JP6584243B2 - ピストンリング及びその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明のピストンリングにおいては、外周摺動面に形成された多数の凹部は深さの異なる第1及び第2の二種類の凹部からなる。第1の凹部は摩擦力低下のための深さの深い凹部であり、第2の凹部は潤滑特性を確保するための深さの浅い凹部である。第1の凹部は、独立した凹部であり、摺動時に凹部の潤滑油が深さ方向に絞られ、いわゆるスクイーズ効果を発現して、潤滑油に発生する圧縮力を大きくするように、外周摺動面に略平行な断面の面積が深さ方向に減少するような形状とすることを特徴としている。この潤滑油に発生する圧縮力が、シリンダ内壁に作用するリング張力を打ち消す方向に作用し、摺動時の摩擦力を低減させることを可能にする。図1は、第1の凹部(1)の外周摺動面(2)に垂直な断面形状の一例で、(逆)円錐形状を示している。スクイーズ効果の観点では、上記断面の面積減少率が大きいほど効果が大きいので、所定の開口サイズと深さの範囲内であれば、外周摺動面の内側に凸の凹部(例えば、半球状の凹部)よりも外側に凸の凹部の方が有効であると言える。しかし、外側に凸の凹部は先端の鋭いクラックとして作用し、硬質皮膜の欠けや剥離を引き起こす虞があるので、現実には好ましくない。第1の凹部(1)の形状としては、(逆)円錐形状又は(逆)ピラミッド形状とすることが好ましい。
本発明のピストンリングはトップリング(第1圧力リング)として使用されることが好ましく、外周摺動面には硬質皮膜が被覆される。硬質皮膜はクロムめっき皮膜、イオンプレーティング皮膜及び窒化皮膜から選択された硬質皮膜であることが好ましい。硬質皮膜の厚さは、後述する第1及び第2の凹部の形成方法に関係し、厚すぎると特に第1の凹部を埋めて浅くしてしまうので被覆する皮膜厚さには留意する必要がある。イオンプレーティング皮膜では、60μm未満であることが好ましく、45μm未満であることがより好ましく、30μm未満であることがさらに好ましい。一方、窒化皮膜の場合は、母材の表層に窒素が拡散して形成されるので、第1及び第2の凹部が覆われることはなく皮膜厚さに制限はない。通常は、ビッカース硬さが700 HV0.1以上の拡散層の厚さが30μm以上あることが好ましく、50μm以上であればより好ましく、70μm以上であればさらに好ましい。また、クロムめっき皮膜に関しては、第1の凹部内で電場の打ち消しあいにより深さ方向に膜厚が薄くなり、開口径は少し狭くなっても、深さはほとんど変わらないため、用途によって分類することが好ましい。ガソリン車用リングでは、80μm未満であることが好ましく、60μm未満であることがより好ましく、40μm未満であることがさらに好ましい。また、ディーゼル車(特にヘビーデューティ)用リングでは120μm未満であることが好ましく、100μm未満であることがより好ましく、80μm未満であることがさらに好ましい。また、舶用リングでは350μm未満であることが好ましく、325μm未満であることがより好ましく、300μm未満であることがさらに好ましい。
第1の凹部は、硬質圧子の押込み又はレーザー加工によって形成される。押込みによる方法として、ダイヤモンド圧子や超硬圧子を硬質皮膜被覆前のリング母材外周面に押付け、塑性変形させて凹部を形成する方法が優れており、凹部の開口径が100μm以上300μm未満、深さが100μm以上300μm以下の凹部を容易に形成することができる。ピラミッド形状や円錐形状の硬質圧子を用いて形成した凹部は、外周摺動面に略平行な断面の面積が深さ方向に効果的に減少しており、潤滑油が満たされ摺動したときスクイーズ効果による圧縮力が発生し、摩擦力を下げる効果を発現する。重要なことは、硬質皮膜被覆前の母材の段階で凹部形状を付与することである。硬質皮膜被覆後に凹部を形成すると、凹部の深さが100μm以上なので、硬質皮膜被覆後にクラックや剥離が生じたり、内部に破壊源となる欠陥を残したりして好ましくない。
第1の凹部と比較して、第2の凹部は開口径及び深さが100μm未満であるという違いだけなので、第1の凹部と同様に、硬質圧子の押込みやレーザー加工法を使用できる。但し、硬質圧子の押込みでは押込み深さを浅くし、レーザー加工法では出力を小さくする。また、第2の凹部は、ショットブラスト、ショットピーニング、エッチング等の方法でも形成することができる。さらに、第2の凹部は、最終的な凹部の寸法に留意さえすれば、硬質皮膜被覆前でも硬質皮膜被覆後でも形成することが可能である。硬質皮膜被覆前に凹部を形成した方が硬質皮膜に欠陥を導入しないという意味で優れているが、硬質皮膜の被覆が凹部の形状を大きく変化させてしまうような場合には、硬質皮膜被覆後に第2の凹部を形成することが好ましい。欠陥の導入を回避するため、例えば、レーザー加工法においては、パルスレーザーを採用して、熱負荷を極力小さくすることが行われてもよい。
上記のテストピースのバレル状接触面に、第1の凹部として、円錐状の超硬針を押付け、塑性変形させることにより、図4に示すように、開口径200μm、深さ200μmの円錐状の凹部(9)を、中心間距離400μmとして碁盤の目状に形成した。次に、硬質皮膜としてクロムめっき皮膜の形成を、原材料として、クロム酸250 g/L、硫酸1.1 g/L、フッ化物3.7 g/Lを用い、液温56℃、電流密度50 A/dm2で3時間行い、RzJISが1.0〜1.5μmの範囲に入るように先端R研磨を行った。このとき、第1の凹部は開口径が約150μmで深さが約200μmであり、クロムめっき厚さは約100μmであり、硬さはビッカース硬さを5点測定した結果875〜913 HV0.1の範囲にあった。さらに、直径260μmの円形に開口したマスキング板を使用して、図4の第2の凹部(10)に対応する位置にブラスト加工を行うことにより、碁盤の目状に配置された第1の凹部(9)の間の直径約260μmの円形内に、開口径10〜96μm、深さ1〜5μmの範囲の多数の第2の凹部(10)を形成した。これらの第2の凹部(10)には、独立した凹部は少なく、連結した凹部が多数存在していた。
比較例1のテストピースは、第1の凹部を形成することなく、実施例1と同様にクロムめっき皮膜を被覆し、先端R加工を施したままとした。
硬質皮膜として窒化皮膜を形成した以外は、実施例1と同様にして第1の凹部及び第2の凹部を有するテストピースを作製した。窒化皮膜は、NH3ガス雰囲気、585℃で4.5時間の処理により形成し、平面研削盤R研磨により約25μmを研磨して表層の白層を除去し、最終的に専用治具でR仕上げを行った。このとき、第1の凹部は開口径が約175μmで深さが約175μmであり、得られた窒化皮膜の表面硬さは1120〜1175 HV0.1、表面粗さはRzJISで0.3〜0.4μmの範囲にあり、硬さ700 HV0.1以上の拡散層の厚さは約75μmであった。また、ブラストにより形成された多数の第2の凹部は、開口径7〜73μm、深さ1〜4μmの範囲にあった。
比較例2のテストピースは、第1の凹部を形成することなく、実施例2と同様に窒化処理を行い、先端R仕上げを施したままとした。
硬質皮膜の被覆前に第2の凹部を形成し、硬質皮膜としてイオンプレーティングによるCrN皮膜を形成した以外は、実施例1と同様にして第1の凹部及び第2の凹部を有するテストピースを作製した。CrN皮膜は、蒸発源に金属Crを用い、真空排気後、N2ガスを流しながら2.0 Paに調整した雰囲気で、アーク電流150 A、バイアス電圧 0 V、温度500℃で、380分間のイオンプレーティング処理により形成し、さらに、専用治具でのR研磨によりR仕上げを行った。このとき、第1の凹部は開口径が約180μmで深さが約200μmであり、第2の凹部は開口径が1〜50μmで深さが1〜2.5μmの範囲にあった。また、得られたCrN皮膜は、皮膜厚さ20μm、表面硬さが850〜1150 HV0.1、表面粗さがRzJISで0.3〜0.4μmの範囲にあった。
比較例3のテストピースは、第1の凹部及び第2の凹部を形成することなく、実施例3と同様にイオンプレーティング処理を行い、先端R仕上げを施したままとした。
摺動試験は、図5に示すように、慣らし運転と本試験から構成され、本試験は摺動速度を一定としてテストピースに負荷する押付け荷重Pを焼付きが発生するまでステップ昇圧することによって行うものである。試験条件は以下の通りである。
1. 慣らし運転
摺動速度:0.5 m/秒、
押付け荷重:500 N、
潤滑油:日石モーターオイル(モーター P#20)、
潤滑油温度:100℃(オイルバス)、
潤滑油供給量:40 cc/分、
運転時間:2分。
2. 本試験
摺動速度:8 m/秒、
押付け荷重:初期100 Nから20 Nずつ、スカッフ発生まで昇圧する、
各荷重保持時間は30秒、
潤滑油:日石モーターオイル(モーター P#20)、
潤滑油温度:100℃(オイルバス)、
潤滑油供給量:40 cc/分、
焼付きトリガー:摩擦係数が0.1以上で焼付きと判断する。
2 … 外周摺動面
3 … シリンダ壁
4 … 潤滑油
5 … 潤滑油に発生した圧縮力
6 … テストピース
7 … ディスク
8 … 潤滑油
10 … 第2の凹部の存在領域
Claims (9)
- 外周摺動面に硬質皮膜を被覆し多数の凹部を有するバレルフェイス形状のピストンリングであって、前記凹部が深さの異なる第1及び第2の二種類の凹部からなり、前記第1の凹部は、個々に独立し、前記第2の凹部よりも深く、前記外周摺動面に略平行な断面の面積が深さ方向に減少し、前記第2の凹部の一部がその他の前記第2の凹部の一部と連結していることを特徴とするピストンリング。
- 請求項1に記載のピストンリングにおいて、前記第1の凹部の開口径が円相当径で100μm以上300μm未満、深さが100μm以上300μm未満であることを特徴とするピストンリング。
- 請求項1又は2に記載のピストンリングにおいて、前記第1の凹部が円錐形状又はピラミッド形状であることを特徴とするピストンリング。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のピストンリングにおいて、前記第2の凹部の開口径が円相当径で100μm未満、深さが1μm以上100μm未満であることを特徴とするピストンリング。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のピストンリングにおいて、前記第2の凹部の前記外周摺動面に略平行な断面の面積が深さ方向に減少していることを特徴とするピストンリング。
- 請求項1〜5のいずれかに記載のピストンリングにおいて、前記二種類の凹部の合計開口面積率が20%以上80%未満であることを特徴とするピストンリング。
- 請求項1〜6のいずれかに記載のピストンリングにおいて、前記硬質皮膜がクロムめっき皮膜、イオンプレーティング皮膜及び窒化皮膜から選択された硬質皮膜であることを特徴とするピストンリング。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のピストンリングを製造する方法であって、前記硬質皮膜の被覆前に、前記第1の凹部が硬質圧子の押込み又はレーザー加工により形成されることを特徴とするピストンリングの製造方法。
- 請求項8に記載のピストンリングの製造方法において、前記硬質皮膜の被覆前又は被覆後に、前記第2の凹部が硬質圧子の押込み、レーザー加工、ショットブラスト、ショットピーニング、又はエッチングから選択された方法により形成されることを特徴とするピストンリングの製造方法。
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