JP6331275B2 - カラーフィルタ形成基板および有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板と、該基板を用いた有機ＥＬ表示装置に関し、特に、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板に関する。

近年、有機ＥＬ表示装置は、自己発光性であるために視認性が優れ、バックライトが不要なため、薄く、軽くでき、構造が簡単で低コスト化が期待でき、動画表示にも適していることから、液晶ディスプレイ装置やプラズマディスプレイ装置に続くフラットなディスプレイ装置（フラットパネルとも言う）として、研究開発、商品化が進められている。

そして、通常、白色発光の有機ＥＬ素子（有機発光素子、有機ＥＬ発光素子とも言う）を用いた白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置としては、図１３（ａ）に示すように、表示の高色純度と高輝度を両立するために、カラーフィルタ用のＲ、Ｇ、Ｂの各色の着色層を配した画素（着色画素とも言う）のほかに、高い光透過性の高光透過画素を備えた形態が採られている。
尚、高光透過画素には、通常、着色していない樹脂層や、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色を併せた色に合わせて若干着色してある樹脂層を配しているが、このような高光透過画素をＷＨＩＴＥ画素と言い、ＷＨＩＴＥ画素に配置されている樹脂層をＷＨＩＴＥ層と言う。
また、図１３（ｂ）に示すように、上記白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置の前面（観察者側）に円偏光板１３０を設け、外部入射光の反射を低減する形態も採られている。
あるいはまた、図１３（ｃ）に示すように、ＷＨＩＴＥ画素に相当する領域に着色材が分散された感光性樹脂からなる層を配し、これを透過率調整部１１３ＷＡとして、外光の入射や、入射された外光の、有機ＥＬ素子が有する電極及び金属配線での反射を調整する形態も採られている。（特許文献３参照）
図１３（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合、前面（観察者側）から入射される外光の反射率は、通常、９７％程度である。
図１３（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合、前面（観察者側）から入射される外光の反射率は、通常、０．１％程度で、表示の明るさは、図１３（ａ）に示す形態の有機ＥＬ表示装置の４０％程度である。
図１３（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置の場合、透過率調整部１１３ＷＡにより、外光の入射や、入射された外光の、有機ＥＬ素子が有する電極及び金属配線での反射を調整することができるが、外光の反射低減が不十分であり、反射ムラが見え易い。
尚、有機ＥＬ表示装置は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ装置、有機ＥＬディスプレイ装置とも言われ、表示装置は、表示パネルとも言われる。

このように、白色発光の有機ＥＬ素子を用いた白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置には種々の形態があり、いずれの形態も、各画素毎に白色発光の有機ＥＬ素子を対応して配し、各画素毎にＴＦＴ素子により制御駆動しているが、いずれの形態の場合も、表示装置の高精細化に伴い、ある画素領域についてみると、その画素領域の着色層に、隣接する画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が直接入り込み、あるいは、隣接する画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が該隣接する画素のカラーフィルタ用の着色層を通過して入り込み、これらが原因で、見る方向によって、表示される画像の色シフトや混色が発生していた。
これは、表示装置を高精細化した場合、画素サイズ（ピクセルサイズ）が小さくなるため、カラーフィルタ形成基板の各色の着色層の画素領域を区分けするブラックマトリクスとも呼ばれる遮光層の幅を一定にすると画素開口率が大幅に低下するため、遮光層の幅をできるだけ細くし、開口率を確保してするようにしていることと、有機ＥＬ素子からの光が、全て、カラーフィルタ形成基板に対して、その基材面に直交する方向に入射するのではなく、入射する角度に広がりをもっていることに、起因している。
尚、ある画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が、該画素のカラーフィルタ用の着色層を通過して、隣接する画素の着色層に入り込む場合には、２つの着色層の可視領域での透過特性により、ほとんど吸収されるため、特に、ある画素を表示するための有機ＥＬ素子からの白色光が、直接、隣接する画素の着色層に入り込むことが、表示される画像の色シフトや混色に大きく影響をしている。
そして、表示の高精細、高品質化の要求に伴い、各画素については、隣接する画素の有機ＥＬ素子から光の入り込みが、品質上、無視できなくなってきた。

図１３に示す各表示装置１２０、１２０ａ、１２０ｂの場合、発光する有機ＥＬ素子の光を効率的に取り出すために、有機ＥＬ素子を配した有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板との間に、絶縁性樹脂からなる接着剤層（例えば、光学接着剤、紫外線硬化樹脂、光学弾性樹脂などによって構成されるもので、図１３の１１４に相当する）を配して、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを貼り合わせて、有機ＥＬ表示装置を形成している。
これは、上記接着剤を不活性ガスと置き換えた中空構造の場合に比べて、光の直進性が良くなり、光の取り出し効率が良くなるためである。
しかし、上記接着剤としては、溶剤分を含まないことが要求され、粘度が高い無溶剤接着剤が用いられるため、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを、上記接着剤を介して貼り合わせする際に、気泡が生じることがあり、該気泡が原因で表示にムラが発生することにより、貼り合わせ工程での歩留まり低下させていた。

特開２００８−４７３４０号公報 特開２００２−３７７７７６号公報 特願２０１１−０４７９２４

上記のように、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置においては、特に、表示の高精細、高品質化の要求に伴い、品質上、各画素については、隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みが、無視できなくなってきて、この対応が求められていた。
また、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを、接着剤を介して貼り合わせする際に、気泡が生じることがあり、該気泡が原因で表示にムラが発生するという問題もあり、この対応も求められていた。
本発明は、これらに対応するもので、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置において、各画素についての隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因する、表示される画像の色シフトや混色を防止あるいは抑制でき、更に、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを、接着剤を介して貼り合わせする際に発生する気泡に起因する表示のムラをなくすことができる、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板を提供しようとするものである。
また、そのようなカラーフィルタ形成基板を用いた白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置を提供しようとするものである。

請求項１の発明のカラーフィルタ形成基板は、透明基板からなる基材の一面上に、カラーフィルタ用の各色の着色層を、各色それぞれ、所定の画素領域に配し、且つ、画素区分用遮光領域に遮光層を配して画素領域を区分けしている白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、前記基材から最も離れた前記遮光層の面の位置を、前記着色層の基材側ではない面よりも、前記基材から離れた位置とし、前記着色層及び前記遮光層を覆うように透明な平坦化層を配設していることを特徴とする。

請求項２の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１に記載のカラーフィルタ形成基板であって、着色層同士を離間して、前記各着色層を配しているものであり、前記遮光層は、１層の遮光性層からなる構造で、前記基材の一面に接して、前記平坦化層側に形成され、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めているものであることを特徴とする。
尚、ここでの「１層の遮光性層からなる構造」とは、遮光性層全体が、連続した１層形態である層構造で、且つ、同材料からなることを意味している。
請求項３の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項２に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光層の前記各着色層よりも前記基材から離れた部分の幅は、着色層同士が離間した部分を埋めている遮光部の幅よりも広いことを特徴とする。

請求項４の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素区分用遮光領域には、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設され、隙間なく配設されており、前記遮光層は、１層の遮光性層からなる構造で、前記着色層の前記基材でない面に接して、前記平坦化層側に形成されていることを特徴とする。

請求項５の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光層は、第１の遮光性層と第２の遮光性層とを、前記基材に直交する方向において離して設けた２層の遮光性層からなる構造であり、前記基材の一面に接して、第１の遮光性層を配設し、該第１の遮光層を覆うようにして、各画素領域から延設された着色層同士を、前記画素区分用遮光領域内において隙間なく配しているものであり、且つ、前記画素区分用遮光領域の各色の着色層の前記基材側でない面に接して、前記平坦化層側に、第２の遮光性層を配設していることを特徴とする。
請求項６の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項５に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記第２の遮光性層は、青色顔料を含む着色層からなることを特徴とする。 請求項７の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項６に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記青色顔料を含む着色層は、カラーフィルタ用の青色着色層と同じものであることを特徴とする。
尚、ここでの「２層の遮光性層からなる構造」とは、第１の遮光性層と第２の遮光性層とを、前記基材の面に直交する方向において離して設けた２層の構造であり、また、第１の遮光性層、第２の遮光性層の各遮光性層は、それぞれ、連続した１層形態である層構造で、且つ、同材料からなることを意味している。

請求項８の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記基材の一面に接して、第１の遮光性層を配設し、該第１の遮光性層を覆うようにして、各画素領域から延設された着色層同士を、第１の遮光性層領域内において離間して配しているものであり、前記第１の遮光性層領域内における着色層同士が離間した部分を埋め、且つ、前記画素区分用遮光領域の各色の着色層の前記基材側でない面に接して、前記平坦化層側に、前記離間した部分よりも幅広にして、第２の遮光性層を配設していることを特徴とする。
ここでの、第１の遮光性層、第２の遮光性層の各遮光性層は、それぞれ、全体が、連続した形態で、且つ、同材料からなることを意味している。

請求項９の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１ないし８のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記平坦化層が、無機組成物からなることを特徴とする。

請求項１０の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１ないし９のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光層領域において基材面から凸形状となる、前記平坦化層の基材側とは反対側の面の凸部の段差は、０. ５μｍ以下であることを特徴とする。
ここで、「前記平坦化層の基材側とは反対側の面の凸部の段差」とは、遮光層上の平坦化層の基材から遠い面と、着色層上の平坦化層の基材から遠い面との、基材面に直交する方向の距離の差であることを意味する。
尚、図１（ｃ）に示すように、平坦化層の基材側とは反対側の面は、画素の中心付近、着色層を覆う部分では平坦となるが、遮光層１２を覆う部分が凸形状となる。
請求項１１の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１０に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記凸部における平坦化層の基材側とは反対側の面の基材面からの距離が、画素中央部における前記平坦化層の基材側とは反対側の面の基材面からの距離と同じくなる位置であって、且つ、基材面に沿い画素を直交する方向において、前記各着色層よりも前記基材から離れた部分における前記遮光層の端から、最も近い位置、までの距離が、１. ０μｍ以上であることを特徴とする。

請求項１２の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１ないし１１のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記平坦化層の厚さが２. ０μｍ以下であることを特徴とする。

請求項１３の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１ないし１２のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素領域に、光吸収層が積層して形成されていることを特徴とする。
請求項１４の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１３に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層は、樹脂中に色材としてカーボンブラックもしくはチタンブラック等の黒色顔料を分散して含有しているものであることを特徴とする。
請求項１５の発明のカラーフィルタ形成基板は、請求項１３ないし１４のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層のＣ光源における平均透過率が４５％〜９５％であることを特徴とする。
尚、ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
ここでは、顕微分光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２０００、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）社製）を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記（１）式より、ＸＹＺ表色系のＹの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式（１）においては、Ｐ（λ）は、光源の分光組成、ｙ（λ）は、ＸＹＺ表示系における等色関数の１つ、τ（λ）は、ここでは、物体の分光透過率、ｋは定数である。

請求項１６の発明の有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを積層した構造の、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置であって、請求項１ないし１５のいずれかに記載のカラーフィルタ形成基板を用いていることを特徴とする。

（作用）
本発明のカラーフィルタ形成基板は、このような構成にすることにより、特に、表示の高精細、高品質化の要求に対応して、各画素についての隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因する、表示される画像の色シフトや混色を防止あるいは抑制でき、更には、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを、接着剤を介して貼り合わせする際に発生する気泡に起因する表示のムラをなくすことができる、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置を、作製することができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能としている。
具体的には、透明基板からなる基材の一面上に、カラーフィルタ用の各色の着色層を、各色それぞれ、所定の画素領域に配し、且つ、画素区分用遮光領域に遮光層を配して画素領域を区分けしている白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、前記基材から最も離れた前記遮光層の面の位置を、前記着色層の基材側ではない面よりも、前記基材から離れた位置とし、前記着色層及び前記遮光層を覆う透明な平坦化層を配設している請求項１の発明のカラーフィルタ形成基板の形態とすることにより、これを達成している。
更に具体的には、請求項１の発明のカラーフィルタ形成基板であって、着色層同士を離間して、前記各着色層を配しているものであり、前記遮光層は、１層構造で、前記基材の一面に接して、前記平坦化層側に形成され、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めている、請求項２の発明の形態が、挙げられる。
あるいは、請求項１の発明のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素区分用遮光領域には、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設され、隙間なく配設されており、前記遮光層は、１層構造で、前記着色層の前記基材でない面に接して、前記平坦化層側に形成されている請求項４の発明の形態が、挙げられる。
あるいは、請求項１の発明のカラーフィルタ形成基板であって、前記遮光層は、第１の遮光層と第２の遮光層とを、前記基材に直交する方向において離して設けた２層構造であり、前記基材の一面に接して、第１の遮光層を配設し、該第１の遮光層を覆うようにして、各画素領域から延設された着色層同士を、前記画素区分用遮光領域内において隙間なく配しているものであり、且つ、前記画素区分用遮光領域の各色の着色層の前記基材側でない面に接して、前記平坦化層側に、第２の遮光層を配設している請求項５の発明の形態が、挙げられる。
あるいは、請求項１の発明のカラーフィルタ形成基板であって、前記基材の一面に接して、第１の遮光性層を配設し、該第１の遮光性層を覆うようにして、各画素領域から延設された着色層同士を、第１の遮光性層領域内において離間して配しているものであり、前記第１の遮光性層領域内における着色層同士が離間した部分を埋め、且つ、前記画素区分用遮光領域の各色の着色層の前記基材側でない面に接して、前記平坦化層側に、前記離間した部分よりも幅広にして、第２の遮光性層を配設している請求項８の発明の形態が、挙げられる。

ここで、本発明のカラーフィルタ形成基板を用いた白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置における各画素についての隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因する、表示される画像の色シフトや混色を防止あるいは抑制できることを、図９に基づいて簡単に説明する。
尚、図９（ｂ）、図９（ｃ）に示す各カラーフィルタ形成基板においては、接着層１４と平坦化層１６とは、屈折率が近いものであることを前提としております。
まず、従来のカラーフィルタ形成基板１０Ａを用いた白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置の場合、図９（ａ）に示すように、画素領域１７ａに配された有機ＥＬ素子からの白色光は、大半は、光線Ｌ１１のように、カラーフィルタ形成基板１０Ａの基材１１の面に直交する方向に進み、画素領域１７ａの着色層１３Ｒに到達して通過するが、一部は、光線Ｌ１３のように、画素領域１７ａに配される着色層１３Ｒを通過して隣接する画素領域１７ｂの着色層１３Ｇに入射され通過し、あるいは、光線Ｌ１２のように、直接、隣接する画素領域１７ｂに配される着色層１３Ｇに入射されて通過する。
光線Ｌ１３の場合は、着色層１３Ｒ、着色層１３Ｇを通過するため、着色層１３Ｒ、着色層１３Ｇの透過特性からほとんどがカットされるが、光線Ｌ１２の場合は、着色層１３Ｇのみを通過するため、本来出射されるべきでない光が着色層１３Ｇの透過特性で出射されることとなる。
このため、特に、このような光線Ｌ１２が原因で、見る方向によっては、表示される画像の色シフトや混色が発生していた。
一方、図９（ｂ）に示すように、請求項２の発明の形態のカラーフィルタ形成基板１０を用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線Ｌ２２を遮光性層１２でカットし、図９（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線（図示していない）もカットしている。
このため、このような光線に起因する、見る方向による、表示される画像の色シフトや混色は発生しない。
また、図９（ｃ）に示すように、請求項４の発明の形態のカラーフィルタ形成基板１０ａを用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線Ｌ２２を遮光性層１２ａでカットし、図９（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線Ｌ３３は、一部通過する。
この形態の場合、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線Ｌ２２を遮光性層１２ａでカットしているため、見る方向による、表示される画像の色シフトや混色は発生しない。
請求項４の発明の形態においては、図９（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線Ｌ３３の大半を、第１の遮光層１２ｂ１でカットできればよく、第１の遮光層１２ｂ１の線幅を第２の遮光層１２ｂ２の線幅よりも小としても、同様に、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２、Ｌ１３に相当する光線に起因する、見る方向による、表示される画像の色シフトや混色は発生しない。
また、請求項５の発明の形態のカラーフィルタ形成基板１０ａを用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線を、図３に示す第２の遮光性層１２ｂ２でカットし、図９（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線の大半を、図３に示す第１の遮光性層１２ｂ１でカットするため、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２、Ｌ１３に相当する光線に起因する表示される画像の色シフトや混色は発生しない。
また、請求項８の発明の形態のカラーフィルタ形成基板１０ｈ２を用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線を遮光性層１２Ｈ２でカットすることができ、図９（ａ）に示す光線Ｌ１３に相当する光線の大半もカットすることができるため、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２、Ｌ１３に相当する光線に起因する表示される画像の色シフトや混色は発生しない。

請求項２の発明の形態において、前記遮光層の前記各着色層よりも前記基材から離れた部分の幅は、着色層同士が離間した部分を埋めている遮光部の幅よりも広い、請求項３の発明の形態の図４に示すカラーフィルタ形成基板１０ｈ１を用いた有機ＥＬ表示装置の場合も、表示される画像の色シフトや混色を効果的に抑制することが可能であるが、カラーフィルタ形成基板１０ｈ１の場合、前記遮光層の前記各着色層よりも前記基材から離れた部分の幅と、着色層同士が離間した部分を埋めている遮光部の幅とを、同じ幅にしたカラーフィルタ形成基板（図１参照）を用いた場合に比べて、各色の着色層の形成の位置精度を比較的ラフにできる。

上記本発明の請求項５の発明の形態のカラーフィルタ形成基板において、第２の遮光性層を青色色材を含む樹脂組成物層に置き換えた請求項６の発明の形態のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の場合は、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線は、前記青色色材を含む樹脂組成物層の透過特性から、各画素の領域に配される着色層を通過する際に、効果的に吸収され、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線に起因する、表示される画像の色シフトや混色を効果的に抑制することを可能としている。
そして、前記青色色材を含む樹脂組成物層が、カラーフィルタ用の青色着色層と同じ樹脂組成物からなる請求項７の形態の場合には、その作製において、カラーフィルタ用の青色着色層と前記青色色材を含む樹脂組成物層の形成を一緒の処理にて行うことを可能としている。

上記いずれかの形態のカラーフィルタ形成基板において、前記平坦化層が、無機組成物からなる請求項９の形態の場合には、ガスバリア性能を確保し易い。

上記いずれかの形態のカラーフィルタ形成基板において、前記遮光層領域において基材面から凸形状となる、前記平坦化層の基材側とは反対側の面の凸部の段差は、０. ５μｍ以下である請求項１０の形態の場合には、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを、絶縁性樹脂からなる接着剤により貼り合わせた構造の有機ＥＬ表示装置を作製する際、接着剤による貼り合わせ工程における気泡の発生を抑制でき、気泡に起因する表示のムラを防止でき、該貼り合わせ工程での歩留まりを向上できるものとしている。
更に、前記凸部における平坦化層の基材側とは反対側の面の基材面からの距離が、画素中央部における前記平坦化層の基材側とは反対側の面の基材面からの距離と同じくなる位置であって、且つ、基材面に沿い画素を直交する方向において、前記各着色層よりも前記基材から離れた部分における前記遮光層の端から、最も近い位置、までの距離が、１. ０μｍ以上である請求項１１の形態の場合には、貼り合わせ工程において、塗れ性を良くでき、一層、気泡の発生を抑制でき、気泡に起因する表示のムラを防止でき、該貼り合わせ工程での歩留まりを向上できるものとしている。
凸部の段差については、平坦化層形成の際、平坦化層形成用樹脂を固定して、遮光層の基材から最も離れた遮光層の面の位置を変化させることにより、段差の大きさを変えて、種々の段差にて、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを接着剤層で貼り合わせをした場合の結果から、段差が０. ５μｍ以下が好ましい。
また、距離Ｌｄについては、遮光層の基材から最も離れた遮光層の面の位置を固定して、平坦化層形成用樹脂の溶剤分の量を変えることにより、変化させて、種々の距離Ｌｄにて、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを接着剤層で貼り合わせをした場合の結果から、距離Ｌｄが、１. ０μｍ以上であることが好ましい。
尚、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを貼り合わせする際の、接着剤は、無溶媒系で粘度が高く、貼り合わせは、通常、該接着剤を一方の基板の複数個所に適量垂らした後に、気泡を抜くために両基板間を真空引きしながら、両基板間が所定の隙間を得るように圧接して、該接着剤が両基板間全体に行き渡るようにする。

上記いずれかの形態のカラーフィルタ形成基板において、前記平坦化層の厚さが２. ０μｍ以下である請求項１２の形態の場合には、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを、低光弾性の絶縁性樹脂からなる接着剤により貼り合わせた構造の有機ＥＬ表示装置において、光学特性を確保し、また、表示装置全体を薄くできる。

上記いずれかの形態において、前記画素領域に光吸収層を積層して形成されている請求項１３の形態とすることにより、混色防止作用の他に、外光反射の低減に加えて表示輝度の低下防止とを達成できる表示装置の作製を可能としている。
光吸収層としては、具体的には、樹脂中に色材としてカーボンブラックやチタンブラックなどの黒色顔料を分散して含有しているものが挙げられるが、これに限定はされない。 これらの形態において、前記光吸収層のＣ光源における平均透過率が４５％〜９５％である請求項１５の形態の場合、特に、外光反射の低減効果に加えて、表示の際の輝度を、円偏光板を用いた図１３（ｂ）に示す形態よりも、大きくできる。
尚、ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
ここでは、顕微分光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２０００、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）社製）を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記（１）式より、ＸＹＺ表色系のＹの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式（１）においては、Ｐ（λ）は、光源の分光組成、ｙ（λ）は、ＸＹＺ表示系における等色関数の１つ、τ（λ）は、ここでは、物体の分光透過率、ｋは定数である。

特に、表示の際の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ波長領域）全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットである場合、光吸収層を設けたことによる表示の際の色ずれを少ないものとできる。

本発明は、このように、特に、表示の高精細、高品質化の要求に対応して、各画素についての隣接する画素の有機ＥＬ素子からの光の入り込みに起因する、表示される画像の色シフトや混色を防止あるいは抑制でき、更には、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを、接着剤を介して貼り合わせする際に発生する気泡に起因する表示のムラをなくすことができる、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置の作製ができるカラーフィルタ形成基板の提供を可能とした。

図１（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第１の例の一部断面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す第１例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図１（ｃ）は、図１（ａ）のＡ１部を拡大して分かり易く示した断面図である。 図２（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第２の例の一部断面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示す第２例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図２（ｃ）は、図２（ａ）のＡ２部を拡大して分かり易く示した断面図である。 図３（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第３の例の一部断面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）に示す第３例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図３（ｃ）は、図３（ａ）のＡ３部を拡大して分かり易く示した断面図である。 本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第１の例の変形例の一部断面図である。 図５（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第４の例の一部断面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）に示す第４例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。 図６（ａ）は、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第５の例の一部断面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示す第５例のカラーフィルタ形成基板を用いた有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。 本発明のカラーフィルタ形成基板の実施の形態の第６の例の一部断面図である。 図８（ａ）は、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板の一部断面図であり、図８（ｂ）、図８（ｃ）は、それぞれ、第１の例のカラーフィルタ形成基板の変形例を示した一部断面図である。 図９（ａ）は、従来のカラーフィルタ形成基板１０Ａを用いた有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ素子から光線を示した一部断面図で、図９（ｂ）は、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０を用いた有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ素子から光線を示した一部断面図で、図９（ｃ）は、図２（ａ）に示す第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａを用いた有機ＥＬ表示装置における有機ＥＬ素子から光線を示した一部断面図である。 有機ＥＬ素子の構成例を示した概略層構成図である。 光吸収層の分光透過率特性を示した図である。 光吸収層の透過率と光吸収層を２回通過した外光の透過率との関係を示した図である。 図１３（ａ）は、従来のＷＨＩＴＥ層を配した有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図１３（ｂ）は、図１３（ａ）に示す表示装置の前面（観察者側）に円偏光板を配した有機ＥＬ表示装置の一部断面図であり、図１３（ｃ）は、図１３（ａ）に示す表示装置において、従来のＷＨＩＴＥ層形成領域に透過率調整部を配した有機ＥＬ表示装置の一部断面図である。

先ず、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第１の例を、図１（ａ）に基づいて説明する。
第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、透明基板からなる基材１１の一面１１Ｓ上に、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを、各色それぞれ、所定の画素領域１７に配し、且つ、画素区分用遮光領域１８に遮光層１２を配して画素領域１７を区分けしている、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であり、図１（ａ）に示すように、着色層同士を離間して、前記各着色層を配しており、遮光層１２は、１層の遮光性層からなる構造で、基材１１の一面１１Ｓに接して形成され、各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めている。
ここでは、遮光性層１２の幅を、画素区分用遮光領域１８の幅としている。
特に、第１の例においては、基材１１から最も離れた遮光層１２の面１２Ｓの位置を、各着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの基材１１側ではない面よりも、基材１１から離れた位置とし、各着色層及び遮光層１２を覆うように透明な平坦化層１６を配設している。
第１の例においては、図１（ｃ）に示すように、平坦化層１６は、遮光層１２を覆う部分において、基材１１の面１１Ｓから離れる方向に凸形状となる凸部１６Ｔを有するが、平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の凸部の段差δ１は、０. ５μｍ以下である。 更に、第１の例においては、凸部１６Ｔにおける平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離が、画素中央部における平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離と同じくなる位置で、基材面に沿い画素を直交する方向において、前記各着色層よりも前記基材から離れた部分における前記遮光層の端から、最も近い位置までの、距離Ｌｄ１が、１. ０μｍ以上である。
第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、図１（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子形成基板２０と接着剤層１４を介して貼り合わされて有機ＥＬ表示装置を形成する。
ここでの有機ＥＬ表示装置は、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用であるが、これらに限定はされない。
尚、図１（ａ）では、ＷＨＩＴＥ画素を明示していないが、ＷＨＩＴＥ画素の領域も、画素区分用遮光層１２にて区分けしている。
特に、本例では、画素区分用遮光領域１８の遮光層１２は、前記基材１１の一面１１Ｓに接した一層からなる。
第１の例のカラーフィルタ形成基板１０は、白色発光の有機ＥＬ素子（有機発光素子、有機ＥＬ発光素子とも言う）を各画素毎に形成した有機ＥＬ素子層２２Ａを有する有機ＥＬ素子形成基板２０と、絶縁性の樹脂層１４を間に挟んで、所定の間隔で積層されて、図１（ｂ）に示すように、有機ＥＬ表示装置となる。

第１の例のカラーフィルタ形成基板１０においては、基材１１から最も離れた遮光層１２の面１２Ｓの位置を、各着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの基材１１側ではない面よりも、基材１１から離れた位置としていることにより、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図９（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２、光線Ｌ１３に相当する、ある画素１７の有機ＥＬ素子から発光された光が隣接する画素の領域の着色層に入るそれぞれの光線を、カットすることができるものとし、これにより、このような光線に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しないようにしている。
そして、平坦化層１６の凸部１６Ｔの段差δ１を、０. ５μｍ以下とすることにより、有機ＥＬ素子形成基板２０とカラーフィルタ形成基板１０とを、絶縁性樹脂からなる接着剤１４により貼り合わせた構造の有機ＥＬ表示装置（図１（ｂ）参照）を作製する際、接着剤１４による貼り合わせ工程における気泡の発生を抑制でき、気泡に起因する表示のムラを防止でき、該貼り合わせ工程での歩留まりを向上できるものとしている。
更に、凸部１６Ｔにおける平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離が、画素中央部における平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離と同じくなる位置で、基材面に沿い画素を直交する方向において、前記各着色層よりも前記基材から離れた部分における前記遮光層の端から、最も近い位置までの、距離Ｌｄ１を、１. ０μｍ以上としていることにより、貼り合わせ工程において、塗れ性を良くでき、一層、気泡の発生を抑制でき、気泡に起因する表示のムラを防止でき、該貼り合わせ工程での歩留まりを向上できるものとしている。

図１（ａ）に示すカラーフィルタ形成基板１０と図１（ｂ）に示す有機ＥＬ表示装置の、各部材について説明する。
＜基板１１＞
第１の例に用いられる透明基板からなる基材１１としては、従来よりカラーフィルタに用いられているものを用いることができ、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明な無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明な樹脂基板等を挙げることができるが、特に、無機基板を用いることが好ましく、無機基板のなかでもガラス基板を用いることが好ましい。
さらには、上記ガラス基板のなかでも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。
無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、表示装置用のカラーフィルタに好適に用いることができるからである。
上記基板は、通常、透明な透明基板が用いられている。

＜画素区分用遮光領域の遮光層１２＞
カラーフィルタ用の各色の着色層の画素領域を区分けする画素区分領域の遮光層１２を形成するための遮光性の着色層としては、例えば、ここでは、エポキシ樹脂等の樹脂で被覆したカーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものが用いられている。
カーボンブラックをピグメント（顔料）としてバインダ樹脂中に分散させたものは、膜厚を比較的薄くして遮光性の樹脂層を形成することができる。
ここでは、画素区分用遮光領域の遮光層１２用の遮光性の着色層の形成をフォトリソグラフィー法を用いているが、この場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有する画素区分用遮光領域の遮光層１２形成用の感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、画素区分用遮光領域の遮光層１２形成用の遮光性の着色層を、印刷法やインクジェット法を用いて形成する場合もあるが、この場合には、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
尚、画素区分用遮光領域の遮光層１２の開口パターン形状や各色の着色層の配列は、限定はされない。 画素区分用遮光領域の遮光層１２の開口パターン形状がストライプ状の形状のものや、くの字形状、デルタ配列などの様に着色層の配列を変えたものも挙げられる。
また、ここでは、可視光領域での光学濃度が２. ０以上、好ましくは４. ０以上のものを遮光層としている。

＜着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ＞
本例では、カラーフィルタ形成用の各色の着色層は、赤色の着色層１３Ｒ、緑色の着色層１３Ｇ、青色の着色層１３Ｂの３色の着色層である。
各色の着色層は、各色の顔料や染料等の着色材（色材ともいう）をバインダ樹脂中に分散または溶解させた着色部形成用の樹脂組成物を用いて、フォトリソ法（フォトリソグラフィー法とも言う）により形成されるものである。
上記着色層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合、着色材および感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
上記各色の着色層の膜厚は、通常、１μｍ〜５μｍ程度で設定される。
着色層の色としては、赤色、緑色、青色の３色を少なくとも含むものであれば特に限定されるものではなく、例えば、赤色、緑色、青色の３色、または、赤色、緑色、青色、黄色の４色、または、赤色、緑色、青色、黄色、シアンの５色等とすることもできる。
尚、赤色（Ｒとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑色（Ｇとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青色（Ｂとも記載）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。
これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

＜ＷＨＩＴＥ層＞
図１（ａ）では、明示していないが、上記の画素区分用遮光層１２や着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成する樹脂組成物等から着色材（色材）を除いた組成の樹脂が用いられ、フォトリソ法により形成されるが、形成方法はこれに限定はされない。

＜平坦化層１６＞
平坦化層１６用の材料としては、光学特性が良く、平坦性が良く、各着色を保護でき、接着層１４との接合性が良いものが好ましいが、塗膜して形成する熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
フィルムをラミネートして平坦化層１６を形成するフィルム部材である場合には、特に、作製面から好ましい。
第１の例では、画素中央での平坦化層１６の厚さｔ１を２μｍ以下としているが、２μｍ以下とすることにより、有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを、絶縁性樹脂からなる接着剤層により貼り合わせた構造の有機ＥＬ表示装置において、良好な光学特性を確保し、また、表示装置全体を薄くできる。
塗膜形成用の光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
尚、第１の例では、カラーフィルタ形成基板は面付けして各着色層、遮光層１２を形成した後に、樹脂組成物をスピンコーテイング法により塗布する。
塗膜形成用の熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤をもちいたものがあげられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊（昭和６２年）等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。
アゾ化合物としては、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス−［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、および２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ（４−メチルゼンゾイル）ペーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルエキサネート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカルボネート、ｔ−ブチル−４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。
ラミネート形成用のフィルム部材としては、熱硬化性の樹脂フィルム（シートとも言う）が挙げられるが、ロールラミネーターなどで画素区分け用の遮光層やカラーフィルタ用の各色の着色層が形成された側上にフィルム部材を置き、熱と圧力で樹脂を流動させ、封止させる。
例えば、半硬化のエポキシ樹脂をベースとする樹脂フィルムの両面を剥離性のフイルムで保護した形態で用いる場合には、扱いが容易で、ロールラミネーターで低温で短時間に貼り付け、別の硬化炉でキュアーすることができる。
また、平坦化層を、ＩＴＯやＳｉＯ₂ やＳｉ_x Ｎ_y Ｏ_z （窒化シリケート：ｘ、ｙ、ｚは整数）やＳｉ_x Ｃ_y Ｏ_z （炭化シリケート：ｘ、ｙ、ｚは整数）のような無機組成物で形成しても良い。
平坦化層が、無機組成物からなる場合には、ガスバリア性を確保し易い。

＜接着剤層１４＞
絶縁性の樹脂層である接着剤層１４の材料としては、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物としては、上記カラーフィルタ形成用の各色の着色層に用いられるバインダ樹脂と同様のもの、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
この場合も、感光性樹脂を含有する着色部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。
熱硬化性樹脂組成物としては、エポキシ化合物を用いたもの、熱ラジカル発生剤をもちいたものがあげられる。
エポキシ化合物としては、カルボン酸やアミン系化合物などにより硬化しうる公知の多価エポキシ化合物を挙げることができ、このようなエポキシ化合物は、例えば、新保正樹編「エポキシ樹脂ハンドブック」日刊工業新聞社刊（昭和６２年）等に広く開示されており、これらを用いることが可能である。
熱ラジカル発生剤としては過硫酸塩、ヨウ素等のハロゲン、アゾ化合物、および有機過酸化物からなる群から選択される少なくとも一種であり、より好ましくは、アゾ化合物または有機過酸化物である。
アゾ化合物としては、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス−［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、および２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）などが挙げられ、有機過酸化物としては、ジ（４−メチルゼンゾイル）ペーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルエキサネート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカルボネート、ｔ−ブチル−４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタネート、およびジクミルパーオキサイドなどが挙げられる。

＜有機ＥＬ素子形成基板２０＞
（１） 基材２１
基材２１としては、基本的に、基材１１と同様の材質が用いることができるが、第１の例のカラーフィルタを用いた図１（ｂ）に示す表示装置の場合は、基材１１側から外側に出射して表示するため、透明である必要はない。

（２） 有機ＥＬ素子（有機発光素子、有機ＥＬ発光素子とも言う）２２
図１（ｂ）に示す白色発光の有機ＥＬ素子２２については、図１（ｂ）では明示していないが、例えば、図１０に示すような材料構成とする。
図１０に示す有機ＥＬ素子２２は、赤、緑、青に発光する３つの材料を用いて、併せて白色発光とするものです。
勿論、所望の白色発光ができれば、上記の３つの材料の組み合わせに限らない。
（有機ＥＬ層２６）
有機ＥＬ素子２２を形成する有機ＥＬ層２６（図１の２２Ａに相当）は、少なくとも発光層２７を含む１層もしくは複数層の有機層から構成されるものである。
発光層以外の有機ＥＬ層２６を構成する有機層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。
この正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合が多い。
また、有機ＥＬ層を構成する有機層としては、正孔ブロック層や電子ブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して発光層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。
有機ＥＬ層の構成としては、一般的な構成であればよく、発光層のみ、正孔注入層／発光層、正孔注入層／発光層／電子注入層、正孔注入層／正孔ブロック層／発光層／電子注入層、正孔注入層／発光層／電子輸送層などを例示することができる。
白色発光の有機ＥＬ素子２２における、発光材料は、単一の化合物で構成されることはほとんどなく、一般的には、２つないし３つの色の異なる発光材料を用いている。
発光スペクトルは、各色の発光材料のスペクトルを併せた形となる。
（陽極２５、陰極２８）
陽極２５、陰極２８の電極層を形成する導電性材料としては、一般に金属材料が用いられるが、有機物や無機化合物を用いてもよく、複数の材料を混合して用いてもよい。
また、陽極、陰極の電極層は、光の取り出し面に応じて、透明性を有するか否かを適宜選択される。
陽極２５には、正孔が注入し易いように仕事関数の大きい導電性材料が好ましく用いられ、陰極２８には、電子が注入し易いように仕事関数の小さな導電性材料が好ましく用いられる。
前記導電性材料としては、透明性を要求される場合には、Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ（ＩＺＯ）、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｏ（ＩＴＯ）、Ｚｎ−Ｏ−Ａｌ、Ｚｎ−Ｓｎ−Ｏ等が挙げられ、透明性が要求されない場合には、金属を用いることができ、具体的にはＡｕ、Ｔａ、Ｗ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｐｄ、Ｃｒ、あるいは、Ａｌ合金、Ｎｉ合金、Ｃｒ合金等を挙げることができる。
陽極２５および陰極２８のいずれの電極層も、抵抗が比較的小さいことが好ましい。
電極層の成膜方法としては、一般的な電極の成膜方法を用いることができ、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、印刷法等を挙げることができる。
また、電極層のパターニング方法としては、フォトリソグラフィー法を挙げることができる。

次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第２の例を挙げる。
第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａも、第１の例と同様、透明基板からなる基材１１の一面１１Ｓ上に、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを、各色それぞれ、所定の画素領域１７に配し、且つ、画素区分用遮光領域１８に遮光層１２ａを配して画素領域１７を区分けしている、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であるが、図２（ａ）に示すように、第２の例は、特に、画素区分用遮光領域１８には、隣接する画素のカラーフィルタ用の各色の着色層がそれぞれ延設され、隙間なく配設されており、前記遮光層１２ａは、１層の遮光性層からなる構造で、前記着色層の前記基材でない面に接して、前記平坦化層１６側に形成されている。
ここでは、遮光性層１２ａの幅を、画素区分用遮光領域１８の幅としている。
また、ここでも、基材１１から最も離れた遮光層１２ａの面１２ａＳの位置を、各着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの基材１１側ではない面よりも、基材１１から離れた位置とし、各着色層及び遮光層１２ａを覆うように透明な平坦化層１６を配設している。
そして、第１の例と同様、図２（ｃ）に示すように、平坦化層１６は、遮光層１２ａを覆う部分において、基材１１の面１１Ｓから離れる方向に凸形状となる凸部１６Ｔを有するが、平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の凸部の段差δ２は、０. ５μｍ以下である。
更に、第１の例と同様、凸部１６Ｔにおける平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離が、画素中央部における平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離と同じくなる位置で、基材面に沿い画素を直交する方向において、前記各着色層よりも前記基材から離れた部分における前記遮光層の端から、最も近い位置までの、距離Ｌｄ２が、１. ０μｍ以上である
第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａも、図２（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子形成基板２０と接着剤層１４を介して貼り合わされて有機ＥＬ表示装置を形成する。
ここでの有機ＥＬ表示装置は、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用であるが、用途は、これらに限定はされない。
各部材としては、第１の例と同様のものを適用する。

第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａにおいても、基材１１から最も離れた遮光層１２の面１２ａＳの位置を、各着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの基材１１側ではない面よりも、基材１１から離れた位置としていることにより、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図９（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２、光線Ｌ１３に相当する、ある画素１７の有機ＥＬ素子から発光された光が隣接する画素の領域の着色層に入るそれぞれの光線を、カットすることができるものとし、これにより、このような光線に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しないようにしている。
そして、平坦化層１６の凸部１６Ｔの段差δ２を、０. ５μｍ以下とすることにより、有機ＥＬ素子形成基板２０とカラーフィルタ形成基板１０とを、絶縁性樹脂からなる接着剤１４により貼り合わせた構造の有機ＥＬ表示装置（図１（ｂ）参照）を作製する際、接着剤１４による貼り合わせ工程における気泡の発生を抑制でき、気泡に起因する表示のムラを防止でき、該貼り合わせ工程での歩留まりを向上できるものとしている。 更に、凸部１６Ｔにおける平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離が、画素中央部における平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離と同じくなる位置で、基材面に沿い画素を直交する方向において、前記各着色層よりも前記基材から離れた部分における前記遮光層の端から、最も近い位置までの、距離Ｌｄ２を、１. ０μｍ以上としていることにより、貼り合わせ工程において、塗れ性を良くでき、一層、気泡の発生を抑制でき、気泡に起因する表示のムラを防止でき、該貼り合わせ工程での歩留まりを向上できるものとしている。

次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第３の例を挙げる。
第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂも、第１の例、第２の例と同様、透明基板からなる基材１１の一面１１Ｓ上に、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを、各色それぞれ、所定の画素領域１７に配し、且つ、画素区分用遮光領域１８に遮光層１２ｂを配して画素領域１７を区分けしている、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であるが、図３（ａ）に示すように、遮光層１２ｂは、第１の遮光性層１２ｂ１と第２の遮光性層１２ｂ２とを、基材１１に直交する方向において離して設けた２層の遮光性層からなる構造であり、基材１１の一面１１Ｓに接して、第１の遮光性層１２ｂ１を配設し、該第１の遮光１ｂ１層を覆うようにして、各画素領域から延設された着色層同士を、前記画素区分用遮光領域内において隙間なく配しているものであり、且つ、前記画素区分用遮光領域１８の各色の着色層の基材１１側でない面に接して、平坦化層１６側に、第２の遮光性層１２ｂ２を配設している。
ここでは、第１の遮光性層１２ｂ１の幅と第２の遮光性層１２ｂ２の幅を同じく、画素区分用遮光領域１８の幅としている。
また、ここでも、画素区分用遮光領域１８の第２の遮光層１２ｂ２の、基材１１の一面１１Ｓから最も離れた面１２ｂＳは、カラーフィルタ用の各色の着色層の前記基材１１側でない側の面よりも、前記基材１１の一面１１Ｓから離れた位置に形成されている。
そして、第１の例、第２の例と同様、図２（ｃ）に示すように、平坦化層１６は、遮光層１２ａを覆う部分において、基材１１の面１１Ｓから離れる方向に凸形状となる凸部１６Ｔを有するが、平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の凸部の段差δ３は、０. ５μｍ以下である。
更に、第１の例、第２の例と同様、凸部１６Ｔにおける平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離が、画素中央部における平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離と同じくなる位置で、基材面に沿い画素を直交する方向において、前記各着色層よりも前記基材から離れた部分における前記遮光層の端から、最も近い位置までの、距離Ｌｄ３が、１. ０μｍ以上である
第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂも、図３（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子形成基板２０と接着剤層１４を介して貼り合わされて有機ＥＬ表示装置を形成する。
ここでの有機ＥＬ表示装置は、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用であるが、用途は、これらに限定はされない。
各部材としては、第１の例と同様のものを適用する。

第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂにおいても、基材１１から最も離れた遮光層１２の面１２ｂＳの位置を、各着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの基材１１側ではない面よりも、基材１１から離れた位置としていることにより、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置に用いられた場合、図９（ａ）に示す従来の有機ＥＬ表示装置における光線Ｌ１２、光線Ｌ１３に相当する、ある画素１７の有機ＥＬ素子から発光された光が隣接する画素の領域の着色層に入るそれぞれの光線を、カットすることができるものとし、これにより、このような光線に起因する、見る方向により、表示される画像の色シフトや混色を発生しないようにしている。
そして、平坦化層１６の凸部１６Ｔの段差δ３を、０. ５μｍ以下とすることにより、有機ＥＬ素子形成基板２０とカラーフィルタ形成基板１０とを、絶縁性樹脂からなる接着剤１４により貼り合わせた構造の有機ＥＬ表示装置（図１（ｂ）参照）を作製する際、接着剤１４による貼り合わせ工程における気泡の発生を抑制でき、気泡に起因する表示のムラを防止でき、該貼り合わせ工程での歩留まりを向上できるものとしている。 更に、凸部１６Ｔにおける平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離が、画素中央部における平坦化層１６の基材１１側とは反対側の面の基材面１１Ｓからの距離と同じくなる位置で、基材面に沿い画素を直交する方向において、前記各着色層よりも前記基材から離れた部分における前記遮光層の端から、最も近い位置までの、距離Ｌｄ３を、１. ０μｍ以上としていることにより、貼り合わせ工程において、塗れ性を良くでき、一層、気泡の発生を抑制でき、気泡に起因する表示のムラを防止でき、該貼り合わせ工程での歩留まりを向上できるものとしている。

次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第４の例を挙げる。
第５の例のカラーフィルタ形成基板１０ｃは、図５（ａ）に示すように、図３（ａ）に示す第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂにおいて、第２の遮光層１２ｂ２の線幅を、前記第１の遮光層１２ｂ１の線幅よりも大きして、且つ、第２の遮光性層１２ｂ２の幅を、画素区分用遮光領域１８の幅としているもので、それ以外は、第３の例と同じである。
第４の例は、第２の遮光層１２ｃ２の線幅は、第１の遮光層１２ｃ１の線幅よりも大きく、且つ、第２の遮光性層１２ｃ２の幅を、画素区分用遮光領域１８の幅である。
第４の例のカラーフィルタ形成基板１０ｃも、図５（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子形成基板２０と接着剤層１４を介して貼り合わされて有機ＥＬ表示装置を形成する。
ここでの有機ＥＬ表示装置は、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用であるが、用途は、これらに限定はされない。
各部材としては、第１の例と同様のものを適用する。
平坦化層１６の形状も、第３の例と同様である。
第４の例のカラーフィルタ形成基板１０ｃも、第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂと同様の作用効果を得ることができる。

次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第５の例を挙げる。
図６（ａ）に示す第５の例のカラーフィルタ形成基板１０ｄは、図５（ａ）に示す第４の例のカラーフィルタ形成基板１０ｃにおいて、光吸収層１５を各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂと第２の遮光層１２ｃ２との間に配したもので、光吸収層１５は、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ全体を覆うように配されている。
ここでは、光吸収層１５を各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂと第２の遮光層１２ｄ２との間に配している。
本例でも、図６（ａ）に示すように、第２の遮光層１２ｄ２の線幅を、第１の遮光層１２ｄ１の線幅よりも大とし、且つ、第２の遮光性層１２ｄ２の幅を、画素区分用遮光領域１８の幅としているもので、それ以外は、第４の例と同じである。
第５の例のカラーフィルタ形成基板１０ｄも、図６（ｂ）に示すように、有機ＥＬ素子形成基板２０と接着剤層１４を介して貼り合わされて有機ＥＬ表示装置を形成する。
ここでの有機ＥＬ表示装置は、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用であるが、用途は、これらに限定はされない。
各部材としては、第１の例と同様のものを適用する。
平坦化層１６の形状も、第４の例と同様である。
本例の場合は、このような形態故に、第４の例と同様の作用効果を得るに加えて、光吸収層１５を設けたことにより、外光の反射光を低減することができる。

以下、光吸収層１５について説明しておく。
＜光吸収層１５＞
光吸収層１５を形成する材料としては、樹脂中に、色材としてカーボンブラックやチタンブラック等の黒色顔料を含有し、色調整用にＢＬＵＥ顔料等含有し、これらを分散させたものが用いられるが、上記樹脂としては、画素区分用遮光層１２や着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成する樹脂組成物等から色材を除いた組成の樹脂が用いられて、塗膜される。
塗膜方法としては、フォトリソグラフィー（ダイコート法、スピンコート法）、インクジェット法等が挙げられるが、通常は、フォトリソグラフィーにて塗膜する。
塗膜性や外光反射低減の面からは、光吸収層１５の膜厚は０．３μｍ以上であることが好ましい。
主な色材の濃度調整により、光吸収層を透過する光の強度を調整でき、また、色調整用の顔料を適宜含有させることにより、表示の際の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ波長領域）全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットな透過率特性を容易に得ることができる。
主な色材としてのカーボンブラックやチタンブラック等の黒色顔料の濃度を調整することにより、図１２に示すように、種々の透過率を容易に得ることができる。
尚、図１２では、光吸収層の透過率の値を横軸で表し、光吸収層の透過率の値に対応した光吸収層を２回通過した場合の透過率を縦軸で表しており、図１２における三角印は、カーボンブラック濃度を調整して測定して得た光吸収層の透過率（横軸）と、対応する該吸収層を２回通過した場合の透過率（縦軸）を示している。
また、色調整用の顔料を含有量を調整することにより、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）にわたりフラットに近い透過率特性を容易に得ることができる。
光吸収層は、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）において、フラットに近い光透過特性の方が光吸収層を設けたことによる色ずれは小さく、表示の際の透過光の色ずれ、外光反射の色ずれを小さくすることができる。
例えば、図１１に示すフラットに近い透過率特性を有する光吸収層を用いた場合、光吸収層を設けたことによる色ずれの問題はない。

例えば、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）において、光吸収層１５の透過率特性をフラットで６０％とした場合、２回光吸収層１５を通過する光は、実質６０％の６０％で３６％となる。
また、表示する際の光は、光吸収層１５を１回通過して出射されるため、光吸収層１５による透過光の低下は１回で済み、例えば、光吸収層１５の透過率を６０％とすれば、１回光吸収層１５を通過による透過光の低下は、実質６０％となる。
したがって、第５の例のカラーフィルタ形成基板を用いた場合、光吸収層１５の透過率特性が、可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長範囲）においてフラットで６０％とすれば、図１３（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置に比べて、前面（観察者側）から外光が入射して、内部の電極や配線で反射して出射する、外光の反射光を３６％に低減することができ、表示の際の通過光を６０％とでき、表示の際の通過光については、図１３（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置の４０％程度である図１３（ｂ）に示す円偏光板を用いた有機ＥＬ表示装置に比べて、表示の際の通過光を多くすることができる。
尚、光吸収層１５の透過率としては、従来の図１３（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置に比べて、前面（観察者側）から外光が入射して、内部の電極や配線で反射して出射する、外光の反射光を低減でき、且つ、図１３（ｂ）に示す円偏光板を用いた有機ＥＬ表示装置に比べて、表示の際の透過光を多くすることからは、Ｃ光源の場合、平均透過率が４５％〜９５％であることが好ましい。
ここでの「平均透過率」とは、光吸収層の透過率を可視光領域全域にわたる透過率が略フラットで、可視光領域全域にわたる透過率を平均することにより得られる値である。
ここでは、顕微分光装置（ＯＳＰ−ＳＰ２０００、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）社製）を用いて透過スペクトルを測定しており、測定により得られた透過スペクトルより下記（１）式より、ＸＹＺ表色系のＹの値が求められるが、実質的には、これに相当する。
尚、式（１）においては、Ｐ（λ）は、光源の分光組成、ｙ（λ）は、ＸＹＺ表示系における等色関数の１つ、τ（λ）は、ここでは、物体の分光透過率、ｋは定数である。

特に、表示の際の可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ波長領域）全体にわたり光吸収層の光透過率のバラツキが少ないフラットである場合、光吸収層を設けたことによる表示の際の色ずれを少ないものとできる。

次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の実施形態の第６の例を挙げる。
図７に示す第６の例のカラーフィルタ形成基板１０ｅは、第１の例と同様、透明基板からなる基材１１の一面１１Ｓ上に、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを、各色それぞれ、所定の画素領域１７に配し、且つ、画素区分用遮光領域１８に遮光層１２ａを配して画素領域１７を区分けしている、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であるが、図７に示すように、第２の例は、特に、基材１１の一面１１Ｓに接して、第１の遮光性層１２ｅ１を配設し、該第１の遮光性層１２ｅ１を覆うようにして、各画素領域から延設された着色層同士を、第１の遮光性層領域内において離間して配しているものであり、前記第１の遮光性層領域内における着色層同士が離間した部分を埋め、且つ、前記画素区分用遮光領域の各色の着色層の前記基材側でない面に接して、前記平坦化層側に、前記離間した部分よりも幅広にして、第２の遮光性層１２ｅ２を配設している。
ここでは、第１の遮光層１２ｅ１の幅と、第２の遮光性層１２ｅ２の幅とを画素区分け用遮光領域の幅としている。
第６の例のカラーフィルタ形成基板１０ｅも、有機ＥＬ素子形成基板２０と接着剤層１４を介して貼り合わされて有機ＥＬ表示装置を形成する。
ここでの有機ＥＬ表示装置は、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器とも言う）等のモバイル電子機器用であるが、用途は、これらに限定はされない。
各部材としては、第１の例と同様のものを適用する。
平坦化層１６の形状も、第１の例と同様である。
このような形態故に、第１の例と同様の作用効果を得ることができる。

本発明のカラーフィルタ形成基板は、上記の形態に限定はされない。
例えば、上記の実施例３〜実施例５の各例において、それぞれ、第２の遮光層１２ｂ２、１２ｃ２、１２ｄ２を青色色材を含む樹脂組成物層に置き換えた形態も挙げられる。 これらの形態における、青色色材を含む樹脂組成物層は、その透過特性から、各画素の領域に配される着色層を通過する際に、効果的に吸収され、図９（ａ）に示す光線Ｌ１２に相当する光線に起因する、表示される画像の色シフトや混色を効果的に抑制することを可能としている。
尚、前記青色色材を含む樹脂組成物層が、カラーフィルタ用の青色着色層と同じ樹脂組成物からなる場合には、作製において、カラーフィルタ用の青色着色層と前記青色色材を含む樹脂組成物層の形成を一緒の処理にて行うことができる。

また、第２の例の変形例として、カラーフィルタ用の各色の着色層を覆う保護層を配して、保護層の基材１１側でない側の面に、遮光層（図２の遮光層１２ａに相当）が形成されている形態も挙げられる。
この形態の場合、保護層に配設により平坦化や下地の安定化が見込まれ、遮光層を確実に形成し易くなり、更に、前記保護層が、無機組成物からなる場合には、ガスバリア性を確保でき、遮光層の形成の際の下地として安定化できる。
勿論、第２の例と同様の作用効果を得ることができる。

同様に、第３の例〜第５の例の各例の変形例として、カラーフィルタ用の各色の着色層を覆う保護層を配して、保護層の基材１１側でない側の面に、第２の遮光層（図３の遮光層１２ｂ２、図５の遮光層１２ｃ２、図６の遮光層１２ｄ２に相当）が形成されている形態も挙げられる。
これらの形態の場合、保護層に配設により平坦化や下地の安定化が見込まれ、遮光層を確実に形成し易くなり、更に、前記保護層が、無機組成物からなる場合には、ガスバリア性を確保でき、遮光層の形成の際の下地として安定化できる。
勿論、これらの形態の場合も、第３の例〜第５の例の各例と同様の作用効果を得ることができる。

第１の例の変形例として、図４に示すような、遮光層１２の各着色層よりも基材１１から離れた部分の幅Ｗ１が、着色層同士が離間した部分を埋めている遮光部の幅Ｗ２よりも広い形態が挙げられる。
ここでは、幅Ｗ１を画素区分用遮光領域１８の幅としており、第１の例と同様の作用を効果を得ることができる。
また、第１の例（図８（ａ）の１０）の変形例として、図８（ｂ）、図８（ｃ）に、それぞれ示す、各着色層の基材１１側に光吸収層１５を配した形態も挙げられる。
各部材としては、光吸収層１５以外、第１の例と同様のものを適用する。
平坦化層１６の形状も、第１の例と同様である。
本例の場合は、このような形態故に、第１の例と同様の作用効果を得るに加えて、光吸収層１５を設けたことにより、外光の反射光を低減することができる。

次に、本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法の例を簡単に説明しておく。
先ず、図１（ａ）に示す第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法の１例を挙げる。
予め、透明な基材１１を用意しておき、先ず、該基材１１の一面上に、一般的なフォトリソ法で画素区分用遮光領域の遮光層１２を形成し、次いで、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、ＷＨＩＴＥ層１３Ｗを、順次、一般的なフォトリソ法により、それぞれ、所定の形成領域に形成する。
通常、画素区分用遮光領域の遮光層１２やカラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂは、各色の顔料や染料等の着色材をバインダ樹脂中に分散または溶解させた着色部形成用の樹脂組成物を用いて、フォトリソ法（フォトリソグラフィー法とも言う）により形成するが、これに限定はされない。
印刷法や、インクジェット法にて形成することもできる。
尚、ＷＨＩＴＥ画素がある場合には、更に、ＷＨＩＴＥ層を、上記の画素区分用遮光領域の遮光層１２や着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成する樹脂組成物等から着色材（色材）を除いた組成の樹脂が用いられ、フォトリソ法により形成されるが、形成方法はこれに限定はされない。
印刷法や、インクジェット法にて形成することもできる。
そして、遮光層１２、カラーフィルタ用の各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ、ＷＨＩＴＥ層１３Ｗを形成後に、熱硬化性樹脂組成物と光硬化性樹脂組成物を用いて、平坦化層１６を塗膜形成する。
図４に示す第１の例の変形例のカラーフィルタ形成基板１０ｈ１についても、第１の例と同様に形成することができる。

図２（ａ）に示す第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａの作製方法は、前述の第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法において、画素区分用遮光領域の遮光層１２の形成と各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの順を変えて行う。
各層の形成方法は、上記の第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法の場合と同じである。
図３（ａ）に示す第３の例のカラーフィルタ形成基板１０ｂの作製方法は、遮光層の形成を、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの形成の前後に行う。
各層の形成方法は、上記の第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法の場合と同じである。
図５（ａ）に示す第４の例のカラーフィルタ形成基板１０ｃの作製方法、第３のカラーフィルタ形成基板１０ｂの作製方法と基本的には同じである。
図６（ａ）に示す第５の例のカラーフィルタ形成基板１０ｄの作製方法は、第３のカラーフィルタ形成基板１０ｂの作製方法における、第２の遮光層１２ｄ２の形成前に、予め、光球種層を形成しておくもので、他は同じである。
図７に示す第６の例のカラーフィルタ形成基板１０ｅの作製方法は、図２（ａ）に示す第２の例のカラーフィルタ形成基板１０ａの作製方法と同様にして行うことができる。
また、図８（ｂ）に示す形態のカラーフィルタ形成基板１０ｆの作製の場合には、第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法において、各色の着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂの形成の前に光吸収層の形成を行う行程を増やす。
光吸収層の形成は、フォトリソ法やインクジェット法等にて行うことができる。
また、図８（ｃ）に示す形態のカラーフィルタ形成基板１０ｇの作製の場合には、第１の例のカラーフィルタ形成基板１０の作製方法において、遮光層１２の形成の前に光吸収層の形成を行う。
光吸収層の形成は、塗布法等にて行うことができる。

［実施例］
更に、実施例を挙げて説明する。
（実施例１）
実施例１は、図１（ａ）に示す１例のカラ−フィルタ形成基板を作製したもので、以下のように、光硬化性の硬化性樹脂組成物Ａを調製して作製し、作製された硬化性樹脂組成物Ａを用いて、カラーフィルタ形成用の赤色硬化性樹脂組成物、緑色硬化性樹脂組成物、青色硬化性樹脂組成物、画素区分用遮光部における遮光性の樹脂遮光膜形成用の硬化性樹脂組成物を作製し、これらを用いて、各硬化性樹脂組成物毎にフォトリソ法を行い、カラーフィルタ用の各着色樹脂層、画素区分用遮光部を形成したものです。
ここでは、画素区分用遮光部１２を形成した後、カラーフィルタ用の赤色の着色樹脂層１３Ｒ、緑色の着色樹脂層１３Ｇ、青色の着色樹脂層１３Ｂを、それぞれフォトリソ工程で形成した。

（硬化性樹脂組成物Ａの調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２’ーアゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。
その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。
得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
・ 上記共重合樹脂溶液（固形分５０％） ：１６重量部
・ ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）
：２４重量部
・ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０） ：４重量部
・ ２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン ：４重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：５２重量部

（画素区分用遮光部１２の形成）
先ず、基材１１であるガラス基板（旭硝子社製、ＡＮ材）の一面上に、遮光層１２形成用の黒色の遮光性の光硬化性樹脂組成物を用いて、フォトリソ法により、形成膜厚が２．５μｍとなるように、画素区分用遮光部を形成した。
＜遮光層１２形成用の黒色の遮光性の光硬化性樹脂組成物の作製＞
先ず、下記分量の成分を混合し、ビーズミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液Ｂを調整した。
・ 樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ） ：２０重量部
・ 高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社 Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １６３） ：５重量部
・ 溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル） ：７５重量部
次に、下記分量の成分を十分混合して、遮光性の樹脂遮光膜形成用の組成物を得た。
・ 上記黒色顔料分散液Ｂ ：４３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：１９重量部
・ ジエチレングリコールジメチルエーテル ：３８重量部
基材１１の一面に、上記遮光性の樹脂遮光膜形成用の組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、遮光性樹脂層を形成した。
当該遮光性の着色樹脂層を塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより、２．０ｋＷの超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、画素区分用遮光部１２を所定形状に形成した。
尚、上記の樹脂被覆カーボンブラック（三菱化学社製ＭＳ１８Ｅ）は、平均粒径２５ｎｍである。
粒径は、例えば、日機装社製のレーザードップラー散乱光解析粒度分析計（商品名「Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ９３４ＵＰＡ」）を用い、通常は、着色組成物に含まれる溶剤（希釈溶剤と呼ぶ）で希釈し、着色組成物の顔料粒径の累積が５０％を占める粒径を５０％平均粒径とし、その値を測定して求める。

次いで、以下のようにして、カラ−フィルタ用の各色の着色樹脂層を形成した。
（１）赤色の着色樹脂層１３Ｒの形成
ブラックマトリックス上に、下記組成の赤色硬化性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥した。
次いで、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋｗの超高圧水銀ランプを用いて着色層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を１０秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、赤色硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後、基板を２３０℃の雰囲気下に15分間放置することにより、加熱処理を施して赤色画素パターンを表示用領域１３Ｓに形成した。
形成膜厚は２．０μｍとなった。
＜赤色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７ ：３重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４ ：４重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２３重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部
（２）緑色の着色樹脂層１３Ｇの形成
次に、下記組成の緑色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、緑色画素を表示用領域に緑色の着色層からなるレリーフパターンを形成した。
＜緑色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８ ：７重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８ ：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２２重量部
・ 酢酸ー３−メトキシブチル ：６７重量部
（３）青色の着色樹脂層１３Ｂの形成
更に、下記組成の青色硬化性樹脂組成物を用いて、赤色のレリーフパターン形成と同様の工程で、塗布膜厚を変えて、形成膜厚が２．０μｍとなるようにして、表示用領域に青色のレリーフパターンを形成した。
＜青色硬化性樹脂組成物の組成＞
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６ ：４重量部
・ Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３：１重量部
・ ポリスルホン酸型高分子分散剤 ：３重量部
・ 硬化性樹脂組成物Ａ ：２５重量部
・ 酢酸−３−メトキシブチル ：６７重量部

（平坦化層１６の形成）
上記のようにして着色樹脂層１３を形成した基板上に、前述の硬化性樹脂組成物Ａをスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜２．０μｍの塗布膜を形成した。
硬化性樹脂組成物Ａの塗布膜から１００μｍの距離にフォトマスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて平坦化層の形成領域に相当する領域のみに紫外線を10秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液２３℃）中に1 分間浸漬してアルカリ現像し、硬化性樹脂組成物の塗布膜の未硬化部分のみを除去した。
その後基板を２３０℃の雰囲気中に１５分間放置することにより加熱処理を施して保護膜を形成した。
このようにして、図１（ａ）に示す例のカラーフィルタ形成基板１０を作製した。
このとき図１（ｃ）に示すδ１、Ｌｄ１の値はそれぞれ０．３μｍ、１．０μｍであった。

（実施例２）
画素区分用遮光部１２の膜厚を２．７μｍにする以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ形成基板１０を作製した。
このとき図１（ｃ）に示すδ１、Ｌｄ１の値はそれぞれ０．５μｍ、１．２μｍであった。

（実施例３）
保護膜１６形成時の乾燥条件をゆるやかにする以外は実施例２とどうようにしてカラーフィルタ形成基板１０を作製した。
乾燥条件を変更することで、保護膜のレベリング性が変わり、図１（ｃ）に示すδ１、Ｌｄ１の値はそれぞれ０．５μｍ、１．５μｍであった。

（比較例１）
画素区分用遮光部１２の膜厚を３．０μｍにする以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ形成基板１０を作製した。このとき図１（ｃ）に示すδ１、Ｌｄ１の値はそれぞれ０．７μｍ、１．３μｍであった。

（比較例２）
保護膜１６形成時の乾燥条件をきつくする以外は実施例２とどうようにしてカラーフィルタ形成基板１０を作製した。乾燥条件を変更することで、保護膜のレベリング性が変わり、図１（ｃ）に示すδ１、Ｌｄ１の値はそれぞれ０．５μｍ、０．７μｍであった。

各実施例、各比較例のカラーフィルタ形成基板について、それぞれ、所定の方法により形成した白色光源の有機ＥＬ素子と、ＵＶ硬化性の樹脂接着剤（ＳＶＲ１３２０: デクセリアルズ株式会社製）を用いて貼り合わせを行いパネルを作製し、作製された各パネルの表示ムラの有無を目視にて確認した。
結果、表１に示すように、実施例１〜３の各カラーフィルタ形成基板を用いた場合には、表示ムラの発生はみられなかったが、比較例１、２の各カラーフィルタ形成基板を用いた場合には、表示ムラの発生が確認された。

これより、凸部の段差については、０. ５μｍ以下が好ましく、また、距離Ｌｄ１については、１. ０μｍ以上であることが好ましい。
また、実施例１〜実施例３、比較例１、比較例２の各カラーフィルタ形成基板を用いて作製した各パネルについて、表示される画像の色シフトや混色の有無を目視にて検査したが、表示される画像の色シフトや混色は見られなかった。

１０、１０ａ、１０ｂ、１０ｃ カラーフィルタ形成基板
１０ｄ、１０ｅ、１０ｆ、１０ｇ カラーフィルタ形成基板
１０ｈ１ カラーフィルタ形成基板
１１ 基材（透明基板とも言う）
１１Ｓ 基材面
１２、１２ａ、１２Ａ 遮光性層
１２ｂ１、１２ｃ１、１２ｄ１ 第１の遮光性層（単に遮光性層とも言う）
１２ｂ２、１２ｃ２、１２ｄ２ 第２の遮光性層（単に遮光性層とも言う）
１２ｅ１ 第１の遮光性層（単に遮光性層とも言う）
１２ｅ２ 第２の遮光性層（単に遮光性層とも言う）
１２Ｓ、１２ａＳ、 （基材から最もはなれた遮光層の）面
１２ｂＳ、１２ｃＳ、１２ｄＳ （基材から最もはなれた遮光層の）面
１２ｈＳ、１２ｅＳ （基材から最もはなれた遮光層の）面
１３Ｒ 赤色着色層
１３Ｇ 緑色着色層
１３Ｂ 青色着色層
１４ 接着剤層（絶縁性の樹脂層）
１５ 光吸収層
１６ 平坦化層
１７ 画素領域
１７ａ〜１７ｆ 画素領域
１８ 画素区分用遮光領域
２０ 有機ＥＬ素子形成基板
２１ 基材（透明基板とも言う）
２２ 有機ＥＬ素子（有機発光素子、有機ＥＬ発光素子とも言う）
２２Ａ 有機ＥＬ素子層
２５ 陽極
２６ 有機ＥＬ層
２７ 発光層
２８ 陰極
Ｌｄ１、Ｌｄ２、Ｌｄ３ 距離（長さ）
δ１、δ２、δ３ 段差
ｔ１、ｔ２、ｔ３ （画素中央部の）厚さ
１１０、１１０ａ、１１０ｂ、 カラーフィルタ形成基板
１１１ 基材（透明基板とも言う）
１１２ ブラックマトリックス
１１３Ｒ 赤色着色層
１１３Ｇ 緑色着色層
１１３Ｂ 青色着色層
１１３Ｗ ＷＨＩＴＥ層
１１３ＷＡ 透過率調整部
１１３ＲＬ１、１１３ＲＬ２、１１３ＲＬ３ 赤色の表示色
１１３ＧＬ１、１１３ＧＬ２、１１３ＧＬ３ 緑色の表示色
１１３ＢＬ１、１１３ＢＬ２、１１３ＢＬ３ 青色の表示色
１１４ 絶縁性の樹脂層
１２０ 有機ＥＬ素子形成基板
１２１ 基材（透明基板とも言う）
１２２ 有機ＥＬ素子
１２２Ｗ 白色光

Claims (8)

1. 透明基板からなる基材の一面上に、カラーフィルタ用の各色の着色層を、各色それぞれ、所定の画素領域に配し、且つ、画素区分用遮光領域に遮光層を配して画素領域を区分けしている白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置用のカラーフィルタ形成基板であって、
   前記基材から最も離れた前記遮光層の面の位置を、前記着色層の基材側ではない面よりも、前記基材から離れた位置とし、
   前記着色層と、前記遮光層とは、平面視上重ならない配置であり、
   前記着色層及び前記遮光層を覆うように透明な平坦化層を配設しており、
   前記遮光層領域において基材面から凸形状となる、前記平坦化層の基材側とは反対側の面の凸部の段差は、０．５μｍ以下であり、
   前記凸部における平坦化層の基材側とは反対側の面の基材面からの距離が、画素中央部における前記平坦化層の基材側とは反対側の面の基材面からの距離と同じくなる位置であって、且つ、基材面に沿い画素を直交する方向において、前記各着色層よりも前記基材から離れた部分における前記遮光層の端から、最も近い位置、までの距離が、１．０μｍ以上であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
2. 請求項１に記載のカラーフィルタ形成基板であって、着色層同士を離間して、前記各着色層を配しているものであり、前記遮光層は、１層の遮光性層からなる構造で、前記基材の一面に接して、前記平坦化層側に形成され、前記各画素領域から延設された着色層同士が離間した部分を埋めているものであることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
3. 請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記平坦化層が、無機組成物からなることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
4. 請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記平坦化層の厚さが２．０μｍ以下であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
5. 請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記画素領域に、光吸収層が積層して形成されており、
   ３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長領域における前記光吸収層の最大光透過率および最小光透過率の差が、２０％以下の範囲内であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
6. 請求項５に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層は、樹脂中に色材としてカーボンブラックもしくはチタンブラックを分散して含有しているものであることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
7. 請求項５または請求項６に記載のカラーフィルタ形成基板であって、前記光吸収層のＣ光源における平均透過率が４５％〜９５％であることを特徴とするカラーフィルタ形成基板。
8. 有機ＥＬ素子形成基板とカラーフィルタ形成基板とを積層した構造の、白色光源タイプの有機ＥＬ表示装置であって、請求項１ないし請求項７のいずれかに記載のカラーフィルタ形成基板を用いていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。

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