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JP6613815B2 - 振動機構、スペックル解消素子 - Google Patents

振動機構、スペックル解消素子 Download PDF

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本発明は、振動機構、及びスペックル解消素子に関する。
例えば、露光機やプロジェクタにおいて、拡散板等を用いたものが知られている。拡散板等を用いると、少なからず光の強度分布が発現する。光の強度分布は、特にレーザ光を用いた際に顕著であり、この現象はスペックルコントラストと呼ばれる。
例えば露光機のように、任意の範囲において均一に光を照射したいという目的において、強度分布の均一化が求められている。又、プロジェクタ等の表示デバイスにおいても、光の強度分布のムラや、レーザ光におけるスペックルコントラストの発現は表示特性の低下に直結することもあり、改善が求められている。
そこで、スペックルコントラストを低減するための様々な技術が提案されている。例えば、光ビームを偏向・走査する光偏向器において、光源からの光を2軸で偏向し、かつ台座を並進振動させて光線の投射点をずらすことで、光路長差を設けてスペックルコントラストを低減する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
又、光偏向器用アクチュエータ装置において、光源からの光を偏向する光偏向器を搭載する台座と、台座を並進振動させる圧電アクチュエータと、圧電アクチュエータを支持する支持体とを備え、台座を並進振動することでスペックルコントラストを低減する技術が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
しかしながら、上記の技術は、何れも対象物を1軸に振動させるものである。上記の技術でも、駆動機構を2箇所設け、夫々の軸に対して対象物を駆動させれば、2軸駆動は可能であるが、駆動機構が複雑化及び大型化する問題がある。特に、駆動する対象物がMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)アクチュエータの場合には、駆動機構が複雑化及び大型化すると、MEMSアクチュエータを用いて装置を小型化するというメリットが相殺されてしまう。
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、1軸の駆動部で複数軸振動相当の動作を可能とする振動機構を提供することを目的とする。
本振動機構は、光学素子からなる振動部と、弾性体を介して前記振動部を支持する支持体と、を有し、2つ以上の平面内共振モードの共振周波数成分で駆動される1軸の駆動部のみによって、前記光学素子を平面内で前記1軸の方向に依存しない2つ以上の振動方向に振動させることを要件とする。
開示の技術によれば、1軸の駆動部で複数軸振動相当の動作を可能とする振動機構を提供できる。
本実施の形態に係る振動機構を例示する模式図である。 本実施例に係る偏光解消素子を例示する斜視図である。 図2のA−A線に沿う位置での振動部の断面図である。 光偏光素子の一例を概略的に示した平面図である。 駆動信号の波形と丸部の軌跡との関係を例示する図である。 本実施例に係る偏光解消素子をレーザプリンタに用いる例を示す図である。 領域分割したサブ波長構造体領域の多重度を例示する図である。
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
図1は、本実施の形態に係る振動機構を例示する模式図である。図1を参照するに、振動機構10は、振動部11と、支持体12と、弾性体13とを有する1軸の駆動部により構成されている。振動機構10を構成する駆動部は、例えば、1軸並進アクチュエータであり、より具体的には、例えば、半導体基板上に作製されたMEMSアクチュエータである。駆動部は、圧電アクチュエータであってもよい。
振動部11は、ばね性を有する一対の弾性体13を介して支持体12に1軸で支持されており、駆動部20からの所定の駆動信号により振動することができる。振動部11、支持体12、及び弾性体13は、例えば、シリコンや樹脂等の任意の材料を用いて形成することできる。
振動部11は、複数の共振モード(平面内共振モード)を備えている。例えば、振動部11がn個の共振モードを備えており、夫々の共振モードの共振周波数が、共振周波数f、共振周波数f、・・・及び共振周波数fである場合を考える。この場合、n個の共振周波数の内から任意の2つの共振周波数(例えば、共振周波数fと共振周波数f)を選択し、選択した共振周波数成分を含む合成波を生成し、生成した合成波を駆動信号として駆動部20から振動機構10に印加する。
これにより、振動部11は、駆動部20から印加された合成波に含まれる2つの共振周波数で振動するため、構造が簡単でかつ小型の1軸の振動機構10により、2軸振動相当の複雑な振動を実現できる。なお、3つ以上の共振周波数成分を含む合成波を駆動部20から振動機構10に印加してもよい。
なお、駆動部20は、2以上の周波数の合成波を印加可能であれば、その形態は限定されない。駆動部20は、例えば、静電力による駆動、電磁力を用いた駆動、圧電効果を用いた駆動等に対応することができる。又、図1では、振動機構10と別体の駆動部20を図示しているが、振動機構10は駆動部20を有していてもよい。例えば、振動機構10の支持体12上に駆動部20を設けることができる。又、1軸上に駆動部を2つ以上設けてもよい。
振動機構10は様々なものに応用可能である。例えば、振動部11を偏光解消素子等の光学素子とした場合、振動機構10は、1軸の駆動部のみによって光学素子を平面内で2軸に振動させる振動機構となる。又、振動機構10は、例えば、光の強度分布を均一化する拡散板に用いることができる。この場合、振動部11が拡散板となるが、色々な振動モードを組み合わせることで、時間軸における拡散板の位置の状態を数多く作り出すことが可能となるため、強度分布の均一化に対しては非常に有利である。すなわち、振動機構10を有するスペックル解消素子を実現することができる。
〈実施例〉
本実施例では、振動機構10を偏光解消素子に適用する例を示す。図2は、本実施例に係る偏光解消素子を例示する斜視図である。図3は、図2のA−A線に沿う位置での振動部の断面図である。
図2及び図3を参照するに、偏光解消素子100は、振動部110と、支持体120と、弾性体130とを有しており、光偏光器となる振動部110の光透過領域の一表面に複数のサブ波長構造体領域が配置されたものである。
振動部110は、ばね性を有する一対の弾性体130を介して支持体120に1軸で支持されており、所定の駆動信号により複数の振動に可変させることが可能である。振動部110、支持体120、及び弾性体130は、例えば、厚さ0.525mmのシリコンウェハ(シリコン基板)を貫通加工することによって形成できる。
より詳しくは、振動部110、支持体120、及び弾性体130は、例えば、シリコンプロセス法(フォトリソグラフィ加工、ナノインプリント加工、ウェットエッチング加工、ドライエッチング加工する等)により、1つのシリコン基板113が半導体熱酸化プロセスを含んで加工されて形成されたものである。
振動部110は、光透過領域110aと、光偏光素子110bとを有している。光透過領域110aは、例えば、シリコン基板113の一部分が熱酸化された二酸化珪素115で形成されている。振動部110の光透過領域110aよりも厚みが厚い部分は、表面が二酸化珪素115で形成されており、内部がシリコン基板113で形成されている。
光偏光素子110bは、光透過領域110aの一表面(図3では上面)に、二酸化珪素115で形成されている。光偏光素子110bは、使用する光の波長よりも短い周期で繰り返して配列された溝をもち構造性複屈折を呈するサブ波長構造体からなる。光偏光素子110bは、特性の異なるサブ波長構造体が光透過領域110aの一表面に多数設けられることで、光透過領域110aを光が通過する際に各サブ波長構造体に応じた偏光を持たせ偏光を解消することができる。
なお、構造性複屈折とは、屈折率の異なる2種類の媒質を光の波長よりも短い周期でストライプ状に配置したとき、ストライプに平行な偏光成分(TE波)とストライプに垂直な偏光成分(TM波)とで屈折率(有効屈折率と呼ぶ)が異なり、複屈折作用が生じることをいう。
支持体120は、弾性体130を介して振動部110を1軸で支持している。弾性体130は、振動部110を振動させるために振動部110に連結されている。支持体120及び弾性体130は、表面が二酸化珪素115で形成されており、内部がシリコン基板113で形成されている。
本実施例では、一対の弾性体130が設けられている。より詳しくは、振動部110に対して、その一方の向かい合う両辺に、1対の弾性体130の基端部がそれぞれ連結されている。一方の弾性体130(図2では右側)の先端には駆動部200の先端部が連結されている。他方の弾性体130(図2では左側)の先端は支持体120に連結されている。振動部110の他方の向かい合う両辺は自由に動ける状態である。
駆動部200は、弾性体130を介して振動部110を振動させる部分である。駆動部200としては、例えば圧電振動子を用いることができるが、前述のように、これには限定されない。
また、本実施例では駆動部200は1つのみ配置しているが、1軸上に複数個配置することもできる。例えば、複数個連結してもよいし、振動部の両脇に配置してもよい。その場合は、寸法としては大きくなるが、例えば圧電振動子等の場合、より低電圧での駆動が可能となる。
台座300は、支持体120と駆動部200とを位置固定するための矩形形状の枠部材である。台座300は、例えば、金属から作製することができる。但し、台座300の材料や形状は、これらには限定されない。台座300と、支持体120と、駆動部200とは、例えば、はんだや接着剤等により接合することができる。
サブ波長構造体からなる光偏光素子110bにおいて、例えば、凹凸周期(ピッチ)Pは150〜250nm、凸状のランドの幅Lは75〜125nm、空気層からなる凹状の溝の幅Sは75〜125nmであり、P=L+Sである。又、例えば、溝の深さdは2〜5μm、光透過領域110aと光偏光素子110bとを合わせた部分の厚みtは7〜15μmである。
振動部110において、厚みtが7〜15μm程度の薄肉となっているため、外周に0.525mm程度の厚さの枠を残し、強度を確保している。
偏光解消素子100で使用する光の波長は、例えば、紫外光(YAGレーザの第3高調波:355nm)〜近赤外光(YAGレーザの基本波:1064nm)とすることができる。もちろん、可視光(350〜700nm)用に使用することも可能である。
又、ある一例の設計によって設計及び製作される振動部110が、狙いの光波長帯域を広く設定し、かつ対応可能な場合には、光偏光素子110bは、狙いの光波長帯域で使用することができる。通常は、使用する「狙いの光波長」を設定し、その波長に合致するように光学設計を行なう。
図4は、光偏光素子の一例を概略的に示した平面図である。光偏光素子110bにおいて、サブ波長構造体は、複数のサブ波長構造体領域110cに分割されている。複数のサブ波長構造体領域110cは、互いに隙間のない状態で配置されている。なお、図4では16×16=256個のサブ波長構造体領域110cが配置されたものを示しているが、サブ波長構造体領域110cの個数は限定されるものではなく、サブ波長構造体領域110cの数は多いほど好ましい。
例えば、光偏光素子110bが5mm×5mmの正方形で、サブ波長構造体領域110cが50μm×50μmであるとすると、100×100=10000個のサブ波長構造体領域110cが配置された光偏光素子110bを実現できる。
サブ波長構造体領域110cは使用する光の波長よりも短い周期で繰り返して配列された溝により構成されるストライプ状の凹凸構造を有している。ストライプ状の溝(凹凸)の配列方向が光学軸であり、図4では光学軸は矢印で示されている。
本実施例では各サブ波長構造体領域110cは1つずつの光学軸をもっている。光学軸方向は隣接するサブ波長構造体領域110c間では異なる部分をもつように、ここでは隣接するサブ波長構造体領域110c間で光学軸方向が異なるようにサブ波長構造体領域110cが配置されている。例えば、サブ波長構造体領域110cの光学軸方向は、360度を15分割した方向の何れかの方向をもつように形成されており、光偏光素子110bとしては光学軸方向がランダムになるようにサブ波長構造体領域110cが配置されている。
但し、サブ波長構造体領域110c内における光学軸は1つである必要はなく、互いに直交する2つの方向の光学軸をもつようにサブ波長構造体領域110cを形成することもできる。更に、3つ以上の光学軸をもつようなサブ波長構造体領域110cであってもよく、光学軸方向が中心から放射状に広がるようにサブ波長構造体を構成する凹凸構造の溝が同心円状に配列されているようなサブ波長構造体領域110cであってもよい。
光偏光素子110bは、サブ波長構造体を構成する凹凸構造の溝の深さに関し、光偏光素子110b全体で溝の深さが同じであってもよいし、深さの異なるものを含んでいてもよい。深さの異なるものを含んでいる場合、1つの形態は、各サブ波長構造体領域110c内では溝の深さを均一にし、溝の深さの異なるサブ波長構造体領域110cをランダムに配置したものである。他の形態は、各サブ波長構造体領域110c内において溝の深さを変化させたものである。
図2に戻り、振動部110は、共振周波数1153Hzにおいて矢印Bの振動モード、共振周波数2007Hzにおいて矢印Cの振動モードを備えており、これらの振動方向は互いに略直交している。なお、振動部110の共振周波数は、例えば、弾性体130のばね定数を変化させることにより調整可能である。ここでは2つの振動モードの振動方向が略直交している例を示すが、略直交することは必須要件ではなく、複数の振動モードの振動方向が交差していればよい。
この時、駆動部200から印加する駆動信号(電圧)と丸部Dの位置の変化との関係は図5に示す形になる。図5(a)〜図5(c)において、左側が駆動部200から印加する駆動信号の波形であり、右側が丸部Dの軌跡である。
図5(a)は駆動部200から1153Hzの単純な交流波を印加した場合である(比較例)。又、図5(b)は駆動部200から2007Hzの単純な交流波を印加した場合である(比較例)。そして、図5(c)は駆動部200から1153Hzと2007Hzとの合成波を印加した場合である。
図5(c)を図5(a)及び図5(b)と比較すると明らかなように、振動部110の複数の共振周波数の内から選択した共振周波数成分を含む合成波を駆動部200から駆動信号として印加すると、振動部110は合成波に含まれる2つの共振周波数で振動する。そのため、構造が簡単でかつ小型の1軸の偏光解消素子100により、2軸振動相当の複雑な振動を実現できる。なお、3つ以上の周波数を合成した合成波を駆動部200から偏光解消素子100に印加してもよい。
偏光解消素子100は、例えば、レーザ光源から発生するレーザ光を対象物に照射する光学系を備えた光学機器に使用することができる。すなわち、光学機器の光源からのレーザ光の偏光状態をランダムな偏光状態にするために、偏光解消素子100を光学機器の光学系の光路上に配置することができる。光学機器としては、例えば、レーザプリンタ、露光装置、レーザ光源を用いる分光器、及びレーザ計測装置等を挙げることができる。
図6は、偏光解消素子100をレーザプリンタに用いる例を示す図である。図6において、レーザダイオード・ユニット510の内部には、例えば、光源としてのレーザダイオードと、レーザダイオードから射出されるレーザビームを平行光線にするコリメートレンズが設けられている。
レーザダイオード・ユニット510から平行光線となって射出されるレーザビームは、ポリゴンミラー(回転多面鏡)520によって偏向走査され、F−θレンズ等から構成される結像レンズ系530を介して折返しミラー540に入射する。そして、折返しミラー540で光路を変換され、感光体ドラム550の帯電した表面に画像を結像する。
偏光解消素子100は、レーザダイオード・ユニット510とポリゴンミラー520との間の光路上に配置されている。これにより、レーザダイオード・ユニット510から射出されるレーザビームをランダムな偏光状態をもったレーザビームとすることが可能となる。
ここで、駆動部200から図5(c)に示す合成波を偏光解消素子100に印加し、領域分割したサブ波長構造体領域110cを振動させると、時間が進むにつれて異なった領域の光が重ね合わせられる。そのため、合成波による多重振動における、領域分割したサブ波長構造体領域110cの多重度(重なり方)は、図7(a)に示すようになる。
図7(b)には比較例として単純な1軸振動の多重度を、図7(c)には比較例として円振動の多重度を示すが、図7(a)では図7(b)及び図7(c)と比較して明らかに光のパラメータとしての多重度が増していることが理解できる。
本実施例において、図7(b)の様に単純な交流波を印加した場合、スペックルコントラスト0.7(30%低減効果)を得た。図7(c)の振動印加の場合、スペックルコントラスト0.4(60%低減効果)を得た。一方図7(a)の印加をすると、スペックルコントラスト0.3(70%低減効果)を得た。
このように、振動部110を複雑に振動させることにより、光のパラメータとしての多重度が増すため、単純な振動の場合と比較して、スペックルコントラストを更に低減することができる。すなわち、光学素子が偏光解消素子である振動機構を有するスペックル解消素子を実現できる。
以上、好ましい実施の形態及び実施例について詳説したが、上述した実施の形態及び実施例に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態及び実施例に種々の変形及び置換を加えることができる。
例えば、上記実施例では、振動機構を有する偏光解消素子を例示したが、振動機構と偏光解消素子とを別個に構成し、それらを組み合わせてもよい。振動機構と偏光解消素子とを組み合わせることにより、スペックル解消素子を実現することができる。
10 振動機構
11、110 振動部
12、120 支持体
13、130 弾性体
20、200 駆動部
特開2009−223165号公報 特開2010−237492号公報

Claims (5)

  1. 光学素子からなる振動部と、弾性体を介して前記振動部を支持する支持体と、を有し、
    2つ以上の平面内共振モードの共振周波数成分で駆動される1軸の駆動部のみによって、前記光学素子を平面内で前記1軸の方向に依存しない2つ以上の振動方向に振動させる振動機構。
  2. 前記駆動部が1軸並進アクチュエータである請求項1に記載の振動機構。
  3. 前記駆動部が圧電アクチュエータである請求項1又は2に記載の振動機構。
  4. 半導体基板上に作製された請求項1乃至3の何れか一項に記載の振動機構。
  5. 前記光学素子が偏光解消素子である請求項1乃至4の何れか一項に記載の振動機構を有するスペックル解消素子。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6943655B2 (ja) * 2017-07-11 2021-10-06 リコーインダストリアルソリューションズ株式会社 偏光解消装置
JP7102705B2 (ja) * 2017-10-30 2022-07-20 セイコーエプソン株式会社 アクチュエーター、光学装置及びプロジェクター

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2570237B2 (ja) * 1990-08-07 1997-01-08 オムロン株式会社 光スキャナ、振動装置、光学装置及び光ビ−ムプリンタ
JP3973591B2 (ja) * 2003-04-03 2007-09-12 オリンパス株式会社 電磁駆動型アクチュエータ
DE102007051820A1 (de) * 2007-04-02 2008-10-23 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Mikromechanisches Bauelement mit erhöhter Steifigkeit
CN100451728C (zh) * 2007-07-06 2009-01-14 清华大学 带压阻传感器的微型二维扫描镜
WO2010116727A1 (ja) * 2009-04-10 2010-10-14 パナソニック株式会社 画像表示装置
JP6050618B2 (ja) * 2012-06-25 2016-12-21 リコーインダストリアルソリューションズ株式会社 偏光解消素子及びその素子を用いた光学機器
JP6104087B2 (ja) * 2013-07-29 2017-03-29 リコーインダストリアルソリューションズ株式会社 偏光解消素子及び偏光解消装置

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