JP6329397B2 - 画像検査装置及び画像検査方法 - Google Patents
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Description
1,1A,1B ロードロックチャンバー
2,2A,2B,2C,2D 処理チャンバー
3 搬送チャンバー
4 基板搬送ロボット
401 ハンド
401a 支持板
401b,401c アーム
401d 支持部材
402 水平駆動部
402a,402b アーム
403 回転駆動部
404 昇降駆動部
405 ロボット制御部
5 画像検査装置
501 カメラ(撮像手段)
501a 第1カメラ
501b 第2カメラ
502 ライト
502a 第1ライト
502b 第2ライト
503 画像検査制御部(判定手段,基準画像生成手段)
S 基板(検査対象)
Claims (7)
- 検査対象を撮影する撮像手段と、
前記検査対象の画像が無地の画像で含まれている基準画像と前記検査対象を撮影した撮影画像との差分を取ることにより前記基準画像の前記検査対象の画像内には含まれていない画像を抽出し、その画像に基づいて前記検査対象の良否を判定する判定手段と、
を備えた画像検査装置において、
前記撮影画像に含まれる前記検査対象を示す画像を無地の画像にする所定の画像処理を行って前記判定手段に用いられる前記基準画像を生成する基準画像生成手段を備えたことを特徴とする、画像検査装置。 - 前記基準画像生成手段が行う所定の画像処理は、前記撮像手段で撮影された撮影画像に含まれる前記検査対象の画像に対するクロージング処理である、請求項1に記載の画像検査装置。
- 前記検査対象は、基板搬送ロボットにより搬送される矩形の基板であり、
前記撮像手段は、前記基板の左右の両側部を撮影する一対のカメラであり、
前記カメラは、センサの配列方向が前記基板搬送ロボットによる前記基板の移動方向に対して直交する方向に設定されたラインセンサを有し、前記基板搬送ロボットにより前記基板が搬送されることによって前記ラインセンサが当該基板の左右の両側部に対して相対移動する期間に撮影動作を行って前記基板の左右の両側部の画像を取り込む、請求項2に記載の画像検査装置。 - 前記基準画像生成手段は、前記クロージング処理をした後、更に前記撮影画像内の前記基板の輪郭線に相当する疑似エッジを検出し、その疑似エッジで囲まれた前記基板の画像を無地の画像に変換して前記基準画像を生成する、請求項3に記載の画像検査装置。
- 前記判定手段は、抽出した画像に対して収縮処理をし、収縮処理後の画像の面積が予め設定された閾値以上の面積を有する場合に前記検査対象の基板は不良と判定する、請求項4に記載の画像検査装置。
- 撮像手段で検査対象を撮影する第1の工程と、
前記第1の工程で撮影された撮影画像に対して、当該撮影画像に含まれる前記検査対象を示す画像を無地の画像にする所定の画像処理を行って基準画像を生成する第2の工程と、
前記第2の工程で生成された前記基準画像と前記第1の工程で撮影された前記撮影画像との差分を取ることにより前記基準画像の前記検査対象の画像内には含まれていない画像を抽出し、その画像に基づいて前記検査対象の良否を判定する第3の工程と、
を備えたことを特徴とする、画像検査方法。 - 前記検査対象は、基板搬送ロボットにより搬送される矩形の基板であり、
前記撮像手段は、前記基板の左右の両側部を撮影する一対のカメラであり、
前記カメラは、センサの配列方向が前記基板搬送ロボットによる前記基板の移動方向に対して直交する方向に設定されたラインセンサを有し、
前記第1の工程では、前記基板搬送ロボットにより前記基板が搬送されることによって前記ラインセンサが当該基板の左右の両側部に対して相対移動する期間に前記カメラの撮影動作を行って前記基板の左右の両側部の画像を取り込み、
前記第2の工程では、前記カメラで取り込まれた画像に含まれる前記検査対象の画像に対してクロージング処理を行うことにより前記基準画像を生成する、請求項6に記載の画像検査方法。
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US5537669A (en) * | 1993-09-30 | 1996-07-16 | Kla Instruments Corporation | Inspection method and apparatus for the inspection of either random or repeating patterns |
JP3596863B2 (ja) * | 1999-11-26 | 2004-12-02 | シャープ株式会社 | 画像圧縮装置および画像伸張装置、ならびに画像圧縮方法および画像伸張方法をコンピュータに実行させるためのプログラムをそれぞれ記録したコンピュータ読取可能な記録媒体 |
JP2001304842A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-10-31 | Hitachi Ltd | パターン検査方法及びその装置並びに基板の処理方法 |
JP2001343337A (ja) | 2000-06-05 | 2001-12-14 | Nano System Kk | 基板欠陥検出装置 |
JP4154156B2 (ja) * | 2002-02-08 | 2008-09-24 | ソニーマニュファクチュアリングシステムズ株式会社 | 欠陥分類検査装置 |
DE10239548A1 (de) * | 2002-08-23 | 2004-03-04 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Inspektion eines Objekts |
JP2005258724A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Rohm Co Ltd | 製品検査装置 |
US7561751B2 (en) * | 2004-11-02 | 2009-07-14 | Panasonic Corporation | Image processing method |
JP4244046B2 (ja) * | 2004-11-02 | 2009-03-25 | パナソニック株式会社 | 画像処理方法および画像処理装置 |
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JP4696862B2 (ja) * | 2005-11-11 | 2011-06-08 | セイコーエプソン株式会社 | 画像処理装置、画像処理方法および描画装置 |
JP2007149837A (ja) * | 2005-11-25 | 2007-06-14 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | 画像欠陥検査装置、画像欠陥検査システム及び画像欠陥検査方法 |
KR20070118755A (ko) * | 2006-06-13 | 2007-12-18 | 삼성전자주식회사 | 의사 윤곽 제거 방법 및 그 장치 |
US8428387B2 (en) * | 2007-03-06 | 2013-04-23 | Shimadzu Corporation | Edge evaluation method, edge detection method, image correction method, and image processing system |
WO2009097494A1 (en) * | 2008-01-30 | 2009-08-06 | Rudolph Technologies, Inc. | High resolution edge inspection |
DE102009050711A1 (de) * | 2009-10-26 | 2011-05-05 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Detektion von Rissen in Halbleitersubstraten |
JP5543872B2 (ja) * | 2010-07-27 | 2014-07-09 | 株式会社東芝 | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
JP2012117918A (ja) * | 2010-12-01 | 2012-06-21 | Toray Eng Co Ltd | シート材端部の観察評価装置及び方法 |
JP2012194030A (ja) | 2011-03-16 | 2012-10-11 | Research Institute Of Advanced Technology Co Ltd | 画像の検査方法および装置 |
US9196031B2 (en) * | 2012-01-17 | 2015-11-24 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Appearance inspection apparatus and method |
JP2013250188A (ja) * | 2012-06-01 | 2013-12-12 | Seiko Epson Corp | 欠陥検出装置、欠陥検出方法、および欠陥検出プログラム |
US9118345B2 (en) * | 2012-10-04 | 2015-08-25 | Altera Corporation | Data compression profiler for configuration of compression |
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