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JP6470593B2 - Phenoxy resin having fluorene skeleton, method for producing the same, and molded article - Google Patents

Phenoxy resin having fluorene skeleton, method for producing the same, and molded article Download PDF

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JP6470593B2
JP6470593B2 JP2015039251A JP2015039251A JP6470593B2 JP 6470593 B2 JP6470593 B2 JP 6470593B2 JP 2015039251 A JP2015039251 A JP 2015039251A JP 2015039251 A JP2015039251 A JP 2015039251A JP 6470593 B2 JP6470593 B2 JP 6470593B2
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Description

本発明は、フルオレン骨格を有する新規なフェノキシ樹脂、その製造方法及び前記フェノキシ樹脂で形成された成形体に関する。   The present invention relates to a novel phenoxy resin having a fluorene skeleton, a method for producing the same, and a molded body formed from the phenoxy resin.

フェノキシ樹脂は、ポリヒドロキシ樹脂としても知られており、透明性、可撓性、耐衝撃性、密着性、機械的特性などに優れることから、熱可塑性樹脂として、あるいは硬化剤と併用した硬化性樹脂として重要な材料である。   Phenoxy resin, also known as polyhydroxy resin, is excellent in transparency, flexibility, impact resistance, adhesion, mechanical properties, etc., so it is curable as a thermoplastic resin or in combination with a curing agent. It is an important material as a resin.

一方、耐熱性などの特性を向上させるためには、ベンゼン骨格等の剛直な骨格を導入すればよいことが知られており、フェノキシ樹脂についても、フルオレン骨格やハイドロキノン骨格を導入する試みがなされている。   On the other hand, in order to improve characteristics such as heat resistance, it is known that a rigid skeleton such as a benzene skeleton may be introduced, and an attempt to introduce a fluorene skeleton or a hydroquinone skeleton has also been made for phenoxy resins. Yes.

例えば、特開平11−279260号公報(特許文献1)には、エポキシ樹脂組成物を構成するフェノキシ樹脂として、ジフェニルメタン骨格や9,9−ビスフェニルフルオレン骨格を有するフェノキシ樹脂が開示されている。   For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-279260 (Patent Document 1) discloses a phenoxy resin having a diphenylmethane skeleton or a 9,9-bisphenylfluorene skeleton as a phenoxy resin constituting the epoxy resin composition.

また、特開2008−255308号公報(特許文献2)には、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類や9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン類などで構成されたフェノール類を重合成分とするフェノキシ樹脂が開示されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-255308 (Patent Document 2) discloses phenols composed of 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorenes and 9,9-bis (hydroxynaphthyl) fluorenes as polymerization components. A phenoxy resin is disclosed.

特許文献1及び2には、フェノキシ樹脂の製造方法として、(i)二価フェノールとエピクロロヒドリンとの直接反応による方法、(ii)二価フェノールとのジグリシジルエーテルと二価フェノールとの付加重合方法が知られている。また、これらの文献の実施例では、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、又は6,6’−(9−フルオレニリデン)−ジ(2−ナフトール)などの二価フェノールと、ビスフェノールA型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂とを反応させた例が開示されている。さらに、特許文献1及び2では、合成上容易であるとの認識があるためか、フルオレン骨格を二価フェノールとしてフェノキシ樹脂に導入されている。   In Patent Documents 1 and 2, as a method for producing a phenoxy resin, (i) a method by a direct reaction of a dihydric phenol and epichlorohydrin, (ii) a diglycidyl ether of a dihydric phenol and a dihydric phenol Addition polymerization methods are known. Also, in the examples of these documents, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, or 6,6 ′-(9-fluorenylidene) An example in which a dihydric phenol such as) -di (2-naphthol) is reacted with an epoxy resin such as a bisphenol A type epoxy resin is disclosed. Further, in Patent Documents 1 and 2, the fluorene skeleton is introduced into the phenoxy resin as a dihydric phenol because it is recognized that the synthesis is easy.

しかし、二価フェノールの中でもフルオレン骨格を有するフェノール類を、フェノールとして用いると、重合が進行し難く、十分に分子量を大きくできなかったり、成形性に乏しいフェノキシ樹脂が得られる場合がある。特に、このような傾向は、フルオレン骨格を有するフェノール類の中でも、9,9−ビス縮合多環式アリールフルオレン骨格を有するフェノール類において顕著である。すなわち、9,9−ビス縮合多環式アリールフルオレン骨格を有するフェノキシ樹脂は、9,9−ビスフェニルフルオレン骨格を有するフェノキシ樹脂などに比べても、より優れた特性(例えば、耐熱性、屈折率など)が期待できるものの、より一層分子量を大きくできず、実用性のある樹脂が得られない。   However, when a phenol having a fluorene skeleton among dihydric phenols is used as the phenol, polymerization does not proceed easily, the molecular weight cannot be sufficiently increased, and a phenoxy resin having poor moldability may be obtained. In particular, such a tendency is remarkable in phenols having a 9,9-bis-fused polycyclic arylfluorene skeleton among phenols having a fluorene skeleton. That is, the phenoxy resin having a 9,9-bis-fused polycyclic arylfluorene skeleton has more excellent characteristics (for example, heat resistance, refractive index, etc.) than the phenoxy resin having a 9,9-bisphenylfluorene skeleton. However, the molecular weight cannot be increased further, and a practical resin cannot be obtained.

特開平11−279260号公報(特許請求の範囲、段落[0014]、実施例)JP 11-279260 A (claims, paragraph [0014], examples) 特開2008−255308号公報(特許請求の範囲、段落[0046]、実施例)JP 2008-255308 A (claims, paragraph [0046], examples)

従って、本発明の目的は、9,9−ビス縮合多環式アリールフルオレン骨格を有するフェノキシ樹脂を効率よく製造する方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for efficiently producing a phenoxy resin having a 9,9-bis-fused polycyclic arylfluorene skeleton.

本発明の他の目的は、9,9−ビス縮合多環式アリールフルオレン骨格を有していても、分子量が大きく、膜保持性や機械的特性(引張強度や弾性率など)、耐熱性、電気絶縁性などの実用性に優れたフェノキシ樹脂を提供することにある。   Another object of the present invention is that even if it has a 9,9-bis-fused polycyclic aryl fluorene skeleton, it has a large molecular weight, film retention and mechanical properties (such as tensile strength and elastic modulus), heat resistance, The object is to provide a phenoxy resin excellent in practicality such as electrical insulation.

本発明のさらに他の目的は、9,9−ビス縮合多環式アリールフルオレン骨格を有するフェノキシ樹脂の自立膜を提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a self-supporting film of a phenoxy resin having a 9,9-bis-fused polycyclic arylfluorene skeleton.

本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、9,9−ビス縮合多環式アリール骨格を有する場合には、二価フェノールとしてではなく、グリシジルエーテル化物として、特定の二価フェノールと反応させると、比較的高分子量(又は高重合度)のフェノキシ樹脂が効率よく得られること、特に、このようなフェノキシ樹脂は、単独で高い膜保持性を有する自立膜を形成できるほど、十分な成形性を有するとともに、ガラス転移温度も高く、耐熱性に優れた樹脂であることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that when a 9,9-bis-fused polycyclic aryl skeleton is used, not a dihydric phenol but a glycidyl etherified compound, When reacted with phenol, a relatively high molecular weight (or high degree of polymerization) phenoxy resin can be obtained efficiently. In particular, such a phenoxy resin alone can form a self-supporting film having high film retention. It has been found that the resin has sufficient moldability and has a high glass transition temperature and excellent heat resistance, thereby completing the present invention.

すなわち、本発明の製造方法は、下記式(A1)で表される化合物を含むエポキシ化合物(A)と、下記式(B1)で表される化合物を含むフェノール化合物(B)とを反応させて、フェノキシ樹脂を製造する方法である。   That is, in the production method of the present invention, an epoxy compound (A) containing a compound represented by the following formula (A1) is reacted with a phenol compound (B) containing a compound represented by the following formula (B1). This is a method for producing a phenoxy resin.

Figure 0006470593
Figure 0006470593

(式中、環Zは縮合多環式アレーン環、Rは置換基を示し、Rはアルキレン基を示し、R及びRは置換基を示し、kは0〜4の整数、mは0以上の整数、nは0〜3の整数、pは0以上の整数である) (In the formula, ring Z represents a condensed polycyclic arene ring, R 1 represents a substituent, R 2 represents an alkylene group, R 3 and R 4 represent a substituent, k represents an integer of 0 to 4, m Is an integer of 0 or more, n is an integer of 0 to 3, and p is an integer of 0 or more)

Figure 0006470593
Figure 0006470593

(式中、Rは水素原子又は炭化水素基を示し、R及びRは置換基を示し、qは0〜4の整数、rは0〜5の整数を示す)。 (Wherein, R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, R 6 and R 7 represents a substituent, q is an integer of 0 to 4, r is an integer of 0 to 5).

前記式(A1)において、Zは、特に、ナフタレン環であってもよい。また、式(A1)において、Rはアルキル基であってもよく、kは0〜1程度であってもよく、RはC2−4アルキレン基であってもよく、mは0〜10程度であってもよい、nは0であってもよく、Rはアルキル基又はアリール基であってもよく、pは0〜4程度であってもよい。 In the formula (A1), Z may particularly be a naphthalene ring. In formula (A1), R 1 may be an alkyl group, k may be about 0 to 1, R 2 may be a C 2-4 alkylene group, and m is 0 to 0. it may be about 10, n may be 0, R 4 may be an alkyl or aryl group, p is may be about 0-4.

特に、前記式(A1)において、mは0であってもよく、前記式(A1)で表される化合物は、代表的には、9,9−ビス(グリシジルオキシナフチル)フルオレンであってもよい。   In particular, in the formula (A1), m may be 0, and the compound represented by the formula (A1) may be typically 9,9-bis (glycidyloxynaphthyl) fluorene. Good.

エポキシ化合物(A)は、式(A1)で表される化合物を30モル%以上(特に、50モル%以上)の割合で含んでいてもよい。   The epoxy compound (A) may contain a compound represented by the formula (A1) in a proportion of 30 mol% or more (particularly 50 mol% or more).

また、前記式(B1)において、R及びRはアルキル基又はアリール基であってもよく、qは0〜2程度であってもよく、Rはアルキル基であってもよく、rは0〜1程度であってもよい。 In the formula (B1), R 5 and R 6 may be an alkyl group or an aryl group, q may be about 0 to 2, R 7 may be an alkyl group, and r 0 to 1 may be sufficient.

前記フェノール化合物(B)は、さらにビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類を含んでいてもよい。   The phenol compound (B) may further contain bis (hydroxyphenyl) alkanes.

本発明には、前記式(A1)で表される化合物を含むエポキシ化合物(A)と、前記式(B1)で表される化合物を含むフェノール化合物(B)との反応により得られるフェノキシ樹脂(又は前記方法により得られるフェノキシ樹脂)も含まれる。このようなフェノキシ樹脂の重量平均分子量は、例えば15000以上であってもよい。また、フェノキシ樹脂は、高い弾性率を有しており、例えば、動的粘弾性分析(DMA)法で測定される貯蔵弾性率において10MPaとなる温度が、95℃以上であってもよい。さらに、フェノキシ樹脂は、耐熱性に優れており、示差走査熱量計(DSC)によるガラス転移温度が100℃以上であってもよい。   In this invention, the phenoxy resin (B) obtained by reaction of the epoxy compound (A) containing the compound represented by the said Formula (A1), and the phenol compound (B) containing the compound represented by the said Formula (B1) ( Alternatively, a phenoxy resin obtained by the above method is also included. The weight average molecular weight of such a phenoxy resin may be 15000 or more, for example. Moreover, the phenoxy resin has a high elastic modulus. For example, the temperature at which the storage elastic modulus measured by a dynamic viscoelasticity analysis (DMA) method becomes 10 MPa may be 95 ° C. or higher. Furthermore, the phenoxy resin is excellent in heat resistance, and the glass transition temperature by a differential scanning calorimeter (DSC) may be 100 ° C. or higher.

また、本発明には、前記フェノキシ樹脂で形成された成形体も含まれる。本発明のフェノキシ樹脂(又は前記方法により得られるフェノキシ樹脂)は、通常、自立膜を形成できる。そのため、本発明には、前記式(A1)で表される化合物を含むエポキシ化合物(A)と、前記式(B1)で表される化合物を含むフェノール化合物(B)との反応により得られるフェノキシ樹脂で構成された自立膜も含まれる。   The present invention also includes a molded body formed of the phenoxy resin. The phenoxy resin of the present invention (or the phenoxy resin obtained by the above method) can usually form a self-supporting film. Therefore, the present invention includes a phenoxy obtained by a reaction between an epoxy compound (A) containing a compound represented by the formula (A1) and a phenol compound (B) containing a compound represented by the formula (B1). A free-standing film made of resin is also included.

本発明の方法では、9,9−ビス縮合多環式アリールフルオレン骨格を有していても、効率よく重合を進行させることができる。そのため、9,9−ビス縮合多環式アリールフルオレン骨格を有するフェノキシ樹脂を効率よく製造できる。また、本発明のフェノキシ樹脂は、9,9−ビス縮合多環式アリールフルオレン骨格を有していても、比較的高分子量であり、成膜も可能であるなど、十分な成形性を有している。特に、本発明のフェノキシ樹脂は、単独で高い膜保持性を有する自立膜を形成できるほど、成膜性又は成形性に優れている。しかも、高耐熱性、高弾性率、高強度、光学的特性(高屈折率など)、電気特性(電気絶縁性など)などの優れた特性を有している。このように本発明のフェノキシ樹脂は、実用性に極めて優れており、有用性も高い。   In the method of the present invention, polymerization can proceed efficiently even if it has a 9,9-bis-fused polycyclic arylfluorene skeleton. Therefore, a phenoxy resin having a 9,9-bis fused polycyclic arylfluorene skeleton can be efficiently produced. In addition, the phenoxy resin of the present invention has sufficient moldability, such as having a relatively high molecular weight and being capable of forming a film, even if it has a 9,9-bis-fused polycyclic arylfluorene skeleton. ing. In particular, the phenoxy resin of the present invention is excellent in film formability or moldability so that a self-supporting film having high film retention can be formed alone. In addition, it has excellent characteristics such as high heat resistance, high elastic modulus, high strength, optical characteristics (high refractive index, etc.), electrical characteristics (electrical insulation, etc.). Thus, the phenoxy resin of the present invention is extremely practical and highly useful.

図1は、実施例1で得られたフェノキシ樹脂の動的粘弾特性の測定結果を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing measurement results of dynamic viscoelastic properties of the phenoxy resin obtained in Example 1. 図2は、実施例2で得られたフェノキシ樹脂の動的粘弾特性の測定結果を示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing measurement results of dynamic viscoelastic properties of the phenoxy resin obtained in Example 2. 図3は、実施例3で得られたフェノキシ樹脂の動的粘弾特性の測定結果を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing measurement results of dynamic viscoelastic properties of the phenoxy resin obtained in Example 3.

<フェノキシ樹脂の製造方法>
本発明では、エポキシ化合物(A)と、フェノール化合物(B)とを反応させて、フェノキシ樹脂を製造するにあたり、エポキシ化合物として、特定のエポキシ化合物を使用し、かつフェノール化合物として、特定のビスフェノール化合物を使用する。
<Method for producing phenoxy resin>
In the present invention, in producing a phenoxy resin by reacting an epoxy compound (A) with a phenol compound (B), a specific epoxy compound is used as the epoxy compound, and a specific bisphenol compound is used as the phenol compound. Is used.

[エポキシ化合物(A)]
エポキシ化合物(A)は、下記式(A1)で表される化合物を少なくとも含む。
[Epoxy compound (A)]
The epoxy compound (A) includes at least a compound represented by the following formula (A1).

Figure 0006470593
Figure 0006470593

(式中、環Zは縮合多環式アレーン環、Rは置換基を示し、Rはアルキレン基を示し、Rは置換基を示し、Rは置換基を示し、kは0〜4の整数、mは0以上の整数、nは0〜3の整数、pは0以上の整数である)。 (In the formula, ring Z represents a condensed polycyclic arene ring, R 1 represents a substituent, R 2 represents an alkylene group, R 3 represents a substituent, R 4 represents a substituent, and k represents 0 to 0. An integer of 4, m is an integer of 0 or more, n is an integer of 0 to 3, and p is an integer of 0 or more).

前記式(A1)において、環Zで表される縮合多環式アレーン環としては、縮合二環式アレーン(例えば、ナフタレンなどのC8−20縮合二環式炭化水素、好ましくはC10−16縮合二環式アレーン)環、縮合三環式アレーン(例えば、アントラセン、フェナントレンなど)環などの縮合二乃至四環式アレーン環などが挙げられる。好ましい縮合多環式アレーン環としては、ナフタレン環、アントラセン環などが挙げられ、特にナフタレン環が好ましい。なお、2つの環Zは同一の又は異なる環であってもよく、通常、同一の環であってもよい。 In the formula (A1), the condensed polycyclic arene ring represented by the ring Z is a condensed bicyclic arene (for example, C 8-20 condensed bicyclic hydrocarbon such as naphthalene, preferably C 10-16. Examples thereof include fused bicyclic to tetracyclic arene rings such as fused bicyclic arene rings and fused tricyclic arene rings (for example, anthracene and phenanthrene). Preferred examples of the condensed polycyclic arene ring include a naphthalene ring and an anthracene ring, and a naphthalene ring is particularly preferable. The two rings Z may be the same or different rings, and may usually be the same ring.

基Rで表される置換基としては、特に限定されないが、通常、非反応性置換基、例えば、シアノ基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子など)、炭化水素基[例えば、アルキル基、アリール基(フェニル基などのC6−10アリール基)など]などである場合が多く、特に、シアノ基又はアルキル基(特にアルキル基)であってもよい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基などのC1−6アルキル基(例えば、C1−4アルキル基、特にメチル基)などが例示できる。なお、kが複数(2以上)である場合、基Rは互いに異なっていてもよく、同一であってもよい。また、フルオレン(又はフルオレン骨格)を構成する2つのベンゼン環に置換する基Rは同一であってもよく、異なっていてもよい。また、フルオレンを構成するベンゼン環に対する基Rの結合位置(置換位置)は、特に限定されない。好ましい置換数kは、0〜2、好ましくは0〜1、特に0である。なお、フルオレンを構成する2つのベンゼン環において、置換数kは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。 The substituent represented by the group R 1 is not particularly limited, but is usually a non-reactive substituent such as a cyano group, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a hydrocarbon group [for example, In many cases, it may be an alkyl group, an aryl group (C 6-10 aryl group such as a phenyl group), and the like. In particular, it may be a cyano group or an alkyl group (particularly an alkyl group). Examples of the alkyl group include C 1-6 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and a t-butyl group (for example, a C 1-4 alkyl group, particularly a methyl group). . In addition, when k is plural (two or more), the groups R 1 may be different from each other or the same. Further, the groups R 1 substituted on the two benzene rings constituting the fluorene (or fluorene skeleton) may be the same or different. Further, the bonding position (substitution position) of the group R 1 with respect to the benzene ring constituting the fluorene is not particularly limited. The preferred substitution number k is 0 to 2, preferably 0 to 1, in particular 0. In the two benzene rings constituting fluorene, the number of substitutions k may be the same or different from each other.

基Rで表されるアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、1,2−ブタンジイル基、テトラメチレン基などのC2−6アルキレン基、好ましくはC2−4アルキレン基、さらに好ましくはC2−3アルキレン基が挙げられる。なお、mが2以上であるとき、アルキレン基は異なるアルキレン基で構成されていてもよく、通常、同一のアルキレン基で構成されていてもよい。また、2つの環Zにおいて、基Rは同一であっても、異なっていてもよく、通常同一であってもよい。 Examples of the alkylene group represented by the group R 2 include C 2-6 alkylene groups such as ethylene group, propylene group, trimethylene group, 1,2-butanediyl group, tetramethylene group, preferably C 2-4 alkylene group. More preferably, a C2-3 alkylene group is mentioned. When m is 2 or more, the alkylene group may be composed of different alkylene groups, and usually may be composed of the same alkylene group. In the two rings Z, the groups R 2 may be the same or different, and may usually be the same.

オキシアルキレン基(OR)の数(付加モル数)mは、用途や所望の性能に応じて、例えば0〜25(例えば0〜20)程度の範囲から選択でき、通常、0〜18(例えば0〜15)、好ましくは0〜12(例えば0〜10)、さらに好ましくは0〜8(例えば0〜7)であってもよい。特に高耐熱性などの観点からは、mは、0〜4、好ましくは0〜2、さらに好ましくは0〜1、特に0であってもよい。 The number (number of added moles) m of the oxyalkylene group (OR 2 ) can be selected from the range of, for example, about 0 to 25 (for example, 0 to 20) according to the use and desired performance, and is usually 0 to 18 (for example, 0 to 15), preferably 0 to 12 (for example, 0 to 10), more preferably 0 to 8 (for example, 0 to 7). In particular, from the viewpoint of high heat resistance and the like, m may be 0 to 4, preferably 0 to 2, more preferably 0 to 1, particularly 0.

また、2つのmの合計は、例えば0〜30(例えば0〜25)、好ましくは0〜20(例えば0〜18)、さらに好ましくは0〜16(例えば0〜14)であってもよく、特に0〜8程度であってもよい。   Further, the total of the two m may be, for example, 0 to 30 (for example, 0 to 25), preferably 0 to 20 (for example, 0 to 18), more preferably 0 to 16 (for example, 0 to 14), In particular, it may be about 0-8.

なお、2つのmの合計により、種々の特性(屈折率、耐熱性など)がやや変化する。そのため、所望の特性に応じて、2つのmの合計を調整してもよい。例えば、式(A1)において、2つのmの合計を比較的小さく[例えば0〜6、好ましくは0〜5、さらに好ましくは0〜4、特に0〜2(例えば0)程度に]してもよい。   Various characteristics (refractive index, heat resistance, etc.) slightly change depending on the sum of the two m. Therefore, the sum of the two m values may be adjusted according to desired characteristics. For example, in the formula (A1), even if the total of two m is relatively small [for example, 0 to 6, preferably 0 to 5, more preferably 0 to 4, particularly 0 to 2 (for example, about 0)]. Good.

なお、前記式(A1)で表される化合物は、mの値が同一の化合物の集合体であってもよく、mの値が異なる化合物の集合体であってもよい。後者の場合、mの値及び2つのmの合計は、平均値(相加平均又は算術平均)である。   In addition, the compound represented by the formula (A1) may be an assembly of compounds having the same value of m, or an assembly of compounds having different values of m. In the latter case, the value of m and the sum of the two m are average values (arithmetic average or arithmetic average).

としては、例えば、炭化水素基(前記例示の炭化水素基)などの非反応性置換基が挙げられる。代表的なRには、アルキル基[例えば、メチル基などの前記Rの項で例示の基(例えば、C1−4アルキル基)]が含まれる。 Examples of R 3 include non-reactive substituents such as a hydrocarbon group (the hydrocarbon group exemplified above). Representative R 3 includes an alkyl group [for example, a group exemplified in the above R 1 term such as a methyl group (eg, a C 1-4 alkyl group)].

また、Rの置換数nは、0〜3であればよいが、好ましくは0〜1、特に0である。なお、nが2又は3であるとき、複数のRは同一の又は異なる基であってもよい。 The substitution number n of R 3 may be 0-3, but is preferably 0-1, particularly 0. When n is 2 or 3, the plurality of R 3 may be the same or different groups.

また、置換基Rとしては、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などのC1−12アルキル基、好ましくはC1−8アルキル基、さらに好ましくはC1−6アルキル基など)、シクロアルキル基(シクロへキシル基などのC5−10シクロアルキル基、好ましくはC5−8シクロアルキル基、さらに好ましくはC5−6シクロアルキル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのC6−14アリール基、好ましくはC6−10アリール基、さらに好ましくはC6−8アリール基など)などの炭化水素基;アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのC1−12アルコキシ基、好ましくはC1−8アルコキシ基、さらに好ましくはC1−6アルコキシ基など)、シクロアルコキシ基(C5−10シクロアルコキシ基など)、アリールオキシ基(C6−10アリールオキシ基など)などの基−OR[式中、Rは炭化水素基(前記例示の炭化水素基など)を示す];アルキルチオ基(メチルチオ基などのC1−20アルキルチオ基、好ましくはC1−8アルキルチオ基、さらに好ましくはC1−6アルキルチオ基など)などの基−SR(式中、Rは前記と同じ);アシル基(アセチル基などのC1−6アシル基など);アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基などのC1−4アルコキシ−カルボニル基など);ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など);ニトロ基;シアノ基;カルボキシル基;アミノ基;カルバモイル基;置換アミノ基(例えば、ジメチルアミノ基などのジアルキルアミノ基など);スルホニル基;ヒドロキシル基;ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ基(例えば、2−ヒドロキシエトキシ基などのヒドロキシ(ポリ)C2−4アルコキシ基など);メルカプト基;これらの置換基同士が結合した置換基[例えば、アルコキシアリール基(例えば、メトキシフェニル基などのC1−4アルコキシC6−10アリール基)、アルコキシカルボニルアリール基(例えば、メトキシカルボニルフェニル基などのC1−4アルコキシ−カルボニルC6−10アリール基など)]などが挙げられる。 In addition, examples of the substituent R 4 include an alkyl group (eg, a C 1-12 alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group, preferably a C 1-8 alkyl group, more preferably Is a C 1-6 alkyl group), a cycloalkyl group (a C 5-10 cycloalkyl group such as a cyclohexyl group, preferably a C 5-8 cycloalkyl group, more preferably a C 5-6 cycloalkyl group). Hydrocarbons such as aryl groups (for example, C 6-14 aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, preferably C 6-10 aryl group, more preferably C 6-8 aryl group) group; an alkoxy group (methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, C 1-12 alkoxy group such as butoxy, preferably C 1-8 Al Alkoxy group, more preferably a C 1-6 alkoxy group), etc. cycloalkoxy (C 5-10 cycloalkoxy group), a group -OR, such as an aryloxy group (such as C 6-10 aryloxy group) wherein , R represents a hydrocarbon group (such as the hydrocarbon group exemplified above)]; an alkylthio group (C 1-20 alkylthio group such as methylthio group, preferably C 1-8 alkylthio group, more preferably C 1-6 alkylthio group). A group such as a group -SR (wherein R is as defined above); an acyl group (a C 1-6 acyl group such as an acetyl group); an alkoxycarbonyl group (a C 1-4 alkoxy such as a methoxycarbonyl group). Carbonyl group etc.); halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom etc.); nitro group; cyano group; carboxyl group; amino group; Carbamoyl group; substituted amino group (for example, dialkylamino group such as dimethylamino group); sulfonyl group; hydroxyl group; hydroxy (poly) alkoxy group (for example, hydroxy (poly) C 2-4 such as 2-hydroxyethoxy group) An alkoxy group; a mercapto group; a substituent in which these substituents are bonded to each other [for example, an alkoxyaryl group (for example, a C 1-4 alkoxy C 6-10 aryl group such as a methoxyphenyl group), an alkoxycarbonylaryl group ( For example, C 1-4 alkoxy-carbonyl C 6-10 aryl group such as methoxycarbonylphenyl group)] and the like.

これらのうち、代表的には、基Rは、非反応性置換基、例えば、炭化水素基、−OR(式中、Rは前記と同じ)、−SR(式中、Rは前記と同じ)、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などであってもよい。 Of these, typically the group R 4 is a non-reactive substituent such as a hydrocarbon group, —OR (wherein R is as defined above), —SR (wherein R 4 is as defined above). The same), an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a substituted amino group, and the like.

好ましい基Rとしては、炭化水素基[例えば、アルキル基(例えば、C1−6アルキル基)、シクロアルキル基(例えば、C5−8シクロアルキル基)、アリール基(例えば、C6−10アリール基)、アラルキル基(例えば、C6−8アリール−C1−2アルキル基)など]、アルコキシ基(C1−4アルコキシ基など)などが挙げられる。特に、Rは、アルキル基[C1−4アルキル基(特にメチル基)など]、アリール基[例えば、C6−10アリール基(特にフェニル基)など]などの炭化水素基(特に、アルキル基)であるのが好ましい。なお、Rは、同一の又は異なる環Zにおいて、同一又は異なる基であってもよい。 Preferred group R 4 includes a hydrocarbon group [eg, alkyl group (eg, C 1-6 alkyl group), cycloalkyl group (eg, C 5-8 cycloalkyl group), aryl group (eg, C 6-10 Aryl group), aralkyl group (for example, C 6-8 aryl-C 1-2 alkyl group and the like), alkoxy group (C 1-4 alkoxy group and the like) and the like. In particular, R 4 represents a hydrocarbon group (particularly an alkyl group) such as an alkyl group [C 1-4 alkyl group (particularly methyl group)] or an aryl group [eg C 6-10 aryl group (particularly phenyl group)]. Group). R 4 may be the same or different groups in the same or different rings Z.

なお、基Rの置換数pは、環Zの種類などに応じて適宜選択でき、例えば0〜4(特に0〜3)程度であればよく、好ましくは0〜2、さらに好ましくは0〜1(特に0)程度であってもよい。 In addition, the substitution number p of the group R 4 can be appropriately selected depending on the kind of the ring Z and the like, and may be, for example, about 0 to 4 (particularly 0 to 3), preferably 0 to 2, more preferably 0 to 0. It may be about 1 (particularly 0).

なお、エポキシ基(又はエポキシ基含有基)の環Zに対する置換位置は、特に限定されないが、縮合多環式アレーン環Zにおいて、フルオレンの9位に結合した炭化水素環とは別の炭化水素環に置換している場合が多い。例えば、環Zがナフタレン環である場合、エポキシ基の置換位置は、5〜8位である場合が多く、例えば、フルオレンの9位に対して、1,5位、2,6位などの関係(特に2,6位の関係)である場合が多い。   In addition, although the substitution position with respect to the ring Z of an epoxy group (or epoxy group-containing group) is not particularly limited, in the condensed polycyclic arene ring Z, a hydrocarbon ring different from the hydrocarbon ring bonded to the 9-position of fluorene. It is often replaced with. For example, when the ring Z is a naphthalene ring, the substitution position of the epoxy group is often the 5th to 8th positions. (Especially the 2nd and 6th positions).

代表的な前記式(A1)で表される化合物としては、例えば、9,9−ビス(グリシジルオキシナフチル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(6−グリシジルオキシ−2−ナフチル)フルオレン、9,9−ビス(5−グリシジルオキシ−1−ナフチル)フルオレン]などの前記式(A1)において、mが0である化合物;9,9−ビス(グリシジルオキシアルコキシナフチル)フルオレン{例えば、9,9−ビス[6−(2−グリシジルオキシエトキシ)−2−ナフチル]フルオレン、9,9−ビス[5−(2−グリシジルオキシエトキシ)−1−ナフチル]フルオレン、9,9−ビス[6−(3−グリシジルオキシプロポキシ)−2−ナフチル]フルオレン、9,9−ビス[6−(2−グリシジルオキシプロポキシ)−2−ナフチル]フルオレン、9,9−ビス[6−(4−グリシジルオキシブトキシ)−2−ナフチル]フルオレンなどの9,9−ビス[(グリシジルオキシC2−4アルコキシ)ナフチル]フルオレン}、9,9−ビス(グリシジルオキシポリアルコキシナフチル)フルオレン{例えば、9,9−ビス{6−[2−(2−グリシジルオキシエトキシ)エトキシ]−2−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{5−[2−(2−グリシジルオキシエトキシ)エトキシ]−1−ナフチル}フルオレン、9,9−ビス{6−[2−(3−グリシジルオキシプロポキシ)エトキシ]−2−ナフチル}フルオレンなどの9,9−ビス[(グリシジルオキシジ乃至テトラC2−4アルコキシ)ナフチル]フルオレンなど}などの前記式(A1)においてmが1以上(例えば1〜4、好ましくは1〜3、さらに好ましくは1〜2、特に1)である化合物などが含まれる。 Typical examples of the compound represented by the formula (A1) include 9,9-bis (glycidyloxynaphthyl) fluorene [for example, 9,9-bis (6-glycidyloxy-2-naphthyl) fluorene, 9 , 9-bis (5-glycidyloxy-1-naphthyl) fluorene] in the formula (A1), wherein m is 0; 9,9-bis (glycidyloxyalkoxynaphthyl) fluorene {for example, 9,9 -Bis [6- (2-glycidyloxyethoxy) -2-naphthyl] fluorene, 9,9-bis [5- (2-glycidyloxyethoxy) -1-naphthyl] fluorene, 9,9-bis [6- ( 3-glycidyloxypropoxy) -2-naphthyl] fluorene, 9,9-bis [6- (2-glycidyloxypropoxy) -2-naphthyl] fur Oren, 9,9-bis [6- (4-glycidyloxy-butoxy) -2-naphthyl] fluorene such as 9,9-bis [(glycidyloxy C 2-4 alkoxy) naphthyl] fluorene}, 9,9-bis (Glycidyloxypolyalkoxynaphthyl) fluorene {eg 9,9-bis {6- [2- (2-glycidyloxyethoxy) ethoxy] -2-naphthyl} fluorene, 9,9-bis {5- [2- ( 9,9-bis [(2-glycidyloxyethoxy) ethoxy] -1-naphthyl} fluorene, 9,9-bis {6- [2- (3-glycidyloxypropoxy) ethoxy] -2-naphthyl} fluorene In the formula (A1) such as glycidyloxydi to tetra-C 2-4 alkoxy) naphthyl] fluorene etc., m is 1 or more (for example, Compounds such as 1 to 4, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, especially 1) are included.

なお、式(A1)で表される化合物は、市販品を用いてもよく、慣用の方法{例えば、式(A1)に対応するヒドロキシル基含有化合物[例えば、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン、9,9−ビス(ヒドロキシ(ポリ)アルコキシナフチル)フルオレンなど]と、エピハロヒドリン(例えば、エピクロロヒドリンなど)とを反応させる方法など}により合成した化合物を用いてもよい。   As the compound represented by the formula (A1), a commercially available product may be used, and a conventional method {for example, a hydroxyl group-containing compound corresponding to the formula (A1) [for example, 9,9-bis (hydroxynaphthyl)] Fluorene, 9,9-bis (hydroxy (poly) alkoxynaphthyl) fluorene, etc.] and an epihalohydrin (for example, epichlorohydrin, etc.), etc.} may be used.

(他のエポキシ化合物)
エポキシ化合物(A)は、式(A1)で表される化合物のみで構成してもよく、必要に応じて他のエポキシ化合物(A2)をさらに含んでいてもよい。
(Other epoxy compounds)
The epoxy compound (A) may be composed of only the compound represented by the formula (A1), and may further contain another epoxy compound (A2) as necessary.

エポキシ化合物(A2)は、特に限定されず、単官能性エポキシ化合物であってもよいが、反応性及びフェノキシ樹脂の分子量を向上できる点から、二官能以上のエポキシ化合物であるのが好ましく、二官能性エポキシ化合物であるのが特に好ましい。   The epoxy compound (A2) is not particularly limited, and may be a monofunctional epoxy compound, but is preferably a bifunctional or higher functional epoxy compound from the viewpoint of improving the reactivity and the molecular weight of the phenoxy resin. Particular preference is given to functional epoxy compounds.

二官能性エポキシ化合物には、グリシジルエステル型化合物、グリシジルエーテル型化合物などが含まれる。   Bifunctional epoxy compounds include glycidyl ester type compounds, glycidyl ether type compounds, and the like.

グリシジルエステル型化合物としては、例えば、芳香族ジカルボン酸(フタル酸など)又はその水添物(テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸など)とエピクロロヒドリンとの反応物、ダイマー酸グリシジルエステルなどが挙げられる。   Examples of the glycidyl ester type compounds include aromatic dicarboxylic acids (such as phthalic acid) or their hydrogenated products (such as tetrahydrophthalic acid and hexahydrophthalic acid) and epichlorohydrin, dimer acid glycidyl esters, and the like. Can be mentioned.

グリシジルエーテル型化合物には、ビスフェノール系エポキシ樹脂(ビスフェノール型エポキシ樹脂又はビスフェノール類を原料とするエポキシ樹脂)、ナフタレン系エポキシ樹脂(ナフタレン型エポキシ樹脂又はジヒドロキシナフタレン類を原料とするエポキシ樹脂)、脂環族ジオール類のジグリシジルエーテル、縮合環骨格を有するジオール類のジグリシジルエーテル、前記式(A1)の範疇に属さないフルオレン骨格を有するジグリシジルエーテル(フルオレン系エポキシ樹脂)などが含まれる。   The glycidyl ether type compounds include bisphenol type epoxy resins (bisphenol type epoxy resins or epoxy resins made from bisphenols), naphthalene type epoxy resins (epoxy resins made from naphthalene type epoxy resins or dihydroxynaphthalenes), alicyclic rings Diglycidyl ethers of group diols, diglycidyl ethers of diols having a condensed ring skeleton, diglycidyl ethers (fluorene-based epoxy resins) having a fluorene skeleton not belonging to the category of the formula (A1), and the like.

ビスフェノール系エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノール類又はそのアルキレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシドなどのC2−4アルキレンオキシド)付加体(例えば、アルキレンオキシドがヒドロキシ基1モルあたり平均1〜10モル、好ましくは1〜6モル、さらに好ましくは1〜4モル程度付加した付加体)のジグリシジルエーテル、これらのジグリシジルエーテルがさらに反応(付加重合)したエポキシ樹脂などが挙げられる。ビスフェノール類としては、後述のフェノール化合物の項で例示されているビスフェノール類[例えば、ビスフェノールAなどのビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類]などが挙げられる。 As the bisphenol-based epoxy resin, for example, bisphenols or their alkylene oxide ( C2-4 alkylene oxide such as ethylene oxide and propylene oxide) adducts (for example, alkylene oxide has an average of 1 to 10 mol per mol of hydroxy group, preferably 1-6 moles, more preferably adducts added with about 1-4 moles) diglycidyl ether, and epoxy resins obtained by further reaction (addition polymerization) of these diglycidyl ethers. Examples of the bisphenols include bisphenols exemplified in the section of the phenol compound described below [for example, bis (hydroxyphenyl) alkanes such as bisphenol A].

ナフタレン系エポキシ樹脂としては、例えば、ナフタレンジオール類又はそのアルキレンオキシド(エチレンオキシド、プロピレンオキシドなどのC2−4アルキレンオキシド)付加体(例えば、アルキレンオキシドがヒドロキシ基1モルあたり平均1〜10モル、好ましくは1〜6モル、さらに好ましくは1〜4モル程度付加した付加体)のジグリシジルエーテル(例えば、1,5−ジ(グリシジルオキシ)ナフタレン、1,6−ジ(グリシジルオキシ)ナフタレン、2,6−ジ(グリシジルオキシ)ナフタレン、2,7−ジ(グリシジルオキシ)ナフタレン、2,7−ジ(2−メチル−2,3−エポキシプロポキシ)ナフタレンなどのジ(グリシジルオキシ)ナフタレン類;2,2’−ジグリシジルオキシビナフタレン、ビス(2−グリシジルオキシナフチル)メタンなどのビス(グリシジルオキシナフチル)C1−6アルカンなどのビスナフトール類のジグリシジルエーテルなどが挙げられる。 As a naphthalene type epoxy resin, for example, naphthalenediol or its alkylene oxide ( C2-4 alkylene oxide such as ethylene oxide and propylene oxide) adduct (for example, alkylene oxide has an average of 1 to 10 mol per mol of hydroxy group, preferably Is 1-6 mol, more preferably an adduct added by about 1-4 mol) diglycidyl ether (for example, 1,5-di (glycidyloxy) naphthalene, 1,6-di (glycidyloxy) naphthalene, 2, Di (glycidyloxy) naphthalenes such as 6-di (glycidyloxy) naphthalene, 2,7-di (glycidyloxy) naphthalene, 2,7-di (2-methyl-2,3-epoxypropoxy) naphthalene; 2′-diglycidyloxybinaphthalene, bis (2-glycol Such as diglycidyl ether of bis-naphthols, such as bis (glycidyloxy naphthyl) C 1-6 alkane such as Gilles oxy naphthyl) methane and the like.

脂環族ジオール類のジグリシジルエーテルとしては、例えば、1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。   Examples of diglycidyl ethers of alicyclic diols include 1,4-cyclohexanedimethanol diglycidyl ether.

縮合環骨格を有するジオール類のジグリシジルエーテルとしては、例えば、9−フェニル−2,7−ジグリシジルオキシ−1,3,4,5,6,8−ヘキサメチルキサンテンなどが挙げられる。   Examples of diglycidyl ethers of diols having a condensed ring skeleton include 9-phenyl-2,7-diglycidyloxy-1,3,4,5,6,8-hexamethylxanthene.

フルオレン系エポキシ樹脂としては、例えば、前記式(A1)において、環Zがベンゼン環である化合物、例えば、9,9−ビス(グリシジルオキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン]、9,9−ビス(アルキル−グリシジルオキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−グリシジルオキシフェニル)フルオレン]、9,9−ビス(アリール−グリシジルオキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC6−10アリール−グリシジルオキシフェニル)フルオレン]、9,9−ビス(グリシジルオキシアルコキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−(2−グリシジルオキシエトキシ)フェニル)フルオレンなど]などが挙げられる。 Examples of the fluorene-based epoxy resin include compounds in which the ring Z is a benzene ring in the formula (A1), such as 9,9-bis (glycidyloxyphenyl) fluorene [for example, 9,9-bis (4-glycidyl). Oxyphenyl) fluorene], 9,9-bis (alkyl-glycidyloxyphenyl) fluorene [e.g., 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy) 9,9-bis (mono- or di-C 1-4 alkyl-glycidyloxyphenyl) fluorene] such as 3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (aryl-glycidyloxyphenyl) fluorene [eg 9 9, 9-bis (4-glycidyloxy-3-phenylphenyl) fluorene , 9-bis (mono or di-C 6-10 aryl-glycidyloxyphenyl) fluorene], 9,9-bis (glycidyloxyalkoxyphenyl) fluorene [eg, 9,9-bis (4- (2-glycidyloxyethoxy) ) Phenyl) fluorene, etc.].

これらのエポキシ化合物(A2)は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   These epoxy compounds (A2) may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ化合物(A1)とエポキシ化合物(A2)(特に二官能性エポキシ化合物)とを組み合わせる場合、これらの割合は、前者/後者(モル比)=99.9/0.1〜1/99程度の範囲から選択でき、例えば99.5/0.5〜10/90(例えば99/1〜30/70)、好ましくは99/1〜40/60(例えば、98/2〜50/50)、さらに好ましくは95/5〜60/40(特に90/10〜70/30)程度であってもよい。   When combining an epoxy compound (A1) and an epoxy compound (A2) (especially a bifunctional epoxy compound), these ratios are about the former / the latter (molar ratio) = about 99.9 / 0.1 / 1/99. Can be selected from a range, for example 99.5 / 0.5 to 10/90 (eg 99/1 to 30/70), preferably 99/1 to 40/60 (eg 98/2 to 50/50), Preferably, it may be about 95/5 to 60/40 (particularly 90/10 to 70/30).

なお、エポキシ化合物(A)全体に対するエポキシ化合物(A1)の割合は、10モル%以上(例えば20モル%以上)程度の範囲から選択でき、例えば30モル%以上(例えば40モル%以上)、好ましくは50モル%以上(例えば60モル%以上)、さらに好ましくは70モル%以上(特に80モル%以上)であってもよく、90モル%以上(例えば95モル%以上)であってもよい。本発明では、このようにエポキシ化合物(A1)が比較的高い割合で含まれていても、効率よく重合を進行させることができる。   The ratio of the epoxy compound (A1) to the entire epoxy compound (A) can be selected from a range of about 10 mol% or more (for example, 20 mol% or more), for example, 30 mol% or more (for example, 40 mol% or more), preferably May be 50 mol% or more (for example, 60 mol% or more), more preferably 70 mol% or more (particularly 80 mol% or more), or 90 mol% or more (for example, 95 mol% or more). In the present invention, even when the epoxy compound (A1) is contained in a relatively high proportion as described above, the polymerization can proceed efficiently.

[フェノール化合物(B)]
フェノール化合物(B)は、下記式(B1)で表される化合物を少なくとも含む。
[Phenol compound (B)]
The phenol compound (B) includes at least a compound represented by the following formula (B1).

Figure 0006470593
Figure 0006470593

(式中、Rは水素原子又は炭化水素基を示し、R及びRは置換基を示し、qは0〜4の整数、rは0〜5の整数を示す)。 (Wherein, R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, R 6 and R 7 represents a substituent, q is an integer of 0 to 4, r is an integer of 0 to 5).

前記式(B1)において、基Rで表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基などのC1−12アルキル基など)、シクロアルキル基(シクロへキシル基などのC5−10シクロアルキル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのC6−14アリール基など)などの炭化水素基などが挙げられる。 In the formula (B1), examples of the hydrocarbon group represented by the group R 5 include an alkyl group (eg, a C 1-12 alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group). ), A cycloalkyl group (such as a C 5-10 cycloalkyl group such as a cyclohexyl group), an aryl group (eg, a C 6-14 aryl group such as a phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, etc.) A hydrocarbon group etc. are mentioned.

これらの炭化水素基のうち、フェノキシ樹脂の分子量及びガラス転移温度を向上でき、膜保持性(自立性)や耐熱性を向上できる点から、アルキル基(特に、C1−8アルキル基)、アリール基(特にフェニル基)が好ましい。炭化水素基がC1−4アルキル基(特にメチル基などのC1−2アルキル基)であっても、高い耐熱性を保持できる。 Among these hydrocarbon groups, an alkyl group (particularly, a C 1-8 alkyl group), an aryl group can be used because the molecular weight and glass transition temperature of the phenoxy resin can be improved, and film retention (self-supporting) and heat resistance can be improved. Groups (especially phenyl groups) are preferred. Even when the hydrocarbon group is a C 1-4 alkyl group (particularly a C 1-2 alkyl group such as a methyl group), high heat resistance can be maintained.

ベンゼン環に対するヒドロキシル基の結合位置(置換位置)は特に限定されないが、3〜5位である場合が多く、通常、4位である。   Although the bonding position (substitution position) of the hydroxyl group with respect to the benzene ring is not particularly limited, it is often the 3-5 position and is usually the 4 position.

また、ヒドロキシル基が置換したベンゼン環の他の置換基である基Rとしては、前記式(A1)の置換基Rとして例示した置換基を例示できる。前記置換基のうち、基Rとしては、アルキル基(例えば、メチル基などのC1−6アルキル基など)、シクロアルキル基(例えば、シクロヘキシル基などのC5−8シクロアルキル基など)、アリール基(例えば、フェニル基などのC6−10アリール基など)、アラルキル基(例えば、C6−8アリール−C1−2アルキル基)、アルコキシ基(C1−4アルコキシ基など)、ハロゲン原子などが好ましい。 Moreover, the group R 6 hydroxyl groups is another substituent group on the benzene ring substituted, it can be exemplified exemplified substituents as the substituent R 4 in the formula (A1). Among the substituents, the group R 6 includes an alkyl group (eg, a C 1-6 alkyl group such as a methyl group), a cycloalkyl group (eg, a C 5-8 cycloalkyl group such as a cyclohexyl group), An aryl group (eg, a C 6-10 aryl group such as a phenyl group), an aralkyl group (eg, a C 6-8 aryl-C 1-2 alkyl group), an alkoxy group (eg, a C 1-4 alkoxy group), a halogen Atoms are preferred.

なお、基Rの置換数qは0〜4の整数から選択でき、例えば0〜3、好ましくは0〜2、さらに好ましくは0〜1(特に0)程度であってもよい。 The number of substitution q of the group R 6 can be selected from an integer of 0 to 4, and may be, for example, 0 to 3, preferably 0 to 2, and more preferably 0 to 1 (particularly 0).

ヒドロキシル基が置換していないベンゼン環の置換基である基Rとしては、前記式(A1)の置換基Rとして例示した置換基を例示できる。前記置換基のうち、基Rとしては、シアノ基、アルキル基(特にC1−6アルキル基)が好ましく、C1−4アルキル基(特にメチル基)が特に好ましい。 Examples of the group R 7 that is a substituent of the benzene ring that is not substituted with a hydroxyl group include the substituents exemplified as the substituent R 1 in the formula (A1). Of the above substituents, the group R 7 is preferably a cyano group or an alkyl group (particularly a C 1-6 alkyl group), and particularly preferably a C 1-4 alkyl group (particularly a methyl group).

なお、基Rの置換数rは0〜5の整数から選択でき、例えば0〜3、好ましくは0〜2、さらに好ましくは0〜1(特に0)程度であってもよい。 Incidentally, the substitution number r of R 7 radical may be selected from the integers from 0 to 5, for example 0-3, preferably 0-2, more preferably 0-1 may be (especially 0) about.

代表的な前記式(B1)で表される化合物としては、例えば、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン(ビスフェノールアセトフェノン)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルプロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルヘキサンなどのビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン(ビスフェノールベンゾフェノン)などのビス(ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン類などが挙げられる。これらの化合物のうち、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン(ビスフェノールAP)などのビス(ヒドロキシフェニル)C1−4アルカン類が好ましい。 Typical examples of the compound represented by the formula (B1) include bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane (bisphenolacetophenone), 1 , 1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylpropane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylbutane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylpentane, Bis (hydroxyphenyl) alkanes such as 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylhexane; bis (hydroxyphenyl) diphenylmethanes such as bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane (bisphenolbenzophenone) It is done. Of these compounds, bis (hydroxyphenyl) C 1-4 alkanes such as 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane (bisphenol AP) are preferred.

(他のフェノール化合物)
フェノール化合物(B)は、式(B1)で表される化合物のみで構成してもよく、必要に応じて他のフェノール化合物(B2)をさらに含んでいてもよい。
(Other phenolic compounds)
The phenol compound (B) may be composed of only the compound represented by the formula (B1), and may further contain another phenol compound (B2) as necessary.

フェノール化合物(B2)は、特に限定されず、1つのフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物であってもよいが、反応性及びフェノキシ樹脂の分子量を向上できる点から、2以上のフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物が好ましく、2つのフェノール性ヒドロキシル基を有する化合物が好ましい。このようなフェノール化合物には、ジヒドロキシアレーン、ビスフェノール類などが含まれる。   The phenol compound (B2) is not particularly limited and may be a compound having one phenolic hydroxyl group, but has two or more phenolic hydroxyl groups from the viewpoint of improving the reactivity and the molecular weight of the phenoxy resin. Compounds are preferred, and compounds having two phenolic hydroxyl groups are preferred. Such phenol compounds include dihydroxyarene, bisphenols and the like.

ジヒドロキシアレーンとしては、例えば、ジヒドロキシベンゼン(ハイドロキノン、レゾルシノールなど)、ジヒドロキシナフタレンなどのジヒドロキシC6−20アレーン(好ましくはジヒドロキシC6−10アレーン)などが挙げられる。 Examples of the dihydroxyarene include dihydroxy C 6-20 arenes (preferably dihydroxy C 6-10 arenes) such as dihydroxybenzene (hydroquinone, resorcinol, etc.) and dihydroxynaphthalene.

ビスフェノール類(ビスフェノール化合物)には、フルオレン骨格を有さないフェノール化合物(非フルオレン系ビスフェノール類)、フルオレン骨格を有するフェノール化合物(フルオレン系ビスフェノール類)なども含まれる。   Bisphenols (bisphenol compounds) include phenolic compounds having no fluorene skeleton (non-fluorene bisphenols), phenolic compounds having a fluorene skeleton (fluorene bisphenols), and the like.

非フルオレン系ビスフェノール類としては、例えば、4,4’−ジヒドロキシビフェニルなどのビフェノール類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタンなどのビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類[例えば、ビス(ヒドロキシフェニル)C1−10アルカン];2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,3’−ビフェニリル)プロパンなどのビス(ヒドロキシビフェニリル)アルカン類;1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンなどのビス(ヒドロキシフェニル)シクロアルカン類;4,4’−ジヒドロキシジフェニルエ−テルなどのビス(ヒドロキシフェニル)エーテル類;4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンなどのビス(ヒドロキシフェニル)スルホン類;4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシドなどのビス(ヒドロキシフェニル)スルホキシド類;4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィドなどのビス(ヒドロキシフェニル)スルフィド類;4,4’−(o,m,p−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノールなどのビス(ヒドロキシフェニル−アルキル)アレーン類などが挙げられる。 Non-fluorene bisphenols include, for example, biphenols such as 4,4′-dihydroxybiphenyl; bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2,2-bis ( 4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A), 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxy) Phenyl) octane, 2,2-bis (3-bromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5- Dichloro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2 , 2-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) propane, bis (hydroxyphenyl) alkanes such as bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane [eg bis (hydroxyphenyl) C 1-10 alkane]; Bis (hydroxybiphenylyl) alkanes such as 2-bis (4-hydroxy-3,3′-biphenylyl) propane; Bis such as 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane (Hydroxyphenyl) cycloalkanes; bis (hydroxyphenyl) ethers such as 4,4′-dihydroxydiphenyl ether; bis (hydroxyphenyl) sulfones such as 4,4′-dihydroxydiphenylsulfone; -Bis such as dihydroxydiphenyl sulfoxide Hydroxyphenyl) sulfoxides; bis (hydroxyphenyl) sulfides such as 4,4′-dihydroxydiphenylsulfide; bis (hydroxyphenyl-) such as 4,4 ′-(o, m, p-phenylenediisopropylidene) diphenol Alkyl) arenes and the like.

フルオレン系ビスフェノール類としては、例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類{例えば、9,9−ビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン]、9,9−ビス(アルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC1−4アルキル−ヒドロキシフェニル)フルオレン]、9,9−ビス(アリール−ヒドロキシフェニル)フルオレン[例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレンなどの9,9−ビス(モノ又はジC6−10アリール−ヒドロシフェニル)フルオレン]など}、9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン類[例えば、9,9−ビス(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)フルオレン、9,9−ビス(5−ヒドロキシ−1−ナフチル)フルオレンなどの9,9−ビス(ヒドロキシナフチル)フルオレン]などの9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレン類などが挙げられる。 Examples of the fluorene-based bisphenols include 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorenes {for example, 9,9-bis (hydroxyphenyl) fluorene [for example, 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene], 9,9-bis (alkyl-hydroxyphenyl) fluorene [eg 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene 9,9-bis (mono or diC 1-4 alkyl-hydroxyphenyl) fluorene], 9,9-bis (aryl-hydroxyphenyl) fluorene [eg, 9,9-bis (4-hydroxy-3- 9,9-bis such phenylphenyl) fluorene (mono- or di-C 6-10 aryl - hydro Phenyl) fluorene]], 9,9-bis (hydroxynaphthyl) fluorenes [eg, 9,9-bis (6-hydroxy-2-naphthyl) fluorene, 9,9-bis (5-hydroxy-1-naphthyl) ) 9,9-bis (hydroxyaryl) fluorenes such as 9,9-bis (hydroxynaphthyl) fluorene].

フェノール化合物(B2)は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   The phenol compound (B2) may be used alone or in combination of two or more.

これらのフェノール化合物(B2)のうち、反応性に優れ、フェノキシ樹脂の分子量を向上できる点から、非フルオレン系のビスフェノール化合物などのフルオレン骨格を有しないフェノール化合物[詳細には、2つのフェノール性ヒドロキシル基を有し、フルオレン骨格を有しないフェノール化合物(非フルオレン系化合物)]が好ましく、ビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類(特に、ビスフェノールAなどのビス(ヒドロキシフェニル)C1−6アルカン)が特に好ましい。 Among these phenolic compounds (B2), phenolic compounds having no fluorene skeleton such as non-fluorene-based bisphenol compounds [more specifically, two phenolic hydroxyl groups are preferred because they have excellent reactivity and can improve the molecular weight of the phenoxy resin. A phenol compound having a group and no fluorene skeleton (non-fluorene compound)] is preferable, and bis (hydroxyphenyl) alkanes (particularly, bis (hydroxyphenyl) C 1-6 alkanes such as bisphenol A) are particularly preferable. .

フェノール化合物(B1)とフェノール化合物(B2)(特にビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類)とを組み合わせる場合、両者のモル比は、フェノール(B1)/フェノール(B2)=99/1〜1/99程度の範囲から選択でき、例えば95/5〜5/95、好ましくは90/10〜10/90(例えば、70/30〜30/70)、さらに好ましくは60/40〜40/60(特に55/45〜45/55)程度である。   When combining the phenolic compound (B1) and the phenolic compound (B2) (especially bis (hydroxyphenyl) alkanes), the molar ratio of the two is about phenol (B1) / phenol (B2) = 99/1 to 1/99. For example, 95/5 to 5/95, preferably 90/10 to 10/90 (eg 70/30 to 30/70), more preferably 60/40 to 40/60 (especially 55 / 45 to 45/55).

反応において、エポキシ化合物(A)とフェノール化合物(B)との割合は、例えば、前者/後者(モル比)=2/1〜0.5/1、好ましくは1.5/1〜0.7/1、さらに好ましくは1.2/1〜0.8/1(特に1.1/1〜0.9/1)程度であってもよい。   In the reaction, the ratio of the epoxy compound (A) to the phenol compound (B) is, for example, the former / the latter (molar ratio) = 2/1 to 0.5 / 1, preferably 1.5 / 1 to 0.7. / 1, more preferably about 1.2 / 1 to 0.8 / 1 (particularly 1.1 / 1 to 0.9 / 1).

エポキシ化合物(A)とフェノール化合物(B)との反応は、触媒(反応触媒)の存在下で行ってもよい。触媒としては、特に限定されず、例えば、水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水酸化アルカリ金属塩;水酸化カルシウムなどの水酸化アルカリ土類金属塩)、アミン類[例えば、脂肪族アミン(例えば、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルプロパンジアミン、1−メチルピペリジン、1−エチルピペリジン、1,2,2’,6,6’−ペンタメチルピペリジン、1−メチルピロリジン、1−エチルピロリジン、4−メチルモルホリン、4−エチルモルホリン、2,6−ジメチルピペラジンなどの脂肪族第三級アミン)、芳香族アミン(例えば、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリンなどの芳香族第3級アミンなど)、複素環式アミン[ピリジン、ルチジン、コリジン、4−(ジメチルアミノ)ピリジン、4−ピロリジノピリジン、イミダゾール系化合物(イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなど)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセンなど)など]、第4級アンモニウム塩(例えば、テトラメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイドなど)、ホスフィン類(例えば、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンなど)、ホスホニウム塩(例えば、n−ブチルトリフェニルホスホニウムブロマイドなど)などが挙げられる。これらの触媒は単独で又は2種以上組み合わせてもよい。   The reaction between the epoxy compound (A) and the phenol compound (B) may be performed in the presence of a catalyst (reaction catalyst). The catalyst is not particularly limited, and examples thereof include hydroxides (eg, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide), amines [eg, Aliphatic amines (e.g., triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, triisopropylamine, diisopropylethylamine, dicyclohexylethylamine, diethylcyclohexylamine, tribenzylamine, N, N, N ', N'- Tetramethylethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethylpropanediamine, 1-methylpiperidine, 1-ethylpiperidine, 1,2,2 ′, 6,6′-pentamethylpiperidine, 1-methylpyrrolidine, 1-ethylpyrrolidine, 4-methylmorpholine, 4 Aliphatic tertiary amines such as ethylmorpholine and 2,6-dimethylpiperazine), aromatic amines (eg, aromatic tertiary amines such as N, N-dimethylaniline and N, N-diethylaniline), complex Cyclic amines [pyridine, lutidine, collidine, 4- (dimethylamino) pyridine, 4-pyrrolidinopyridine, imidazole compounds (imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, etc.), 1,5- Diazabicyclo [4.3.0] nonene, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene etc.)], quaternary ammonium salts (eg tetramethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium bromide etc.), phosphines (For example, triphenylphosphine, tributylphosphine Etc.), phosphonium salts (e.g., n- butyl triphenyl phosphonium bromide), and the like. These catalysts may be used alone or in combination of two or more.

触媒の割合は、触媒の種類にもよるが、例えば、エポキシ化合物(A)及びフェノール化合物(B)の総量100重量部に対して、例えば0.001〜30重量部、好ましくは0.005〜10重量部、さらに好ましくは0.01〜5重量部(例えば、0.02〜3重量部)程度であってもよく、1重量部以下[例えば0.001〜0.9重量部、好ましくは0.003〜0.5重量部、さらに好ましくは0.005〜0.3重量部(特に0.01〜0.1重量部)程度]であってもよい。   Although the ratio of a catalyst is based also on the kind of catalyst, it is 0.001-30 weight part with respect to 100 weight part of total amounts of an epoxy compound (A) and a phenolic compound (B), for example, Preferably 0.005- It may be about 10 parts by weight, more preferably about 0.01 to 5 parts by weight (for example, 0.02 to 3 parts by weight), or 1 part by weight or less [for example, 0.001 to 0.9 parts by weight, preferably 0.003-0.5 part by weight, more preferably about 0.005-0.3 part by weight (particularly 0.01-0.1 part by weight)].

また、反応は、溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、反応を阻害しない溶媒であれば特に限定されず、例えば、炭化水素類(例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルカノール類)、エーテル類(例えば、ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル類;1,3−ジメトキプロパン、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルなどの(ポリ)アルキレングリコールジアルキルエーテル類;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどの環状エーテル類など)、ケトン類(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのアルカノン類;シクロヘキサノンなどのシクロアルカノン類)、エステル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチルなど)、アミド類(例えば、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミドなどのN−モノ又はジC1−4アルキルホルムアミド;N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのN−モノ又はジC1−4アルキルアセトアミド;N−メチルピロリドンなど)、ニトリル類(例えば、アセトニトリル、プロピオニトリルなど)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシドなど)、スルホン類(例えば、スルホランなどの環状スルホン)などの有機溶媒が挙げられる。なお、溶媒は有機溶媒と無機系溶媒(水など)との混合溶媒であってもよい。また、前記触媒としてのアミンを溶媒として用いてもよい。これらの溶媒は単独で又は2種以上組み合わせて使用してもよい。 The reaction may be performed in the presence of a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. For example, hydrocarbons (for example, aliphatic hydrocarbons such as pentane, hexane, heptane and cyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene) ), Alcohols (eg, alkanols such as methanol, ethanol, propanol, butanol), ethers (eg, dialkyl ethers such as diethyl ether; 1,3-dimethoxypropane, 1,2-dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether) (Poly) alkylene glycol dialkyl ethers such as: cyclic ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane), ketones (eg, alkanones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone); Cycloalkanones such as non), esters (e.g., methyl acetate, ethyl acetate, etc.), amides (e.g., N- methylformamide, N, such as N- dimethylformamide N- mono- or di-C 1-4 alkyl N-methylacetamide, N-mono- or di-C 1-4 alkylacetamide such as N, N-dimethylacetamide; N-methylpyrrolidone, etc.), nitriles (for example, acetonitrile, propionitrile, etc.), sulfoxides ( Examples thereof include organic solvents such as dimethyl sulfoxide) and sulfones (for example, cyclic sulfones such as sulfolane). The solvent may be a mixed solvent of an organic solvent and an inorganic solvent (such as water). Moreover, you may use the amine as said catalyst as a solvent. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

溶媒の割合は、エポキシ化合物(A)及びフェノール化合物(B)の総量100重量部に対して、1〜1000重量部程度の範囲から選択でき、例えば5〜800重量部、好ましくは10〜500重量部、さらに好ましくは50〜300重量部(特に100〜200重量部)程度である。なお、溶媒の量を調整することで、反応系における粘度を効率よく調整したり、副反応(例えば、環状化反応)などを効率よく抑えやすい。   The proportion of the solvent can be selected from a range of about 1 to 1000 parts by weight, for example, 5 to 800 parts by weight, preferably 10 to 500 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the total amount of the epoxy compound (A) and the phenol compound (B). Part, more preferably about 50 to 300 parts by weight (particularly 100 to 200 parts by weight). In addition, by adjusting the amount of the solvent, it is easy to efficiently adjust the viscosity in the reaction system and to efficiently suppress side reactions (for example, cyclization reaction).

反応は、加温下で行ってもよい。加温下で行う場合、反応温度は、例えば50〜300℃程度、好ましくは100〜250℃、さらに好ましくは150〜200℃程度であってもよい。反応時間は、例えば30分〜24時間、好ましくは1〜18時間、さらに好ましくは2〜12時間程度であってもよい。なお、反応は、空気中又は不活性雰囲気(窒素、希ガスなど)中で行ってもよく、減圧下、常圧下又は加圧下(通常常圧下)で行ってもよい。   The reaction may be performed under heating. When performed under heating, the reaction temperature may be, for example, about 50 to 300 ° C, preferably 100 to 250 ° C, more preferably about 150 to 200 ° C. The reaction time may be, for example, 30 minutes to 24 hours, preferably 1 to 18 hours, more preferably about 2 to 12 hours. The reaction may be performed in air or in an inert atmosphere (nitrogen, rare gas, etc.), or may be performed under reduced pressure, normal pressure, or increased pressure (usually normal pressure).

なお、生成物(フェノキシ樹脂)は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製してもよい。   The product (phenoxy resin) may be separated and purified by a conventional method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination means combining these. .

<フェノキシ樹脂>
前述の反応により、本発明のフェノキシ樹脂が得られるが、このようなフェノキシ樹脂は、エポキシ化合物(A)及びフェノール化合物(B)由来の骨格(又は繰り返し単位又は構造単位)を有する樹脂(又はポリマー)である[すなわち、下記式(1)で表される構造単位(又は繰り返し単位)を少なくとも有するポリマーである]。
<Phenoxy resin>
The phenoxy resin of the present invention is obtained by the reaction described above. Such a phenoxy resin is a resin (or polymer) having a skeleton (or a repeating unit or a structural unit) derived from the epoxy compound (A) and the phenol compound (B). [In other words, it is a polymer having at least a structural unit (or repeating unit) represented by the following formula (1)].

Figure 0006470593
Figure 0006470593

(式中、Xはフェノール化合物(B)の残基、R3aは水素原子又はRを示し、Z、R、R、R、R、k、m、pは前記と同じ)。 (In the formula, X represents a residue of the phenol compound (B), R 3a represents a hydrogen atom or R 3 , and Z, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , k, m, and p are the same as above) .

前記式(1)において、Xはフェノール化合物(B)の残基(すなわち、フェノール化合物(B)から2つのフェノール性ヒドロキシル基を除いた基)を示し、例えば、フェノール化合物(B)がビスフェノールアセトフェノンである場合、Xは、下記式で表される基(1,1,1−トリフェニルエタン−4,4’−ジイル基)を示す。   In the formula (1), X represents a residue of the phenol compound (B) (that is, a group obtained by removing two phenolic hydroxyl groups from the phenol compound (B)). For example, the phenol compound (B) is bisphenol acetophenone. In this case, X represents a group represented by the following formula (1,1,1-triphenylethane-4,4′-diyl group).

Figure 0006470593
Figure 0006470593

また、式(1)において、R3aは、水素原子又は前記R(又はRに対応する基)であり、特に水素原子である。 In Formula (1), R 3a is a hydrogen atom or R 3 (or a group corresponding to R 3 ), particularly a hydrogen atom.

本発明のフェノキシ樹脂は、効率よく重合が進行して得られるようであり、9,9−縮合多環式アリール骨格を有しているにもかかわらず、比較的高分子量である。このようなフェノキシ樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)において、ポリスチレン換算で、15000以上(例えば15000〜300000)であってもよく、例えば20000〜300000(例えば25000〜200000)、好ましくは28000〜100000(例えば30000〜50000)、さらに好ましくは31000〜40000(特に32000〜35000)程度である。分子量が小さすぎると、膜保持性が低下する虞がある。   The phenoxy resin of the present invention seems to be obtained through efficient polymerization and has a relatively high molecular weight despite having a 9,9-fused polycyclic aryl skeleton. The weight average molecular weight of such a phenoxy resin may be 15000 or more (for example, 15,000 to 300,000) in terms of polystyrene in gel permeation chromatography (GPC), for example, 20,000 to 300,000 (for example, 25,000 to 200,000), preferably Is 28000 to 100,000 (for example, 30000 to 50000), more preferably about 31000 to 40000 (particularly 32000 to 35000). If the molecular weight is too small, there is a possibility that the film retention is lowered.

なお、フェノキシ樹脂の末端基は特に限定されず、エポキシ化合物(A)由来の末端基、フェノール化合物(B)由来の末端基などのいずれであってもよい。本発明のフェノキシ樹脂のエポキシ当量は、例えば、500〜300000g/eq程度の範囲から選択でき、例えば1000〜100000g/eq、好ましくは5000〜80000g/eq(例えば、10000〜50000g/eq)、さらに好ましくは15000〜40000g/eq(特に20000〜35000g/eq)程度である。   In addition, the terminal group of phenoxy resin is not specifically limited, Any of terminal groups derived from an epoxy compound (A), a terminal group derived from a phenol compound (B), etc. may be sufficient. The epoxy equivalent of the phenoxy resin of the present invention can be selected from the range of, for example, about 500 to 300,000 g / eq, for example, 1000 to 100,000 g / eq, preferably 5000 to 80000 g / eq (for example, 10,000 to 50000 g / eq), and more preferably. Is about 15000-40000 g / eq (particularly 20000-35000 g / eq).

なお、末端(末端基)がエポキシ化合物(A)由来(又はエポキシ基)であるフェノキシ樹脂は、保存安定性の点や、熱硬化性やエポキシ基を利用した変性(例えば、アクリル酸などと反応させてアクリルロイル基を導入する変性など)、寸法安定性などの点で有利である。   In addition, the phenoxy resin whose terminal (terminal group) is derived from the epoxy compound (A) (or epoxy group) is a point of storage stability, modified with thermosetting property or epoxy group (for example, reacted with acrylic acid or the like). For example, modification to introduce an acryloyl group), and dimensional stability.

本発明のフェノキシ樹脂のガラス転移温度(Tg)は、示差走査熱量計(DSC)によるガラス転移温度で、50℃以上であってもよく、例えば50〜200℃、好ましくは60〜180℃、さらに好ましくは80〜150℃程度であり、特に100℃以上であってもよく、例えば110〜180℃(特に120〜150℃)程度であってもよい。また、動的粘弾性分析(DMA)法によるガラス転移温度で、例えば30〜200℃、好ましくは50〜150℃(例えば90〜130℃)、さらに好ましくは95〜125℃(特に100〜120℃)程度であってもよい。ガラス転移温度が小さすぎると、耐熱性が低下する虞がある。   The glass transition temperature (Tg) of the phenoxy resin of the present invention is a glass transition temperature measured by a differential scanning calorimeter (DSC) and may be 50 ° C. or higher, for example, 50 to 200 ° C., preferably 60 to 180 ° C. Preferably it is about 80-150 degreeC, 100 degreeC or more may be sufficient especially, for example, about 110-180 degreeC (especially 120-150 degreeC) may be sufficient. The glass transition temperature by dynamic viscoelasticity analysis (DMA) method is, for example, 30 to 200 ° C, preferably 50 to 150 ° C (eg 90 to 130 ° C), more preferably 95 to 125 ° C (particularly 100 to 120 ° C). ) Degree. If the glass transition temperature is too low, the heat resistance may be reduced.

本発明のフェノキシ樹脂は、電気絶縁性にも優れ、誘電率(比誘電率)(1GHz)が5以下であってもよく、例えば1.5〜5、好ましくは2〜4、さらに好ましくは3〜3.8(特に3.2〜3.6)程度である。さらに、誘電正接(1GHz)は0.05以下であってもよく、例えば0.01〜0.05、好ましくは0.015〜0.04、好ましくは0.02〜0.035(特に0.025〜0.03)程度である。   The phenoxy resin of the present invention is excellent in electrical insulation and may have a dielectric constant (relative dielectric constant) (1 GHz) of 5 or less, for example, 1.5 to 5, preferably 2 to 4, more preferably 3. It is about -3.8 (especially 3.2-3.6). Further, the dielectric loss tangent (1 GHz) may be 0.05 or less, for example, 0.01 to 0.05, preferably 0.015 to 0.04, preferably 0.02 to 0.035 (particularly 0.002). 025 to 0.03).

本発明のフェノキシ樹脂は、耐熱性にも優れ、線膨脹係数(α1及びα2)が100ppm以下であってもよく、例えば10〜100ppm、好ましくは20〜80ppm、さらに好ましくは30〜70ppm(特に40〜65ppm)程度である。   The phenoxy resin of the present invention is excellent in heat resistance and may have a linear expansion coefficient (α1 and α2) of 100 ppm or less, for example, 10 to 100 ppm, preferably 20 to 80 ppm, more preferably 30 to 70 ppm (particularly 40 ppm). ˜65 ppm).

本発明のフェノキシ樹脂は、9,9−ビス縮合多環式アリール骨格を有しているにもかかわらず、成形性に優れ、通常、自立膜を形成(単独で形成)できる。そのため、本発明には、このような自立膜も含まれる。   Although the phenoxy resin of the present invention has a 9,9-bis-fused polycyclic aryl skeleton, it is excellent in moldability and usually can form a self-supporting film (formation alone). Therefore, the present invention includes such a self-supporting film.

また、本発明のフェノキシ樹脂(又は自立膜)は、優れた機械的特性(例えば、高弾性率)を有している場合が多い。例えば、本発明のフェノキシ樹脂は、DMA法で測定される貯蔵弾性率が10MPaとなる温度が90℃以上(特に95℃以上)であってもよく、例えば90〜150℃、好ましくは95〜130℃、さらに好ましくは100〜120℃(特に105〜115℃)程度であるフェノキシ樹脂であってもよい。   In addition, the phenoxy resin (or free-standing film) of the present invention often has excellent mechanical properties (for example, high elastic modulus). For example, the phenoxy resin of the present invention may have a temperature at which the storage elastic modulus measured by the DMA method is 10 MPa, which may be 90 ° C. or higher (particularly 95 ° C. or higher), for example, 90 to 150 ° C., preferably 95 to 130. It may be a phenoxy resin at about 100 ° C., more preferably about 100 to 120 ° C. (especially 105 to 115 ° C.).

本発明のフェノキシ樹脂(又は自立膜)は、引張試験における引張強さが50MPa以上であってもよく、例えば50〜300MPa、好ましくは60〜200MPa、さらに好ましくは70〜150MPa(特に80〜100MPa)程度であってもよい。引張弾性率は2000MPa以上であってもよく、例えば2000〜10000MPa、好ましくは2500〜5000MPa、さらに好ましくは3000〜4000MPa(特に3200〜3500MPa)程度であってもよい。   The phenoxy resin (or self-supporting film) of the present invention may have a tensile strength in a tensile test of 50 MPa or more, for example, 50 to 300 MPa, preferably 60 to 200 MPa, more preferably 70 to 150 MPa (particularly 80 to 100 MPa). It may be a degree. The tensile modulus may be 2000 MPa or more, for example, 2000 to 10000 MPa, preferably 2500 to 5000 MPa, more preferably about 3000 to 4000 MPa (particularly 3200 to 3500 MPa).

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例において、用いた各種成分(及びその略称)は、以下の通りである。   In the Examples, the various components (and their abbreviations) used are as follows.

(二官能エポキシ化合物)
エピコート828:ビスフェノールA型エポキシ樹脂、三菱化学(株)製、「エピコート828」、エポキシ当量187g/eq
BNFG:9,9−ビス(6−グリシジルオキシ−2−ナフチル)フルオレン[9,9−ビス(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)フルオレン(大阪ガスケミカル(株)製)とエピクロロヒドリンとの反応により合成したもの]
(フェノール化合物)
ビスフェノールA(BisA):東京化成(株)製
ビスフェノールアセトフェノン(BisAP):東京化成(株)製
ビスヒドロキシテトラフェニルメタン(BisTP):東京化成(株)製
BNF:9,9−ビス(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)フルオレン、大阪ガスケミカル(株)製
(触媒)
2E4MZ:2−エチル−4−メチルイミダゾール:東京化成(株)製
また、実施例において、各種測定は以下のようにして行った。
(Bifunctional epoxy compound)
Epicoat 828: Bisphenol A type epoxy resin, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, “Epicoat 828”, epoxy equivalent 187 g / eq
BNFG: 9,9-bis (6-glycidyloxy-2-naphthyl) fluorene [9,9-bis (6-hydroxy-2-naphthyl) fluorene (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) and epichlorohydrin Synthesized by reaction]
(Phenol compound)
Bisphenol A (BisA): manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Bisphenol acetophenone (BisAP): manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Bishydroxytetraphenylmethane (BisTP): manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. BNF: 9,9-bis (6-hydroxy) -2-Naphthyl) fluorene, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd. (catalyst)
2E4MZ: 2-ethyl-4-methylimidazole: manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Further, in the examples, various measurements were performed as follows.

(分子量)
溶出液にテトラヒドロフランを用い、30℃(流速1.00mL/分)の条件で、2本の連続した線状ポリスチレンゲルカラム(Tosoh TSKgel GMHHR-L)を備えたゲルパーミエーションクロマトグラフィ(東ソー(株)製「HLC−8120GPC」)により、ポリスチレン標準で測定した。
(Molecular weight)
Tetrahydrofuran was used as an eluent, and gel permeation chromatography (Tosoh Corp.) equipped with two continuous linear polystyrene gel columns (Tosoh TSKgel GMH HR- L) at 30 ° C. (flow rate: 1.00 mL / min). ) “HLC-8120GPC”)), measured with polystyrene standards.

(ガラス転移温度(DSC))
示差走査熱量計(SII(株)製「DSC 6220」)を用いて、10℃/分の速度で30℃〜220℃の温度範囲で測定した。
(Glass transition temperature (DSC))
Using a differential scanning calorimeter (“DSC 6220” manufactured by SII), measurement was performed at a rate of 10 ° C./min in a temperature range of 30 ° C. to 220 ° C.

(ガラス転移温度(DMA)及び動的粘弾性)
動的粘弾性測定装置((株)ユービーエム製、Rheosol−G5000)を用いて、周波数1Hz、3℃/分の昇温速度で測定した。そして、ガラス転移温度(Tg)は、tanδのピークとした。また、動的粘弾性測定において、貯蔵弾性率10MPaにおける温度を読み取った。
(Glass transition temperature (DMA) and dynamic viscoelasticity)
Using a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (Rhesol-G5000, manufactured by UBM Co., Ltd.), the measurement was performed at a frequency of 1 Hz and a temperature rising rate of 3 ° C./min. The glass transition temperature (Tg) was a tan δ peak. In the dynamic viscoelasticity measurement, the temperature at a storage elastic modulus of 10 MPa was read.

(誘電特性)
PNA−Lネットワークアナライザー(アジレントテクノロジー(株)製「N5230A」)及び空洞共振器((株)関東電子応用開発製「CP431」)を使用し、試験温度23℃、50%RH、周波数1GHzで空洞共振器摂動法(ASTM D 2520準拠)にて測定した。
(Dielectric properties)
Using a PNA-L network analyzer (“N5230A” manufactured by Agilent Technologies) and a cavity resonator (“CP431” manufactured by Kanto Electronics Application Development Co., Ltd.), a cavity at a test temperature of 23 ° C., 50% RH, and a frequency of 1 GHz It was measured by a resonator perturbation method (according to ASTM D 2520).

(線膨脹係数)
熱機械分析装置((株)リガク製「TMA8310」)を使用し、室温〜300℃、5℃/min、窒素気流中、圧縮モード(荷重49mN)にて測定した。
(Linear expansion coefficient)
A thermomechanical analyzer (“TMA8310” manufactured by Rigaku Corporation) was used, and measurement was performed in a compressed mode (load 49 mN) in a nitrogen stream at room temperature to 300 ° C. and 5 ° C./min.

(引張試験による機械的特性)
万能材料試験機(インストロン社製「5528型」)を使用し、JIS K 7162に準拠し、試験片はIBA形で23℃、50%RHで測定した。
(Mechanical properties by tensile test)
A universal material testing machine (“5528 type” manufactured by Instron) was used, and in accordance with JIS K 7162, the test piece was IBA type and measured at 23 ° C. and 50% RH.

(比較例1)
23重量部のエピコート828(フェノール化合物に対して0.9当量)、28重量部のBNF、29重量部のシクロヘキサノン、0.02重量部の2E4MZを混合し、165℃にて攪拌しながら8時間反応させ、反応物を得た。
(Comparative Example 1)
23 parts by weight of Epicoat 828 (0.9 equivalents relative to the phenolic compound), 28 parts by weight of BNF, 29 parts by weight of cyclohexanone and 0.02 parts by weight of 2E4MZ were mixed and stirred at 165 ° C. for 8 hours. Reaction was performed to obtain a reaction product.

反応物の重量平均分子量は11000であった。また、反応物を含む反応液(固形分濃度約40%)をセルローストリアセテートフィルム(富士フィルム(株)製「TAC100」)上に塗布し、80℃で10分間乾燥した。乾燥後の膜(厚み20μm)を、セルローストリアセテートフィルムから剥離を試みたが、脆くて細片状に分かれ、明らかに自立膜を形成していなかった。なお、自立膜を形成できなかったため、ガラス転移温度(DMA)及び弾性率の測定はできなかった。   The weight average molecular weight of the reaction product was 11,000. Moreover, the reaction liquid (solid content concentration of about 40%) containing the reaction product was applied on a cellulose triacetate film (“TAC100” manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) and dried at 80 ° C. for 10 minutes. The dried film (thickness 20 μm) was peeled from the cellulose triacetate film, but it was fragile and divided into strips, clearly not forming a self-supporting film. In addition, since the self-supporting film could not be formed, the glass transition temperature (DMA) and the elastic modulus could not be measured.

(比較例2)
比較例1において、各成分を、21重量部のBNFG、7重量部のBisA、15重量部のシクロヘキサノン、0.02重量部の2E4MZにしたこと以外は、比較例1と同様にして反応物を得た。
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 1, the reactants were prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that each component was changed to 21 parts by weight of BNFG, 7 parts by weight of BisA, 15 parts by weight of cyclohexanone, and 0.02 parts by weight of 2E4MZ. Obtained.

反応物の重量平均分子量は25000であり、反応物のガラス転移温度(DSC)は105℃であり、ガラス転移温度(DMA)は91℃であった。また、反応物を、比較例1と同様にして塗布して乾燥したところ、乾燥後の膜はフィルムからきれいに剥離可能であり、自立膜を形成していることを確認した。また、動的粘弾性測定において、貯蔵弾性率10MPaにおける温度は106℃であった。   The weight average molecular weight of the reactant was 25000, the glass transition temperature (DSC) of the reactant was 105 ° C, and the glass transition temperature (DMA) was 91 ° C. Moreover, when the reaction material was applied and dried in the same manner as in Comparative Example 1, it was confirmed that the dried film was cleanly peelable from the film and formed a self-supporting film. In the dynamic viscoelasticity measurement, the temperature at a storage elastic modulus of 10 MPa was 106 ° C.

(実施例1)
比較例1において、各成分を、30重量部のBNFG、6重量部のBisA、7重量部のBisAP、356重量部のシクロヘキサノン、0.09重量部の2E4MZにしたこと以外は、比較例1と同様にして反応物を得た。
Example 1
Comparative Example 1 and Comparative Example 1 except that each component was 30 parts by weight BNFG, 6 parts by weight BisA, 7 parts by weight BisAP, 356 parts by weight cyclohexanone, 0.09 parts by weight 2E4MZ. A reaction product was obtained in the same manner.

反応物の重量平均分子量は32100であり、反応物のガラス転移温度(DSC)は130℃であり、ガラス転移温度(DMA)は107℃であった。また、反応物を、比較例1と同様にして塗布して乾燥したところ、乾燥後の膜はフィルムからきれいに剥離可能であり、自立膜を形成していることを確認した。また、動的粘弾性測定において、貯蔵弾性率10MPaにおける温度は110℃であった。   The weight average molecular weight of the reactant was 32100, the glass transition temperature (DSC) of the reactant was 130 ° C, and the glass transition temperature (DMA) was 107 ° C. Moreover, when the reaction material was applied and dried in the same manner as in Comparative Example 1, it was confirmed that the dried film was cleanly peelable from the film and formed a self-supporting film. In the dynamic viscoelasticity measurement, the temperature at a storage elastic modulus of 10 MPa was 110 ° C.

(実施例2)
比較例1において、各成分を、30重量部のBNFG、3.4重量部のBisA、9.8重量部のBisAP、65重量部のシクロヘキサノン、0.02重量部の2E4MZにしたこと以外は、比較例1と同様にして反応物を得た。
(Example 2)
In Comparative Example 1, each component was changed to 30 parts by weight of BNFG, 3.4 parts by weight of BisA, 9.8 parts by weight of BisAP, 65 parts by weight of cyclohexanone, 0.02 parts by weight of 2E4MZ, A reaction product was obtained in the same manner as in Comparative Example 1.

反応物の重量平均分子量は25100であり、反応物のガラス転移温度(DSC)は106℃であり、ガラス転移温度(DMA)は82℃であった。また、反応物を、比較例1と同様にして塗布して乾燥したところ、乾燥後の膜はフィルムからきれいに剥離可能であり、自立膜を形成していることを確認した。また、動的粘弾性測定において、貯蔵弾性率10MPaにおける温度は101℃であった。   The weight average molecular weight of the reactant was 25100, the glass transition temperature (DSC) of the reactant was 106 ° C., and the glass transition temperature (DMA) was 82 ° C. Moreover, when the reaction material was applied and dried in the same manner as in Comparative Example 1, it was confirmed that the dried film was cleanly peelable from the film and formed a self-supporting film. In the dynamic viscoelasticity measurement, the temperature at a storage elastic modulus of 10 MPa was 101 ° C.

(実施例3)
比較例1において、各成分を、30重量部のBNFG、8重量部のBisA、4.2重量部のBisAP、63重量部のシクロヘキサノン、0.02重量部の2E4MZにしたこと以外は、比較例1と同様にして反応物を得た。
(Example 3)
Comparative Example 1 except that each component was 30 parts by weight BNFG, 8 parts by weight BisA, 4.2 parts by weight BisAP, 63 parts by weight cyclohexanone, 0.02 parts by weight 2E4MZ in Comparative Example 1. In the same manner as in 1, a reaction product was obtained.

反応物の重量平均分子量は21300であり、反応物のガラス転移温度(DSC)は102℃であり、ガラス転移温度(DMA)は79℃であった。また、反応物を、比較例1と同様にして塗布して乾燥したところ、乾燥後の膜はフィルムからきれいに剥離可能であり、自立膜を形成していることを確認した。また、動的粘弾性測定において、貯蔵弾性率10MPaにおける温度は95℃であった。   The weight average molecular weight of the reactant was 21300, the glass transition temperature (DSC) of the reactant was 102 ° C., and the glass transition temperature (DMA) was 79 ° C. Moreover, when the reaction material was applied and dried in the same manner as in Comparative Example 1, it was confirmed that the dried film was cleanly peelable from the film and formed a self-supporting film. In the dynamic viscoelasticity measurement, the temperature at a storage elastic modulus of 10 MPa was 95 ° C.

(比較例3)
比較例1において、各成分を、40重量部のBNFG、8重量部のBisA、11.3重量部のBisTP、88重量部のシクロヘキサノン、0.02重量部の2E4MZにしたこと以外は、比較例1と同様にして反応物を得た。
(Comparative Example 3)
Comparative Example 1 except that each component in Comparative Example 1 was 40 parts by weight BNFG, 8 parts by weight BisA, 11.3 parts by weight BisTP, 88 parts by weight cyclohexanone, 0.02 parts by weight 2E4MZ. In the same manner as in 1, a reaction product was obtained.

反応物の重量平均分子量は17500であった。また、反応物を、比較例1と同様にして塗布して乾燥したところ、乾燥後の膜はフィルムから剥離可能であり、自立膜を形成していたが、膜が脆いため、ガラス転移温度(DMA)及び弾性率の測定はできなかった。   The weight average molecular weight of the reaction product was 17,500. In addition, when the reaction product was applied and dried in the same manner as in Comparative Example 1, the dried film was peelable from the film and formed a self-supporting film, but the film was brittle, so the glass transition temperature ( DMA) and elastic modulus could not be measured.

これらの結果を以下の表に示す。   These results are shown in the table below.

Figure 0006470593
Figure 0006470593

表1の結果から明らかなように、フルオレン骨格をグリシジルエーテル側に導入して反応させることで、より重合が進行した。さらに、フェノール化合物として、ビスフェノールアセトフェノンを用いることにより、重合がさらに進行し、分子量及び耐熱性が向上した。   As is clear from the results in Table 1, the polymerization proceeded more by introducing the fluorene skeleton into the glycidyl ether side and causing the reaction. Furthermore, by using bisphenol acetophenone as the phenol compound, the polymerization further progressed, and the molecular weight and heat resistance were improved.

(比較例4)
比較例1において、各成分を、23重量部のエピコート828、14.5重量部のBisA、56.25重量部のシクロヘキサノン、0.02重量部の2E4MZにしたこと以外は、比較例1と同様にして反応物を得た。また、反応物を、比較例1と同様にして塗布して乾燥したところ、乾燥後の膜はフィルムから剥離可能であり、自立膜を形成していた。
(Comparative Example 4)
Comparative Example 1 was the same as Comparative Example 1 except that each component was changed to 23 parts by weight of Epicoat 828, 14.5 parts by weight of BisA, 56.25 parts by weight of cyclohexanone, and 0.02 parts by weight of 2E4MZ. To obtain a reaction product. Moreover, when the reaction material was applied and dried in the same manner as in Comparative Example 1, the dried film was peelable from the film, and a self-supporting film was formed.

比較例2、実施例1及び比較例4で得られたフィルムについて、誘電特性、引張試験による機械的特性を評価した結果を表2に示す。   Table 2 shows the results of evaluating the dielectric properties and mechanical properties of the tensile tests of the films obtained in Comparative Example 2, Example 1 and Comparative Example 4.

Figure 0006470593
Figure 0006470593

表2の結果から明らかなように、実施例1のフィルムは、誘電率が小さく、誘電正接が大きいため、比較例2及び4のフィルムと同様に、優れた電気絶縁性を示した。また、実施例のフィルムは、比較例2及び4よりも線膨脹係数が小さく、優れた耐熱性を示した。さらに、実施例のフィルムは、比較例2及び4よりも引張強さ及び引張弾性率が大きく、優れた機械的特性を示した。   As is clear from the results in Table 2, the film of Example 1 had a low dielectric constant and a large dielectric loss tangent, and thus showed excellent electrical insulation properties as the films of Comparative Examples 2 and 4. Moreover, the film of an Example had a smaller linear expansion coefficient than Comparative Examples 2 and 4, and showed the outstanding heat resistance. Further, the films of the examples had higher tensile strength and tensile elastic modulus than those of Comparative Examples 2 and 4, and exhibited excellent mechanical properties.

本発明では、9,9−ビス縮合多環式アリール骨格を有しているにもかかわらず、フェノキシ樹脂を効率よく高分子量化できる。そして、このようなフェノキシ樹脂は、成形性に優れ、単独で自立膜を形成することも可能である。   In the present invention, despite having a 9,9-bis-fused polycyclic aryl skeleton, the phenoxy resin can be made high molecular weight efficiently. Such a phenoxy resin is excellent in moldability and can form a self-supporting film alone.

このような本発明のフェノキシ樹脂は、熱可塑性樹脂として使用できる他、硬化剤と組み合わせることにより、熱硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂組成物としても使用できる。   Such a phenoxy resin of the present invention can be used as a thermoplastic resin, or can be used as a thermosetting resin or a thermosetting resin composition by combining with a curing agent.

このような樹脂組成物(フェノキシ樹脂組成物)は、他の成分、例えば、他のフェノキシ樹脂、添加剤[例えば、安定化剤(酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐光安定剤、熱安定化剤など)、難燃剤、難燃助剤、可塑剤、耐衝撃改良剤、充填剤(又は補強剤)、分散剤、帯電防止剤、抗菌剤、滑剤、硬化剤(例えば、アミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤など)など]などを含んでいてもよい。これらの他の成分は、単独で又は2種以上組み合わせてもよい。なお、硬化剤を含む樹脂組成物は、前記のように、熱硬化性樹脂組成物(熱硬化性フェノキシ樹脂組成物)として使用できる。   Such a resin composition (phenoxy resin composition) contains other components such as other phenoxy resins and additives [for example, stabilizers (antioxidants, ultraviolet absorbers, light-resistant stabilizers, heat stabilizers, etc. Flame retardants, flame retardant aids, plasticizers, impact modifiers, fillers (or reinforcing agents), dispersants, antistatic agents, antibacterial agents, lubricants, curing agents (eg amine-based curing agents, acids) Anhydride-based curing agent and the like] may be included. These other components may be used alone or in combination of two or more. In addition, the resin composition containing a hardening | curing agent can be used as a thermosetting resin composition (thermosetting phenoxy resin composition) as mentioned above.

このような本発明のフェノキシ樹脂(又はその組成物)又はその成形体は、高耐熱性、高屈折率、高強度及び高弾性、高電気絶縁性などの優れた特性を有しており、種々の用途、例えば、電気用積層板、絶縁ワニスなどの電気・電子分野の成形体、層間絶縁膜、異方性導電膜などの絶縁膜、透明プラスチック基板、光導波路などの光学材料、樹脂改質剤、封止剤、接着剤、フィルムなどとして好適に使用できる。   Such a phenoxy resin (or a composition thereof) or a molded body thereof according to the present invention has excellent characteristics such as high heat resistance, high refractive index, high strength and high elasticity, and high electrical insulation, Applications, for example, electrical laminates such as electrical laminates, insulating varnishes, etc., interlayer insulation films, insulation films such as anisotropic conductive films, transparent plastic substrates, optical materials such as optical waveguides, resin modification It can be suitably used as an agent, sealant, adhesive, film and the like.

Claims (11)

下記式(A1)で表される化合物を含むエポキシ化合物(A)と、下記式(B1)で表される化合物及びビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類を含むフェノール化合物(B)とを反応させて、フェノキシ樹脂を製造する方法。
Figure 0006470593
(式中、環Zはナフタレン環、Rシアノ基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示し、Rはアルキレン基を示し、R炭化水素基を示し、R炭化水素基、基−OR(式中、Rは炭化水素基)、基−SR(式中、Rは炭化水素基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、置換アミノ基、ヒドロキシル基、ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ基、メルカプト基又はこれらの置換基同士が結合した基を示し、kは0〜4の整数、mは0以上の整数、nは0〜3の整数、pは0以上の整数である)
Figure 0006470593
(式中、Rは水素原子又は炭化水素基を示し、R は炭化水素基、基−OR(式中、Rは炭化水素基)、基−SR(式中、Rは炭化水素基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、カルバモイル基、置換アミノ基、ヒドロキシル基、ヒドロキシ(ポリ)アルコキシ基、メルカプト基又はこれらの置換基同士が結合した基を示し、シアノ基、ハロゲン原子又は炭化水素基を示し、qは0〜4の整数、rは0〜5の整数を示す)
An epoxy compound (A) containing a compound represented by the following formula (A1) is reacted with a compound represented by the following formula (B1) and a phenol compound (B) containing bis (hydroxyphenyl) alkanes, A method for producing a phenoxy resin.
Figure 0006470593
(In the formula, ring Z represents a naphthalene ring, R 1 represents a cyano group, a halogen atom or a hydrocarbon group , R 2 represents an alkylene group, R 3 represents a hydrocarbon group , R 4 represents a hydrocarbon group, group -OR (wherein R is a hydrocarbon group), group -SR (wherein R is a hydrocarbon group), acyl group, alkoxycarbonyl group, halogen atom, nitro group, cyano group, carboxyl group, amino group, carbamoyl A group, a substituted amino group, a hydroxyl group, a hydroxy (poly) alkoxy group, a mercapto group or a group in which these substituents are bonded to each other , k is an integer of 0 to 4, m is an integer of 0 or more, and n is 0 to 0. An integer of 3 and p is an integer of 0 or more)
Figure 0006470593
(Wherein R 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group, R 6 represents a hydrocarbon group, a group —OR (wherein R is a hydrocarbon group), a group —SR (wherein R is a hydrocarbon group) , Acyl groups, alkoxycarbonyl groups, halogen atoms, nitro groups, cyano groups, carboxyl groups, amino groups, carbamoyl groups, substituted amino groups, hydroxyl groups, hydroxy (poly) alkoxy groups, mercapto groups, or these substituents bonded together indicates the group, R 7 represents a cyano group, a halogen atom or a hydrocarbon group, q is an integer of 0 to 4, r is an integer of 0 to 5)
式(A1)において、Rがアルキル基、kが0〜1、RがC2−4アルキレン基、mが0〜10、nが0、Rがアルキル基又はアリール基、pが0〜4である請求項1記載の方法。 In Formula (A1), R 1 is an alkyl group, k is 0 to 1, R 2 is a C 2-4 alkylene group, m is 0 to 10, n is 0, R 4 is an alkyl group or an aryl group, and p is 0. The method according to claim 1, which is ˜4. 式(A1)において、mが0である請求項1又は2記載の方法。   The method according to claim 1 or 2, wherein m is 0 in formula (A1). 式(A1)で表される化合物が、9,9−ビス(グリシジルオキシナフチル)フルオレンである請求項1〜3のいずれかに記載の方法。   The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the compound represented by the formula (A1) is 9,9-bis (glycidyloxynaphthyl) fluorene. エポキシ化合物(A)が、式(A1)で表される化合物を50モル%以上の割合で含む請求項1〜4のいずれかに記載の方法。   The method in any one of Claims 1-4 in which an epoxy compound (A) contains the compound represented by Formula (A1) in the ratio of 50 mol% or more. 式(B1)において、R及びRがアルキル基又はアリール基、qが0〜2、Rがアルキル基、rが0〜1である請求項1〜5のいずれかに記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 5, wherein in formula (B1), R 5 and R 6 are alkyl groups or aryl groups, q is 0 to 2, R 7 is an alkyl group, and r is 0 to 1. 請求項1記載の式(A1)で表される化合物を含むエポキシ化合物(A)と、請求項1記載の式(B1)で表される化合物及びビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類を含むフェノール化合物(B)との反応により得られるフェノキシ樹脂であって、重量平均分子量が15000以上であるフェノキシ樹脂。   An epoxy compound (A) comprising a compound represented by the formula (A1) according to claim 1, and a phenol compound comprising a compound represented by the formula (B1) according to claim 1 and a bis (hydroxyphenyl) alkane ( A phenoxy resin obtained by reaction with B) having a weight average molecular weight of 15000 or more. 動的粘弾性分析法で測定される貯蔵弾性率において10MPaとなる温度が、95℃以上である請求項7記載のフェノキシ樹脂。   The phenoxy resin according to claim 7, wherein the temperature at which the storage elastic modulus measured by dynamic viscoelasticity analysis is 10 MPa is 95 ° C or higher. 示差走査熱量計(DSC)によるガラス転移温度が100℃以上である請求項7又は8記載のフェノキシ樹脂。   The phenoxy resin according to claim 7 or 8, wherein the glass transition temperature measured by a differential scanning calorimeter (DSC) is 100 ° C or higher. 請求項7〜9のいずれかに記載のフェノキシ樹脂で形成された成形体。   The molded object formed with the phenoxy resin in any one of Claims 7-9. 自立膜である請求項10記載の成形体。   The molded article according to claim 10, which is a self-supporting film.
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