JP6364884B2 - Optical waveguide, opto-electric hybrid board, optical module, and electronic device - Google Patents
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Description
本発明は、光導波路、光電気混載基板、光モジュールおよび電子機器に関するものである。 The present invention relates to an optical waveguide, an opto-electric hybrid board, an optical module, and an electronic device.
光導波路では、コア部の一端から導入された光が、クラッド部との境界で反射しながら他端に伝送(搬送)される。光導波路の入射側には半導体レーザー等の発光素子が配置され、出射側にはフォトダイオード等の受光素子が配置される。発光素子から入射された光は光導波路を伝搬し、受光素子により受光され、受光した光の明滅パターンもしくはその強弱パターンに基づいて通信を行う。 In the optical waveguide, light introduced from one end of the core portion is transmitted (conveyed) to the other end while being reflected at the boundary with the cladding portion. A light emitting element such as a semiconductor laser is disposed on the incident side of the optical waveguide, and a light receiving element such as a photodiode is disposed on the emission side. Light incident from the light emitting element propagates through the optical waveguide, is received by the light receiving element, and performs communication based on the flickering pattern of the received light or its intensity pattern.
このような光導波路と発光素子または受光素子とを光結合させるにあたり、光導波路のコア部に形成したミラーを介してコア部の光路を変換し、光導波路の主面に垂直な方向に光路を導くことによって光結合させる構造が検討されている。例えば特許文献1には、ビルドアップ基板と、ビルドアップ基板上に設けられた光導波路と、光導波路上に配置された発光素子と、を有する光モジュールが開示されており、このうち、発光素子と光導波路内のコアとが、光導波路に形成されたミラーを介して光学的に接続されている。
When optically coupling such an optical waveguide to a light emitting element or a light receiving element, the optical path of the core part is converted via a mirror formed in the core part of the optical waveguide, and the optical path is set in a direction perpendicular to the main surface of the optical waveguide. A structure that optically couples by guiding is studied. For example,
かかる構造の光モジュールについては、小型化の要請があるため、光導波路中に並列配置された複数のコアの間隔を狭めることにより、コアの高密度化を図る試みがなされている。これにより、光モジュールの単位面積当たりの伝送容量については増大が図られ、小型化が可能になる。しかしながら、コアの間隔を狭めると、コアに合わせてミラーを形成したとき、ミラーを形成するスペースの確保が困難になるという課題がある。ミラーの大きさは、ミラーを介したコアと光素子との光結合効率を左右するため、一定の大きさを確保する必要がある。 Since there is a demand for downsizing of the optical module having such a structure, attempts have been made to increase the density of the cores by narrowing the interval between a plurality of cores arranged in parallel in the optical waveguide. As a result, the transmission capacity per unit area of the optical module is increased, and downsizing is possible. However, when the interval between the cores is narrowed, there is a problem that it becomes difficult to secure a space for forming the mirror when the mirror is formed in accordance with the core. Since the size of the mirror affects the optical coupling efficiency between the core and the optical element via the mirror, it is necessary to ensure a certain size.
本発明の目的は、コア部の高密度化と、外部に設けられた光学部品との高い光結合効率と、を両立し得る光導波路、かかる光導波路を備え、高品質の光通信が可能な光電気混載基板、光モジュールおよび電子機器を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an optical waveguide that can achieve both high density of the core portion and high optical coupling efficiency with an optical component provided outside, and includes such an optical waveguide, enabling high-quality optical communication. To provide an opto-electric hybrid board, an optical module, and an electronic device.
このような目的は、下記(1)〜(8)の本発明により達成される。
(1) X軸方向に延在し、前記X軸方向と交差するY軸方向に並ぶ第1コア部および第2コア部と、
前記第1コア部の長手方向の途中または延長線上に設けられた前記第1コア部より幅が広い第1ミラーであって、該第1ミラーから−X側に延在する第1光路を変換する第1ミラーと、
前記第2コア部の長手方向の途中または延長線上に、前記第1ミラーよりも−X側にずれるように設けられた前記第2コア部より幅が広い第2ミラーであって、該第2ミラーから−X側に延在する第2光路を変換する第2ミラーと、
を有し、
前記第1コア部は、広幅部と、前記広幅部よりも狭くなるように幅が徐々に変化している第1変幅部と、前記広幅部より幅が狭い狭幅部と、前記狭幅部よりも広くなるように幅が徐々に変化している第2変幅部と、をこの順で備えており、前記X軸方向の位置において前記第2ミラーと前記狭幅部とが対応していることを特徴とする光導波路。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (8) below.
(1) A first core portion and a second core portion that extend in the X-axis direction and are aligned in the Y-axis direction intersecting the X-axis direction;
A first mirror having a width wider than that of the first core portion provided in the middle of the longitudinal direction of the first core portion or on an extension line, and converts a first optical path extending from the first mirror to the −X side. A first mirror that
A second mirror having a width wider than that of the second core portion provided on the middle of the longitudinal direction of the second core portion or on an extension line so as to be shifted to the −X side with respect to the first mirror, A second mirror for converting a second optical path extending from the mirror to the -X side;
Have
The first core part includes a wide part, a first variable width part gradually changing in width so as to be narrower than the wide part, a narrow part having a narrower width than the wide part, and the narrow part A second variable width portion whose width gradually changes so as to be wider than the first portion, in this order, and the second mirror and the narrow width portion correspond to each other at the position in the X-axis direction. An optical waveguide characterized by
(2) 前記広幅部の外縁を仮想的に延長する仮想線を引いたとき、前記仮想線と前記第2ミラーとが重なるように構成されている上記(1)に記載の光導波路。 (2) The optical waveguide according to (1), wherein when the virtual line that virtually extends the outer edge of the wide portion is drawn, the virtual line and the second mirror overlap each other.
(3) 前記第1コア部の平面視形状は、その幅の中心を通り前記X軸に対して平行な軸線について線対称の関係を有する形状である上記(1)または(2)に記載の光導波路。 (3) The shape of the first core portion in plan view is a shape having a line-symmetric relationship with respect to an axis that passes through the center of the width and is parallel to the X axis. Optical waveguide.
(4) 前記第1ミラーの幅および前記第2ミラーの幅は、それぞれ、前記第1コア部の幅の中心と前記第2コア部の幅の中心との距離より広く、前記距離の2倍より狭い上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の光導波路。 (4) The width of the first mirror and the width of the second mirror are each larger than the distance between the center of the width of the first core part and the center of the width of the second core part, and twice the distance. The optical waveguide according to any one of (1) to (3), which is narrower.
(5) 前記第1コア部および前記第2コア部は、それぞれエネルギー線の照射により屈折率が変化し得る部材に対して、エネルギー線を照射することにより形成されたものである上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の光導波路。 (5) Said (1) said 1st core part and said 2nd core part are formed by irradiating an energy ray with respect to the member which can change a refractive index by irradiation of an energy ray, respectively. Thru | or the optical waveguide in any one of (4).
(6) 上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の光導波路を備えることを特徴とする光電気混載基板。 (6) An opto-electric hybrid board comprising the optical waveguide according to any one of (1) to (5) above.
(7) 上記(6)に記載の光電気混載基板と、光素子と、を備えることを特徴とする光モジュール。 (7) An optical module comprising the opto-electric hybrid board according to (6) and an optical element.
(8) 上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。 (8) An electronic apparatus comprising the optical waveguide according to any one of (1) to (5).
本発明によれば、コア部の高密度化と、外部に設けられた光学部品との高い光結合効率と、を両立し得る光導波路が得られる。 According to the present invention, it is possible to obtain an optical waveguide that can achieve both high density of the core portion and high optical coupling efficiency with an optical component provided outside.
また、本発明によれば、かかる光導波路を備え、高品質の光通信が可能な光電気混載基板、光モジュールおよび電子機器が得られる。 Further, according to the present invention, an opto-electric hybrid board, an optical module, and an electronic device that are provided with such an optical waveguide and are capable of high-quality optical communication can be obtained.
以下、本発明の光導波路、光電気混載基板、光モジュールおよび電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, an optical waveguide, an opto-electric hybrid board, an optical module, and an electronic device according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
<光導波路>
≪第1実施形態≫
まず、本発明の光導波路の第1実施形態について説明する。
<Optical waveguide>
<< First Embodiment >>
First, a first embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図1は、本発明の光導波路の第1実施形態を示す平面図である。図2は、図1に示す光導波路の部分拡大平面図である。図3は、図1に示す光導波路のA−A線断面図である。図4は、図1に示す光導波路の部分拡大斜視図である。なお、図1、2、4では、それぞれ説明の便宜上、クラッド層等の陰に隠れている部分を透視するように図示している。また、各図では、コア部に対してドットを付している。また、以下の説明では、説明の便宜上、図3の上方を「上」、下方を「下」として説明する。 FIG. 1 is a plan view showing a first embodiment of the optical waveguide of the present invention. FIG. 2 is a partially enlarged plan view of the optical waveguide shown in FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of the optical waveguide shown in FIG. 4 is a partially enlarged perspective view of the optical waveguide shown in FIG. 1, 2, and 4, for convenience of explanation, the portions hidden behind the clad layer and the like are shown through. Moreover, in each figure, the dot is attached | subjected with respect to the core part. In the following description, for the sake of convenience of explanation, the upper part of FIG. 3 will be described as “upper” and the lower part thereof will be described as “lower”.
図1に示す光導波路1は、シート状をなしており、光入射部と光出射部との間で光信号を伝送し、光通信を行う。
An
光導波路1は、図3に示すように、下からクラッド層11、コア層13およびクラッド層12を積層してなる積層体10を備えている。コア層13中には、複数の長尺状のコア部14(図1では8本のコア部14)とその側面に隣接して設けられた側面クラッド部15とが形成されている。なお、図1〜3に示す光導波路1では、それぞれ各図の左右方向にコア部14が延在しており、図1〜3にはその長手方向の端部近傍のみが図示されている。そして、図示されていない端部の構成については特に限定されないが、各図に図示されている構成と同じであることが好ましい。なお、図1〜3の左右方向をX軸方向とし、図1、2の上下方向をY軸方向とし、X軸方向とY軸方向とに直交する方向をZ軸方向(図3の上下方向)とする。また、以下の説明では、図1における右向きを+X側とし、左向きを−X側とする。さらに、図1における上向きを+Y側とし、下向きを−Y側とする。
As shown in FIG. 3, the
また、図1、2に示すコア層13では、その長手方向の外縁よりも内側に各コア部14の右側の端部が位置するように、各コア部14が形成されている。そして、各コア部14の端部とコア層13の外縁との間は、側面クラッド部15で占められている。
Moreover, in the
コア部14の幅(Y軸方向の長さ)および高さ(コア層13の厚さ)は、特に限定されないが、1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましい。これにより、コア部14の伝送効率を高めつつコア部14の高密度化を図ることができる。すなわち、単位面積当たりに敷設可能なコア部14の数を多くすることができるので、小面積であっても大容量の光通信を行うことができる。
The width (the length in the Y-axis direction) and the height (the thickness of the core layer 13) of the
また、光導波路1の幅方向における屈折率分布および厚さ方向における屈折率分布は、それぞれ、屈折率が不連続的に変化したいわゆるステップインデックス(SI)型の分布であってもよく、屈折率が連続的に変化したいわゆるグレーデッドインデックス(GI)型の分布であってもよい。
Further, the refractive index distribution in the width direction and the refractive index distribution in the thickness direction of the
また、コア部14は、平面視で直線状であっても曲線状であってもよい。さらに、コア部14は、途中で分岐していたり互いに交差していたりしてもよい。
Further, the
さらに、コア部14の横断面形状は、特に限定されず、例えば、真円、楕円形、長円形等の円形、三角形、四角形、五角形、六角形等の多角形であってもよいが、四角形(矩形状)であることにより、安定した品質のコア部14を効率よく製造することができる。
Furthermore, the cross-sectional shape of the
一方、クラッド層11は、コア層13の下方に設けられ、クラッド層12は、コア層13の上方に設けられている。
On the other hand, the
クラッド層11、12の平均厚さは、コア層13の平均厚さの0.05〜1.5倍程度であるのが好ましく、0.1〜1.25倍程度であるのがより好ましい。具体的には、クラッド層11、12の平均厚さは、それぞれ1〜200μm程度であるのが好ましく、3〜100μm程度であるのがより好ましく、5〜60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路1が必要以上に厚膜化するのを防止しつつ、クラッド部としての機能が確保される。
The average thickness of the cladding layers 11 and 12 is preferably about 0.05 to 1.5 times the average thickness of the
なお、クラッド層11、12は、必要に応じて設けられればよく、省略することもできる。この場合でも、例えば外気がクラッド層として機能する。 The clad layers 11 and 12 may be provided as necessary and may be omitted. Even in this case, for example, outside air functions as a cladding layer.
光導波路1には、積層体10の一部を除去することによって形成された凹部170が設けられている。すなわち、光導波路1は、積層体10とそれに形成された凹部170とを備えている。図1に示す凹部170は、コア部14の長手方向の端部、すなわちコア部14の延長線上に位置している。凹部170の内側面の一部は、コア部14の軸線に対して傾斜している傾斜面171になっている。
The
また、凹部170内は、空洞になっている。換言すれば、凹部170は、コア部14より屈折率が低い空気で満たされているといえる。したがって、傾斜面171は、空気と積層体10の構成材料との界面に相当し、高屈折率側である積層体10側を伝搬する光は、傾斜面171において反射される。したがって、傾斜面171は、コア部14の光路を変換するミラーとして機能する。すなわち、傾斜面171は、例えばコア部14内において図3の左端から入射して右方に向かう光を、下に向けて反射することで、その光路を変換することができる。
Further, the inside of the
図3に示す凹部170の縦断面形状は、上底が下底より長い台形をなしている。なお、この縦断面形状は、特に限定されず、例えば三角形や平行四辺形等であってもよい。
The vertical cross-sectional shape of the
また、傾斜面171は、図3、4に示すように、クラッド層12からコア層13を経てクラッド層11の途中に至るまでの間に連続して形成された平坦面である。また、凹部170の内側面のうち、傾斜面171に対向する位置には、直立面172が設けられている。直立面172は、コア部14の軸線に対して直交する面である。また、この直立面172も、傾斜面171と同様、クラッド層12からコア層13を経てクラッド層11の途中に至るまでの間に連続して形成された平坦面である。
3 and 4, the
一方、凹部170の内側面のうち、コア部14の軸線とほぼ平行な2つの面も、それぞれクラッド層12の上面に対してほぼ垂直な直立面173、174になっている。
On the other hand, two surfaces of the inner surface of the
上述したような傾斜面171と、3つの直立面172、173、174とにより、凹部170の内側面が構成されている。
The
また、凹部170の開口の形状は、図2に示すように長方形をなしている。なお、この開口の形状は、特に限定されず、例えばその他の四角形、五角形、六角形のような多角形であってもよく、長円形のような円形であってもよい。
Further, the shape of the opening of the
なお、傾斜面171とクラッド層12の上面とが接してなる線分(稜線)は、凹部170の長方形をなす開口の短辺に相当する。一方、直立面172、173および174とクラッド層12の上面とがそれぞれ接してなる線分(稜線)は、いずれも凹部170の長方形をなす開口の長辺に相当する。
A line segment (ridge line) formed by contact between the
傾斜面171は、上述したように、コア部14の軸線に対して傾斜しているが、傾斜面171の傾斜角度に応じて光軸の変換方向が変わることになる。このため、傾斜面171の傾斜角度は、光導波路1の外部に設けられる光学部品の位置に応じて適宜設定される。
As described above, the
ここで、複数のコア部14のうち、図2に示すコア部14を特に「コア部14a」とし、コア部14aに隣り合うコア部14を特に「コア部14b」とする。そして、コア部14aが「第1コア部」に相当するとき、コア部14bが「第2コア部」に相当する。
Here, among the plurality of
また、コア部14aの右端に設けられた傾斜面171を特に「傾斜面171a」とし、コア部14bの右端に設けられた傾斜面171を特に「傾斜面171b」とする。そして、傾斜面171aが「第1ミラー」に相当するとき、傾斜面171bが「第2ミラー」に相当する。
Further, the
さらに、各コア部14の光路であって、傾斜面171aで変換される光路を特に「光路140a」とし、傾斜面171bで変換される光路を特に「光路140b」とする。光路140aは、傾斜面171aよりも−X側に延在しており、同様に、光路140bは、傾斜面171bよりも−X側に延在している。なお、図2では、図示の便宜上、コア部14aの幅の中心を通る線を「光路140a」とし、コア部14bの幅の中心を通る線を「光路140b」として図示している。
Further, the optical path of each
図2では、傾斜面171bが傾斜面171aよりも−X側にずれるように設けられている。このため、傾斜面171aと傾斜面171bとが干渉し合うことが防止され、傾斜面171aおよび傾斜面171bがそれぞれ十分な面積を確保することができる。これにより、傾斜面171aおよび傾斜面171bにおける反射損失を十分に抑えることができる。その結果、外部の光学部品と光学的に接続される際、光結合効率の高い光導波路が得られる。
In FIG. 2, the
また、コア部14aは、Z軸方向から見たときの平面視において、相対的に幅の広い広幅部141aと、広幅部141aより幅が狭い狭幅部142aと、を備えている。狭幅部142aは、広幅部141aよりも右側に位置している。すなわち、広幅部141aと傾斜面171aとの間に狭幅部142aが位置しているといえる。
The
このようなコア部14aに隣り合うコア部14bでは、その右端に設けられた傾斜面171bが、X軸方向の位置においてコア部14aの狭幅部142aに対応する位置に設けられている。換言すれば、傾斜面171bがX軸方向において占める範囲と、コア部14aの狭幅部142aがX軸方向において占める範囲とが、少なくとも一部で重複している。X軸方向において占める範囲を傾斜面171bと狭幅部142aとでこのように重複させることにより、コア部14aとコア部14bとのピッチP(図2参照)を狭くした場合でも、傾斜面171bとコア部14aとの干渉を防止することができる。すなわち、コア層13に形成されるコア部14の形成密度を高めた場合でも、傾斜面171bとコア部14aとの干渉を避けながら、傾斜面171bの十分な面積を確保することが可能になる。したがって、コア部14の高密度化と、外部の光学部品との高い光結合効率と、を両立させることができる。
In the
一方、傾斜面171bに対応する位置以外では、できるだけ幅を広くする、すなわち広幅部141aを配置することにより、その部位での伝送効率を高めることができる。また、コア部14bのうち、傾斜面171に露出する部分に広幅部141aを適用することによって、傾斜面171に露出するコア部14bの面積を広く確保することができる。その結果、傾斜面171における光結合効率をより高めることができる。
On the other hand, by increasing the width as much as possible except for the position corresponding to the
また、コア部14aは、広幅部141aと狭幅部142aとの間に位置し、+X側に向かうにつれて幅が徐々に狭くなるように構成された変幅部143a(第1変幅部)と、狭幅部142aと傾斜面171aとの間に位置し、+X側に向かうにつれて幅が徐々に広がるように構成された変幅部144a(第2変幅部)と、を備えている。変幅部143aを備えることにより、広幅部141aと狭幅部142aとの間で幅の変化が緩やかになる。このため、幅の変化に伴ってコア部14aから側面クラッド部15へと光が漏れ出る確率を低下させることができ、伝送効率の低下を抑制することができる。また、変幅部144aを備えることにより、変幅部144aを設けない場合に比べて、傾斜面171aに露出するコア部14aの面積をより広くすることができる。これにより、変幅部144aを設けない場合に比べて、傾斜面171aにおいて反射した光がコア部14aに入射する確率を高めることができ、外部の光学部品との光結合効率をより高めることができる。
The
一方、本実施形態では、コア部14bも、平面視において、相対的に幅の広い広幅部141bと、広幅部141bより幅が狭い狭幅部142bと、を備えている。狭幅部142bは、広幅部141bよりも右側に位置している。
On the other hand, in the present embodiment, the
そして、コア部14bも、広幅部141bと狭幅部142bとの間に位置し、+X側に向かうにつれて幅が徐々に狭くなる変幅部143bと、狭幅部142bと傾斜面171bとの間に位置し、+X側に向かうにつれて幅が徐々に広がるように構成された変幅部144bと、を備えている。
And the
このようなコア部14bに対し、コア部14aとは反対側に隣り合うコア部14では、その右端に設けられた傾斜面171が、やはりX側方向の位置においてコア部14bの狭幅部142bに対応する位置に設けられている。これにより、コア部14bとそれに隣り合うコア部14とでピッチを狭くした場合でも、傾斜面171とコア部14bとの干渉を防止することができる。
With respect to such a
以上のことから、コア部14aとそれに隣り合うコア部14bの右端に設けられた傾斜面171bとの間で満足する上述したような関係を他のコア部14と傾斜面171にも同様に適用することで、3本以上のコア部14を有する光導波路1においても、それぞれ隣り合うコア部14同士でピッチを狭めつつ、傾斜面171とコア部14との干渉を防止することができる。その結果、3本以上のコア部14が高密度に形成されている場合でも、傾斜面171とコア部14との干渉を避けながら、傾斜面171の十分な面積を確保することができ、コア部14の高密度化と、外部の光学部品との高い光結合効率と、を両立させることができる。
From the above, the relationship as described above that is satisfied between the
また、傾斜面171aの幅(Y軸方向における長さ)は、コア部14aの幅より広くなっている。このため、傾斜面171aでは、コア部14aを伝搬する光を十分に広い面積で反射することができるので、反射損失を十分に抑えることができる。なお、傾斜面171aの幅がコア部14aの幅より広いとは、コア部14aの最大幅(Y軸方向における最大長さ)より広いことをいう。
Further, the width of the
同様に、傾斜面171bの幅(Y軸方向における長さ)は、コア部14bの幅より広くなっている。このため、傾斜面171bでは、コア部14bを伝搬する光を十分に広い面積で反射することができるので、反射損失を十分に抑えることができる。なお、傾斜面171bの幅がコア部14bの幅より広いとは、コア部14bの最大幅(Y軸方向における最大長さ)より広いことをいう。
Similarly, the width of the
なお、コア部14aの広幅部141aでは、その幅がほぼ一定であることから、本実施形態に係る傾斜面171aの幅は、広幅部141aの幅より広いと言い換えることができる。
In addition, in the
幅W2は、幅W1の20〜95%程度であるのが好ましく、30〜80%程度であるのがより好ましい。幅W2が前記下限値を下回ると、幅W2が狭くなり過ぎるため、狭幅部142aを伝搬する光の伝送効率が低下し、コア部14a全体の伝送効率の低下を招くおそれがある。一方、幅W2が前記上限値を上回ると、狭幅部142aの幅W2と広幅部141aの幅W1との差がわずかになるため、その分、傾斜面171bと狭幅部142aとの離間距離に余裕がなくなり、コア部14aとコア部14bとのピッチPを十分に狭めることが難しくなるため、コア部14の高密度化が難しくなるおそれがある。
The width W2 is preferably about 20 to 95% of the width W1, and more preferably about 30 to 80%. If the width W2 is less than the lower limit value, the width W2 becomes too narrow, so that the transmission efficiency of light propagating through the
なお、コア部14aとコア部14bとのピッチPとは、コア部14aの幅W1の中心とコア部14bの幅W2の中心との距離のことである。
The pitch P between the
ここで、広幅部141aの外縁を図2のX軸方向に沿って仮想的に延長した仮想線を引いた場合について考える。このうち、狭幅部142aと対応する位置に引かれた仮想線Lは、図2に示すように、平面視において傾斜面171bと重なっているのが好ましい。このように仮想線Lと傾斜面171bとが重なることにより、コア部14aとコア部14bとのピッチPを十分に短くするのと同時に、傾斜面171bの幅を十分に広くすることができる。すなわち、狭幅部142aを設けなかった場合には存在し得ない幅の傾斜面171bを、ピッチPを変えることなく実現することができるので、特に外部の光学部品との光結合効率を高める観点から有用である。
Here, a case is considered where an imaginary line in which the outer edge of the
このとき、Y軸方向における傾斜面171bとコア部14aとの最短距離S(図2参照)は、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差によっても異なるものの、0.1×{(W1−W2)/2}以上0.9×{(W1−W2)/2}以下であるのが好ましく、0.2×{(W1−W2)/2}以上0.8×{(W1−W2)/2}以下であるのがより好ましい。これにより、傾斜面171bと狭幅部142aとが近接し過ぎることによる不具合(例えばクロストーク)の増大を抑制しつつ、ピッチPを最大限に狭めるとともに傾斜面171bの幅を最大限に広げることができる。
At this time, the shortest distance S (see FIG. 2) between the
また、傾斜面171aの幅および傾斜面171bの幅は、それぞれ好ましくは、ピッチPより広く、かつ、ピッチPの2倍より狭くなるように設定される。このように設定すれば、コア部14に対して十分な面積を有する傾斜面171aおよび傾斜面171bが得られる。そして、このような面積を有する傾斜面171aおよび傾斜面171bは、過酷な環境下でも反射損失の増大を招き難いものとなる。すなわち、例えば高温下で光導波路1が使用される場合、光導波路1の熱膨張に伴って傾斜面171aおよび傾斜面171bが歪み、反射損失が増大し易い傾向にあるものの、傾斜面171aの幅および傾斜面171bの幅が前記範囲内にあることで、かかる歪みを抑えることができる。これにより、反射損失の増大を最小限に抑え、過酷な環境下でも外部の光学部品との光結合効率の低下が抑えられた光導波路1が得られる。
Further, the width of the
なお、傾斜面171aの幅および傾斜面171bの幅は、それぞれより好ましくは、ピッチPの1.1〜1.9倍とされ、さらに好ましくは、ピッチPの1.2〜1.8倍とされる。
The width of the
また、ピッチPは、コア部14の幅に応じて適宜設定されるものの、10〜1000μm程度であるのが好ましく、20〜500μm程度であるのがより好ましい。これにより、コア部14が十分に高い密度で形成された光導波路1が得られる。このような光導波路1は、幅が狭いものであっても十分な伝送容量を有するものとなる。
Moreover, although the pitch P is suitably set according to the width of the
また、コア部14の平面視形状は、特に限定されないものの、その幅の中心を通りX軸に対して平行な軸線に対して線対称の関係を有する形状であるのが好ましい。このような形状のコア部14は、伝送効率の低下を抑えることができる。
The shape of the
なお、凹部170内には、必要に応じて、コア部14より屈折率が低い材料(低屈折率材料)が充填されていてもよい。この場合でも、傾斜面171では、凹部170の構成材料とコア部14の構成材料との屈折率差に基づいて光が反射する。また、低屈折率材料が固体である場合、凹部170内に異物が侵入するのを防止したり、光導波路1の外部環境の影響が直接凹部170近傍に及び難くなるので、光導波路1の耐候性を高めることができる。
The
低屈折率材料は、コア部14の屈折率に応じて適宜選択され、何ら限定されないが、例えば、シリコーン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂のような各種樹脂材料等が挙げられる。低屈折率材料の屈折率は、コア部14の屈折率より低ければ低いほどよく、0.01以上低いことが好ましい。
The low refractive index material is appropriately selected according to the refractive index of the
また、傾斜面171には、必要に応じて、光反射性を有する材料、例えば金属光沢を有する金属材料等が成膜されていてもよい。この場合は、凹部170内に各種材料が充填されていてもよく、その材料の屈折率等は特に限定されない。
In addition, a material having light reflectivity, for example, a metallic material having a metallic luster, or the like may be formed on the
金属材料としては、例えば、アルミニウム、銀、ニッケルのような金属の単体または化合物等が挙げられる。 Examples of the metal material include simple substances or compounds of metals such as aluminum, silver, and nickel.
また、傾斜面171は、前述したようにコア部14と光学的に接続される光学部品の位置に応じて適宜設定されるが、コア層13の下面を基準面としたとき、基準面と傾斜面171とがなす角度は、30〜60°程度であるのが好ましく、40〜50°程度であるのがより好ましい。傾斜角度を前記範囲内に設定することにより、傾斜面171においてコア部14の光路を効率よく変換し、光路変換に伴う損失を抑制することができる。なお、基準面と傾斜面171とがなす角度とは、基準面と傾斜面171とで形成される内角の角度のうち、凹部170側とは反対側にできる内角の角度のことをいう。
The
一方、基準面と直立面172、173、174とがなす角度は、それぞれ好ましくは60〜90°程度とされ、より好ましくは70〜90°程度とされ、さらに好ましくは80〜90°程度とされる。基準面と直立面172、173、174とがなす角度を前記範囲内に設定することにより、特にクラッド層11とコア層13との界面にかかる応力をより小さく抑えることができ、この応力によって傾斜面171の反射損失が増大するのを抑制することができる。なお、各図では、基準面と直立面172、173、174とがなす角度をほぼ90°として図示している。また、基準面と直立面172、173、174とがなす角度とは、基準面と直立面172、173、174とで形成される内角の角度のうち、凹部170側とは反対側にできる内角の角度のことをいう。
On the other hand, the angle formed between the reference surface and the
なお、凹部170の最大深さは、積層体10の厚さから適宜設定されるものであり、特に限定されないが、光導波路1の機械的強度や可撓性といった観点から、好ましくは1〜500μm程度とされ、より好ましくは5〜400μm程度とされる。そして、凹部170は、少なくともコア層13に達していればよく、クラッド層11には達していなくてもよい。
The maximum depth of the
上述したようなコア層13およびクラッド層11、12の構成材料(主材料)は、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、PETやPBTのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料等を用いることができる。なお、環状オレフィン系樹脂としては、例えば、特開2010−090328号公報に記載されたものが用いられる。
The constituent materials (main materials) of the
また、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。これらは、比較的加工が容易であるため、凹部170が形成されるコア層13やクラッド層11、12の構成材料として好適である。
Further, the resin material may be a composite material in which materials having different compositions are combined. Since these are relatively easy to process, they are suitable as constituent materials for the
なお、光導波路1のうち、図示されていない左端の構成については特に限定されず、前述したように、右端の構成と同じであってもよいし、光コネクター等が装着されていてもよい。また、光導波路1が途中で分岐しているような場合も、少なくとも1つの端部において、各図の構成が適用されていればよく、その他の端部の構成については特に限定されない。
In addition, the configuration of the left end (not shown) of the
また、光導波路1に形成されるコア部14の本数は、特に限定されないが、例えば1〜100本程度とされる。
Moreover, the number of the
また、コア層13中にコア部14と側面クラッド部15とを形成する方法としては、例えば、成膜工程とフォトリソグラフィー技術とエッチング技術とを組み合わせたパターニング工程とを繰り返し行う方法や、成膜工程とインプリント技術によるパターニング工程とを繰り返し行う方法、エネルギー線の照射により屈折率が変化する屈折率変調能(例えばフォトブリーチングやモノマーディフュージョンによる屈折率変調)を有する組成物を用い、この組成物からなる部材に所望のパターンでエネルギー線を照射する方法等が挙げられる。なお、フォトブリーチングとは、エネルギー付与に伴って分子中の結合が切れることにより屈折率が変化する現象であり、モノマーディフュージョンとは、互いに屈折率が異なるポリマーとモノマーとを用い、エネルギー付与に伴って、ポリマー中に分散したモノマーを偏在させて屈折率の分布を形成する現象のことである。この他、屈折率変調の原理には、光異性化、光二量化等が挙げられる。
Further, as a method of forming the
このうち、屈折率変調能を有する組成物からなる部材にエネルギー線を照射する方法を用いて、コア部14および側面クラッド部15を形成するのが好ましい。この方法によれば、ピッチPが狭い場合でも、高い寸法精度でコア部14を形成することができる。特に、コア部14aが変幅部143aおよび変幅部144aを備えているとき、滑らかな形状を形作ることができるので、変幅部143aおよび変幅部144aにおける光の漏れを抑制することができる。その結果、より伝送効率の高いコア部14を形成することができる。
エネルギー線としては、例えば、可視光、紫外線、レーザー、電子線等が挙げられる。
Among these, it is preferable to form the
Examples of energy rays include visible light, ultraviolet rays, lasers, and electron beams.
ここで、モノマーディフュージョンを生じる材料としては、例えば、特開2010−090328号公報に記載された感光性樹脂組成物等が挙げられる。 Here, as a material which produces monomer diffusion, the photosensitive resin composition etc. which were described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-090328 are mentioned, for example.
一方、フォトブリーチング、光異性化および光二量化といった原理による屈折率変調の場合、照射するエネルギー線の照射量に応じて屈折率の変化量を調整することができる。フォトブリーチングでは、エネルギー線の照射によって材料中の分子構造が切断され、離脱性基が主鎖から離脱する。これにより材料の屈折率を変化させる。また、光異性化および光二量化では、エネルギー線の照射によって材料の光異性化または光二量化を生じ、材料の屈折率が変化する。 On the other hand, in the case of refractive index modulation based on the principles of photobleaching, photoisomerization, and photodimerization, the amount of change in refractive index can be adjusted according to the irradiation amount of the energy beam to be irradiated. In photobleaching, the molecular structure in the material is cut by irradiation with energy rays, and the leaving group is released from the main chain. This changes the refractive index of the material. In photoisomerization and photodimerization, the material is photoisomerized or photodimerized by irradiation with energy rays, and the refractive index of the material changes.
フォトブリーチングを生じる材料としては、例えば、特開2009−145867号公報に記載されたコアフィルム材料等が挙げられる。 Examples of the material that causes photobleaching include core film materials described in JP-A-2009-145867.
また、光異性化を生じる材料としては、例えば、特開2005−164650号公報に記載されたノルボルネン系樹脂等が挙げられる。 Examples of materials that cause photoisomerization include norbornene resins described in JP-A-2005-164650.
また、光二量化を生じる材料としては、例えば、特開2011−105791号公報に記載された感光性樹脂組成物等が挙げられる。 Moreover, as a material which produces photodimerization, the photosensitive resin composition etc. which were described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2011-105791 are mentioned, for example.
なお、照射するエネルギー線の照射量を徐々に変化させることにより、形成される屈折率分布も滑らかな屈折率変化を伴うものとなる。照射するエネルギー線の照射量を徐々に変化させる方法としては、例えば、グレイトーンマスクやハーフトーンマスクといった多階調マスクを用いる方法、光強度に分布があるエネルギー線を走査する方法、領域ごとの照射時間を変化させつつ照射する方法等が挙げられる。 In addition, by gradually changing the irradiation amount of the energy beam to be irradiated, the formed refractive index distribution also has a smooth refractive index change. As a method of gradually changing the irradiation amount of the energy beam to be irradiated, for example, a method using a multi-tone mask such as a gray tone mask or a half tone mask, a method of scanning an energy beam having a distribution of light intensity, Examples include a method of irradiating while changing the irradiation time.
また、エネルギー線の照射に用いる装置としては、形成すべき導波路パターンに対応したフォトマスクを介してエネルギー線を照射する装置を用いるようにしてもよいが、エネルギー線を照射する領域を細かく制御し、フォトマスクを用いることなく照射すべき領域のみにエネルギー線を選択的に照射する装置(マスクレス照射装置)を用いるのが好ましい。これにより、高い空間分解能でかつ効率よくエネルギー線照射処理を施すことができる。また、フォトマスクが不要になるので、エネルギー線照射処理の低コスト化が図られるとともに、異なる導波路パターンにも速やかに切り替えることができるので、多品種少量生産が可能になる。 In addition, as an apparatus used for energy beam irradiation, an apparatus for irradiating energy beam through a photomask corresponding to a waveguide pattern to be formed may be used, but the region irradiated with energy beam is finely controlled. It is preferable to use an apparatus (maskless irradiation apparatus) that selectively irradiates only an area to be irradiated without using a photomask. Thereby, an energy beam irradiation process can be efficiently performed with high spatial resolution. In addition, since a photomask is not required, the cost of energy beam irradiation processing can be reduced, and different waveguide patterns can be quickly switched, so that a variety of products can be produced in small quantities.
マスクレス照射装置としては、例えば、デジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)のような反射型空間光変調素子、液晶表示素子(LCD)のような透過型空間光変調素子といった各種の空間光変調素子を利用し、発生源からのエネルギー線を空間変調したビームとして出射するものが挙げられる。
このうち、発生源としては、例えばランプ、レーザー光源、LED等が用いられる。
Examples of the maskless irradiation apparatus include various spatial light modulation elements such as a reflective spatial light modulation element such as a digital micromirror device (DMD) and a transmission spatial light modulation element such as a liquid crystal display element (LCD). Is used to emit energy rays from a generation source as a spatially modulated beam.
Among these, as a generation source, a lamp, a laser light source, LED, etc. are used, for example.
また、上記以外の空間光変調素子としては、空間光変調器(SLM:Spatial Light Modulator)のようなMEMS(Micro Electro Mechanical System)方式の空間光変調素子、PLZT素子のような電気光学効果により透過光を変調する空間光変調素子、液晶光シャッター等が挙げられる。 Other spatial light modulators than the above are MEMS (Micro Electro Mechanical System) -type spatial light modulators such as spatial light modulators (SLMs) and electro-optic effects such as PLZT elements. Examples thereof include a spatial light modulation element that modulates light and a liquid crystal light shutter.
さらには、発生源として複数の発光点を格子状に配列させたもの、例えば、レーザーダイオード(LD)アレイ、発光ダイオード(LED)アレイ、有機ELアレイ等もこの露光処理に用いることができる。このような発生源を用いた場合には、空間光変調素子を省略することもできる。 Further, a source in which a plurality of light emitting points are arranged in a grid shape, for example, a laser diode (LD) array, a light emitting diode (LED) array, an organic EL array, or the like can be used for this exposure process. When such a generation source is used, the spatial light modulation element can be omitted.
なお、マスクレス照射装置は、発生源や空間光変調素子以外に、被処理物を駆動するXYZステージ、各種光学系、発生源や空間光変調素子の動作を制御する制御部等を有していてもよい。 In addition to the generation source and the spatial light modulation element, the maskless irradiation apparatus has an XYZ stage that drives the object to be processed, various optical systems, a control unit that controls the operation of the generation source and the spatial light modulation element, and the like. May be.
また、凹部170は、積層体10の一部を除去し得る各種の加工方法により形成することができる。かかる加工方法としては、例えば、切削のような機械加工、レーザー加工、電子線加工、インプリント加工等が挙げられる。
Moreover, the recessed
≪第2実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第2実施形態について説明する。
<< Second Embodiment >>
Next, a second embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図5は、本発明の光導波路の第2実施形態を示す平面図である。図6は、図5に示す光導波路のA−A線断面図である。図7は、図5に示す光導波路の部分拡大斜視図である。なお、図5、7では、それぞれ説明の便宜上、クラッド層等の陰に隠れている部分を透視するように図示している。また、各図では、コア部に対してドットを付している。 FIG. 5 is a plan view showing a second embodiment of the optical waveguide of the present invention. FIG. 6 is a cross-sectional view of the optical waveguide shown in FIG. FIG. 7 is a partially enlarged perspective view of the optical waveguide shown in FIG. In FIGS. 5 and 7, for the convenience of explanation, portions hidden behind the cladding layer and the like are shown in perspective. Moreover, in each figure, the dot is attached | subjected with respect to the core part.
以下、第2実施形態について説明するが、以下の説明では、第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although 2nd Embodiment is described, in the following description, it demonstrates centering around difference with 1st Embodiment, The description is abbreviate | omitted about the same matter.
第2実施形態に係る光導波路1は、凹部の縦断面形状が異なる以外、第1実施形態に係る光導波路1と同様である。
The
すなわち、図5に示す凹部170の縦断面形状は、図6に示すように、上底が下底より長い台形をなしている。そして、第1実施形態では、傾斜面171に対向する面が「直立面172」であったのに対し、本実施形態では、「傾斜面172’」になっている点で相違している。ただし、傾斜面171については第1実施形態と相違ない。
That is, the vertical cross-sectional shape of the
このような傾斜面172’を備える凹部170は、開口部のX軸方向における長さが第1実施形態よりも長くなっている。すなわち、傾斜面171のX軸方向における長さには変化がないものの、傾斜面172’が設けられた分だけ、凹部170がX軸方向において占める範囲が長くなっている。このため、例えば傾斜面171bに対応して設けられるコア部14aの狭幅部142aがX軸方向において占める範囲も、その分だけ、長くなっている。
The
このように凹部170の開口部が長くなっても、第1実施形態と同様、X軸方向の位置において傾斜面171bと狭幅部142aとが対応している。このため、コア部14aとコア部14bとのピッチを狭くした場合でも、傾斜面171bとコア部14aとの干渉を防止することができる。すなわち、コア層13に形成されるコア部14の形成密度を高めた場合でも、傾斜面171bとコア部14aとの干渉を避けながら、傾斜面171bの十分な面積を確保することが可能になる。したがって、コア部14の高密度化と、外部の光学部品との高い光結合効率と、を両立させることができる。
As described above, even if the opening of the
また、コア層13の下面を基準面としたとき、基準面と傾斜面172’とがなす角度は、30〜60°程度であるのが好ましく、40〜50°程度であるのがより好ましい。これにより、凹部170近傍に応力が発生し難くなり、応力集中に伴う傾斜面171の反射損失の増大を抑制することができる。なお、基準面と傾斜面172’とがなす角度とは、基準面と傾斜面172’とで形成される内角の角度のうち、凹部170側とは反対側にできる内角の角度のことをいう。
このような第2実施形態においても、第1実施形態と同様の作用、効果が得られる。
Moreover, when the lower surface of the
In such a second embodiment, the same operations and effects as in the first embodiment can be obtained.
≪第3実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第3実施形態について説明する。
«Third embodiment»
Next, a third embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図8、9は、それぞれ本発明の光導波路の第3実施形態を示す断面図である。なお、図8、9では、コア部に対してドットを付している。 8 and 9 are cross-sectional views showing a third embodiment of the optical waveguide of the present invention. 8 and 9, dots are given to the core portion.
以下、第3実施形態について説明するが、以下の説明では、第1、2実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, the third embodiment will be described. In the following description, differences from the first and second embodiments will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.
第3実施形態に係る光導波路1は、コア部に対する凹部の形成位置が異なる以外、第1、2実施形態に係る光導波路1と同様である。
The
すなわち、図8に示す凹部170は、コア部14の右端から離れた位置に形成されている。このため、第1、2実施形態では、凹部170の傾斜面171にコア部14が露出しているのに対し、本実施形態では、コア部14の右端を囲むように形成されている側面クラッド部15が露出している点で相違する。
That is, the
このような図8に示す光導波路1においても、第1、2実施形態に係る光導波路1と同様の作用、効果が得られる。
In such an
加えて、第1、2実施形態では、傾斜面171にコア部14と側面クラッド部15の双方が露出するのに対し、本実施形態では側面クラッド部15のみが露出する。したがって、各種加工方法によって凹部170を形成する際には、滑らかな傾斜面171を形成し易くなる。このため、傾斜面171の反射損失をより小さく抑えることが可能になる。
In addition, in the first and second embodiments, both the
一方、図9に示す凹部170は、コア部14の途中に形成されている。すなわち、第1〜3実施形態では、コア部14の長手方向の延長線上に傾斜面171が形成されているのに対し、本実施形態では、コア部14の長手方向の途中に傾斜面171が形成されている点で相違する。
On the other hand, the
このような図9に示す光導波路1においても、第1、2実施形態に係る光導波路1と同様の作用、効果が得られる。
In the
≪第4実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第4実施形態について説明する。
<< Fourth Embodiment >>
Next, a fourth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図10は、本発明の光導波路の第4実施形態を示す平面図である。なお、図10では、コア部に対してドットを付している。 FIG. 10 is a plan view showing a fourth embodiment of the optical waveguide of the present invention. In addition, in FIG. 10, the dot is attached | subjected with respect to the core part.
以下、第4実施形態について説明するが、以下の説明では、第1〜3実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although 4th Embodiment is described, in the following description, it demonstrates centering around difference with 1st-3rd embodiment, The description is abbreviate | omitted about the same matter.
第4実施形態に係る光導波路1は、コア部14の平面視形状が異なる以外、第1〜3実施形態に係る光導波路1と同様である。
The
すなわち、第1実施形態に係る光導波路1では、コア部14の平面視形状が、その幅の中心を通りX軸に対して平行な軸線に対して線対称の関係を有する形状であるのに対し、本実施形態に係る光導波路1では、コア部14の平面視形状が、前記軸線に対して線対称ではない点で相違している。
That is, in the
具体的には、本実施形態では、コア部14のうち、隣り合うコア部14の傾斜面171と干渉するおそれがない部分では、幅を変化させないようにコア部14の形状が設定されている。したがって、隣り合うコア部14の傾斜面171が干渉するおそれがないコア部14については、狭幅部が形成されていない。コア部14のうち、+Y側には傾斜面171が近接している一方、−Y側には傾斜面171が近接していない場合には、そのコア部14の+Y側の外縁形状を変化させる一方、−Y側の外縁形状は変化させないことで、結果的に狭幅部を形成している。このようなパターンでコア部14の平面視形状が設定されているため、本実施形態に係る光導波路1では、コア部14の平面視形状が、前記軸線に対して線対称ではない部分を含んでいる。
Specifically, in the present embodiment, the shape of the
しかしながら、このような本実施形態に係る光導波路1においても、第1〜3実施形態に係る光導波路1と同様の作用、効果が得られる。
However, also in the
≪第5実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第5実施形態について説明する。
«Fifth embodiment»
Next, a fifth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図11〜13は、それぞれ本発明の光導波路の第5実施形態を示す平面図である。なお、図11〜13では、コア部に対してドットを付している。 11 to 13 are plan views showing a fifth embodiment of the optical waveguide of the present invention. In addition, in FIGS. 11-13, the dot is attached | subjected with respect to the core part.
以下、第5実施形態について説明するが、以下の説明では、第1〜4実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although 5th Embodiment is described, in the following description, it demonstrates centering around difference with 1st-4th embodiment, and the description is abbreviate | omitted about the same matter.
第5実施形態に係る光導波路1は、凹部170の近傍に設けられた貫通孔18を有する以外、第1〜4実施形態に係る光導波路1と同様である。
The
すなわち、図11に示す光導波路1は、平面視において凹部170の長方形をなす開口部の角部と重なるように設けられた貫通孔18を有する。この貫通孔18は、開口の平面視形状が円形をなし、積層体10を厚さ方向に貫通している。このような貫通孔18を設けることにより、凹部170近傍において応力が発生したとき、その応力によって傾斜面171の反射損失が増大するのを抑制することができる。
That is, the
なお、貫通孔18は、凹部170の長方形をなす開口部が備える4つの角部のうち、少なくとも一部と重なるように設けられていればよい。例えば、図11に示すように、傾斜面171aを含む凹部170の開口部が備える4つの角部には、それぞれ貫通孔18が形成されているものの、傾斜面171bを含む凹部170の開口部が備える4つの角部には、コア部14aとは反対側に位置する2つの角部のみと重なるように貫通孔18が形成されており、残る2つの角部には貫通孔18が形成されていない。このような場合であっても、上述したような効果を奏する。
In addition, the through-
また、貫通孔18の平面視形状は、図11に示す真円に限定されないが、好ましくは楕円、長円のような丸みを帯びた形状であるのが好ましい。
Further, the shape of the through-
なお、凹部170の開口部と貫通孔18との位置関係や貫通孔18の形状は、図11に示すものに限定されない。
The positional relationship between the opening of the
例えば、図12(a)に示す光導波路1は、平面視において凹部170の長方形をなす開口部の近傍であって、開口部の対角線の延長線上に設けられた貫通孔18を有する。貫通孔18と凹部170とは離間している。また、図12(a)に示す貫通孔18は、図11に示す貫通孔18と同様、開口の平面視形状が真円をなしている。
For example, the
一方、図12(b)に示す光導波路1も、平面視において凹部170の長方形をなす開口部の近傍であって、開口部の対角線の延長線上に設けられた貫通孔18を有する。貫通孔18と凹部170とは離間している。また、図12(b)に示す貫通孔18は、開口の平面視形状が楕円形をなしており、その長軸と前記対角線の延長線とがほぼ直交するように配置されている。
On the other hand, the
さらに、図12(c)に示す光導波路1も、平面視において凹部170の長方形をなす開口部の近傍であって、開口部の対角線の延長線上に設けられた貫通孔18を有する。貫通孔18と凹部170とは離間している。また、図12(c)に示す貫通孔18は、開口の平面視形状が線状をなしており、その線分と前記対角線の延長線とがほぼ直交するように配置されている。
Furthermore, the
また、図13に示す光導波路1は、平面視において凹部170の長方形をなす開口部の長辺と、光導波路1の外縁と、を結ぶように設けられた貫通孔18を有する。図13に示す貫通孔18は、開口の平面視形状が線状をなしており、その線分と前記長辺とがほぼ直交するように配置されている。
The
このような図12、13に示す光導波路1においても、上述したように、凹部170近傍において応力が発生したとき、その応力によって傾斜面171の反射損失が増大するのを抑制することができる。
In the
その他、本実施形態に係る光導波路1においても、第1〜4実施形態に係る光導波路1と同様の作用、効果が得られる。
In addition, also in the
≪第6実施形態≫
次に、本発明の光導波路の第6実施形態について説明する。
<< Sixth Embodiment >>
Next, a sixth embodiment of the optical waveguide of the present invention will be described.
図14は、本発明の光導波路の第6実施形態を示す平面図である。なお、図14では、コア部に対してドットを付している。 FIG. 14 is a plan view showing a sixth embodiment of the optical waveguide of the present invention. In FIG. 14, dots are added to the core portion.
以下、第6実施形態について説明するが、以下の説明では、第1〜5実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although 6th Embodiment is described, in the following description, it demonstrates centering on difference with 1st-5th embodiment, and the description is abbreviate | omitted about the same matter.
第6実施形態に係る光導波路1は、前述したモノマーディフュージョンを生じる材料により形成されており、かつ、凹部170の近傍に設けられたモノマー高濃度部19を有する以外、第1〜5実施形態に係る光導波路1と同様である。
The
すなわち、図14に示す光導波路1は、前述したように、屈折率変調能を有する組成物としてモノマーディフュージョンを生じる材料を用い、かかる材料からなる部材にエネルギー線を照射することによってコア部14および側面クラッド部15を形成してなるものである。かかる部材は、互いに屈折率が異なるポリマーとモノマーとを含んでおり、例えば側面クラッド部15を形成すべき領域にエネルギー線を照射することで、その領域に存在するモノマーを重合させるとともに、非照射領域からのモノマーの移動を誘起することによって、モノマーの濃度差を形成し、もって屈折率差を形成することが可能である。したがって、エネルギー線の照射量に応じて、モノマーの濃度に差をつけることができる。
That is, as described above, the
本実施形態に係る光導波路1は、平面視において凹部170の長方形をなす開口部の近傍であって、開口部の対角線の延長線上に設けられたモノマー高濃度部19を有する。モノマー高濃度部19は、モノマーの濃度がその周囲の側面クラッド部15よりも高くなっている。これにより、モノマー高濃度部19の局所的な弾性率は、その周囲の側面クラッド部15の弾性率よりも大きくなっている。その結果、凹部170近傍において応力が発生したとき、その応力によって傾斜面171の反射損失が増大するのを抑制することができる。
The
なお、モノマー高濃度部19に高濃度に集積したモノマーは、その後の工程において重合し、モノマー由来のポリマーとなる。したがって、最終的には、モノマー高濃度部19においては、その周囲の側面クラッド部15よりも、濃度差に基づいて移動したモノマー由来のポリマーの濃度が高いことになる。モノマー高濃度部19におけるこの「モノマー由来のポリマー」の濃度は、その周囲の側面クラッド部15よりも10質量%以上高いのが好ましい。これにより、上述した効果がより顕著に発揮される。
The monomer accumulated at a high concentration in the monomer
また、モノマー高濃度部19の平面視形状としては、特に限定されず、図14に示す楕円の他、真円、長円のような円形、三角形、四角形、五角形、六角形のような多角形、平行四辺形、菱形、その他の異形状等が挙げられる。
Further, the planar view shape of the monomer
その他、本実施形態に係る光導波路1においても、第1〜5実施形態に係る光導波路1と同様の作用、効果が得られる。
In addition, in the
<光電気混載基板および光モジュール>
次に、本発明の光電気混載基板の実施形態および本発明の光モジュールの実施形態について説明する。
<Opto-electric hybrid board and optical module>
Next, an embodiment of the opto-electric hybrid board of the present invention and an embodiment of the optical module of the present invention will be described.
図15は、本発明の光電気混載基板の実施形態および本発明の光モジュールの実施形態を示す縦断面図である。 FIG. 15 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of the opto-electric hybrid board of the present invention and an embodiment of the optical module of the present invention.
図15に示す光電気混載基板100は、光導波路1と、その上方に積層された電気配線基板5と、これらの間に介挿され両者を接着する接着層90と、を有している。以下、光電気混載基板100の各部の構成について順次説明する。
An opto-
なお、図15に示す光導波路1は、積層体10に加え、積層体10の下方に設けられた支持フィルム2と、積層体10の上方に設けられたカバーフィルム3と、を備えている。これらのフィルムを設けることで、積層体10を外部環境や外力から保護することができ、光導波路1の信頼性をより高めることができる。
The
支持フィルム2およびカバーフィルム3の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料が挙げられる。 Examples of the constituent material of the support film 2 and the cover film 3 include various resin materials such as polyethylene terephthalate (PET), polyolefin such as polyethylene and polypropylene, polyimide, and polyamide.
また、支持フィルム2およびカバーフィルム3の平均厚さは、特に限定されないが、5〜500μm程度であるのが好ましく、10〜400μm程度であるのがより好ましい。これにより、外力や外部環境から積層体10をより確実に保護することができる。
Moreover, although the average thickness of the support film 2 and the cover film 3 is not specifically limited, It is preferable that it is about 5-500 micrometers, and it is more preferable that it is about 10-400 micrometers. Thereby, the
図15に示す電気配線基板5は、コア基板51とその両面に積層されたビルドアップ層52とを備えた多層基板50と、この多層基板50を貫通する貫通孔53と、を有している。
The electrical wiring board 5 shown in FIG. 15 has a
コア基板51の構成材料としては、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、各種ビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂等の各種樹脂材料が挙げられる。この他、紙、ガラス布、樹脂フィルム等を基材とし、この基材に、フェノール系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、シアネート樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂等の樹脂材料を含浸させたもの、具体的には、ガラス布・エポキシ銅張積層板、ガラス不織布・エポキシ銅張積層板等のコンポジット銅張積層板に使用される絶縁性基板の他、ポリエーテルイミド樹脂基板、ポリエーテルケトン樹脂基板、ポリサルフォン系樹脂基板等の耐熱・熱可塑性の有機系リジッド基板や、アルミナ基板、窒化アルミニウム基板、炭化ケイ素基板等のセラミックス系リジッド基板等であってもよい。
Examples of the constituent material of the
また、コア基板51には、その両面に積層されたビルドアップ層52同士を電気的に接続する貫通配線が形成されている。
The
一方、ビルドアップ層52は、絶縁層521と導体層522とを交互に積層することにより形成される。導体層522にはパターニングが施され、電気配線が形成されている。また、絶縁層521には、その両面に設けられた電気配線同士を接続する貫通配線が形成されている。
On the other hand, the
これらの導体層522および貫通配線は、それぞれ、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛、錫、金、銀のような金属単体、またはこれらの金属元素を含む合金等の導電性材料で構成される。
Each of the
また、絶縁層521は、酸化ケイ素、窒化ケイ素のようなケイ素化合物、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂のような樹脂材料等により構成される。
The insulating
このようにして、ビルドアップ層52内には、面方向のみでなく厚さ方向にも広がる電気回路を構築することができ、電気回路の高密度化を図ることができる。
In this way, an electrical circuit that extends not only in the plane direction but also in the thickness direction can be constructed in the
なお、このような多層基板50は、いかなる工法で形成されたものであってもよいが、一例としてアディティブ法、セミアディティブ法、サブトラクティブ法等の各種ビルドアップ工法により形成される。
In addition, although such a
また、本発明の光電気混載基板が備える電気配線基板は、上述した電気配線基板5のような多層基板を含むものに限定されず、例えば多層基板を単層の電気配線基板(リジッド基板)で代替したものであってもよく、ポリイミド基板、ポリエステル基板、アラミドフィルム基板のような各種フレキシブル基板で代替したものであってもよい。また、多層基板50は、コア基板51を含まないコアレスの多層基板で代替することもできる。なお、フレキシブル基板の場合、それ自体が十分な光透過性を有しているので、光スルーホールとして機能する貫通孔53は形成されていなくてもよい。
The electrical wiring board provided in the opto-electric hybrid board of the present invention is not limited to the one including the multilayer board such as the electrical wiring board 5 described above. For example, the multilayer board is a single-layer electrical wiring board (rigid board). It may be replaced, or may be replaced with various flexible substrates such as a polyimide substrate, a polyester substrate, and an aramid film substrate. The
また、図1に示す電気配線基板5は、多層基板50の上面に設けられたソルダーレジスト層54を有している。なお、ソルダーレジスト層54のうち、導体層522との接続部には開口が形成されている。
Further, the electrical wiring substrate 5 shown in FIG. 1 has a solder resist
ソルダーレジスト層54は、各種樹脂材料で構成され、必要に応じて無機フィラーを含む。ソルダーレジスト層54の平均厚さは、特に限定されないが10〜100μm程度であるのが好ましく、20〜50μm程度であるのがより好ましい。
The solder resist
以上のような光導波路1と電気配線基板5とが接着層90を介して接着されることにより、光電気混載基板100が得られる。
The optical /
また、この光電気混載基板100に光素子6を搭載することにより、光モジュール(本発明の光モジュール)1000が得られる。図15に示す光素子6は、素子本体60と、素子本体60の下面に設けられた受発光部61および端子62と、端子62から下方に突出するよう設けられたバンプ63と、を有している。なお、受発光部とは、受光部または発光部、あるいはその双方の機能を有するものを指す。
Also, by mounting the optical element 6 on the opto-
光素子6は、受発光部61の光軸とコア部14の光軸とが傾斜面171を介して一致するよう配置されている。これにより、光導波路1と光素子6とが光学的に接続され、光導波路1を伝搬する光信号を光素子6に受光させたり、光素子6から出射された光信号を光導波路1に入射したりすることができる。
The optical element 6 is disposed such that the optical axis of the light emitting / receiving
また、バンプ63は、導体層522に接続されている。これにより、光素子6が機械的に固定されるとともに、光素子6の端子62と導体層522とが電気的に接続され、光素子6の動作を電気配線基板5側から制御し得るよう構成されている。
Further, the
光素子6としては、例えば、面発光レーザー(VCSEL)、発光ダイオード(LED)、有機EL素子等の発光素子、フォトダイオード(PD、APD)等の受光素子が挙げられる。 Examples of the optical element 6 include a light emitting element such as a surface emitting laser (VCSEL), a light emitting diode (LED), and an organic EL element, and a light receiving element such as a photodiode (PD, APD).
また、図15に示す光電気混載基板100には、図示しない電気素子が搭載されていてもよい。電気素子としては、例えば、IC、LSI、RAM、ROM、コンデンサー、コイル、抵抗、ダイオード等が挙げられる。
Further, an electric element (not shown) may be mounted on the opto-
なお、接着層90は、光路上にあるため、透光性を有しているものが好ましい。接着層90の構成材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、イミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、ユリア系樹脂等の樹脂材料が挙げられる。
Note that since the
このような光電気混載基板100および光モジュール1000では、傾斜面171を介して受発光部61とコア部14との光学的に接続する際、光結合効率を高めることができる。また、光導波路1は、コア部14の高密度化が図られ、伝送容量が大きいものであるため、光電気混載基板100および光モジュール1000は、通信容量の大きいものとなる。これにより、光通信におけるS/N比の低下を抑制し、高品質で大容量の光通信を実現することができる。したがって、光電気混載基板100および光モジュール1000は、信頼性の高いものとなる。
In such an opto-
<電子機器>
上述したような本発明に係る光導波路は、外部の光学部品に対する光結合効率が高いものとなる。このため、本発明の光導波路を備えることにより、高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器(本発明の電子機器)が得られる。
<Electronic equipment>
The optical waveguide according to the present invention as described above has high optical coupling efficiency with respect to external optical components. For this reason, by providing the optical waveguide of the present invention, a highly reliable electronic device (electronic device of the present invention) capable of performing high-quality optical communication can be obtained.
本発明の光導波路を備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、WDM装置、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路を備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が図られ、また、電子機器の低コスト化に貢献することができる。 Examples of the electronic device including the optical waveguide of the present invention include electronic devices such as a mobile phone, a game machine, a router device, a WDM device, a personal computer, a television, and a home server. In any of these electronic devices, it is necessary to transmit a large amount of data at high speed between an arithmetic device such as an LSI and a storage device such as a RAM. Therefore, by providing such an electronic device with the optical waveguide of the present invention, problems such as noise and signal degradation peculiar to electric wiring are eliminated, and the performance of the electronic device is dramatically improved. It can contribute to cost reduction.
さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。 In addition, the amount of heat generated in the optical waveguide portion is greatly reduced compared to electrical wiring. For this reason, the electric power required for cooling can be reduced and the power consumption of the whole electronic device can be reduced.
以上、本発明の光導波路、光電気混載基板、光モジュールおよび電子機器について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、前記各実施形態に係る光導波路、光電気混載基板および光モジュールには、任意の構成物が付加されていてもよい。 The optical waveguide, the opto-electric hybrid board, the optical module, and the electronic device of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to this. For example, the optical waveguide and the opto-electric hybrid board according to each of the embodiments described above. In addition, an arbitrary component may be added to the optical module.
また、本発明の光導波路の実施形態は、前記各実施形態のうち任意の2つ以上を組み合わせたものであってもよい。 Moreover, the embodiment of the optical waveguide of the present invention may be a combination of any two or more of the above embodiments.
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
1.光導波路の製造
Next, specific examples of the present invention will be described.
1. Optical waveguide manufacturing
(実施例1)
(1)ノルボルネン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン(HxNB)7.2g(40.1mmol)、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン12.9g(40.1mmol)を500mLバイアル瓶に計量し、脱水トルエン60gと酢酸エチル11gを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
Example 1
(1) Synthesis of norbornene-based resin In a glove box whose moisture and oxygen concentrations are both controlled to 1 ppm or less and filled with dry nitrogen, 7.2 g (40.1 mmol) of hexylnorbornene (HxNB), diphenylmethylnorbornenemethoxy 12.9 g (40.1 mmol) of silane was weighed into a 500 mL vial, 60 g of dehydrated toluene and 11 g of ethyl acetate were added, and the top was sealed with a silicon sealer.
次に、100mLバイアルビン中にNi触媒1.56g(3.2mmol)と脱水トルエン10mLを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。 Next, 1.56 g (3.2 mmol) of Ni catalyst and 10 mL of dehydrated toluene were weighed in a 100 mL vial, and a stirrer chip was placed and sealed, and the catalyst was thoroughly stirred to dissolve completely.
このNi触媒溶液1mLをシリンジで正確に計量し、上記2種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で1時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン(THF)60gを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。 When 1 mL of this Ni catalyst solution was accurately weighed with a syringe, and quantitatively injected into the vial bottle in which the two kinds of norbornene were dissolved and stirred at room temperature for 1 hour, a marked increase in viscosity was confirmed. At this point, the stopper was removed, 60 g of tetrahydrofuran (THF) was added, and the mixture was stirred to obtain a reaction solution.
100mLビーカーに無水酢酸9.5g、過酸化水素水18g(濃度30%)、イオン交換水30gを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて12時間撹拌してNiの還元処理を行った。 In a 100 mL beaker, 9.5 g of acetic anhydride, 18 g of hydrogen peroxide (concentration 30%) and 30 g of ion-exchanged water were added and stirred to prepare an aqueous solution of peracetic acid on the spot. Next, the total amount of this aqueous solution was added to the above reaction solution and stirred for 12 hours to reduce Ni.
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの30%水溶液を100mL加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で3回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、60℃に設定した真空乾燥機中で12時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー#1を得た。ポリマー#1の分子量分布は、GPC測定により、Mw=10万、Mn=4万であった。また、ポリマー#1中の各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が50mol%、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が50mol%であった。
Next, the treated reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower aqueous layer was removed, and then 100 mL of a 30% aqueous solution of isopropyl alcohol was added and vigorously stirred. The aqueous layer was removed after standing and completely separating the two layers. After repeating this water washing process three times in total, the oil layer was dropped into a large excess of acetone to reprecipitate the polymer produced and separated from the filtrate by filtration, and then in a vacuum dryer set at 60 °
(2)コア層形成用組成物の製造
精製した上記ポリマー#1 10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076(チバガイギー社製)0.01g、シクロヘキシルオキセタンモノマー(東亜合成製 CHOX、CAS#483303−25−9、分子量186、沸点125℃/1.33kPa)2g、重合開始剤(光酸発生剤) RhodorsilPhotoinitiator 2074(Rhodia社製、CAS# 178233−72−2)(0.025g、酢酸エチル0.1mL中)を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層形成用組成物を得た。
(2) Production of composition for forming core layer 10 g of the above-mentioned
(3)クラッド層形成用組成物の製造
精製した上記ポリマー#1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位80mol%、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位20mol%にそれぞれ変更したものを、前記ポリマー#1に代えて用いるようにした以外はコア層形成用組成物と同様にしてクラッド層形成用組成物を得た。
(3) Manufacture of the composition for forming a clad layer The molar ratio of each structural unit of the purified
(4)第1クラッド層の作製
離型層を形成した基材フィルム上に、(3)で製造したクラッド層形成用組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、UV露光機で全面に紫外線を照射し、塗布した組成物を硬化させた。これにより、厚さ10μmの無色透明な第1クラッド層を得た。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cm2とした。
(4) Production of first clad layer The clad layer-forming composition produced in (3) was uniformly applied with a doctor blade on the base film on which the release layer was formed, and then applied to a dryer at 50 ° C. Added for a minute. After completely removing the solvent, the entire surface was irradiated with UV light by a UV exposure machine to cure the applied composition. As a result, a colorless and transparent first cladding layer having a thickness of 10 μm was obtained. The cumulative amount of ultraviolet light was 500 mJ / cm 2 .
(5)コア層の作製
離型層を形成した基材フィルム上に、コア層樹脂組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、ライン、スペースの直線パターンが全面に描かれたフォトマスクを圧着した。そして、フォトマスク上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は1300mJ/cm2とした。
(5) Preparation of core layer After apply | coating a core layer resin composition uniformly with a doctor blade on the base film in which the mold release layer was formed, it injected | threw-in to the dryer of 50 degreeC for 10 minutes. After completely removing the solvent to form a film, a photomask having a linear pattern of lines and spaces drawn on the entire surface was pressure-bonded onto the obtained film. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the photomask with a parallel exposure machine. The integrated light quantity of ultraviolet rays was 1300 mJ / cm 2 .
次いで、フォトマスクを取り去り、150℃のオーブンに30分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。また、得られたコア部の厚さは50μmとし、コア部の本数は8本とした。また、コア部のピッチPは、表1に示す通りである。 Next, the photomask was removed and placed in an oven at 150 ° C. for 30 minutes. Upon removal from the oven, it was confirmed that a clear waveguide pattern appeared on the coating. Moreover, the thickness of the obtained core part was 50 micrometers, and the number of the core parts was eight. The pitch P of the core part is as shown in Table 1.
なお、コア部には、広幅部と狭幅部とを形成した。広幅部の幅W1および狭幅部の幅W2は、それぞれ表1に示す通りである。 In addition, the wide part and the narrow part were formed in the core part. The width W1 of the wide portion and the width W2 of the narrow portion are as shown in Table 1, respectively.
(6)第2クラッド層の作製
離型層を形成した基材フィルム上に、(4)と同様にしてクラッド層形成用組成物を塗布し、厚さ10μmの無色透明な第2クラッド層を得た。
(6) Preparation of second clad layer On the base film on which the release layer is formed, a clad layer forming composition is applied in the same manner as in (4), and a colorless and transparent second clad layer having a thickness of 10 μm is formed. Obtained.
(7)積層体の製造
次いで、第1クラッド層上にコア層を重ねた。そして、コア層に付いていた基材フィルムを剥離した。
(7) Manufacture of laminated body Next, a core layer was stacked on the first cladding layer. Then, the base film attached to the core layer was peeled off.
次いで、コア層上に第2クラッド層を重ねた。そして、第2クラッド層に付いていた基材フィルムを剥離した。 Next, the second cladding layer was overlaid on the core layer. Then, the base film attached to the second cladding layer was peeled off.
その後、第1クラッド層、コア層および第2クラッド層を加圧し、各層を互いに圧着した。これにより、積層体を得た。 Thereafter, the first cladding layer, the core layer, and the second cladding layer were pressurized, and the layers were pressure-bonded to each other. This obtained the laminated body.
(8)凹部の形成
次に、レーザー加工によりコア部の両端部にそれぞれ凹部を形成した。これにより、全長10cmの光導波路を得た。なお、形成した凹部の形状は、図1〜4に示す通りである。また、コア部と、そのコア部に隣り合うコア部の端部に形成された凹部との最短距離Sは、表1に示す通りである。さらに、凹部(傾斜面)の幅は、表1に示す通りである。
(8) Formation of recessed part Next, the recessed part was formed in the both ends of the core part by laser processing, respectively. Thereby, an optical waveguide having a total length of 10 cm was obtained. In addition, the shape of the formed recessed part is as showing to FIGS. Further, the shortest distance S between the core portion and the recess formed at the end of the core portion adjacent to the core portion is as shown in Table 1. Furthermore, the width of the recess (inclined surface) is as shown in Table 1.
(実施例2〜4)
コア層の作製に際し、紫外線を照射するのに用いるフォトマスクを変更し、コア部の形状および凹部の配置を表1に示す通りに変更した以外は、それぞれ実施例1と同様にして光導波路を得た。
(Examples 2 to 4)
In the production of the core layer, the optical waveguide was changed in the same manner as in Example 1 except that the photomask used for irradiating the ultraviolet rays was changed and the shape of the core part and the arrangement of the recesses were changed as shown in Table 1. Obtained.
(実施例5)
形成した凹部の形状を、図5〜7に示すように変更するとともに、製造条件を表1に示すように変更した以外は、それぞれ実施例2と同様にして光導波路を得た。
(Example 5)
Optical waveguides were obtained in the same manner as in Example 2 except that the shape of the formed recesses was changed as shown in FIGS. 5 to 7 and the manufacturing conditions were changed as shown in Table 1.
(実施例6)
図11に示すような貫通孔をさらに形成するようにした以外は、実施例2と同様にして光導波路を得た。
(Example 6)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 2 except that a through hole as shown in FIG. 11 was further formed.
(実施例7)
図12(a)に示すような貫通孔をさらに形成するようにした以外は、実施例2と同様にして光導波路を得た。
(Example 7)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 2 except that a through hole as shown in FIG.
(実施例8)
図12(b)に示すような貫通孔をさらに形成するようにした以外は、実施例2と同様にして光導波路を得た。
(Example 8)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 2 except that a through hole as shown in FIG.
(実施例9)
図12(c)に示すような貫通孔をさらに形成するようにした以外は、実施例2と同様にして光導波路を得た。
Example 9
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 2 except that a through hole as shown in FIG.
(実施例10)
図13に示すような貫通孔をさらに形成するようにした以外は、実施例2と同様にして光導波路を得た。
(Example 10)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 2 except that a through hole as shown in FIG. 13 was further formed.
(実施例11)
図14に示すようなモノマー高濃度部をさらに形成するようにした以外は、実施例2と同様にして光導波路を得た。
(Example 11)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 2 except that a monomer high concentration portion as shown in FIG. 14 was further formed.
(実施例12)
(1)クラッド層形成用樹脂組成物の製造
ダイセル化学工業(株)製の脂環式エポキシ樹脂、セロキサイド2081 20g、(株)ADEKA製のカチオン重合開始剤、アデカオプトマーSP−170 0.6g、およびメチルイソブチルケトン80gを撹拌混合して溶液を調製した。
(Example 12)
(1) Production of Cladding Layer Forming Resin Composition Daicel Chemical Industries, Ltd. Alicyclic Epoxy Resin, Celoxide 2081 20 g, ADEKA Co., Ltd. Cationic Polymerization Initiator, Adekaoptomer SP-170 0.6 g A solution was prepared by stirring and mixing 80 g of methyl isobutyl ketone.
次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明なクラッド層形成用樹脂組成物を得た。 Subsequently, the obtained solution was filtered with a PTFE filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a clean and colorless and transparent resin composition for forming a cladding layer.
(2)感光性樹脂組成物の製造
エポキシ系ポリマーとして新日鐵化学(株)製のフェノキシ樹脂、YP−50S 20g、光重合性モノマーとしてダイセル化学工業(株)製のセロキサイド2021P 5g、および重合開始剤として(株)ADEKA製のアデカオプトマーSP−170 0.2gを、メチルイソブチルケトン80g中に投入し、撹拌溶解して溶液を調製した。
(2) Manufacture of photosensitive resin composition As an epoxy polymer, phenoxy resin manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., 20 g of YP-50S, 5 g of Celoxide 2021P manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. as a photopolymerizable monomer, and polymerization As an initiator, 0.2 g of Adekaoptomer SP-170 manufactured by ADEKA Corporation was put into 80 g of methyl isobutyl ketone, and dissolved by stirring to prepare a solution.
次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明な感光性樹脂組成物を得た。 Subsequently, the obtained solution was filtered with a PTFE filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a clean, colorless and transparent photosensitive resin composition.
(3)下側クラッド層の作製
クラッド層形成用樹脂組成物をドクターブレードにより厚さ25μmのポリイミドフィルム上に均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、UV露光機で全面に紫外線を照射し、塗布した樹脂組成物を硬化させた。これにより、厚さ10μmの無色透明な下側クラッド層を得た。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cm2とした。
(3) Production of lower clad layer The clad layer-forming resin composition was uniformly applied onto a polyimide film having a thickness of 25 µm by a doctor blade, and then placed in a dryer at 50 ° C for 10 minutes. After the solvent was completely removed, the entire surface was irradiated with ultraviolet rays with a UV exposure machine to cure the applied resin composition. As a result, a colorless and transparent lower cladding layer having a thickness of 10 μm was obtained. The cumulative amount of ultraviolet light was 500 mJ / cm 2 .
(4)コア層の作製
作製した下側クラッド層上に感光性樹脂組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、40℃の乾燥機に5分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、ライン、スペースの直線パターンを描くように、マスクレス露光装置により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は1000mJ/cm2とした。
(4) Production of core layer The photosensitive resin composition was uniformly applied by a doctor blade on the produced lower clad layer, and then placed in a dryer at 40 ° C for 5 minutes. After completely removing the solvent to form a film, ultraviolet rays were irradiated by a maskless exposure apparatus so as to draw a linear pattern of lines and spaces on the obtained film. The cumulative amount of ultraviolet light was 1000 mJ / cm 2 .
次いで、露光後の被膜を150℃のオーブンに30分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な複数の導波路パターンが現れているのが確認された。また、得られたコア部の厚さは50μmとし、コア部の本数は8本とした。また、コア部のピッチPは、表2に示す通りである。 Next, the exposed film was placed in an oven at 150 ° C. for 30 minutes. Upon removal from the oven, it was confirmed that a plurality of clear waveguide patterns appeared on the coating. Moreover, the thickness of the obtained core part was 50 micrometers, and the number of the core parts was eight. Further, the pitch P of the core portion is as shown in Table 2.
なお、コア部には、広幅部と狭幅部とを形成した。広幅部の幅W1および狭幅部の幅W2は、それぞれ表2に示す通りである。 In addition, the wide part and the narrow part were formed in the core part. The width W1 of the wide portion and the width W2 of the narrow portion are as shown in Table 2, respectively.
(5)上側クラッド層の作製
作製したコア層上に、(3)と同様にしてクラッド層形成用樹脂組成物を塗布し、厚さ10μmの無色透明な上側クラッド層を得た。
(5) Production of upper clad layer A clad layer-forming resin composition was applied to the produced core layer in the same manner as in (3) to obtain a colorless and transparent upper clad layer having a thickness of 10 μm.
(6)凹部の形成
次に、レーザー加工によりコア部の両端部にそれぞれ凹部を形成した。これにより、全長10cmの光導波路を得た。なお、形成した凹部の形状は、図1〜4に示す通りである。また、コア部とそのコア部に隣り合うコア部の端部に形成された凹部との最短距離Sは、表2に示す通りである。さらに、凹部(傾斜面)の幅は、表2に示す通りである。
(6) Formation of recessed part Next, the recessed part was formed in the both ends of the core part by laser processing, respectively. Thereby, an optical waveguide having a total length of 10 cm was obtained. In addition, the shape of the formed recessed part is as showing to FIGS. Further, the shortest distance S between the core portion and the concave portion formed at the end portion of the core portion adjacent to the core portion is as shown in Table 2. Furthermore, the width of the recess (inclined surface) is as shown in Table 2.
(実施例13)
形成した凹部の形状を、図5〜7に示すように変更するとともに、製造条件を表2に示すように変更した以外は、実施例12と同様にして光導波路を得た。
(Example 13)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 12 except that the shape of the formed recess was changed as shown in FIGS. 5 to 7 and the manufacturing conditions were changed as shown in Table 2.
(比較例1)
コア部に狭幅部を形成しないようにするとともに、それに応じて、コア部と凹部(傾斜面)とが干渉しないように凹部の幅を狭くした以外は、実施例12と同様にして光導波路を得た。
(Comparative Example 1)
In the same manner as in Example 12, except that the narrow width portion is not formed in the core portion and the width of the concave portion is narrowed so that the core portion and the concave portion (inclined surface) do not interfere with each other. Got.
(比較例2)
コア部に狭幅部を形成しないようにするとともに、それに応じて、コア部と凹部(傾斜面)とが干渉しないように凹部の幅を狭くした以外は、実施例13と同様にして光導波路を得た。
(Comparative Example 2)
In the same manner as in Example 13, except that the narrow width portion is not formed in the core portion and the width of the concave portion is narrowed so that the core portion and the concave portion (inclined surface) do not interfere with each other. Got.
2.光導波路の評価
2.1 挿入損失およびミラー損失の評価
各実施例および各比較例で得られた光導波路について、社団法人 日本電子回路工業会が規定した「高分子光導波路の試験方法(JPCA−PE02−05−01S−2008)」の4.6.1挿入損失の測定方法に準拠して傾斜面(ミラー)を介した光路の挿入損失を測定した。
2. 2. Evaluation of Optical Waveguide 2.1 Evaluation of Insertion Loss and Mirror Loss Regarding the optical waveguides obtained in each Example and each Comparative Example, “Testing Method for Polymer Optical Waveguide (JPCA- The insertion loss of the optical path through the inclined surface (mirror) was measured in accordance with the measurement method of 4.6.1 insertion loss of “PE02-05-01S-2008)”.
次いで、各実施例および各比較例で得られた光導波路について、上記試験方法の4.6.2単位長さあたりの光伝搬損失の測定方法に準拠して光伝搬損失(伝送損失)を測定した。 Next, the optical propagation loss (transmission loss) is measured for the optical waveguides obtained in each of the examples and the comparative examples in accordance with the method for measuring the optical propagation loss per unit length of 4.6.2 in the above test method. did.
その結果、各実施例および各比較例で得られた光導波路のいずれにおいても、光伝搬損失はほぼ同等であることが認められた。 As a result, it was confirmed that the optical propagation loss was almost the same in each of the optical waveguides obtained in each example and each comparative example.
光導波路の挿入損失は、光伝搬損失とミラー損失との和であると考えられることから、各実施例および各比較例で得られた光導波路についてミラー損失を求めた。そして、求めたミラー損失は、以下の評価基準にしたがって評価した。 Since the insertion loss of the optical waveguide is considered to be the sum of the light propagation loss and the mirror loss, the mirror loss was obtained for the optical waveguides obtained in the respective examples and the comparative examples. The obtained mirror loss was evaluated according to the following evaluation criteria.
<ミラー損失の評価基準>
A:ミラー損失が非常に小さい(0.2dB未満)
B:ミラー損失が小さい(0.2dB以上0.5dB未満)
C:ミラー損失がやや小さい(0.5dB以上1.0dB未満)
D:ミラー損失がやや大きい(1.0dB以上1.5dB未満)
E:ミラー損失が大きい(1.5dB以上2dB未満)
F:ミラー損失が非常に大きい(2dB以上)
以上の評価結果を表1、2に示す。
<Evaluation criteria for mirror loss>
A: Mirror loss is very small (less than 0.2 dB)
B: Mirror loss is small (0.2 dB or more and less than 0.5 dB)
C: Mirror loss is slightly small (0.5 dB or more and less than 1.0 dB)
D: Mirror loss is slightly large (1.0 dB or more and less than 1.5 dB)
E: Large mirror loss (1.5 dB or more and less than 2 dB)
F: Very large mirror loss (2 dB or more)
The above evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
2.2 温度に対する耐久性の評価
各実施例および各比較例で得られた光導波路を温度サイクル試験に供した。なお、温度サイクル試験の試験条件は以下に示す通りである。
2.2 Evaluation of durability against temperature The optical waveguides obtained in each of Examples and Comparative Examples were subjected to a temperature cycle test. The test conditions of the temperature cycle test are as shown below.
<温度サイクル試験の試験条件>
・温度 :−40〜125℃
・サイクル数 :500サイクル(高温、低温各30分間)
・評価特性 :挿入損失
<Test conditions for temperature cycle test>
・ Temperature: -40 to 125 ° C
・ Number of cycles: 500 cycles (30 minutes each for high temperature and low temperature)
・ Evaluation characteristics: Insertion loss
次いで、試験前と試験後とで挿入損失を比較した。そして、試験後の挿入損失の増分を以下の評価基準にしたがって評価した。なお、試験後の被検体について、単位長さあたりの光伝搬損失を測定したところ、試験前とほとんど変化が認められなかったことから、挿入損失の増分のほとんどはミラー損失の増加によるものと考えられる。 Next, the insertion loss was compared before and after the test. And the increment of the insertion loss after a test was evaluated according to the following evaluation criteria. In addition, when the optical propagation loss per unit length was measured for the specimen after the test, there was almost no change from before the test, so most of the increase in insertion loss is considered to be due to an increase in mirror loss. It is done.
<温度サイクル試験による挿入損失の増分の評価基準>
A:増分が非常に小さい(0.2dB未満)
B:増分が小さい(0.2dB以上0.5dB未満)
C:増分がやや小さい(0.5dB以上1.0dB未満)
D:増分がやや大きい(1.0dB以上1.5dB未満)
E:増分が大きい(1.5dB以上2dB未満)
F:増分が非常に大きい(2dB以上)
以上の評価結果を表1、2に示す。
<Evaluation criteria for increment of insertion loss by temperature cycle test>
A: The increment is very small (less than 0.2 dB)
B: Small increment (0.2 dB or more and less than 0.5 dB)
C: Increment is slightly small (0.5 dB or more and less than 1.0 dB)
D: Slightly large increment (1.0 dB or more and less than 1.5 dB)
E: The increment is large (1.5 dB or more and less than 2 dB)
F: The increment is very large (2 dB or more)
The above evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
表1、2から明らかなように、各実施例で得られた光導波路は、コア部のピッチPを十分に小さく(例えば100μm以下に)しても、ミラー損失が比較的小さく、また、温度サイクル試験のような過酷な環境下に曝された後でもミラー損失の増加量が比較的小さいことが認められた。 As is apparent from Tables 1 and 2, the optical waveguides obtained in the respective examples have relatively small mirror loss even when the core portion pitch P is sufficiently small (for example, 100 μm or less), and the temperature It was found that the amount of increase in mirror loss was relatively small even after exposure to harsh environments such as cycle tests.
一方、比較例1、2で得られた光導波路は、相対的にミラー損失が大きいことが認められた。これは、コア部との干渉を考慮して実施例2よりも凹部(傾斜面)の幅を狭めざるを得なかったため、光の反射に有効な面積が実施例2に比べて相対的に小さいことが起因しているものと考えられる。また、有効面積が小さいことで、温度サイクル試験に対する耐久性もやや低下したものと推察される。 On the other hand, it was confirmed that the optical waveguides obtained in Comparative Examples 1 and 2 have a relatively large mirror loss. In consideration of interference with the core portion, the width of the concave portion (inclined surface) has to be narrower than that in the second embodiment, so that the effective area for light reflection is relatively smaller than that in the second embodiment. This is considered to be the cause. Moreover, it is guessed that durability with respect to a temperature cycling test also fell somewhat because the effective area was small.
1 光導波路
2 支持フィルム
3 カバーフィルム
5 電気配線基板
6 光素子
10 積層体
11 クラッド層
12 クラッド層
13 コア層
14 コア部
14a コア部
14b コア部
15 側面クラッド部
18 貫通孔
19 モノマー高濃度部
50 多層基板
51 コア基板
52 ビルドアップ層
53 貫通孔
54 ソルダーレジスト層
60 素子本体
61 受発光部
62 端子
63 バンプ
90 接着層
100 光電気混載基板
140a 光路
140b 光路
141a 広幅部
141b 広幅部
142a 狭幅部
142b 狭幅部
143a 変幅部
143b 変幅部
144a 変幅部
144b 変幅部
170 凹部
171 傾斜面
171a 傾斜面
171b 傾斜面
172 直立面
172’ 傾斜面
173 直立面
174 直立面
521 絶縁層
522 導体層
1000 光モジュール
L 仮想線
P ピッチ
S 最短距離
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記第1コア部の長手方向の途中または延長線上に設けられた前記第1コア部より幅が広い第1ミラーであって、該第1ミラーから−X側に延在する第1光路を変換する第1ミラーと、
前記第2コア部の長手方向の途中または延長線上に、前記第1ミラーよりも−X側にずれるように設けられた前記第2コア部より幅が広い第2ミラーであって、該第2ミラーから−X側に延在する第2光路を変換する第2ミラーと、
を有し、
前記第1コア部は、広幅部と、前記広幅部よりも狭くなるように幅が徐々に変化している第1変幅部と、前記広幅部より幅が狭い狭幅部と、前記狭幅部よりも広くなるように幅が徐々に変化している第2変幅部と、をこの順で備えており、前記X軸方向の位置において前記第2ミラーと前記狭幅部とが対応していることを特徴とする光導波路。 A first core portion and a second core portion extending in the X-axis direction and arranged in the Y-axis direction intersecting the X-axis direction;
A first mirror having a width wider than that of the first core portion provided in the middle of the longitudinal direction of the first core portion or on an extension line, and converts a first optical path extending from the first mirror to the −X side. A first mirror that
A second mirror having a width wider than that of the second core portion provided on the middle of the longitudinal direction of the second core portion or on an extension line so as to be shifted to the −X side with respect to the first mirror, A second mirror for converting a second optical path extending from the mirror to the -X side;
Have
The first core part includes a wide part, a first variable width part gradually changing in width so as to be narrower than the wide part, a narrow part having a narrower width than the wide part, and the narrow part A second variable width portion whose width gradually changes so as to be wider than the first portion, in this order, and the second mirror and the narrow width portion correspond to each other at the position in the X-axis direction. An optical waveguide characterized by
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014073598A JP6364884B2 (en) | 2014-03-31 | 2014-03-31 | Optical waveguide, opto-electric hybrid board, optical module, and electronic device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015197458A JP2015197458A (en) | 2015-11-09 |
JP6364884B2 true JP6364884B2 (en) | 2018-08-01 |
Family
ID=54547214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014073598A Active JP6364884B2 (en) | 2014-03-31 | 2014-03-31 | Optical waveguide, opto-electric hybrid board, optical module, and electronic device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6364884B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7340986B2 (en) | 2019-08-01 | 2023-09-08 | 不二サッシ株式会社 | fire safety grid |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10168494B2 (en) | 2016-11-30 | 2019-01-01 | International Business Machines Corporation | Off-axis micro-mirror arrays for optical coupling in polymer waveguides |
JP6724092B2 (en) * | 2018-09-06 | 2020-07-15 | 株式会社フジクラ | Optical receptacle and optical connector system |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005201937A (en) * | 2004-01-13 | 2005-07-28 | Sony Corp | Optical waveguide array and manufacturing method thereof |
JP5625706B2 (en) * | 2010-10-01 | 2014-11-19 | 住友ベークライト株式会社 | Manufacturing method of laminate |
US8837878B2 (en) * | 2011-08-24 | 2014-09-16 | Alcatel Lucent | Multi-core optical fiber coupler |
JP2013174839A (en) * | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Optical waveguide, optical wiring component and electronic apparatus |
-
2014
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JP7340986B2 (en) | 2019-08-01 | 2023-09-08 | 不二サッシ株式会社 | fire safety grid |
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---|---|
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180216 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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