上限以下であれば、フラックス組成物の絶縁性を確保できる。 The blending amount of the component (B) is preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, and more preferably 1% by mass or more and 8% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition. It is particularly preferable that the content is 2% by mass or more and 5% by mass or less. When the blending amount is at least the above lower limit, the solderability can be improved, while when it is at least the above upper limit, the insulating property of the flux composition can be ensured.

[(C)成分]
本実施形態に用いる(C)溶剤としては、公知の溶剤を適宜用いることができる。この(C)成分としては、(C1)沸点100℃以下の水溶性溶剤を用いることが好ましい。
(C1)成分としては、エチルアルコール、およびイソプロピルアルコールなどが挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[(C) component]
As the solvent (C) used in this embodiment, a known solvent can be appropriately used. As the component (C), it is preferable to use a water-soluble solvent (C1) having a boiling point of 100 ° C. or lower.
Examples of the component (C1) include ethyl alcohol and isopropyl alcohol. One of these solvents may be used alone, or two or more of these solvents may be mixed and used.

(C)成分は、沸点100℃以下の水溶性溶剤の他に、(C2)1013hPaにおける沸点が120℃以上320℃以下(好ましくは、240℃以上320℃以下)のグリコール系溶剤またはテルペン系溶剤を含有していてもよい。このような(C2)成分であれば、活性剤の熱劣化の抑制に寄与できる。
前記(C2)成分としては、エチレングリコールモノメチルエーテル(124℃)、トリエチレングリコールモノメチルエーテル(249℃)、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル(295℃)、トリエチレングリコールモノブチルエーテル(271℃)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(259℃)、ジエチレングリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル(272℃)、エチレングリコールモノフェニルエーテル(245℃)、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル(283℃)、エチレングリコールモノベンジルエーテル(256℃)、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル(302℃)、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル(242℃)、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル(274℃)、プロピレングリコールモノフェニルエーテル(243℃)、ジエチレングリコールジブチルエーテル(255℃)、テトラエチレングリコールジメチルエーテル(275℃)およびイソボルニルシクロヘキサノール(310〜318℃)などが挙げられる。これらの中でも、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールモノ2−エチルヘキシルエーテル、イソボルニルシクロヘキサノールが好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。なお、括弧内に記載の温度は、上記の溶剤の沸点である。
The component (C) is a glycol solvent or a terpene solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher and 320 ° C. or lower (preferably 240 ° C. or higher and 320 ° C. or lower) at (C2) 1013 hPa, in addition to a water-soluble solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower. May be contained. Such a component (C2) can contribute to the suppression of thermal deterioration of the activator.
Examples of the ( C2 ) component include ethylene glycol monomethyl ether (124 ° C.), triethylene glycol monomethyl ether (249 ° C.), polyethylene glycol monomethyl ether (295 ° C.), triethylene glycol monobutyl ether (271 ° C.), and diethylene glycol monohexyl ether. (259 ° C), Diethylene glycol mono2-ethylhexyl ether (272 ° C), ethylene glycol monophenyl ether (245 ° C), diethylene glycol monophenyl ether (283 ° C), ethylene glycol monobenzyl ether (256 ° C), diethylene glycol monobenzyl ether (25 ° C). 302 ° C), tripropylene glycol monoethyl ether (242 ° C), tripropylene glycol monobutyl ether (274 ° C), propylene glycol monophenyl ether (243 ° C), diethylene glycol dibutyl ether (255 ° C), tetraethylene glycol dimethyl ether (275 ° C). ) And isobornylcyclohexanol (310-318 ° C.) and the like. Among these, tripropylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol mono2-ethylhexyl ether, and isobornylcyclohexanol are preferable. One of these may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used. The temperature described in parentheses is the boiling point of the above solvent.

(C)成分の配合量は、フラックス組成物100質量%に対して、70質量%以上95質量%以下であることが好ましく、75質量%以上92質量%以下であることがより好ましく、80質量%以上90質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記範囲内であれば、フラックス組成物の塗布性を適正な範囲に調整できる。 The blending amount of the component (C) is preferably 70% by mass or more and 95% by mass or less, more preferably 75% by mass or more and 92% by mass or less, and 80% by mass with respect to 100% by mass of the flux composition. It is particularly preferable that it is% or more and 90% by mass or less. When the blending amount is within the above range, the coatability of the flux composition can be adjusted within an appropriate range.

[(D)成分]
本実施形態に用いる(D)高級脂肪族エステルは、炭素数12〜24の脂肪族カルボン酸と炭素数1〜4のアルコールからなる高級脂肪族エステルである。この(D)成分は、活性作用が高温でも失活しにくいため、鉛フリーはんだを用いた場合のはんだぬれ性を向上できる。なお、脂肪族カルボン酸の炭素数が11以下の場合には、はんだぬれ性の向上効果が不十分である。他方、脂肪族カルボン酸の炭素数が25以上のものは入手が困難である。また、アルコールの炭素数が5以上の場合には、はんだぬれ性の向上効果が不十分である。脂肪族カルボン酸の炭素数は、12〜18であることが好ましく、18であることが特に好ましい。アルコールの炭素数は、2〜4であることが好ましく、4であることが特に好ましい。
これらの高級脂肪族エステルは1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
[(D) component]
The higher aliphatic ester (D) used in the present embodiment is a higher aliphatic ester composed of an aliphatic carboxylic acid having 12 to 24 carbon atoms and an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. Since this component (D) is hard to be deactivated even when the activating action is high temperature, the solder wettability when lead-free solder is used can be improved. When the number of carbon atoms of the aliphatic carboxylic acid is 11 or less, the effect of improving the solder wettability is insufficient. On the other hand, aliphatic carboxylic acids having 25 or more carbon atoms are difficult to obtain. Further, when the number of carbon atoms of the alcohol is 5 or more, the effect of improving the solder wettability is insufficient. The aliphatic carboxylic acid preferably has 12 to 18 carbon atoms, and particularly preferably 18. The carbon number of the alcohol is preferably 2 to 4, and particularly preferably 4.
One of these higher aliphatic esters may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.

ここで、脂肪族カルボン酸は、飽和であってもよく、不飽和であってもよい。また、脂肪族カルボン酸は、分岐を有していてもよい。
脂肪族カルボン酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、ノナデシル酸、アラキジン酸、ヘンイコシル酸、ベヘン酸、トリコシル酸、リグノセリン酸、α−リノレン酸、リノール酸、およびオレイン酸などが挙げられる。
アルコールとしては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、およびtert−ブチルアルコールなどが挙げられる。
Here, the aliphatic carboxylic acid may be saturated or unsaturated. In addition, the aliphatic carboxylic acid may have a branch.
Examples of aliphatic carboxylic acids include lauric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, margaric acid, stearic acid, nonadecylic acid, arachidic acid, henicosylic acid, behenic acid, tricosylic acid, lignoceric acid, α-linolenic acid, and linoleic acid. , And oleic acid.
Examples of the alcohol include methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, tert-butyl alcohol and the like.

(D)成分の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上5質量%以下であることが好ましく、0.2質量%以上3質量%以下であることがより好ましく、0.5質量%以上2質量%以下であることが特に好ましい。配合量が前記下限以上であれば、はんだぬれ性を更に向上でき、他方、前記上限以下であれば、絶縁信頼性を維持できる。 The blending amount of the component (D) is preferably 0.1% by mass or more and 5% by mass or less, and preferably 0.2% by mass or more and 3% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition. More preferably, it is 0.5% by mass or more and 2% by mass or less. When the blending amount is at least the above lower limit, the solder wetting property can be further improved, while when it is at least the above upper limit, the insulation reliability can be maintained.

本実施形態のフラックス組成物は、(A)成分〜(D)成分の他に、必要に応じて、チクソ剤、酸化防止剤、消泡剤、防錆剤、および界面活性剤などの添加剤を含有していてもよい。これらの添加剤の配合量としては、フラックス組成物100質量%に対して、0.01質量%以上5質量%以下であることが好ましい。 In addition to the components (A) to (D), the flux composition of the present embodiment contains additives such as a thix agent, an antioxidant, an antifoaming agent, a rust preventive, and a surfactant, if necessary. May be contained. The blending amount of these additives is preferably 0.01% by mass or more and 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition.

[はんだ付け方法]
次に、本実施形態のフラックス組成物を用いたはんだ付け方法について説明する。本実施形態のはんだ付け方法は、以下説明する部品取付工程、フラックス塗布工程およびはんだ付け工程を備える方法である。
[Soldering method]
Next, a soldering method using the flux composition of the present embodiment will be described. The soldering method of the present embodiment is a method including a component mounting step, a flux coating step, and a soldering step described below.

部品取付工程においては、先ず、電子部品を電子基板に挿入して、取り付ける。
電子基板としては、例えば、プリント配線基板などが挙げられる。
電子部品は、電子基板のスルーホールに挿入可能で、挿入後にはんだ付けをすることで実装する方法(いわゆるスルーホール実装)で用いるものである。電子部品としては、集積回路、トランジスタ、ダイオード、抵抗器およびコンデンサなどが挙げられる。
In the component mounting process, first, the electronic component is inserted into the electronic board and mounted.
Examples of the electronic board include a printed wiring board.
Electronic components can be inserted into through-holes on an electronic board, and are used in a method of mounting by soldering after insertion (so-called through-hole mounting). Electronic components include integrated circuits, transistors, diodes, resistors and capacitors.

フラックス塗布工程においては、電子基板のはんだ付け面に、前述したフラックス組成物を塗布する。
フラックス組成物の塗布装置としては、スプレーフラクサー、および発泡式フラクサーなどを採用できる。これらの中でも、塗布量の安定性の観点から、スプレーフラクサーが好ましい。
フラックス組成物の塗布量は、はんだ付け性の観点から、30mL/m以上180mL/m以下であることが好ましく、40mL/m以上150mL/m以下であることがより好ましく、50mL/m以上120mL/m以下であることが特に好ましい。
In the flux application step, the above-mentioned flux composition is applied to the soldered surface of the electronic substrate.
As a flux composition coating device, a spray fluxer, a foaming fluxer, or the like can be adopted. Among these, a spray fluxer is preferable from the viewpoint of stability of the coating amount.
From the viewpoint of solderability, the amount of the flux composition applied is preferably 30 mL / m 2 or more and 180 mL / m 2 or less, more preferably 40 mL / m 2 or more and 150 mL / m 2 or less, and 50 mL / m / m 2. it is particularly preferred m is 2 or more 120 mL / m 2 or less.

はんだ付け工程においては、電子基板のはんだ付け面を、溶融はんだに接触させて、はんだ付けを行う。
溶融はんだを接触させる方法としては、溶融はんだを電子基板に接触できる方法であればよく、特に限定されない。このような方法としては、例えば、電子基板に噴流する溶融はんだに接触させる方法(フローはんだ付け法)を採用してもよい。また、溶融はんだの入ったはんだ槽を電子基板に接触させる方法を採用してもよい。
はんだ付けの条件は、はんだの融点に応じて適宜設定すればよい。例えば、Sn−Au−Cu系のはんだ合金を用いる場合には、溶融はんだの温度は、230℃以上280℃以下(好ましくは、250℃以上270℃以下)に設定すればよい。また、プリヒート温度としては、加熱温度80℃以上130℃以下(好ましくは、90℃以上120℃以下)に設定すればよい。
In the soldering process, the soldering surface of the electronic board is brought into contact with the molten solder for soldering.
The method of contacting the molten solder is not particularly limited as long as it can contact the molten solder with the electronic substrate. As such a method, for example, a method of contacting with molten solder jetting on an electronic substrate (flow soldering method) may be adopted. Further, a method of bringing the solder bath containing the molten solder into contact with the electronic substrate may be adopted.
The soldering conditions may be appropriately set according to the melting point of the solder. For example, when a Sn—Au—Cu based solder alloy is used, the temperature of the molten solder may be set to 230 ° C. or higher and 280 ° C. or lower (preferably 250 ° C. or higher and 270 ° C. or lower). The preheat temperature may be set to a heating temperature of 80 ° C. or higher and 130 ° C. or lower (preferably 90 ° C. or higher and 120 ° C. or lower).

次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、実施例および比較例にて用いた材料を以下に示す。
((A)成分)
ロジン系樹脂:商品名「中国ロジンX」、荒川化学工業社製
((B)成分)
活性剤A:コハク酸
活性剤B:アジピン酸
活性剤C:トランス−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール(TDBD)、丸善油化商事社製
((C1)成分)
溶剤A:イソプロピルアルコール
((C2)成分)
溶剤B:トリプロピレングリコールモノブチルエーテル
((D)成分)
高級脂肪酸エステルA:ステアリン酸ブチル、商品名「エキセパールBS」、島田商会社製
高級脂肪酸エステルB:ステアリン酸エチル
高級脂肪酸エステルC:パルチミン酸イソプロピル
高級脂肪酸エステルD:ラウリン酸メチル
(他の成分)
二塩基酸エステル:コハク酸ジイソプロピル、丸善油化商事社製
Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these examples. The materials used in Examples and Comparative Examples are shown below.
(Ingredient (A))
Rosin resin: Product name "China Rosin X", manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd. ((B) component)
Activator A: Succinic acid activator B: Adipic acid activator C: Trans-2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol (TDBD), manufactured by Maruzen Yuka Shoji Co., Ltd. ((C1) component)
Solvent A: Isopropyl alcohol ((C2) component)
Solvent B: Tripropylene glycol monobutyl ether (component (D))
Higher fatty acid ester A: Butyl stearate, trade name "Exepearl BS", Shimada Trading Co., Ltd. higher fatty acid ester B: ethyl stearate higher fatty acid ester C: isopropyl stearate higher fatty acid ester D: methyl laurate (other components)
Dibasic acid ester: diisopropyl succinate, manufactured by Maruzen Yuka Shoji Co., Ltd.

[実施例1]
ロジン系樹脂3質量%、活性剤A1.5質量%、活性剤B0.5質量%、活性剤C1質量%、高級脂肪酸エステルA0.5質量%、溶剤A90.5質量%および溶剤B3質量%を容器に投入し、混合してフラックス組成物を得た。
[Example 1]
3% by mass of rosin resin, 1.5% by mass of activator A, 0.5% by mass of activator B, 1% by mass of activator C, 0.5% by mass of higher fatty acid ester A, 90.5% by mass of solvent A and 3% by mass of solvent B It was put into a container and mixed to obtain a flux composition.

[実施例2〜5および比較例1〜2]
表1に示す組成に従い各材料を配合した以外は実施例1と同様にして、フラックス組成物を得た。
[Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 2]
A flux composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that each material was blended according to the composition shown in Table 1.

<フラックス組成物の評価>
フラックス組成物の特性(はんだ広がり、ぬれ上がり)を以下のような方法で評価した。得られた結果を表1に示す。
(1)はんだ広がり
銅板(大きさ:50mm×50mm、厚み:0.5mm)を、600番耐水研磨紙にて研磨し、さらにイソプロピルアルコールにて洗浄した後、150℃乾燥機中にて1時間の酸化処理を施して試験片を得た。
次に、試験片上に、0.05mLのフラックス組成物を塗布して、その上に、はんだリング(直径φ1.6mm線はんだを、直径φ3.2mmの棒に巻き付けた1巻)を載せ、これをセラミック板の上に置く。そして、このセラミック板を、255℃に設定されたはんだバス上に置き、試験片を加熱した。その後、はんだが溶融してから30秒間加熱を続け、水平に引き上げ放冷して、評価用試料を得た。
この評価用試料について、マイクロメーターで広がったはんだの高さ(H)を測定し、広がり率(Sr)を下記数式(F1)より求めた。
Sr=(D−H)/D×100 ・・・(F1)
D=1.24V1/3 ・・・(F2)
Sr:広がり率(%)
H:広がったはんだの高さ(mm)
D:試験に用いたはんだを球とみなした場合の直径(mm)
V:試験に用いたはんだの質量/密度
なお、試験は、(i)はんだリング1および(ii)はんだリング2について、それぞれ行う。
(i)はんだリング1のはんだ合金組成:Sn3.0Ag0.5Cu
(ii)はんだリング1のはんだ合金組成:Sn0.3Ag0.7Cu
そして、広がり率に基づいて、以下の基準に従って、はんだ広がりを評価した。なお、広がり率(%)についても表1に示す。
〇:広がり率が、80%以上である。
×:広がり率が、80%未満である。
(2)ぬれ上がり
直径1.0mmおよび0.8mmのスルーホールを有する基板(厚み:1.6mm)に、リフロー処理を3回施して、試験片を得た。ここでのリフロー条件は、プリヒート温度が150〜200℃(80秒間)で、温度200℃以上の時間が80秒間で、ピーク温度が250℃である。
次に、この試験片に、スプレーフラックサーにて、フラックス組成物を塗布(塗布量:110mL/m)し、その後、フローはんだ付けを行い、評価用試料を得た。ここでのフローはんだ付け条件は、プリヒート温度が100〜120℃(30〜60秒間)で、はんだ温度が250℃で、はんだ合金組成がSn3.0Ag0.5Cuである。
この評価用試料について、直径1.0mmおよび0.8mmの各120箇所の観察を行い、スルーホール端面の全周にはんだがぬれ上がった箇所を「OK」とし、ぬれ上がり率を下記数式(F3)より求めた。
ぬれ上がり率(%)={(φ1.0のOK数/120)+(φ0.8のOK数/120)}×100 ・・・(F3)
そして、ぬれ上がり率に基づいて、以下の基準に従って、ぬれ上がりを評価した。なお、ぬれ上がり率(%)についても表1に示す。
◎:ぬれ上がり率が、80%以上である。
○:ぬれ上がり率が、70%以上80%以下である。
×:ぬれ上がり率が、70%未満である。
<Evaluation of flux composition>
The characteristics of the flux composition (solder spread, wetting) were evaluated by the following methods. The results obtained are shown in Table 1.
(1) Solder spread A copper plate (size: 50 mm × 50 mm, thickness: 0.5 mm) is polished with No. 600 water-resistant abrasive paper, further washed with isopropyl alcohol, and then in a dryer at 150 ° C. for 1 hour. The test piece was obtained by subjecting it to the oxidation treatment of.
Next, a 0.05 mL flux composition was applied onto the test piece, and a solder ring (one roll of wire solder having a diameter of φ1.6 mm wound around a rod having a diameter of φ3.2 mm) was placed on the test piece. Place on a ceramic plate. Then, this ceramic plate was placed on a solder bath set at 255 ° C., and the test piece was heated. Then, after the solder was melted, heating was continued for 30 seconds, and the solder was pulled up horizontally and allowed to cool to obtain a sample for evaluation.
For this evaluation sample, the height (H) of the spread solder was measured with a micrometer, and the spread ratio (Sr) was calculated from the following mathematical formula (F1).
Sr = (DH) / D × 100 ... (F1)
D = 1.24V 1/3 ... (F2)
Sr: Spread rate (%)
H: Height of spread solder (mm)
D: Diameter (mm) when the solder used in the test is regarded as a sphere
V: Mass / Density of Solder Used in Test The test is performed on (i) solder ring 1 and (ii) solder ring 2, respectively.
(I) Solder alloy composition of solder ring 1: Sn3.0Ag0.5Cu
(Ii) Solder alloy composition of solder ring 1: Sn0.3Ag0.7Cu
Then, based on the spread ratio, the solder spread was evaluated according to the following criteria. The spread rate (%) is also shown in Table 1.
〇: The spread rate is 80% or more.
X: The spread rate is less than 80%.
(2) Wet-up A substrate (thickness: 1.6 mm) having through holes with diameters of 1.0 mm and 0.8 mm was subjected to reflow treatment three times to obtain a test piece. The reflow conditions here are a preheat temperature of 150 to 200 ° C. (80 seconds), a time of a temperature of 200 ° C. or higher for 80 seconds, and a peak temperature of 250 ° C.
Next, the flux composition was applied to this test piece with a spray flaxer (applied amount: 110 mL / m 2 ), and then flow soldering was performed to obtain a sample for evaluation. The flow soldering conditions here are a preheat temperature of 100 to 120 ° C. (30 to 60 seconds), a solder temperature of 250 ° C., and a solder alloy composition of Sn3.0Ag0.5Cu.
For this evaluation sample, 120 points each of 1.0 mm and 0.8 mm in diameter were observed, and the place where the solder got wet all around the end face of the through hole was regarded as "OK", and the wetting rate was calculated by the following formula (F3). ).
Wetting rate (%) = {(OK number of φ1.0 / 120) + (OK number of φ0.8 / 120)} × 100 ... (F3)
Then, based on the wetting rate, the wetting was evaluated according to the following criteria. The wetting rate (%) is also shown in Table 1.
⊚: The wetting rate is 80% or more.
◯: The wetting rate is 70% or more and 80% or less.
X: The wetting rate is less than 70%.

Figure 0006895215
Figure 0006895215

表1に示す結果からも明らかなように、本発明のフラックス組成物を用いた場合(実施例1〜5)には、はんだ広がり、および、ぬれ上がりの全てが良好であることが分かった。従って、本発明によれば、鉛フリーはんだを用いる場合でも、はんだぬれ性が十分に優れることが確認された。 As is clear from the results shown in Table 1, when the flux composition of the present invention was used (Examples 1 to 5), it was found that all of the solder spread and the wettability were good. Therefore, according to the present invention, it has been confirmed that the solder wetting property is sufficiently excellent even when lead-free solder is used.

本発明のはんだ付け用フラックス組成物は、電子機器のプリント配線基板などの電子基板に電子部品を実装するための技術として特に好適に用いることができる。 The flux composition for soldering of the present invention can be particularly preferably used as a technique for mounting an electronic component on an electronic board such as a printed wiring board of an electronic device.

Claims (2)

(A)ロジン系樹脂、(B)活性剤、(C)溶剤、並びに、(D)炭素数12〜24の脂肪族カルボン酸と炭素数1〜4のアルコールからなる高級脂肪族エステルを含有し、
前記(C)成分の配合量が、当該フラックス組成物100質量%に対して、70質量%以上95質量%以下であり、
(D)成分の配合量が、当該フラックス組成物100質量%に対して、0.1質量%以上5質量%以下である
ことを特徴とするフローはんだ付け用フラックス組成物。
It contains (A) a rosin-based resin, (B) an activator, (C) a solvent, and (D) a higher aliphatic ester composed of an aliphatic carboxylic acid having 12 to 24 carbon atoms and an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. ,
Amount of the component (C), with respect to the flux composition 100 wt% state, and are 70 wt% to 95 wt% or less,
A flux composition for flow soldering , wherein the blending amount of the component (D) is 0.1% by mass or more and 5% by mass or less with respect to 100% by mass of the flux composition.
請求項1に記載のフローはんだ付け用フラックス組成物において、
前記(C)成分が、(C1)1013hPaにおける沸点が100℃以下の水溶性溶剤と、(C2)1013hPaにおける沸点が120℃以上320℃以下のグリコール系溶剤またはテルペン系溶剤とを含有する
ことを特徴とするフローはんだ付け用フラックス組成物。
In the flux composition for flow soldering according to claim 1,
The component (C) contains a water-soluble solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower at (C1) 1013 hPa and a glycol-based solvent or a terpene-based solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher and 320 ° C. or lower at (C2) 1013 hPa. A characteristic flux composition for flow soldering.
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