[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP6312454B2 - 偏光光照射装置 - Google Patents

偏光光照射装置

Info

Publication number
JP6312454B2
JP6312454B2 JP2014022098A JP2014022098A JP6312454B2 JP 6312454 B2 JP6312454 B2 JP 6312454B2 JP 2014022098 A JP2014022098 A JP 2014022098A JP 2014022098 A JP2014022098 A JP 2014022098A JP 6312454 B2 JP6312454 B2 JP 6312454B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polarizer
light
wire grid
polarized light
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014022098A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015148746A (ja
Inventor
和重 橋本
和重 橋本
敏成 新井
敏成 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
V Technology Co Ltd
Original Assignee
V Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by V Technology Co Ltd filed Critical V Technology Co Ltd
Priority to JP2014022098A priority Critical patent/JP6312454B2/ja
Priority to KR1020150017412A priority patent/KR102272435B1/ko
Priority to CN201520088043.XU priority patent/CN204650013U/zh
Priority to CN201510064078.4A priority patent/CN104834043B/zh
Priority to TW104104139A priority patent/TWI657274B/zh
Publication of JP2015148746A publication Critical patent/JP2015148746A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6312454B2 publication Critical patent/JP6312454B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3025Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
    • G02B5/3058Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state comprising electrically conductive elements, e.g. wire grids, conductive particles
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/28Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
    • G02B27/286Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising for controlling or changing the state of polarisation, e.g. transforming one polarisation state into another
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/13378Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
    • G02F1/133788Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

本発明は、偏光光照射装置に関するものである。
偏光していない光から直線偏光を得る偏光子として、ワイヤーグリッド偏光子が知られている。ワイヤーグリッド偏光子は、光透過性の基板上に電気導体の直線状細線を微細線巾・微細間隔で平行に配列形成したものである。その製造方法は、例えば、リフトオフ法で直線状細線を形成することが知られており、リフトオフ法によって直線状細線の形成を行う際のレジストに対するパターン形成を電子線リソグラフィ又はX線リソグラフィを用いて行うことが知られている(例えば、特許文献1参照)。
偏光子を通った直線偏光を被照射面に照射する偏光光照射装置は、例えば、液晶パネル用配向膜を基板上に形成する光配向処理に用いられる。このような偏光光照射装置は、棒状ランプと反射鏡を備える光照射部と、ワイヤーグリッド偏光子を複数個並列配置した偏光子ユニットを備えており、ワークステージ上に設置した処理対象基板の幅方向に沿ってワイヤーグリッド偏光子を並べた光照射部を配置し、処理対象基板の幅方向と直交する方向にワークステージを移動させて処理対象基板上を直線偏光で走査露光するものである(下記特許文献2参照)。
特開平10−153706号公報 特開2009−265290号公報
前述した偏光光照射装置では、複数個並列配置されるワイヤーグリッド偏光子の偏光軸方向を設定された方向に合わせることが必要になる。このため、従来は、個々の偏光子の偏光軸方向を個別に基準方向に合わせる調整が行われており、その調整方法としては、偏光軸の方向が既知の測定用偏光子(検光子)と、調整対象偏光子を通過し更に測定用偏光子を通過した光を受光する測定用照度センサを用い、測定用偏光子に対する調整対象偏光子の方向を角度調整しながら測定用照度センサの出力をモニタし、測定用照度センサの出力がピークとなるように調整対象偏光子の方向を調整している。
このような従来の調整方法によると、測定用照度センサの出力のピーク付近では、調整対象偏光子の微細な角度調整に対して測定用照度センサの出力に大きな違いが出てこない。このため、従来の偏光軸方向調整方法では、0.1deg単位での調整が要求されるような精度の高い調整を行うことが困難な問題があった。
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、偏光子単体或いは偏光子を複数個並列配置した偏光光照射装置において、偏光子の偏光軸方向の調整を高い精度で行うことができること、等が本発明の目的である。
このような目的を達成するために、本発明は、明細書に記載された幾つかの発明のうち以下の構成を具備するものである。
偏光子或いは偏光子を複数個並列配置した偏光子ユニットを備え、光源から出射して前記偏光子を透過した光を被照射面に照射する偏光光照射装置であって、前記偏光子は、表面にワイヤーグリッドを形成した基板と、前記基板上に形成され前記基板を透過する光を遮光する遮光部とを備え、光が透過する光透過領域と前記遮光部との境界線が前記ワイヤーグリッドの延設方向に対して設定された方向で直線状に形成されており、前記偏光子及び前記光源に対して前記被照射面を走査方向に相対的に移動させる走査手段と、前記走査方向に平行移動するカメラによって撮像される前記境界線の撮像画像を、前記カメラの移動方向に沿った基準方向に合わせるように前記偏光子を光軸周りに回転調整する調整手段を備えることを特徴とする偏光光照射装置。
このような特徴を有する本発明の偏光光照射装置は、基準方向が特定されたカメラを用いて、アライメントマークとして機能する遮光部における境界線を撮像しながら偏光軸調整を行うことで、簡易且つ高い精度で偏光軸を調整することができる。また、カメラを走査方向に平行移動させて偏光子の方向を調整することで、偏光子を走査方向に対して精度良く調整することができる。
本発明の一実施形態に係る偏光子を示した説明図である((a)が全体平面図、(b)がS部拡大図、(c)がT部拡大図、(d)がU部を撮像した撮像画面を示している)。 本発明の一実施形態に係る偏光子を示した説明図である((a)が全体平面図、(b)がS部拡大図、(c)がT部拡大図、(d)がU部を撮像した撮像画面を示している)。 本発明の一実施形態に係る偏光子を示した説明図である((a)が全体平面図、(b)がS部拡大図、(c)がT部拡大図、(d)がU部を撮像した撮像画面を示している)。 本発明の実施形態に係る偏光子を用いた偏光光照射装置を示した説明図((a)が平面図、(b)が正面図)である。 図4に示した偏光光照射装置の偏光軸調整方法を示す説明図である。 本発明の実施形態に係る偏光光照射装置における偏光板の偏光軸方向調整方法の他の例を示した説明図である((a)が第1工程、(b)が第2工程、(c)が第3工程を示している。)。
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図1,図2,図3は本発明の一実施形態に係る偏光子を示した説明図である((a)が全体平面図、(b)がS部拡大図、(c)がT部拡大図、(d)がU部を撮像した撮像画面を示している)。
偏光子1(1A,1B,1C)は、基板10の表面にワイヤーグリッドGが形成されている。ワイヤーグリッドGは、長さが幅よりもはるかに長い複数の直線状電気導体を等間隔で平行に配置したものであり、例えば、クロム、アルミニウム、酸化チタンなどで形成することができる。ここでは、直線状電気導体の長手方向をワイヤーグリッドGの延設方向とする。
ワイヤーグリッドGはその延設方向に平行な偏光成分の大部分を反射し、その延設方向に直交する偏光成分を通過させる。したがって、ワイヤーグリッドGを通過した光は、ワイヤーグリッドGの延設方向に直交する方向の偏光軸を有する偏光光となる。すなわち、偏光子1(1A,1B,1C)の偏光軸Pは、ワイヤーグリッドGの延設方向と直交する方向となる。ここで、ワイヤーグリッドGの間隔は、その間隔を狭くすると偏光する光の波長が短くなる。
基板10には、基板10を透過する光を遮光する遮光部11(11A,11B,11C)が形成されている。図1に示した例では、遮光部11(11A)は、基板10の角部に矩形状に形成されている。この例では、遮光部11(11A)を除く基板10の全体がワイヤーグリッド形成領域Gaになっており、このワイヤーグリッド形成領域Gaは光が透過する光透過領域12Aになっている。
図2に示した例では、遮光部11(11B)は、基板10の周縁部にて額縁状に形成されている。この例では、遮光部11(11B)の内側がワイヤーグリッド形成領域Gaになっており、このワイヤーグリッド形成領域Gaは光が透過する光透過領域12Bになっている。
図3に示した例では、遮光部11(11C)は、図2に示した例と同様に、基板10の周縁部にて額縁状に形成されている。この例では、遮光部11(11C)の内側がワイヤーグリッド形成領域Gaになっており、このワイヤーグリッド形成領域Gaは光が透過する光透過領域12Cになっている。また、遮光部11(11C)の一部に光透過領域12C’が形成されている。
ここで、遮光部11(11A,11B,11C)と光透過領域12A,12B,12C’との境界線LがワイヤーグリッドGの延設方向に対して設定された方向で直線状に形成されており、遮光部11(11A,11B,11C)がアライメントマークとして機能している。ここでいう、設定された方向とは、ワイヤーグリッドGの延設方向と同方向であってもよいし、ワイヤーグリッドGの延設方向に対して直交或いは設定された角度で交差する方向であってもよい。図1〜図3に示した例は、いずれも境界線LがワイヤーグリッドGの延設方向と同方向に形成されており、境界線Lの方向は偏光子1(1A〜1C)における偏光軸Pの方向と直交する方向に形成されている。
図1に示した例では、矩形状の遮光部11(11A)の一辺が前述した境界線Lになっており、この境界線Lが偏光軸Pの方向と直交する方向(すなわち、ワイヤーグリッドGの延設方向と同方向)に形成されている。図2に示した例では、額縁状の遮光部11(11B)の内縁が前述した境界線Lになっており、この境界線Lが偏光軸Pの方向と直交する方向(すなわち、ワイヤーグリッドGの延設方向と同方向)に形成されている。図3に示した例では、遮光部11(11C)の一部に矩形状に形成された光透過領域12C’の一辺が前述した境界線Lになっており、この境界線Lが偏光軸Pの方向と直交する方向(すなわち、ワイヤーグリッドGの延設方向と同方向)に形成されている。
ここで、ワイヤーグリッドGの延設方向と前述した境界線Lの方向は、同一のパターン形成工程によって、高い精度で方向を関連付けることができる。一例を挙げると、ワイヤーグリッドGはリフトオフ法で形成することができるが、その際のレジストにワイヤーグリッドGのパターンを描画する工程で、それと同時に遮光部11(11A,11B,11C)における境界線Lの描画を実行する。その際の描画にはX線リソグラフィーや電子線リソグラフィーが用いられる。このように、ワイヤーグリッドGの延設方向との関係が設定された遮光部11(11A,11B,11C)の境界線Lを形成することで、ワイヤーグリッドG自体を光学的に撮像することはできないが、この境界線Lを光学的に撮像して偏光軸Pの調整を行うことが可能になる。
図1〜図3の(d)は、遮光部11(11A,11B,11C)の境界線Lを含むU部を撮像した撮像画面を示している。図示のように画面内に基準線L1を有する撮像画面を用いることで、この基準線L1と境界線Lの方向を合わせるように偏光子1(1A,1B,1C)の偏光軸方向を調整することで、簡易且つ精度の高い偏光軸方向の調整が可能になる。
図4は、前述した偏光子を用いた偏光光照射装置を示した説明図((a)が平面図、(b)が正面図)である。偏光光照射装置100は、前述した偏光子1(1A,1B,1C)を複数個並列配置した偏光子ユニット1Uを備えており、光源2から出射して偏光子1を透過した光(直線偏光)を被照射基板3の被照射面3aに照射するものである。光源2と偏光子1との間には、必要に応じて特定波長透過フィルター4を設けることができる。
被照射基板3が、液晶パネルの配向膜形成基板である場合には、被照射面3aは感光性の配向材料が塗布された面になる。この被照射面3aの全面に特定方向の偏光軸を有する偏光光を照射することで光配向処理が施される。この際、偏光子1及び光源2は被照射基板3の幅方向(図示X方向)に沿って配列されており、光源2から出射して偏光子1を透過した偏光光を被照射面3aに照射しながら、偏光子1及び光源2に対して被照射基板3をその延設方向(図示Y方向)に沿って移動させ、被照射面3aを走査露光する。
このような偏光光照射装置100は、照射する偏光光の偏光軸を走査方向(図示Y方向)に対して高い精度で調整することが必要になる。図5は、その調整方法を示す説明図である。この調整にはカメラEを使用する。カメラEは、図1〜図3の(d)に示すように、基準線L1を有する撮像画面を得ることができるものであって、この基準線L1の方向(基準方向)が変わらないように、偏光子1の並列方向(図示X方向)に沿って移動自在に配備されている。
偏光光照射装置100における偏光軸の調整方法は、カメラEによって撮像される境界線Lの撮像画像を基準方向(基準線L1)に合わせるように個々の偏光子1を光軸周りに回転調整する。以下に、偏光子1の偏光軸Pの方向を全て走査方向(Y方向)に合わせる例を説明する。ここでは、各偏光子1における境界線Lは偏光軸Pの方向に直交する方向(ワイヤーグリッドGの延設方向と同方向)に形成されていることが既知である。
カメラEの撮像画面における基準線L1の方向を走査方向(Y方向)と直交する方向(X方向)に合わせておき、このカメラEを偏光子1の並列方向(X方向)に沿って移動自在に配備する。そして、1つの偏光子1(1−1)の境界線Lを撮像して、その方向を基準線L1の方向に合わせるように偏光子1(1−1)の方向を回転調整し、その調整が終わると、基準線L1の方向を一定にしたままカメラEをX方向に沿って移動させ、次の偏光子1(1−2)の境界線Lを撮像して、その方向を基準線L1の方向に合わせるように偏光子1の方向を回転調整する。これを繰り返し、全ての偏光子1(1−1〜1−4)の境界線Lの方向が基準線L1の方向と一致するように調整する。
図6は、偏光光照射装置における偏光板の偏光軸方向調整方法の他の例を示した説明図である(図における(a)が第1工程、(b)が第2工程、(c)が第3工程を示している。)。この例は、偏光子1が額縁状の遮光部11(11B)を備えている。複数の偏光子1(1−1〜1−4)の偏光軸方向を個々に調整するに際して、先ず、(a)に示すように、一つ目の偏光子1(1−1)のA部をカメラEで撮像してその撮像画面における基準軸L2と境界線Lを合わせる調整を行う。次に、(b)に示すように、同じ偏光子1(1−1)のB部を撮像するために、カメラEをY方向に沿って平行移動させる。ここで、Y方向は、被照射基板の搬送方向(走査方向)であり、X方向はそれと直交する方向を示している。そして、B部をカメラEで撮像してその撮像画面における基準軸L2と境界線Lがずれている場合には、偏光子1の方向を回転させて基準軸L2と境界線が合うように調整する。このように走査方向であるY方向に沿った複数箇所でカメラEを平行移動させて偏光子1の方向を調整することで、走査方向(被照射基板の搬送方向)に対する偏光子1の偏光軸方向を精度良く調整することが可能になる。その後は、カメラEをX方向に沿って移動させ、2つ目以降の偏光子1(1−2〜1−4)に対して同様の工程を繰り返し、全ての偏光子1を走査方向に対して精度良く調整する。
以上説明したように、本発明の実施形態に係る偏光子1、この偏光子1を用いた偏光光照射装置100は、基準方向が特定されたカメラEを用いて、アライメントマークとして機能する遮光部11(11A,11B,11C)における境界線Lを撮像しながら偏光軸調整を行うことで、簡易且つ高い精度で偏光軸を調整することが可能になる。
以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用して組み合わせることが可能である。
1,1A,1B,1C:偏光子,1U:偏光子ユニット,
10:基板,11,11A,11B,11C:遮光部,
12A,12B,12C,12C’:光透過領域,
G:ワイヤーグリッド,P:偏光軸,L:境界線,L1,L2:基準線,
2:光源,3:被照射基板,3a:被照射面,4:特定波長透過フィルター,
100:偏光光照射装置,E:カメラ

Claims (4)

  1. 偏光子或いは偏光子を複数個並列配置した偏光子ユニットを備え、光源から出射して前記偏光子を透過した光を被照射面に照射する偏光光照射装置であって、
    前記偏光子は、表面にワイヤーグリッドを形成した基板と、前記基板上に形成され前記基板を透過する光を遮光する遮光部とを備え、光が透過する光透過領域と前記遮光部との境界線が前記ワイヤーグリッドの延設方向に対して設定された方向で直線状に形成されており、
    前記偏光子及び前記光源に対して前記被照射面を走査方向に相対的に移動させる走査手段と、
    前記走査方向に平行移動するカメラによって撮像される前記境界線の撮像画像を、前記カメラの移動方向に沿った基準方向に合わせるように前記偏光子を光軸周りに回転調整する調整手段を備えることを特徴とする偏光光照射装置。
  2. 前記遮光部が前記基板の周縁部にて額縁状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の偏光光照射装置。
  3. 前記遮光部の一部に前記光透過領域が形成されていることを特徴とする請求項2記載の偏光光照射装置。
  4. 前記遮光部の内側が前記ワイヤーグリッドを形成したワイヤーグリッド形成領域であり、前記遮光部の内縁が前記境界線であることを特徴とする請求項2記載の偏光光照射装置。
JP2014022098A 2014-02-07 2014-02-07 偏光光照射装置 Active JP6312454B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014022098A JP6312454B2 (ja) 2014-02-07 2014-02-07 偏光光照射装置
KR1020150017412A KR102272435B1 (ko) 2014-02-07 2015-02-04 편광광 조사장치
CN201520088043.XU CN204650013U (zh) 2014-02-07 2015-02-06 偏振器及偏振光照射装置
CN201510064078.4A CN104834043B (zh) 2014-02-07 2015-02-06 偏振光照射装置
TW104104139A TWI657274B (zh) 2014-02-07 2015-02-06 偏振光照射裝置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014022098A JP6312454B2 (ja) 2014-02-07 2014-02-07 偏光光照射装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015148746A JP2015148746A (ja) 2015-08-20
JP6312454B2 true JP6312454B2 (ja) 2018-04-18

Family

ID=53812037

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014022098A Active JP6312454B2 (ja) 2014-02-07 2014-02-07 偏光光照射装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6312454B2 (ja)
KR (1) KR102272435B1 (ja)
CN (2) CN104834043B (ja)
TW (1) TWI657274B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3583401B1 (en) * 2017-02-16 2022-08-31 Koninklijke Philips N.V. Particle characterization apparatuses and methods
TWI702424B (zh) * 2017-10-24 2020-08-21 日商旭化成股份有限公司 影像顯示裝置、線柵偏光板及其製造方法、線柵偏光板之觀測方法、及、線柵偏光板之偏光軸方向之推定方法
JP6940873B2 (ja) * 2017-12-08 2021-09-29 株式会社ブイ・テクノロジー 露光装置および露光方法
CN109959453A (zh) * 2017-12-26 2019-07-02 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种线栅拼接标定装置与方法
CN109817092A (zh) * 2019-03-21 2019-05-28 京东方科技集团股份有限公司 一种偏光片对位装置及对位方法
CN117518621A (zh) * 2023-11-07 2024-02-06 成都瑞波科材料科技有限公司 光配向装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2089429U (zh) * 1991-01-17 1991-11-27 沈民 机动车防灯光眩目装置
JPH10153706A (ja) 1996-11-25 1998-06-09 Ricoh Co Ltd 偏光子及びその製造方法
KR100930495B1 (ko) * 2003-03-24 2009-12-09 삼성전자주식회사 액정표시장치
JP4506412B2 (ja) * 2004-10-28 2010-07-21 ウシオ電機株式会社 偏光素子ユニット及び偏光光照射装置
US8055099B2 (en) * 2006-04-05 2011-11-08 Sharp Kabushiki Kaisha Exposure method and exposure device
JP2008083215A (ja) * 2006-09-26 2008-04-10 Seiko Epson Corp 配向膜製造用マスク及び液晶装置の製造方法
JP4968165B2 (ja) 2008-04-24 2012-07-04 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置
CN101592755A (zh) * 2009-04-10 2009-12-02 友达光电(苏州)有限公司 偏光片及其制造方法
JP2011248284A (ja) * 2010-05-31 2011-12-08 Sony Chemical & Information Device Corp 偏光板及び偏光板の製造方法
JP5923918B2 (ja) * 2011-10-07 2016-05-25 株式会社ブイ・テクノロジー 偏光フィルムの貼付方法
JP2013228533A (ja) * 2012-04-25 2013-11-07 Iwasaki Electric Co Ltd 偏光子ユニット
KR101919210B1 (ko) * 2014-01-15 2018-11-15 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 편광자, 편광자의 제조 방법, 광 배향 장치 및 편광자의 장착 방법

Also Published As

Publication number Publication date
CN104834043B (zh) 2018-12-11
KR102272435B1 (ko) 2021-07-01
TWI657274B (zh) 2019-04-21
JP2015148746A (ja) 2015-08-20
KR20150093599A (ko) 2015-08-18
CN204650013U (zh) 2015-09-16
CN104834043A (zh) 2015-08-12
TW201534997A (zh) 2015-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6312454B2 (ja) 偏光光照射装置
EP3425437B1 (en) Patterned light irradiation apparatus and method
JP2022183309A (ja) ウエハ検査システム及び装置
JP2012045099A (ja) 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム
JP6078843B2 (ja) 光配向露光方法及び光配向露光装置
JP2022000707A (ja) 感光性の層を露光するための装置および方法
JP5564695B2 (ja) 光配向露光装置及び光配向露光方法
KR20140067979A (ko) 패턴 위상차 필름의 제조 방법, 패턴 위상차 필름 및 화상 표시 장치
TW201346457A (zh) 曝光裝置、曝光方法、元件之製造方法及開口板
JP2013228533A (ja) 偏光子ユニット
JP5308573B2 (ja) フォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法
US9041907B2 (en) Drawing device and drawing method
JP2011069994A (ja) 偏光露光装置
WO2014185232A1 (ja) 露光装置
JP6136354B2 (ja) 露光マスク製造方法、露光マスクを用いた露光方法、露光マスクを製造するために用いられる基準マスク、および露光マスク
JP6770164B2 (ja) 撮像装置
WO2014006944A1 (ja) 光配向露光装置及び光配向露光方法
CN112334834B (zh) 使用各自进行多次扫描的多个写入列来制作准确的光栅图案的系统和方法
US8928871B2 (en) Reflective mask
JP2015096822A (ja) 撮像装置及び撮像方法
CN111654681A (zh) 一种dlp光机的投影拼接方法
KR102019673B1 (ko) 구조 조명 현미경 및 촬영 방법
JPWO2012132561A1 (ja) 液晶用配向膜露光方法及びそのシステム並びにそれを用いて製作された液晶パネル
TW202210207A (zh) 雷射加工裝置及雷射加工方法
JP2017003631A5 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161118

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170817

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170829

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171030

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180320

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6312454

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250