JP6718735B2 - 光学フィルム - Google Patents
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Description
<1> 下記一般式(1)で表される化合物と、重合性液晶化合物の重合物とを含む光学フィルム。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。]
<2> 上記一般式(1)で表される化合物が下記一般式(2)で表される化合物である、<1>に記載の光学フィルム。
<3> 互いに異なる構造を有する2種類以上の、上記一般式(1)で表される化合物を含む、<1>または<2>に記載の光学フィルム。
<4> 互いに異なる構造を有する2種類以上の、上記一般式(1)で表される化合物は、それぞれ、一般式(1)中のR1においてのみ互いに異なる構造を有する、<3>に記載の光学フィルム。
<5> 上記重合性液晶化合物が、スメクチック液晶相を示す化合物である、<1>〜<4>の何れか一つに記載の光学フィルム。
<6> 上記重合性液晶化合物が、下記一般式(4)にて表される化合物である<1>〜<5>の何れか一つに記載の光学フィルム。
(式中、X1、X2およびX3は、各々独立して、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基、または置換基を有していてもよいシクロヘキサン−1,4−ジイル基を表す。但し、X1、X2およびX3のうちの少なくとも一つは、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基である。シクロへキサン−1,4−ジイル基を構成する−CH2−は、−O−、−S−または−NR−に置換されていてもよい。Rは、炭素数1〜6のアルキル基またはフェニル基を表す。
Y1およびY2は、各々独立して、単結合、−CH2CH2−、−CH2O−、−COO−、−OCOO−、−N=N−、−CRa=CRb−、−C≡C−、または−CRa=N−を表す。RaおよびRbは、各々独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。
U1は、水素原子または重合性基を表す。
U2は、重合性基を表す。
W1およびW2は、各々独立して、単結合、−O−、−S−、−COO−、または−OCOO−を表す。
V1およびV2は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルカンジイル基を表し、当該アルカンジイル基を構成する−CH2−は、−O−、−S−または−NH−に置換されていてもよい。)
<7> 下記一般式(1)で表される化合物と、重合性液晶化合物とを含む組成物。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。]
<8> 互いに異なる構造を有する2種類以上の、上記一般式(1)で表される化合物を含む、<7>に記載の組成物。
<9> <7>または<8>に記載の組成物から形成された光学フィルム。
<10> <1>〜<6>の何れか一つ、または<9>に記載の光学フィルムを備える円偏光板。
<11> <1>〜<6>の何れか一つ、または<9>に記載の光学フィルムを備える表示装置。
<12> 下記一般式(1)で表される化合物。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。]
<13> 下記一般式(3)、下記一般式(5)、または下記一般式(6)で表される化合物と、下記一般式(R1−2)で表される化合物とを反応させる工程を含む、下記一般式(1)で表される化合物の製造方法。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。]
<14> 上記一般式(3)、上記一般式(5)、または上記一般式(6)で表される化合物と、互いに異なる構造を有する少なくとも2種類の一般式(R1−2)で表される化合物とを反応させる工程を含む、<13>に記載の製造方法。
<15> 下記一般式(5−1)で表される化合物と、下記一般式(R2−1)で表される化合物とを、
N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、またはジメチルスルホキシドの存在下で反応させる、下記一般式(3)で表される化合物の製造方法。
B−は、アニオンを表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。]
本発明の実施形態1に係る光学フィルムは、下記一般式(1)で表される化合物(以下、化合物(1)とも称する)と、重合性液晶化合物の重合物とを含有する。また、本発明の実施形態2に係る組成物は、化合物(1)と、重合性液晶化合物とを含有する。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。]
また、本発明の実施形態1に係る光学フィルムは、本発明の実施形態2に係る組成物を用いて、当該組成物中の重合性液晶化合物を重合(硬化)させることによってなる光学フィルムであり得る。言い換えると、本発明の実施形態1に係る光学フィルムは、本発明の実施形態2に係る組成物から形成され得る。具体的には、本発明の光学フィルムは、通常、基材上、または基材上に形成された配向膜上に、重合性液晶化合物を含む本発明の組成物を塗布し、当該組成物中の重合性液晶化合物を重合することによって得ることができる。
本発明における化合物(1)は、二色性色素として機能し、通常、波長400〜800nmの範囲内に吸収を有する。
化合物(1)におけるR7〜R9は、水素原子以外の置換基であって、各々独立して、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、ハロゲン原子、またはシアノ基を表す。また、R7〜R9は、化合物(1)中の芳香族基のどの位置に置換していてもよい。
重合性液晶化合物とは、分子内に重合性基を有し、配向することによって液晶相を示すことができる化合物であり、好ましくは単独で配向することによって液晶相を示すことができる化合物である。
(式中、X1、X2およびX3は、各々独立して、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基、または置換基を有していてもよいシクロヘキサン−1,4−ジイル基を表す。但し、X1、X2およびX3のうちの少なくとも一つは、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基である。シクロへキサン−1,4−ジイル基を構成する−CH2−は、−O−、−S−または−NR−に置換されていてもよい。Rは、炭素数1〜6のアルキル基またはフェニル基を表す。
Y1およびY2は、各々独立して、単結合、−CH2CH2−、−CH2O−、−COO−、−OCOO−、−N=N−、−CRa=CRb−、−C≡C−、または−CRa=N−を表す。RaおよびRbは、各々独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。
U1は、水素原子または重合性基を表す。
U2は、重合性基を表す。
W1およびW2は、各々独立して、単結合、−O−、−S−、−COO−、または−OCOO−を表す。
V1およびV2は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルカンジイル基を表し、当該アルカンジイル基を構成する−CH2−は、−O−、−S−または−NH−に置換されていてもよい。)
化合物(4)において、X1、X2およびX3のうちの少なくとも一つは、好ましくは置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基である。
重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
溶媒は、重合性液晶化合物および化合物(1)を完全に溶解し得る溶媒であることが好ましい。また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましい。
増感剤を用いることにより、重合性液晶化合物の重合反応をより促進させることができる。
重合禁止剤を用いることにより、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。
レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、界面活性剤が挙げられる。好ましいレベリング剤としては、“BYK−361N”(BYK Chemie社製)等のポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤、およびサーフロン(登録商標)“S−381”(AGCセイミケミカル株式会社製)等のフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤が挙げられる。
本発明の光学フィルムは、通常、基材上、または基材上に形成された配向膜上に、重合性液晶化合物を含む本発明の組成物を塗布し、当該組成物中の重合性液晶化合物を重合することによって得ることができる。
基材としては、ガラス基材およびプラスチック基材が挙げられ、好ましくはプラスチック基材である。プラスチック基材を構成するプラスチックとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン;環状オレフィン系樹脂;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート;ポリメタクリル酸エステル;ポリアクリル酸エステル;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロースおよびセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル;ポリエチレンナフタレート;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシド;等のプラスチックが挙げられる。
配向膜は、厚さが500nm以下の膜であり、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有する膜である。配向膜としては、配向性ポリマーから形成されている配向膜、光配向膜、およびグルブ(groove)配向膜が挙げられる。
配向性ポリマーからなる配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶媒に溶解した組成物(以下、配向性ポリマー組成物と称することがある)を基材に塗布し、溶媒を除去すること、または、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶媒を除去し、ラビングすること(ラビング法)で得られる。
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマー(光配向性材料)と溶媒とを含む組成物(以下、光配向膜形成用組成物と称することがある)を基材に塗布し、偏光(好ましくは偏光UV)を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。
グルブ(groove)配向膜は、膜表面に凹凸パターンまたは複数のグルブ(溝)を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
光学フィルム(偏光膜)および円偏光板は、さまざまな表示装置に用いることができる。
本発明の実施形態3に係る化合物は、下記一般式(1)にて表される化合物、即ち、上述の化合物(1)である。化合物(1)を構成する基は、上述した基と同一である。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。]
本発明の実施形態4に係る一般式(1)にて表される化合物(化合物(1))の製造方法は、下記一般式(3)、下記一般式(5)、または下記一般式(6)で表される化合物(それぞれ、化合物(3)、化合物(5)、化合物(6)とも称する)と、下記一般式(R1−2)で表される化合物(以下、化合物(R1−2)とも称する)とを反応させる工程を含む。
本発明の実施形態5に係る一般式(3)にて表される化合物(化合物(3))の製造方法は、下記一般式(5−1)で表される化合物と、下記一般式(R2−1)で表される化合物とを、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、またはジメチルスルホキシドの存在下で反応させることにより得られる。
B−は、通常、HBで表されるプロトン酸のアニオンを表し、B−で表されるアニオンとしては、例えば、塩化物イオン、硫酸水素イオンおよびリン酸二水素イオン等が挙げられる。
以下の製造例1に記載の方法にて、実施例に使用する二色性色素を調製した。
収率:(化合物(5−1A)基準):67%
Mw:464(LC−MS)
極大吸収波長(λmax2)=554nm(テトラヒドロフラン溶液)
続けて、得られた化合物(3−A)を用いて、化合物(1−3)を調製した。
収率:(化合物3−1A基準):24%
Mw:520(LC−MS)
極大吸収波長(λmax2)=572nm(クロロホルム溶液)。
以下の製造例2に記載の方法にて、実施例に使用する重合性液晶化合物を調製した。
先行文献:Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321-328 (1996)に記載の方法にて、重合性液晶化合物である、以下の化学式(4−6)にて表される化合物(以下、化合物(4−6)と称する)を調製した。また、上記先行文献に記載の方法に準拠した方法にて、重合性液晶化合物である、以下の化学式(4−8)にて表される化合物(以下、化合物(4−8)と称する)を調製した。
以下に示す方法を用いて、化合物(4−6)、化合物(4−8)の相転位温度を測定した。
[組成物の調製]
以下に示す化合物および薬剤を混合し、80℃で1時間撹拌して組成物(1)を得た;
重合性液晶化合物;化合物(4−6) 75部
化合物(4−8) 25部
化合物(1);化合物(1−3) 2.9部
重合開始剤;2−ジメチルアミノ−2−ベンジル−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン(イルガキュア369;チバ スペシャルティケミカルズ社製) 6部
レベリング剤;ポリアクリレート化合物(BYK−361N;BYK−Chemie社製) 1.5部
溶媒;キシレン−イソホロン混合溶媒(=95:5) 250部。
以下に示す方法にて、光学フィルムである偏光膜(1)を作製し、その物性等を評価した。
ガラス基板上に、ポリビニルアルコール(ポリビニルアルコール1000完全ケン化型、和光純薬工業株式会社製)の2質量%水溶液をスピンコート法により塗布し、乾燥後、厚さ100nmの膜を形成した。続いて、得られた膜の表面にラビング処理を施すことにより配向膜を形成した。ラビング処理は、半自動ラビング装置(商品名:LQ−008型、常陽工学株式会社製)を用い、布(商品名:YA−20−RW、吉川化工株式会社製)によって、押し込み量0.15mm、回転数500rpm、16.7mm/sの条件で行った。かかるラビング処理により、ガラス基板上に配向膜が形成された積層体1を得た。
積層体1の配向膜上に、上記組成物(1)をスピンコート法により塗布し、120℃のホットプレート上で1分間、加熱乾燥した後、速やかに室温まで冷却して、上記配向膜上に配向した重合性液晶化合物を含む乾燥被膜を形成した。次いで、UV照射装置(SPOT CURE SP−7;ウシオ電機株式会社製)を用い、紫外線を、露光量1500mJ/cm2(365nm基準)で乾燥被膜に照射することにより、当該乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物を、配向状態を保持したまま重合させ、乾燥被膜から偏光膜(1)を形成して積層体2を得た。上記偏光膜(1)の厚さをレーザー顕微鏡(オリンパス株式会社製 OLS3000)により測定したところ、1.7μmであった。
極大吸収波長における透過軸方向の吸光度(A1)および吸収軸方向の吸光度(A2)を、分光光度計(島津製作所株式会社製 UV−3150)に、積層体2を備えたフォルダーをセットした装置を用いて、ダブルビーム法で測定した。当該フォルダーのリファレンス側には、光量を50%カットするメッシュを設置した。測定された透過軸方向の吸光度(A1)および吸収軸方向の吸光度(A2)の値から、上記吸光度の比(A2/A1)を算出し、二色比とした。
極大吸収波長(λmax):656nm
二色比(極大吸収波長):45。
形成された偏光膜(1)の表面に保護フィルム(40μmTAC(コニカミノルタ株式会社製「KC4UY」))を配置し、その上から下記条件で光を照射することによって耐光性を評価した。偏光膜(1)の極大吸収波長656nmにおける、耐光性試験後の偏光膜(1)の吸光度は、試験前の95%となった。一方、特開2013−101328号公報に記載の(実施例4)で示される二色性色素を用いて、上記方法と同様の方法で偏光膜を形成して耐光性試験を行ったところ、該偏光膜の極大吸収波長610nmにおける、耐光性試験後の該偏光膜の吸光度は、試験前の87%となった。その結果を表1に示す。
使用機器:ATLAS社製 サンテストXLS+
使用光源:キセノンアークランプ
露光条件:250mW/m2
試験時間:120時間
暴露量:108000KJ/m2
温度:60℃。
二色比の測定の結果から、化合物(1−3)のクロロホルム中での極大吸収波長(λmax2)は572nmであることから、長波長シフトしていることが判明した。この長波長シフトの存在によって、本発明の光学フィルム中において、重合性液晶化合物が重合してなる密な分子鎖間に、化合物(1−3)が分散しているとき、該化合物(1−3)がその分子鎖と強く相互作用していることが示された。即ち、本発明の光学フィルムは、波長600〜680nmの範囲に極大吸収を有し、かつ、高い二色比を有することが分かった。
Claims (12)
- 下記一般式(1)で表される化合物と、重合性液晶化合物の重合物とを含む光学フィルム。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。] - 上記重合性液晶化合物が、スメクチック液晶相を示す化合物である、請求項1または2に記載の光学フィルム。
- 上記重合性液晶化合物が、下記一般式(4)にて表される化合物である請求項1〜3の何れか1項に記載の光学フィルム。
U1−V1−W1−X1−Y1−X2−Y2−X3−W2−V2−U2 (4)
(式中、X1、X2およびX3は、各々独立して、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基、または置換基を有していてもよいシクロヘキサン−1,4−ジイル基を表す。但し、X1、X2およびX3のうちの少なくとも一つは、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基である。シクロへキサン−1,4−ジイル基を構成する−CH2−は、−O−、−S−または−NR−に置換されていてもよい。Rは、炭素数1〜6のアルキル基またはフェニル基を表す。
Y1およびY2は、各々独立して、単結合、−CH2CH2−、−CH2O−、−COO−、−OCOO−、−N=N−、−CRa=CRb−、−C≡C−、または−CRa=N−を表す。RaおよびRbは、各々独立して、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表す。
U1は、水素原子または重合性基を表す。
U2は、重合性基を表す。
W1およびW2は、各々独立して、単結合、−O−、−S−、−COO−、または−OCOO−を表す。
V1およびV2は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルカンジイル基を表し、当該アルカンジイル基を構成する−CH2−は、−O−、−S−または−NH−に置換されていてもよい。) - 下記一般式(1)で表される化合物と、重合性液晶化合物とを含む組成物。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。] - 請求項5に記載の組成物から形成された光学フィルム。
- 請求項1〜4の何れか1項、または請求項6に記載の光学フィルムを備える円偏光板。
- 請求項1〜4の何れか1項、または請求項6に記載の光学フィルムを備える表示装置。
- 下記一般式(1)で表される化合物。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。] - 下記一般式(3)、下記一般式(5)、または下記一般式(6)で表される化合物と、下記一般式(R1−2)で表される化合物とを反応させる工程を含む、下記一般式(1)で表される化合物の製造方法。
P1およびP2は、それぞれ独立して、−S−、−O−または−N(R12)−を表し、R12は、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表し、Q1およびQ2は、それぞれ独立して、=N−または=CH−を表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。] - 上記一般式(3)、上記一般式(5)、または上記一般式(6)で表される化合物と、互いに異なる構造を有する少なくとも2種類の上記一般式(R1−2)で表される化合物とを反応させる工程を含む、請求項10に記載の製造方法。
- 下記一般式(5−1)で表される化合物と、下記一般式(R2−1)で表される化合物とを、
N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、またはジメチルスルホキシドの存在下で反応させる、下記一般式(3)で表される化合物の製造方法。
B − は、アニオンを表す。
Arは、下記一般式(Ar−1)または下記一般式(Ar−2)で表される基を表す。
R2は、下記に示す基から選択される基を表す。
mは、0〜10の整数であり、同一の基中にmが二つある場合、この二つのmは互いに同一であってもよく、または、異なっていてもよい。p、q、rは、各々独立して、0〜2の整数を表す。]
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