JP6431290B2 - リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
このような温調部102において、背景技術で説明したように、冷却器118の冷却能力、即ち、冷却器118による冷媒ガスの冷却量を一定とする場合を比較例として説明する。エア系温調部では、露光本体部101の発熱量の変化に基づいてベース加熱器130の加熱量を変化させて高感度加熱器137に流入する空気の温度を一定に維持することで精密な温調を可能にしている。液系温調部では、リニアモータ115の発熱量の変化に基づいて加熱器141の加熱量を調整することで、リニアモータ115の急激な発熱の除去と、リニアモータ115の精密温調(温度を一定に維持すること)とを可能にしている。
α=F/m=N/m・I ・・・(2)
式(1)及び(2)において、Fは、リニアモータ115の推力[N]であり、mは、基板テーブル114の移動質量[kg]であり、Nは、リニアモータ115の推力定数[N/A]である。
ここで、α1=α3=α、t1=t2=t3=tとすると、式(3)は、以下の式(4)で表される。
加速度α=1.3[G]=12.74[m/s]、t=30[ms]とすると、式(4)から、基板テーブル114の移動距離L=22.932[mm]となる。
J=R・Imax 2・(t1+t3) ・・・(6)
また、リニアモータ115の全処理時間の平均の発熱量aveJは、第1区間、第2区間、第3区間及び第4区間の各区間の駆動時間をt1、t2、t3及びt4として、以下の式(7)で表される。
ここで、R=20[Ω]、Imax=10[A]、t1=t2=t3=t=30[ms]とすると、P=2000[W]、J=120[W・s]となる。従って、基板テーブル114の停止時間(第4区間)、即ち、t4=80[ms]とすると、aveJ=706[W]となる。
本実施形態において、制御部150は、基板テーブル114に加えて、冷却器118、詳細には、冷却器118の冷却量を可変とするインバータ119も制御する。本実施形態では、露光装置100の生産計画に応じて基板テーブル114の加速度を制御し、基板テーブル114の加速度に応じて冷却器118の冷却量を制御することで、露光装置100で消費される電力(消費電力)を低減することが可能となる。具体的には、露光装置100の生産計画に応じて、基板テーブル114の加速度を計画的に小さくし、リニアモータ115の発熱量を小さくすることで、冷却器118の冷却量を小さくすることができるため、消費電力を低減することができる。
ここで、α1’=α3’=α’、t1’=t2’=t3’=t’とすると、式(8)は、以下の式(9)で表される。
式(9)で表される基板テーブル114の移動距離Lは、比較例と同様に、L=22.932[mm]である。例えば、加速度α’を比較例における加速度αの半分、即ち、α’=0.65[G]=6.37[m/s]として、以下に示すように、式(9)に相当する式(9’)を式(10)に変形して計算する。この場合、t’は比較例におけるt=30[ms]の√2(1.414倍)、即ち、t’=42.43[ms]となる。
t’=√(L/2α’)=√(α/α’)・t ・・・(10)
基板テーブル114の加速度は、リニアモータ115のコイルに供給される電流に比例し、リニアモータ115の消費電力は、リニアモータ115に供給される電流の2乗に比例する。従って、リニアモータ115の消費電力は、基板テーブル114の加速度の2乗に比例することになる。
J’=R・I’2・t1’+R・I’2・t3’ ・・・(12)
また、リニアモータ115の全処理時間の平均の発熱量aveJ’は、第1区間、第2区間、第3区間及び第4区間の各区間の駆動時間をt1’、t2’、t3’及びt4として、以下の式(13)で表される。
ここで、R=20[Ω]、I’=5[A]、t1’=t2’=t3’=t’=42.43[ms]とすると、P’=500[W]、J’=42.43[W・s]となる。基板テーブル114の停止時間(第4区間)は比較例と同じt4=80[ms]であるため、aveJ’=205[W]となる。従って、リニアモータ115の全処理時間の平均の発熱量aveJ’は、比較例におけるリニアモータ115の全処理時間の平均の発熱量aveJ=706[W]の0.29倍となる。
本実施形態では、省電力モードが設定された場合に、基板テーブル114の加速度を変更するのではなく、基板テーブル114の加速時間を変更することで、トータルの消費電力を低減する。
ここで、α1=α3=α、t1”=t3”とすると、式(14)は、以下の式(15)で表される。
式(15)で表される基板テーブル114の移動距離Lは、比較例と同様に、L=22.932[mm]である。例えば、加速時間t1”を比較例における加速時間t1の半分、即ち、t1”=15[ms]として、以下に示すように、式(15)に相当する式(15’)を式(16)に変形して計算する。この場合、t2”は比較例におけるt=30[ms]の3.5倍、即ち、t2”=105[ms]となる。
t2”=(2・t2−t1”2)/t1” ・・・(16)
リニアモータ115の消費電力P”[W]は、以下の式(17)で表され、リニアモータ115の発熱量J”[W・s]は、以下の式(18)で表される。なお、式(17)及び(18)において、Rは、リニアモータ115のコイル両端の抵抗値[Ω]である。
J”=R・I2・t1”+R・I2・t3” ・・・(18)
また、リニアモータ115の全処理時間の平均の発熱量aveJ”は、第1区間、第2区間、第3区間及び第4区間の各区間の駆動時間をt1”、t2”、t3”及びt4として、以下の式(19)で表される。
ここで、R=20[Ω]、I=10[A]、t1”=t3”=15[ms]とすると、t2”=105[ms]、P”=2000[W]、J”=60[W・s]となる。基板テーブル114の停止時間(第4区間)は比較例と同じt4=80[ms]であるため、aveJ”=279[W]となる。従って、リニアモータ115の全処理時間の平均の発熱量aveJ”は、比較例におけるリニアモータ115の全処理時間の平均の発熱量aveJ=706[W]の0.40倍となる。
省電力モードが設定された場合には、温調部102における冷却器118の冷却量や加熱器141の加熱量だけでなく、ファン132や循環ポンプ140の流量を小さくしてもよい。これにより、露光装置100におけるトータルの消費電力を更に低減することができる。
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス(半導体デバイス、磁気記憶媒体、液晶表示素子など)などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置100を用いて、基板にパターンを形成する(即ち、基板を露光する)工程と、パターンを形成された基板を処理する(例えば、基板を現像する)工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど)を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (18)
- テーブルに保持された基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記テーブルを駆動するモータと、
前記基板にパターンを形成するときの前記モータの動作モードとして通常モード又は前記モータの消費電力を前記通常モードよりも小さくするための省電力モードを設定する設定部と、
前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの駆動による前記モータの発熱量が最小となるように、且つ、前記リソグラフィ装置が単位時間当たりに処理する基板の数が予め定められた範囲に収まるように前記モータを駆動させるための駆動プロファイルに従って前記モータを制御する制御部と、
を有し、
前記省電力モードが設定された場合の前記リソグラフィ装置が単位時間当たりに処理する基板の数は、前記通常モードが設定された場合の前記リソグラフィ装置が単位時間当たりに処理する基板の数より小さいことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記モータを温調する温調部を更に有し、
前記制御部は、前記省電力モードが設定された場合、前記駆動プロファイルに従って制御する前記モータの発熱量の変化に基づいて前記温調部による前記モータの温調量を変更することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記設定部は、
ユーザによる前記通常モード又は前記省電力モードの指定を受け付ける入力部を含み、
前記ユーザの指定に応じて前記通常モード又は前記省電力モードを設定することを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの加速度が前記通常モードよりも小さくなるように前記モータを駆動させるための前記駆動プロファイルに従って前記モータを制御することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの最高速度が前記通常モードよりも遅くなるように前記モータを駆動させるための前記駆動プロファイルに従って前記モータを制御することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの加速時間が前記通常モードよりも短くなるように前記モータを駆動させるための前記駆動プロファイルに従って前記モータを制御することを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記省電力モードにおける前記テーブルの駆動による前記モータの発熱量は、前記通常モードにおける前記テーブルの駆動による前記モータの発熱量よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至6のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記温調部は、
媒体を冷却する冷却器と、
前記冷却器によって冷却された前記媒体を加熱する加熱器と、を含み、
前記加熱器で加熱された前記媒体によって前記モータを温調することを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、前記省電力モードが設定された場合、前記冷却器による前記媒体の冷却量及び前記加熱器による前記媒体の加熱量を前記通常モードよりも小さくすることを特徴とする請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記テーブルの駆動による前記モータの発熱量と前記加熱器による前記媒体の加熱量との総和が前記冷却器による前記媒体の冷却量と等しくなるように、前記冷却器による前記媒体の冷却量及び前記加熱器による前記媒体の加熱量を前記通常モードよりも小さくすることを特徴とする請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記モータの動作期間は、前記テーブルを駆動させている稼働期間と、前記テーブルの駆動を停止させている待機期間が所定時間以下である第1待機期間と、前記待機期間が前記所定時間よりも長い第2待機期間とを含み、
前記制御部は、前記省電力モードが設定された場合、前記第1待機期間では前記冷却器による前記媒体の冷却量及び前記加熱器による前記媒体の加熱量を前記稼働期間と同一とし、前記第2待機期間では前記冷却器による前記媒体の冷却量及び前記加熱器による前記媒体の加熱量を前記稼働期間よりも小さくすることを特徴とする請求項8乃至10のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。 - 前記駆動プロファイルは、前記テーブルが前記パターンを形成する時に停止する目標位置へ前記テーブルを駆動する時の駆動プロファイルであることを特徴とする請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 前記予め定められた範囲は、前記リソグラフィ装置が単位時間当たりに処理すべき基板の数に基づいて定められた範囲であることを特徴とする請求項1乃至12のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- テーブルに保持された基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記テーブルを駆動するモータと、
前記モータの動作モードとして通常モード又は前記モータの消費電力を前記通常モードよりも小さくするための省電力モードを設定する設定部と、
前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの駆動による前記モータの発熱量が前記通常モードよりも小さくなり、且つ、前記リソグラフィ装置が単位時間当たりに処理する基板の数が予め定められた範囲に収まるように前記モータを駆動させるための駆動プロファイルに従って前記モータを制御する制御部と、
を有し、
前記設定部は、ユーザによる前記通常モード又は前記省電力モードの指定を受け付ける入力部を含み、前記ユーザの指定に応じて前記通常モード又は前記省電力モードを設定することを特徴とするリソグラフィ装置。 - テーブルに保持された基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記テーブルを駆動するモータと、
前記モータの動作モードとして通常モード又は前記モータの消費電力を前記通常モードよりも小さくするための省電力モードを設定する設定部と、
前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの駆動による前記モータの発熱量が前記通常モードよりも小さくなり、且つ、前記リソグラフィ装置が単位時間当たりに処理する基板の数が予め定められた範囲に収まるように前記モータを駆動させるための駆動プロファイルに従って前記モータを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの加速度が前記通常モードよりも小さくなるように前記モータを駆動させるための前記駆動プロファイルに従って前記モータを制御することを特徴とするリソグラフィ装置。 - テーブルに保持された基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記テーブルを駆動するモータと、
前記モータの動作モードとして通常モード又は前記モータの消費電力を前記通常モードよりも小さくするための省電力モードを設定する設定部と、
前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの駆動による前記モータの発熱量が前記通常モードよりも小さくなり、且つ、前記リソグラフィ装置が単位時間当たりに処理する基板の数が予め定められた範囲に収まるように前記モータを駆動させるための駆動プロファイルに従って前記モータを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの最高速度が前記通常モードよりも遅くなるように前記モータを駆動させるための前記駆動プロファイルに従って前記モータを制御することを特徴とするリソグラフィ装置。 - テーブルに保持された基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記テーブルを駆動するモータと、
前記モータの動作モードとして通常モード又は前記モータの消費電力を前記通常モードよりも小さくするための省電力モードを設定する設定部と、
前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの駆動による前記モータの発熱量が前記通常モードよりも小さくなり、且つ、前記リソグラフィ装置が単位時間当たりに処理する基板の数が予め定められた範囲に収まるように前記モータを駆動させるための駆動プロファイルに従って前記モータを制御する制御部と、
を有し、
前記制御部は、前記省電力モードが設定された場合、前記テーブルの加速時間が前記通常モードよりも短くなるように前記モータを駆動させるための前記駆動プロファイルに従って前記モータを制御することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 請求項1乃至17のうちいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を含み、処理された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014118130A JP6431290B2 (ja) | 2014-06-06 | 2014-06-06 | リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
TW104116248A TWI557520B (zh) | 2014-06-06 | 2015-05-21 | 微影設備及製造物件的方法 |
US14/722,876 US9257921B2 (en) | 2014-06-06 | 2015-05-27 | Lithography apparatus and method of manufacturing article |
KR1020150074567A KR101879268B1 (ko) | 2014-06-06 | 2015-05-28 | 리소그래피 장치 및 물품의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014118130A JP6431290B2 (ja) | 2014-06-06 | 2014-06-06 | リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015231034A JP2015231034A (ja) | 2015-12-21 |
JP2015231034A5 JP2015231034A5 (ja) | 2017-07-20 |
JP6431290B2 true JP6431290B2 (ja) | 2018-11-28 |
Family
ID=54770381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014118130A Active JP6431290B2 (ja) | 2014-06-06 | 2014-06-06 | リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9257921B2 (ja) |
JP (1) | JP6431290B2 (ja) |
KR (1) | KR101879268B1 (ja) |
TW (1) | TWI557520B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11204901B2 (en) * | 2016-04-20 | 2021-12-21 | Asml Netherlands B.V. | Method of matching records, method of scheduling maintenance and apparatus |
JP6915094B2 (ja) | 2017-05-23 | 2021-08-04 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | セットポイントジェネレータ、リソグラフィ装置、リソグラフィ装置の操作方法、及びデバイス製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6246204B1 (en) * | 1994-06-27 | 2001-06-12 | Nikon Corporation | Electromagnetic alignment and scanning apparatus |
JPH11168872A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-22 | Canon Inc | モータ駆動装置、位置決めテーブル装置および半導体露光装置 |
JP2001007015A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-01-12 | Canon Inc | ステージ装置 |
JP2002142490A (ja) * | 2000-10-31 | 2002-05-17 | Nikon Corp | リニアモータのコイル駆動装置、リニアモータ駆動装置およびステージ装置 |
JP3650758B2 (ja) * | 2002-04-12 | 2005-05-25 | 株式会社朝日工業社 | 精密温湿度制御装置 |
US7408276B2 (en) * | 2003-05-06 | 2008-08-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Plane motor device with surrounding member surrounding coil unit and with cooling channel provided within surrounding member |
JP4196983B2 (ja) * | 2005-10-07 | 2008-12-17 | セイコーエプソン株式会社 | 冷却装置、プロジェクタ及び冷却方法 |
WO2008099795A2 (en) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint method and imprint apparatus |
JP2010016166A (ja) * | 2008-07-03 | 2010-01-21 | Canon Inc | 走査型露光装置および露光方法、ならびにデバイス製造方法 |
JP5641709B2 (ja) * | 2009-04-23 | 2014-12-17 | キヤノン株式会社 | デバイス製造装置およびデバイス製造方法 |
KR20130007886A (ko) * | 2011-07-11 | 2013-01-21 | 삼성전자주식회사 | 화상형성장치, 모터 제어 장치 및 그 모터 제어 방법 |
US20130258307A1 (en) * | 2012-02-16 | 2013-10-03 | Nikon Corporation | Magnet Array Configuration for Higher Efficiency Planar Motor |
-
2014
- 2014-06-06 JP JP2014118130A patent/JP6431290B2/ja active Active
-
2015
- 2015-05-21 TW TW104116248A patent/TWI557520B/zh active
- 2015-05-27 US US14/722,876 patent/US9257921B2/en active Active
- 2015-05-28 KR KR1020150074567A patent/KR101879268B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9257921B2 (en) | 2016-02-09 |
TW201546575A (zh) | 2015-12-16 |
KR101879268B1 (ko) | 2018-07-17 |
KR20150140568A (ko) | 2015-12-16 |
TWI557520B (zh) | 2016-11-11 |
JP2015231034A (ja) | 2015-12-21 |
US20150357944A1 (en) | 2015-12-10 |
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