JP6351992B2 - 変位検出装置、基板処理装置、変位検出方法および基板処理方法 - Google Patents
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Description
を備え、前記処理工程よりも前に、前記処理手段を前記位置決め対象物とする上記したいずれかの変位検出方法により、前記処理手段が前記基準位置に位置決めされているか否かを判定する基板処理方法である。
g=(gHS 2+gVS 2)1/2
により求めることができる。このような演算処理により、画像内において周囲とは性質の異なるエッジ部分が明るく強調された画像が得られる。
Δb≒M・Δa
と表すことができる。
Δd≒M・Δc・sinθ
と近似的に表すことができる。画像からノズルの変位量を定量的に求める必要がある場合には、この関係に留意する必要がある。
1A〜1D 基板処理装置
11 スピンチャック(基板保持手段)
32,42,52 アーム(位置決め手段)
33,43,53 ノズル(位置決め対象物、撮像対象物、処理手段、流体供給手段)
63 ブラシ(当接手段、処理手段)
72 カメラ(撮像手段、変位検出手段)
81 CPU(検出手段、判定手段、保持状態判定手段、変位検出手段)
83 アーム駆動部(位置決め手段)
86 画像処理部(検出手段、変位検出手段)
Claims (19)
- 位置決め対象物の基準位置からの変位を検出する変位検出装置において、
前記位置決め対象物を撮像対象物として、または前記位置決め対象物の変位に伴い前記位置決め対象物と一体的に変位する物体を撮像対象物として、該撮像対象物を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段が前記撮像対象物を撮像した検出用画像に基づき、前記位置決め対象物の変位を検出する検出手段と
を備え、
前記撮像手段は、前記撮像対象物の変位方向に平行な成分と前記変位方向に非平行な成分とを含む方向を撮像方向として前記撮像対象物を撮像し、
前記検出手段は、前記基準位置からの前記位置決め対象物の変位のうち前記撮像方向と非平行な成分を、前記位置決め対象物が前記基準位置に位置する時に前記撮像手段が前記撮像対象物を撮像した基準画像と前記検出用画像とのパターンマッチング結果および前記変位方向に対する前記撮像方向の傾き角に基づき検出する
ことを特徴とする変位検出装置。 - 前記検出手段は、前記基準位置に対する前記撮像手段の配置を互いに同一として撮像された前記基準画像と前記検出用画像との間における前記撮像対象物の位置の差に基づき前記位置決め対象物の変位を検出する請求項1に記載の変位検出装置。
- 前記検出手段は、前記基準画像から切り出した前記撮像対象物を含む部分画像を基準パターンとしてパターンマッチングを行って、前記検出用画像における前記撮像対象物の位置を求める請求項2に記載の変位検出装置。
- 基板を保持する基板保持手段と、
前記基板に対向配置された状態で前記基板に対し所定の処理を施す処理手段と、
前記処理手段を前記基板に対向する位置に位置決めする位置決め手段と、
請求項1ないし3のいずれかに記載の変位検出装置と同一の構成を有する変位検出手段と
を備え、
前記位置決め対象物が前記処理手段であり、前記基準位置が前記基板に対する前記処理を開始する時の前記処理手段の位置である基板処理装置。 - 前記位置決め手段が、前記基準位置を含む移動平面に沿って前記処理手段を移動可能に構成され、
前記撮像手段は、光軸が前記移動平面と交わるように配置される請求項4に記載の基板処理装置。 - 前記位置決め手段は、前記移動平面に投影した前記光軸の方向と平行な成分を含む移動を前記処理手段に行わせる請求項5に記載の基板処理装置。
- 基板を保持する基板保持手段と、
前記基板に対向配置された状態で前記基板に対し所定の処理を施す複数の処理手段と、
位置決め対象物としての前記複数の処理手段を互いに独立して移動させ前記基板に対向する位置に位置決めする位置決め手段と、
前記位置決め対象物を撮像対象物として、または前記位置決め対象物の変位に伴い前記位置決め対象物と一体的に変位する物体を撮像対象物として、該撮像対象物を撮像する撮像手段と、
前記撮像手段が前記撮像対象物を撮像した検出用画像に基づき、前記位置決め対象物の変位を検出する検出手段と
を備え、
前記撮像手段は、前記撮像対象物の変位方向に平行な成分と前記変位方向に非平行な成分とを含む方向を撮像方向として前記撮像対象物を撮像し、
前記撮像対象物としての前記複数の処理手段が単一の前記撮像手段で撮像され、
前記検出手段は、前記基板に対する前記処理を開始する時の前記処理手段の位置である基準位置からの前記処理手段の変位のうち前記撮像方向と非平行な成分を、前記処理手段が前記基準位置に位置する時に前記撮像手段が前記処理手段を撮像した基準画像と前記検出用画像とのパターンマッチング結果に基づき検出する、基板処理装置。 - 前記基板保持手段が前記基板を水平姿勢に保持し、前記位置決め手段が前記処理手段を水平移動させる請求項4ないし7のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記基準位置からの前記処理手段の変位の大きさが予め定められた閾値を超えると前記処理手段の位置が不適切であると判定する位置決め判定手段を備える請求項4ないし8のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記撮像手段は、前記基板保持手段に保持された前記基板の少なくとも一部を撮像し、
前記基板の撮像結果に基づき、前記基板保持手段による前記基板の保持状態を判定する保持状態判定手段を備える請求項4ないし9のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記処理手段は、前記基板に所定の処理流体を供給する流体供給手段である請求項4ないし10のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記処理手段は、前記基板の表面に当接して前記基板を処理する当接手段である請求項4ないし10のいずれかに記載の基板処理装置。
- 位置決め対象物の基準位置からの変位を検出する変位検出方法において、
前記位置決め対象物を撮像対象物として、または前記位置決め対象物の変位に伴い前記位置決め対象物と一体的に変位する物体を撮像対象物として、該撮像対象物を撮像して検出用画像を取得する撮像工程と、
前記検出用画像に基づき、前記位置決め対象物の変位を検出する検出工程と
を備え、
前記撮像工程では、前記撮像対象物の変位方向に平行な成分と前記変位方向に非平行な成分とを含む方向を撮像方向として前記撮像対象物を撮像し、
前記検出工程では、前記基準位置からの前記位置決め対象物の変位のうち前記撮像方向に非平行な成分を、前記位置決め対象物が前記基準位置に位置した状態で前記撮像対象物を撮像した基準画像と前記検出用画像とのパターンマッチング結果および前記変位方向に対する前記撮像方向の傾き角に基づき検出する
ことを特徴とする変位検出方法。 - 前記検出工程に先立って、前記基準位置に位置決めされた前記位置決め対象物を前記検出用画像と同一の視野で撮像して前記基準画像を取得し、
前記検出工程では、前記基準画像と前記検出用画像との間における前記撮像対象物の位置の差に基づき前記位置決め対象物の変位を検出する請求項13に記載の変位検出方法。 - 前記基準画像内において前記撮像対象物に対応する部分画像が占める位置の情報を基準情報として予め求めておき、
前記検出工程では、前記検出用画像において前記撮像対象物に対応する部分画像が占める位置を特定し、その位置の情報と前記基準情報とを比較して前記位置決め対象物の変位を検出する請求項13または14に記載の変位検出方法。 - 基板を保持する基板保持工程と、
前記基板に対し所定の処理を施す処理手段を、予め定められた基準位置へ移動させて前記基板に対向配置する処理手段配置工程と、
前記処理手段により前記基板に前記処理を施す処理工程と
を備え、
前記処理工程よりも前に、前記処理手段を前記位置決め対象物とする請求項13ないし請求項15のいずれかに記載の変位検出方法により、前記処理手段が前記基準位置に位置決めされているか否かを判定することを特徴とする基板処理方法。 - 前記基準位置からの前記処理手段の変位の大きさが予め定められた閾値を超えるとき、前記処理手段の位置が不適切であると判定する請求項16に記載の基板処理方法。
- 基板を保持する基板保持工程と、
前記基板に対し所定の処理を施す処理手段を、予め定められた基準位置へ移動させて前記基板に対向配置する処理手段配置工程と、
前記処理手段配置工程よりも前に、ユーザによる前記処理手段の位置決め作業を受け付け、その位置を前記基準位置として記憶するティーチング工程と、
前記処理手段により前記基板に前記処理を施す処理工程と、
前記処理工程よりも前に、前記処理手段を位置決め対象物とする変位検出方法により、前記処理手段が前記基準位置に位置決めされているか否かを判定する判定工程と
を備え、
前記判定工程では、前記基準位置からの前記処理手段の変位の大きさが予め定められた閾値を超えるとき、前記処理手段の位置が不適切であると判定し、
前記処理手段の位置が不適切であるとき、前記ティーチング工程を再実行し、
前記変位検出方法は、
前記位置決め対象物を撮像対象物として、または前記位置決め対象物の変位に伴い前記位置決め対象物と一体的に変位する物体を撮像対象物として、該撮像対象物を撮像して検出用画像を取得する撮像工程と、
前記検出用画像に基づき、前記位置決め対象物の変位を検出する検出工程と
を備え、
前記撮像工程では、前記撮像対象物の変位方向に平行な成分と前記変位方向に非平行な成分とを含む方向を撮像方向として前記撮像対象物を撮像し、
前記検出工程では、前記基準位置からの前記位置決め対象物の変位のうち前記撮像方向に非平行な成分を、前記位置決め対象物が前記基準位置に位置した状態で前記撮像対象物を撮像した基準画像と前記検出用画像とのパターンマッチング結果に基づき検出する
ことを特徴とする基板処理方法。 - 前記基板保持工程で保持された前記基板の少なくとも一部を撮像し、その撮像結果に基づき、前記基板の保持状態を判定する保持状態判定工程を、前記処理工程の前に実行する請求項16ないし18のいずれかに記載の基板処理方法。
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