[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP6342659B2 - Splitting device - Google Patents

Splitting device Download PDF

Info

Publication number
JP6342659B2
JP6342659B2 JP2014003190A JP2014003190A JP6342659B2 JP 6342659 B2 JP6342659 B2 JP 6342659B2 JP 2014003190 A JP2014003190 A JP 2014003190A JP 2014003190 A JP2014003190 A JP 2014003190A JP 6342659 B2 JP6342659 B2 JP 6342659B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
dividing
ceramic capacitor
holding
holding table
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014003190A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015133375A (en
Inventor
龍吾 大庭
龍吾 大庭
早希 木村
早希 木村
万平 田中
万平 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2014003190A priority Critical patent/JP6342659B2/en
Priority to TW103141227A priority patent/TWI633592B/en
Priority to CN201410852585.XA priority patent/CN104779080A/en
Publication of JP2015133375A publication Critical patent/JP2015133375A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6342659B2 publication Critical patent/JP6342659B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Ceramic Capacitors (AREA)
  • Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Description

本発明は、板状の被加工物を複数のチップに分割する分割装置に関する。   The present invention relates to a dividing device that divides a plate-like workpiece into a plurality of chips.

金属箔と絶縁体とを交互に積層して構成されたセラミックコンデンサー基板は、分割装置によって個々のチップコンデンサーに分割されて携帯電話やパソコン等の電気機器に広く利用されている。   A ceramic capacitor substrate formed by alternately laminating metal foils and insulators is divided into individual chip capacitors by a dividing device and widely used in electric devices such as mobile phones and personal computers.

セラミックコンデンサー基板を個々のチップコンデンサーに分割する分割装置としては、一般に切削ブレードを備えた切削装置が用いられている(例えば特許文献1参照)。   As a dividing device for dividing a ceramic capacitor substrate into individual chip capacitors, a cutting device having a cutting blade is generally used (see, for example, Patent Document 1).

また、セラミックコンデンサー基板を個々のチップコンデンサーに分割する分割方法として、セラミックコンデンサー基板に対して吸収性を有する波長のレーザー光線を分割予定ラインに沿って照射し、セラミックコンデンサー基板を分割予定ラインに沿って切断する方法も試みられている。   Moreover, as a dividing method for dividing the ceramic capacitor substrate into individual chip capacitors, a laser beam having a wavelength that absorbs the ceramic capacitor substrate is irradiated along the planned dividing line, and the ceramic capacitor substrate is divided along the planned dividing line. Attempts have also been made to cut.

特開2003−142334号公報JP 2003-142334 A

而して、セラミックコンデンサー基板は所定の温度で焼結されると硬質になり、切削ブレードによってセラミックコンデンサー基板を切断すると、切削ブレードが激しく消耗するとともに、破損することがあり、生産性が悪いという問題がある。
また、セラミックコンデンサー基板にレーザー光線を照射して個々のチップコンデンサーに分割すると、溶融物(ドロス)がチップコンデンサーの側面に付着して品質を低下させるという問題がある。
更に、セラミックコンデンサー基板が個々のチップコンデンサーに分割された後においても搬送等の取り扱いを容易にするために、セラミックコンデンサー基板は保持基板またはテープ等の支持部材によって支持されるため、支持部材の貼着および剥離の工程が必要であり生産性が悪いという問題がある。
Thus, when the ceramic capacitor substrate is sintered at a predetermined temperature, it becomes hard. When the ceramic capacitor substrate is cut by the cutting blade, the cutting blade is severely consumed and may be damaged, resulting in poor productivity. There's a problem.
Further, when the ceramic capacitor substrate is irradiated with a laser beam and divided into individual chip capacitors, there is a problem that the melt (dross) adheres to the side surface of the chip capacitor and deteriorates the quality.
Furthermore, since the ceramic capacitor substrate is supported by a support member such as a holding substrate or tape in order to facilitate handling such as transportation even after the ceramic capacitor substrate is divided into individual chip capacitors, the support member is not attached. There is a problem that the steps of attaching and peeling are necessary and productivity is poor.

本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、チップの品質を低下させることなくセラミックコンデンサー基板を含む板状の被加工物を効率よく分割することができる分割装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-mentioned facts, and a main technical problem thereof is a dividing apparatus capable of efficiently dividing a plate-like workpiece including a ceramic capacitor substrate without deteriorating the quality of a chip. Is to provide.

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、板状の被加工物を複数のチップに分割する分割装置であって、
加工前の被加工物を収容したカセットを載置するカセット載置領域と、
加工前の被加工物を仮置きする仮置き手段と、
該カセット載置領域に載置されたカセットに収容されている加工前の被加工物を仮置き手段に搬出する被加工物搬出手段と、
加工前の被加工物を吸引保持する保持テーブルと、
該保持テーブルを被加工物を搬入および搬出する搬入・搬出領域と加工領域に移動せしめる移動手段と、
該仮置き手段に搬出された加工前の被加工物を該搬入・搬出領域に位置付けられた該保持テーブルに搬送する被加工物搬入手段と、
該加工領域に配設され該保持テーブルに吸引保持された加工前の被加工物にレーザー光線を照射し、被加工物にチップに分割すべき破断起点となる分割溝を形成するレーザー光線照射手段と、
破断起点となる分割溝が形成された被加工物に外力を付与し、被加工物を分割溝に沿って複数のチップに分割する分割手段と、
該分割手段によって分割されることにより支持部材に支持されない状態でバラバラになった複数のチップを該収容手段に落とし込むチップ落とし込み手段と、を具備し
該分割手段は、柔軟部材で形成された被加工物を載置する被加工物載置部材と、該被加工物載置部材に載置された被加工物を押圧する押圧ローラと、を含むことを特徴とする分割装置が提供される。
In order to solve the main technical problem, according to the present invention, a dividing device for dividing a plate-like workpiece into a plurality of chips,
A cassette mounting region for placing a cassette accommodating a workpiece before processing,
Temporary placement means for temporarily placing the workpiece before processing;
A workpiece unloading means for unloading the unprocessed workpiece housed in the cassette placed in the cassette placement area to the temporary placing means;
A holding table for sucking and holding a workpiece before processing;
A moving means for moving the holding table to a loading / unloading area for loading and unloading a workpiece and a machining area;
A workpiece carry-in means for carrying the workpiece before being carried to the temporary placement means to the holding table positioned in the carry-in / out region;
A laser beam irradiating means for irradiating a workpiece before processing disposed in the processing region and sucked and held by the holding table to form a split groove serving as a break starting point to be divided into chips on the workpiece;
A splitting means for applying an external force to the workpiece on which the split groove serving as a fracture starting point is formed, and splitting the workpiece into a plurality of chips along the split groove;
Chip dropping means for dropping a plurality of chips, which are separated by the dividing means and not supported by the support member , into the housing means ,
The dividing means includes a workpiece placing member for placing a workpiece formed of a flexible member, and a pressing roller for pressing the workpiece placed on the workpiece placing member. A dividing device is provided.

本発明による分割装置は上記のように構成され、レーザー光線照射手段によって被加工物にレーザー光線を照射してチップに分割すべき破断の起点となる分割溝を形成するので、切削ブレードによって切断する従来の分割方法のように切削ブレードの消耗および破損による生産性の低下を招くことがない。
また、レーザー光線照射手段によるレーザー加工は、被加工物にチップに分割すべき破断の起点となる分割溝を形成するので、チップの側壁に溶融物(ドロス)が付着するようなことはない。
更に、チップに分割すべき破断の起点となる分割溝が形成された被加工物が分割手段によって個々のチップに分割された後に支持部材に支持されない状態でバラバラになった状態で収容手段に収容するので、被加工物を保持基板またはテープ等の支持部材に支持する必要がなく、支持部材の貼着および剥離の工程が不要となり生産性が向上する。
The splitting device according to the present invention is configured as described above, and a laser beam is applied to a workpiece by a laser beam irradiation means to form a split groove that is a starting point of fracture to be split into chips. Unlike the dividing method, productivity is not reduced due to wear and breakage of the cutting blade.
Further, the laser processing by the laser beam irradiating means forms a dividing groove as a starting point of the fracture to be divided into chips in the workpiece, so that no melt (dross) is attached to the side wall of the chip.
Further, the workpiece formed with the dividing groove to be the starting point of the fracture to be divided into the chips is divided into individual chips by the dividing means and then separated into a state where it is not supported by the support member. Therefore, it is not necessary to support the workpiece on a supporting member such as a holding substrate or a tape, and the steps of attaching and peeling the supporting member become unnecessary, and the productivity is improved.

本発明によって構成された分割装置の斜視図。The perspective view of the dividing device comprised by this invention. 図1に示す分割装置に装備されるバルク収容手段を構成するチップ落とし部材およびチップ収容容器の斜視図。The perspective view of the chip | tip drop member and chip | tip container which comprise the bulk accommodation means with which the division | segmentation apparatus shown in FIG. 1 is equipped. 図1に示す分割装置に装備される制御手段のブロック構成図。The block block diagram of the control means with which the division | segmentation apparatus shown in FIG. 1 is equipped. 図1に示す分割装置によって実施するレーザー加工工程の説明図。Explanatory drawing of the laser processing process implemented by the dividing apparatus shown in FIG. 板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板の斜視図。The perspective view of the ceramic capacitor board | substrate as a plate-shaped workpiece.

以下、本発明に従って構成された分割装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して、更に詳細に説明する。   Preferred embodiments of a dividing device configured according to the present invention will be described below in further detail with reference to the accompanying drawings.

図5には、板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板の斜視図が示されている。図5に示すセラミックコンデンサー基板10は、厚みが500μm程度で矩形状に形成されており、表面10aに所定の方向に延びる複数の第1の分割予定ライン101と、該第1の分割予定ライン101と直交する方向に延びる複数の第2の分割予定ライン102が格子状に形成されている。第1の分割予定ライン101と第2の分割予定ライン102によって区画された複数の領域にチップコンデンサー103が形成されている。このように形成されたセラミックコンデンサー基板10は、第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って個々のチップコンデンサー103に分割される。   FIG. 5 shows a perspective view of a ceramic capacitor substrate as a plate-like workpiece. The ceramic capacitor substrate 10 shown in FIG. 5 has a thickness of about 500 μm and is formed in a rectangular shape, and has a plurality of first division planned lines 101 extending in a predetermined direction on the surface 10a, and the first division planned lines 101. A plurality of second division lines 102 extending in a direction perpendicular to the line are formed in a lattice shape. Chip capacitors 103 are formed in a plurality of regions partitioned by the first planned division line 101 and the second planned division line 102. The ceramic capacitor substrate 10 formed in this way is divided into individual chip capacitors 103 along the first planned division line 101 and the second planned division line 102.

図1には、上記セラミックコンデンサー基板10を第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って分割するための本発明に従って構成された分割装置の斜視図が示されている。
図1に示された分割装置は、装置ハウジング2を具備している。この装置ハウジング2の中央部には、被加工物を保持する被加工物保持機構3と、該被加工物保持機構3に保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段4が配設されている。被加工物保持機構3は、上記板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を吸引保持する保持テーブル31と、該保持テーブル31を支持する保持テーブル支持手段32とを具備している。保持テーブル31は、図1に示すように矩形状に形成され表面中央部に上記セラミックコンデンサー基板10を吸引保持するためのポーラスセラミックスによって形成された吸着チャック311が配設されている。そして、吸着チャック311が図示しない吸引手段に接続されている。従って、吸着チャック311上にセラミックコンデンサー基板10を載置し、図示しない吸引手段を作動することにより、吸着チャック311上にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持する。
FIG. 1 is a perspective view of a dividing apparatus configured according to the present invention for dividing the ceramic capacitor substrate 10 along a first scheduled dividing line 101 and a second scheduled dividing line 102.
The dividing device shown in FIG. 1 includes a device housing 2. A workpiece holding mechanism 3 for holding the workpiece and a laser beam irradiation means 4 for irradiating the workpiece held by the workpiece holding mechanism 3 with a laser beam are arranged at the center of the apparatus housing 2. Has been. The workpiece holding mechanism 3 includes a holding table 31 that sucks and holds the ceramic capacitor substrate 10 as the plate-like workpiece, and a holding table support means 32 that supports the holding table 31. As shown in FIG. 1, the holding table 31 is formed in a rectangular shape, and a suction chuck 311 made of porous ceramics for sucking and holding the ceramic capacitor substrate 10 is disposed at the center of the surface. The suction chuck 311 is connected to suction means (not shown). Accordingly, the ceramic capacitor substrate 10 is placed on the suction chuck 311 and the suction unit (not shown) is operated to suck and hold the ceramic capacitor substrate 10 on the suction chuck 311.

被加工物保持機構3を構成する保持テーブル支持手段32は、保持テーブル31を上面である保持面に対して垂直な軸周りに回動せしめる図示しない回転駆動手段を備えている。このように構成された保持テーブル支持手段32は、保持テーブル31を図1に示す被加工物を搬入および搬出する搬入・搬出領域とレーザー光線照射手段4による加工領域に移動可能に構成されており、図示しないX軸方向移動手段によって矢印Xで示す加工送り方向(X軸方向)に移動せしめられるようになっている。   The holding table support means 32 constituting the workpiece holding mechanism 3 includes a rotation driving means (not shown) that rotates the holding table 31 about an axis perpendicular to the holding surface that is the upper surface. The holding table support means 32 configured in this manner is configured to be movable between a loading / unloading area for loading and unloading the workpiece shown in FIG. 1 and a processing area by the laser beam irradiation means 4. It can be moved in the machining feed direction (X axis direction) indicated by an arrow X by an X axis direction moving means (not shown).

上記被加工物保持機構3を構成する保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段4は、パルスレーザー光線を発振するレーザー光線発振手段(図示せず)と、該レーザー光線発振手段によって発振されたレーザー光線を集光する集光器41を具備しており、集光器41が加工領域に配設されている。   The laser beam irradiation means 4 for irradiating the ceramic capacitor substrate 10 held on the holding table 31 constituting the workpiece holding mechanism 3 with a laser beam includes a laser beam oscillation means (not shown) for oscillating a pulse laser beam, and the laser beam oscillation. A condenser 41 for condensing the laser beam oscillated by the means is provided, and the condenser 41 is disposed in the processing region.

上記被加工物保持機構3のY軸方向における一方の側には、加工前の板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を収容したカセットを載置するカセット載置領域5aが設けられており、カセット載置領域5aには図示しない昇降手段によって矢印Zで示す上下方向(Z軸方向)に移動せしめられるカセットテーブル50が配設されている。このカセットテーブル50上に被加工物である上記セラミックコンデンサー基板10が複数枚収容されたカセット5が載置される。カセット載置領域5aの前側には、カセット5に収容されたセラミックコンデンサー基板10を仮置きするとともに位置合わせを行う仮置き手段6と、カセット5に収容されたセラミックコンデンサー基板10を仮置き手段6に搬出する被加工物搬出手段7が配設されている。 Above one side in the Y-axis direction of the workpiece holding mechanism 3 is a cassette mounting region 5a is placed is provided a cassette accommodating the ceramic capacitor substrate 10 as a plate-shaped workpiece before processing The cassette mounting area 5a is provided with a cassette table 50 that can be moved in the vertical direction (Z-axis direction) indicated by the arrow Z by lifting means (not shown). On this cassette table 50, a cassette 5 in which a plurality of ceramic capacitor substrates 10 as workpieces are accommodated is placed. On the front side of the cassette mounting area 5a, the ceramic capacitor substrate 10 accommodated in the cassette 5 is temporarily placed and temporarily positioned, and the ceramic capacitor substrate 10 accommodated in the cassette 5 is temporarily placed. A workpiece unloading means 7 for unloading is disposed.

上記仮置き手段6と搬入・搬出領域との間には、仮置き手段6に搬出され位置合わせが行われた加工前の板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を搬入・搬出領域に位置付けられている被加工物保持機構3を構成する保持テーブル31の上面である保持面上に搬送する被加工物搬入手段8が配設されている。この被加工物搬入手段8は、セラミックコンデンサー基板10の上面を吸引保持する吸引保持パッド81と、該吸引保持パッド81を支持し吸引保持パッド81を上下方向(Z軸方向)に移動するエアシリンダ機構82と、該エアシリンダ機構82を支持する作動アーム83と、該作動アーム83をY軸方向に移動せしめる図示しない移動手段とからなっている。このように構成された被加工物搬入手段8の吸引保持パッド81は、図示しない吸引手段に接続されている。   Between the temporary placement means 6 and the carry-in / carry-out area, the ceramic capacitor substrate 10 as a plate-shaped workpiece before being processed and aligned with the temporary placement means 6 is placed in the carry-in / carry-out area. A workpiece carry-in means 8 for conveying the workpiece onto a holding surface, which is the upper surface of the holding table 31 constituting the positioned workpiece holding mechanism 3, is provided. The workpiece carrying means 8 includes a suction holding pad 81 that sucks and holds the upper surface of the ceramic capacitor substrate 10 and an air cylinder that supports the suction holding pad 81 and moves the suction holding pad 81 in the vertical direction (Z-axis direction). It comprises a mechanism 82, an operating arm 83 that supports the air cylinder mechanism 82, and a moving means (not shown) that moves the operating arm 83 in the Y-axis direction. The suction holding pad 81 of the workpiece carrying means 8 configured in this way is connected to a suction means (not shown).

図示の実施形態における分割装置は、上記被加工物搬入手段8のエアシリンダ機構82に装着され搬入・搬出領域に位置付けられている保持テーブル31に保持された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10の加工すべき領域を検出する撮像手段9を具備している。この撮像手段9は、顕微鏡やCCDカメラ等の光学手段からなっており、撮像した画像信号を後述する制御手段に送る。   The dividing apparatus in the illustrated embodiment is a ceramic capacitor as a plate-like workpiece that is held by a holding table 31 that is mounted on the air cylinder mechanism 82 of the workpiece loading means 8 and is positioned in the loading / unloading area. An imaging means 9 for detecting a region to be processed of the substrate 10 is provided. The image pickup means 9 is composed of optical means such as a microscope and a CCD camera, and sends the picked up image signal to a control means described later.

上記被加工物保持機構3のY軸方向における他方の側には、加工領域においてレーザー加工された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を個々のチップコンデンサーに分割するための分割手段11が配設されている。分割手段11は、被加工物保持機構3のY軸方向における他方の側方に配設された被加工物載置部材111と、該被加工物載置部材111上に載置されたレーザー加工された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10に外力を付与する押圧ローラ112と、該押圧ローラ112を出入可能に収容するローラ収容ハウジング113を具備している。被加工物載置部材111は、ゴム等の柔軟部材によって矩形状に形成されている。押圧ローラ112は、被加工物載置部材111上に載置されたセラミックコンデンサー基板10の上面を押圧しつつX軸方向に転動せしめられるように構成されている。   On the other side of the workpiece holding mechanism 3 in the Y-axis direction, a dividing means 11 for dividing the ceramic capacitor substrate 10 as a plate-like workpiece laser-processed in the processing region into individual chip capacitors. Is arranged. The dividing means 11 includes a workpiece placing member 111 disposed on the other side in the Y-axis direction of the workpiece holding mechanism 3, and laser processing placed on the workpiece placing member 111. A pressing roller 112 for applying an external force to the ceramic capacitor substrate 10 as a plate-like workpiece thus formed, and a roller housing 113 for housing the pressing roller 112 so as to be able to enter and exit are provided. The workpiece placing member 111 is formed in a rectangular shape by a flexible member such as rubber. The pressing roller 112 is configured to roll in the X-axis direction while pressing the upper surface of the ceramic capacitor substrate 10 placed on the workpiece placing member 111.

図示の実施形態における分割装置は、搬入・搬出領域に位置付けられている被加工物保持機構3を構成する保持テーブル31に載置されているレーザー加工された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を上記分割手段11を構成する被加工物載置部材111に搬送する被加工物搬送手段12を具備している。この被加工物搬送手段12は、保持テーブル31に載置されているレーザー加工された板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10の上面を吸引保持する吸引保持パッド121と、該吸引保持パッド121を支持し吸引保持パッド121を上下方向(Z軸方向)に移動するエアシリンダ機構122と、該エアシリンダ機構122を支持する作動アーム123と、該作動アーム123をY軸方向に移動せしめる図示しない移動手段とからなっている。このように構成された被加工物搬送手段12の吸引保持パッド121は、図示しない吸引手段に接続されている。   The dividing device in the illustrated embodiment is a ceramic capacitor as a plate-like workpiece processed by laser that is placed on a holding table 31 constituting a workpiece holding mechanism 3 positioned in a carry-in / out region. A workpiece conveying means 12 is provided for conveying the substrate 10 to the workpiece placing member 111 constituting the dividing means 11. The workpiece conveying means 12 includes a suction holding pad 121 for sucking and holding the upper surface of the ceramic capacitor substrate 10 as a laser processed plate-like workpiece placed on the holding table 31, and the suction holding pad. An air cylinder mechanism 122 that supports 121 and moves the suction holding pad 121 in the vertical direction (Z-axis direction), an operating arm 123 that supports the air cylinder mechanism 122, and an illustration that moves the operating arm 123 in the Y-axis direction. It consists of no moving means. The suction holding pad 121 of the workpiece transport means 12 configured in this way is connected to a suction means (not shown).

図示の実施形態における分割装置は、上記分割手段11を構成する被加工物載置部材111に隣接して配設され個々に分割された複数のチップコンデンサーをバルク収容するバルク収容手段13を具備している。バルク収容手段13は、被加工物載置部材111に隣接して開口する開口部131aを備えたチップ落とし部材131を具備している。このチップ落とし部材131は、図2に示すように開口部131aから下方に向けてロート状に形成されている。このよう構成されたチップ落とし部材131の下側にはチップ収容容器132が配設されている。このようにチップ落とし部材131とチップ収容容器132とからなるバルク収容手段13が配設された装置ハウジング2の前壁には、図1に示すようにチップ収容容器132を出し入れするための引き出し133が設けられている。   The dividing apparatus in the illustrated embodiment includes a bulk accommodating means 13 for bulk accommodating a plurality of individually divided chip capacitors arranged adjacent to the workpiece placing member 111 constituting the dividing means 11. ing. The bulk accommodating means 13 includes a chip dropping member 131 having an opening 131 a that opens adjacent to the workpiece placement member 111. The tip dropping member 131 is formed in a funnel shape downward from the opening 131a as shown in FIG. A chip storage container 132 is disposed below the chip dropping member 131 configured as described above. As shown in FIG. 1, a drawer 133 for taking in and out the chip storage container 132 is provided on the front wall of the apparatus housing 2 in which the bulk storage means 13 composed of the chip drop member 131 and the chip storage container 132 is disposed. Is provided.

図1を参照して説明を続けると、図示の実施形態における分割装置は、上記分割手段11を構成する被加工物載置部材111上においてセラミックコンデンサー基板10が分割された複数のチップコンデンサーを上記バルク収容手段13を構成するチップ落とし部材131の開口部131aに落とし込むためのチップ落とし込み手段14を具備している。このチップ落とし込み手段14は、チップ落とし込みワイパー141と、チップ落とし込みワイパー141を支持する作動アーム142と、該作動アーム142をY軸方向に移動せしめる図示しない移動手段とからなっている。   Continuing the description with reference to FIG. 1, the dividing apparatus in the illustrated embodiment includes a plurality of chip capacitors in which the ceramic capacitor substrate 10 is divided on the workpiece mounting member 111 constituting the dividing means 11. The chip dropping means 14 for dropping into the opening 131a of the chip dropping member 131 constituting the bulk accommodating means 13 is provided. The tip dropping means 14 includes a tip dropping wiper 141, an operating arm 142 that supports the tip dropping wiper 141, and a moving means (not shown) that moves the operating arm 142 in the Y-axis direction.

図示の実施形態における分割装置は、図3に示す制御手段20を具備している。制御手段20はコンピュータによって構成されており、制御プログラムに従って演算処理する中央処理装置(CPU)201と、制御プログラム等を格納するリードオンリメモリ(ROM)202と、演算結果等を格納する読み書き可能なランダムアクセスメモリ(RAM)203と、入力インターフェース204および出力インターフェース205とを備えている。このように構成された制御手段20の入力インターフェース204には、上記撮像手段9等からの検出信号が入力される。そして、制御手段20の出力インターフェース205からは、上記被加工物保持機構3、レーザー光線照射手段4、被加工物搬出手段7、被加工物搬入手段8、分割手段11、被加工物搬送手段12等に制御信号を出力する。   The dividing apparatus in the illustrated embodiment includes the control means 20 shown in FIG. The control means 20 is configured by a computer, and a central processing unit (CPU) 201 that performs arithmetic processing according to a control program, a read-only memory (ROM) 202 that stores control programs and the like, and a read / write that stores arithmetic results and the like. A random access memory (RAM) 203, an input interface 204, and an output interface 205 are provided. The detection signal from the imaging means 9 or the like is input to the input interface 204 of the control means 20 configured as described above. From the output interface 205 of the control means 20, the workpiece holding mechanism 3, the laser beam irradiation means 4, the workpiece carry-out means 7, the workpiece carry-in means 8, the dividing means 11, the workpiece conveyance means 12, etc. Output a control signal.

図示の実施形態における分割装置は以上のように構成されており、以下その作用について説明する。
カセット載置領域5aに配設されたカセットテーブル50上に載置されたカセット5に収容されている加工前のセラミックコンデンサー基板10は、図示しない昇降手段によってZ軸方向に上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、制御手段20は被加工物搬出手段7を進退作動して搬出位置に位置付けられたセラミックコンデンサー基板10を仮置き手段6上に搬出する。仮置き手段6に搬出されたセラミックコンデンサー基板10は、ここで位置合わせされる。次に、制御手段20は被加工物搬入手段8を作動して仮置き手段6において位置合わせされたセラミックコンデンサー基板10の上面を吸引保持パッド81によって吸引保持し、搬入・搬出領域に位置付けられている被加工物保持機構3を構成する保持テーブル31の吸着チャック311の上面である保持面上に搬送する。このようにして保持テーブル31の吸着チャック311の上にセラミックコンデンサー基板10が載置されたならば、制御手段20は図示しない吸引手段を作動することにより、保持テーブル31の吸着チャック311の上面である保持面にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持する(被加工物保持工程)。
The dividing apparatus in the illustrated embodiment is configured as described above, and the operation thereof will be described below.
The unprocessed ceramic capacitor substrate 10 accommodated in the cassette 5 placed on the cassette table 50 disposed in the cassette placement area 5a is carried out by moving up and down in the Z-axis direction by a lifting means (not shown). Positioned in position. Next, the control means 20 moves the workpiece unloading means 7 forward and backward to unload the ceramic capacitor substrate 10 positioned at the unloading position onto the temporary placing means 6. The ceramic capacitor substrate 10 carried out to the temporary placing means 6 is aligned here. Next, the control means 20 operates the workpiece carry-in means 8 to suck and hold the upper surface of the ceramic capacitor substrate 10 aligned in the temporary placement means 6 by the suction holding pad 81 and is positioned in the carry-in / out area. The workpiece is held on a holding surface which is the upper surface of the suction chuck 311 of the holding table 31 constituting the workpiece holding mechanism 3. When the ceramic capacitor substrate 10 is placed on the suction chuck 311 of the holding table 31 in this way, the control means 20 operates a suction means (not shown), so that the upper surface of the suction chuck 311 of the holding table 31 is operated. The ceramic capacitor substrate 10 is sucked and held on a certain holding surface (workpiece holding step).

上述したように保持テーブル31の吸着チャック311の上面である保持面にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持したならば、制御手段20は被加工物搬入手段8を作動してエアシリンダ機構82に装着されている撮像手段9を保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10の上側に位置付ける。次に、制御手段20は、撮像手段9を作動して保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10に形成された第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102を撮像せしめ、第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102がX軸方向およびY軸方向と平行である否かを確認するアライメント作業実施する。もし、第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102がX軸方向およびY軸方向と平行でない場合には、制御手段20は被加工物保持機構3を構成する保持テーブル支持手段32を回動する図示しない回転駆動手段を制御して保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10に形成された第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102がX軸方向およびY軸方向と平行となるように調整する(アライメント工程)。   As described above, when the ceramic capacitor substrate 10 is sucked and held on the holding surface which is the upper surface of the suction chuck 311 of the holding table 31, the control means 20 is mounted on the air cylinder mechanism 82 by operating the workpiece loading means 8. The imaging means 9 is positioned on the upper side of the ceramic capacitor substrate 10 held by the holding table 31. Next, the control unit 20 operates the imaging unit 9 to image the first scheduled division line 101 and the second scheduled division line 102 formed on the ceramic capacitor substrate 10 held on the holding table 31, and An alignment operation is performed to confirm whether or not one scheduled division line 101 and second scheduled division line 102 are parallel to the X-axis direction and the Y-axis direction. If the first scheduled dividing line 101 and the second scheduled divided line 102 are not parallel to the X-axis direction and the Y-axis direction, the control means 20 holds the holding table support means 32 constituting the workpiece holding mechanism 3. The first scheduled dividing line 101 and the second scheduled divided line 102 formed on the ceramic capacitor substrate 10 held on the holding table 31 by controlling a rotation driving means (not shown) that rotates the X axis direction and the Y axis It adjusts so that it may become parallel to a direction (alignment process).

上述したようにアライメント工程を実施したならば、制御手段20は図示しないX軸方向移動手段を作動して保持テーブル31を加工領域に移動し、図4の(a)に示すように所定の第1の分割予定ライン101の一端(図4の(a)において左端)をレーザー光線照射手段4の集光器41の直下に位置付ける。そして、集光器41から照射されるパルスレーザー光線の集光点Pをセラミックコンデンサー基板10の表面10a(上面)付近に合わせる。次に、制御手段20はレーザー光線照射手段4を作動してセラミックコンデンサー基板10に対して吸収性を有する波長のパルスレーザー光線を集光器41から照射しつつ図示しないX軸方向移動手段を作動して保持テーブル31を図4の(a)において矢印X1で示す方向に所定の加工送り速度で移動せしめる。そして、第1の分割予定ライン101の他端(図4の(b)において右端)が集光器41の直下位置に達したら、パルスレーザー光線の照射を停止するとともに保持テーブル31の移動を停止する。この結果、図4の(b)および図4の(c)に示すようにセラミックコンデンサー基板10には、第1の分割予定ライン101に沿って破断の起点となる分割溝104が形成される(レーザー加工工程)。なお、分割溝104は下記加工条件において50μm程度の深さで形成される。   When the alignment process is performed as described above, the control unit 20 operates the X-axis direction moving unit (not shown) to move the holding table 31 to the machining region, and a predetermined first step is performed as shown in FIG. One end (left end in FIG. 4A) of one division planned line 101 is positioned immediately below the condenser 41 of the laser beam irradiation means 4. And the condensing point P of the pulse laser beam irradiated from the collector 41 is matched with the surface 10a (upper surface) vicinity of the ceramic capacitor board | substrate 10. FIG. Next, the control unit 20 operates the laser beam irradiation unit 4 to operate the X-axis direction moving unit (not shown) while irradiating a pulse laser beam having a wavelength that absorbs the ceramic capacitor substrate 10 from the condenser 41. The holding table 31 is moved at a predetermined processing feed speed in the direction indicated by the arrow X1 in FIG. When the other end of the first scheduled division line 101 (the right end in FIG. 4B) reaches a position directly below the condenser 41, the irradiation of the pulse laser beam is stopped and the movement of the holding table 31 is stopped. . As a result, as shown in FIG. 4B and FIG. 4C, the ceramic capacitor substrate 10 is formed with a dividing groove 104 that is a starting point of breakage along the first dividing line 101 ( Laser processing process). The dividing groove 104 is formed with a depth of about 50 μm under the following processing conditions.

なお、上記レーザー加工工程は、例えば以下の加工条件で行われる。
波長 :355nm
繰り返し周波数 :10kHz
平均出力 :5W
集光スポット :φ10μm
加工送り速度 :50mm/秒
In addition, the said laser processing process is performed on the following processing conditions, for example.
Wavelength: 355nm
Repetition frequency: 10 kHz
Average output: 5W
Focusing spot: φ10μm
Processing feed rate: 50 mm / sec

上述したレーザー加工工程をセラミックコンデンサー基板10に所定方向に形成された全ての第1の分割予定ライン101に沿って実施したならば、制御手段20は図示しない回転駆動手段を作動して保持テーブル31を90度回動する。そして、保持テーブル31に上記第1の分割予定ライン101と直交する方向に形成された全ての第2の分割予定ライン102に沿って上述したレーザー加工工程を実施する。この結果、保持テーブル31に保持されたセラミックコンデンサー基板10は、全ての第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断の起点となる分割溝104が形成される。   If the laser processing step described above is carried out along all the first planned dividing lines 101 formed in the ceramic capacitor substrate 10 in a predetermined direction, the control means 20 operates a rotation driving means (not shown) to hold the holding table 31. Is rotated 90 degrees. Then, the laser processing step described above is performed along all the second scheduled division lines 102 formed on the holding table 31 in a direction orthogonal to the first scheduled division line 101. As a result, the ceramic capacitor substrate 10 held on the holding table 31 is formed with the dividing groove 104 that becomes the starting point of the break along all the first scheduled dividing lines 101 and the second scheduled dividing lines 102.

以上のようにしてレーザー加工工程が実施されたセラミックコンデンサー基板10を保持している保持テーブル31は、加工領域から搬入・搬出領域に移動せしめられる。そして、保持テーブル31が図1に示す搬入・搬出領域に達したならば、保持テーブル31の移動を停止する。次に、保持テーブル31に保持されているセラミックコンデンサー基板10の吸引保持を解除する。   The holding table 31 holding the ceramic capacitor substrate 10 subjected to the laser processing step as described above is moved from the processing area to the carry-in / out area. When the holding table 31 reaches the carry-in / out area shown in FIG. 1, the movement of the holding table 31 is stopped. Next, the suction holding of the ceramic capacitor substrate 10 held on the holding table 31 is released.

次に、制御手段20は被加工物搬送手段12の図示しない移動手段を作動して吸引保持パッド121を搬入・搬出領域に位置付けられた保持テーブル31上に載置されているセラミックコンデンサー基板10の直上に位置付けるとともに、エアシリンダ機構122を作動して吸引保持パッド121の下面である吸引保持面をセラミックコンデンサー基板10の上面に接触させる。そして、図示しない吸引手段を作動することにより、吸引保持パッド121の下面である吸引保持面にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持する。   Next, the control unit 20 operates a moving unit (not shown) of the workpiece transfer unit 12 to move the suction holding pad 121 to the ceramic capacitor substrate 10 placed on the holding table 31 positioned in the loading / unloading region. The air cylinder mechanism 122 is operated and the suction holding surface, which is the lower surface of the suction holding pad 121, is brought into contact with the upper surface of the ceramic capacitor substrate 10. The ceramic capacitor substrate 10 is sucked and held on the suction holding surface which is the lower surface of the suction holding pad 121 by operating a suction means (not shown).

上述したように吸引保持パッド121にセラミックコンデンサー基板10を吸引保持したならば、制御手段20は被加工物搬送手段12の図示しない移動手段を作動して吸引保持パッド121に吸引保持されたセラミックコンデンサー基板10を分割手段11を構成する被加工物載置部材111の直上に位置付けるとともに、エアシリンダ機構122を作動して吸引保持パッド121を下降し、吸引保持パッド121に吸引保持されたセラミックコンデンサー基板10を分割手段11を構成する被加工物載置部材111の上面に位置付ける。そして、吸引保持パッド121によるセラミックコンデンサー基板10の吸引保持を解除する。この結果、セラミックコンデンサー基板10は、分割手段11を構成する被加工物載置部材111上に載置される。   As described above, when the ceramic capacitor substrate 10 is sucked and held on the suction holding pad 121, the control means 20 operates the moving means (not shown) of the workpiece transfer means 12 to suck and hold the ceramic capacitor on the suction holding pad 121. The ceramic capacitor substrate in which the substrate 10 is positioned immediately above the workpiece mounting member 111 constituting the dividing means 11 and the air cylinder mechanism 122 is operated to lower the suction holding pad 121 and sucked and held by the suction holding pad 121. 10 is positioned on the upper surface of the workpiece placing member 111 constituting the dividing means 11. Then, the suction holding of the ceramic capacitor substrate 10 by the suction holding pad 121 is released. As a result, the ceramic capacitor substrate 10 is placed on the workpiece placement member 111 constituting the dividing means 11.

次に、制御手段20は分割手段11を構成する押圧ローラ112を作動して被加工物載置部材111上に載置されたセラミックコンデンサー基板10の上面を押圧しつつX軸方向に転動せしめる。この結果、セラミックコンデンサー基板10には第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断の起点となる分割溝104が形成されているので、セラミックコンデンサー基板10は分割溝104が形成された第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断され個々のチップコンデンサー103に分割される(分割工程)。   Next, the control means 20 operates the pressing roller 112 constituting the dividing means 11 to roll in the X-axis direction while pressing the upper surface of the ceramic capacitor substrate 10 placed on the workpiece placing member 111. . As a result, the ceramic capacitor substrate 10 is formed with the dividing groove 104 that is the starting point of fracture along the first scheduled dividing line 101 and the second scheduled dividing line 102. Are broken along the first scheduled dividing line 101 and the second scheduled divided line 102 and are divided into individual chip capacitors 103 (dividing step).

上述した分割工程を実施したならば、制御手段20はチップ落とし込み手段14の図示しない移動手段を作動して作動アーム142に装着されたチップ落とし込みワイパー141をバルク収容手段13を構成するチップ落とし部材131の開口部131aに向けて移動せしめる。この結果、被加工物載置部材111上において個々に分割された複数のチップコンデンサー103は、開口部121aを通してチップ収容容器132に収容される。   If the above-described dividing step is performed, the control means 20 operates the moving means (not shown) of the chip dropping means 14 to insert the chip dropping wiper 141 mounted on the operating arm 142 into the chip dropping member 131 constituting the bulk accommodating means 13. It is moved toward the opening 131a. As a result, the plurality of chip capacitors 103 individually divided on the workpiece placement member 111 are accommodated in the chip accommodation container 132 through the opening 121a.

以上のように、図示の実施形態における分割装置は、レーザー光線照射手段4によってセラミックコンデンサー基板10における第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿ってレーザー光線を照射することにより破断の起点となる分割溝104を形成するので、切削ブレードによって切断する従来の分割方法のように切削ブレードの消耗および破損による生産性の低下を招くことがない。
また、レーザー光線照射手段4によるレーザー加工は、セラミックコンデンサー基板10における第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断の起点となる分割溝104を形成するので、チップコンデンサーの側壁に溶融物(ドロス)が付着するようなことはない。
更に、第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って破断の起点となる分割溝104が形成されたセラミックコンデンサー基板10が分割手段11によって個々のチップコンデンサー103に分割された後においては、チップ収容容器132に収容するので、セラミックコンデンサー基板10を保持基板またはテープ等の支持部材に支持する必要がなく、支持部材の貼着および剥離の工程が不要となり生産性が向上する。
As described above, the dividing apparatus in the illustrated embodiment is broken by irradiating the laser beam along the first scheduled division line 101 and the second scheduled division line 102 in the ceramic capacitor substrate 10 by the laser beam irradiation means 4. Since the dividing groove 104 as a starting point is formed, the productivity is not reduced due to wear and damage of the cutting blade as in the conventional dividing method in which cutting is performed by the cutting blade.
In addition, the laser processing by the laser beam irradiation means 4 forms the dividing groove 104 that is the starting point of the break along the first scheduled dividing line 101 and the second scheduled divided line 102 in the ceramic capacitor substrate 10. There is no adhesion of melt (dross) to the side walls.
Further, the ceramic capacitor substrate 10 in which the dividing groove 104 that is the starting point of the break is formed along the first scheduled dividing line 101 and the second scheduled dividing line 102 is divided into individual chip capacitors 103 by the dividing means 11. After that, since it is housed in the chip container 132, there is no need to support the ceramic capacitor substrate 10 on a supporting member such as a holding substrate or a tape, and the attaching and peeling steps of the supporting member are not required, thereby improving productivity. .

なお、上述した実施形態においては板状の被加工物としてのセラミックコンデンサー基板10を第1の分割予定ライン101および第2の分割予定ライン102に沿って個々のチップコンデンサー103に分割する例を示したが、本発明による分割装置は板状の被加工物として分割予定ラインが形成されていないガラス基板を複数のチップに分割しても同様の作用効果を奏する。   In the embodiment described above, an example is shown in which the ceramic capacitor substrate 10 as a plate-like workpiece is divided into individual chip capacitors 103 along the first planned division line 101 and the second planned division line 102. However, the dividing apparatus according to the present invention has the same effect even when a glass substrate on which no division line is formed as a plate-like workpiece is divided into a plurality of chips.

2:装置ハウジング
3:被加工物保持機構
31:保持テーブル
4:レーザー光線照射手段
41:集光器
5:カセット
5a:カセット載置領域
6:仮置き手段
7:被加工物搬出手段
8:被加工物搬入手段
9:撮像手段
10:セラミックコンデンサー基板
11:分割手段
111:被加工物載置部材
112:押圧ローラ
12:被加工物搬送手段
13:バルク収容手段
14:チップ落とし込み手段
20:制御手段
2: Device housing 3: Workpiece holding mechanism 31: Holding table 4: Laser beam irradiation means 41: Condenser 5: Cassette 5a: Cassette placement area 6: Temporary placement means 7: Workpiece unloading means 8: Workpiece Object carrying means 9: Imaging means 10: Ceramic capacitor substrate 11: Dividing means 111: Workpiece placing member 112: Pressing roller 12: Workpiece conveying means 13: Bulk accommodating means 14: Chip dropping means 20: Control means

Claims (1)

板状の被加工物を複数のチップに分割する分割装置であって、
加工前の被加工物を収容したカセットを載置するカセット載置領域と、
加工前の被加工物を仮置きする仮置き手段と、
該カセット載置領域に載置されたカセットに収容されている加工前の被加工物を仮置き手段に搬出する被加工物搬出手段と、
加工前の被加工物を吸引保持する保持テーブルと、
該保持テーブルを被加工物を搬入および搬出する搬入・搬出領域と加工領域に移動せしめる移動手段と、
該仮置き手段に搬出された加工前の被加工物を該搬入・搬出領域に位置付けられた該保持テーブルに搬送する被加工物搬入手段と、
該加工領域に配設され該保持テーブルに吸引保持された加工前の被加工物にレーザー光線を照射し、被加工物にチップに分割すべき破断起点となる分割溝を形成するレーザー光線照射手段と、
破断起点となる分割溝が形成された被加工物に外力を付与し、被加工物を分割溝に沿って複数のチップに分割する分割手段と、
該分割手段によって分割された複数のチップを収容する収容手段と、
該分割手段によって分割されることにより支持部材に支持されない状態でバラバラになった複数のチップを該収容手段に落とし込むチップ落とし込み手段と、を具備し
該分割手段は、柔軟部材で形成された被加工物を載置する被加工物載置部材と、該被加工物載置部材に載置された被加工物を押圧する押圧ローラと、を含むことを特徴とする分割装置。
A dividing device for dividing a plate-like workpiece into a plurality of chips,
A cassette mounting region for placing a cassette accommodating a workpiece before processing,
Temporary placement means for temporarily placing the workpiece before processing;
A workpiece unloading means for unloading the unprocessed workpiece housed in the cassette placed in the cassette placement area to the temporary placing means;
A holding table for sucking and holding a workpiece before processing;
A moving means for moving the holding table to a loading / unloading area for loading and unloading a workpiece and a machining area;
A workpiece carry-in means for carrying the workpiece before being carried to the temporary placement means to the holding table positioned in the carry-in / out region;
A laser beam irradiating means for irradiating a workpiece before processing disposed in the processing region and sucked and held by the holding table to form a split groove serving as a break starting point to be divided into chips on the workpiece;
A splitting means for applying an external force to the workpiece on which the split groove serving as a fracture starting point is formed, and splitting the workpiece into a plurality of chips along the split groove;
Accommodating means for accommodating a plurality of chips divided by the dividing means;
Chip dropping means for dropping a plurality of chips, which are separated by the dividing means and not supported by the support member , into the housing means ,
The dividing means includes a workpiece placing member for placing a workpiece formed of a flexible member, and a pressing roller for pressing the workpiece placed on the workpiece placing member. A dividing apparatus characterized by that.
JP2014003190A 2014-01-10 2014-01-10 Splitting device Active JP6342659B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014003190A JP6342659B2 (en) 2014-01-10 2014-01-10 Splitting device
TW103141227A TWI633592B (en) 2014-01-10 2014-11-27 Split device
CN201410852585.XA CN104779080A (en) 2014-01-10 2014-12-31 Cutting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014003190A JP6342659B2 (en) 2014-01-10 2014-01-10 Splitting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015133375A JP2015133375A (en) 2015-07-23
JP6342659B2 true JP6342659B2 (en) 2018-06-13

Family

ID=53620498

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014003190A Active JP6342659B2 (en) 2014-01-10 2014-01-10 Splitting device

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6342659B2 (en)
CN (1) CN104779080A (en)
TW (1) TWI633592B (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6557131B2 (en) * 2015-12-16 2019-08-07 株式会社ディスコ Splitting device
JP6896326B2 (en) * 2017-03-06 2021-06-30 株式会社ディスコ Processing equipment
RU2664882C1 (en) * 2017-11-03 2018-08-23 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники" Device for chemical separation of semiconductor plates to crystals
JP7084519B1 (en) * 2021-03-04 2022-06-14 Towa株式会社 Processing equipment
KR102355996B1 (en) * 2021-11-11 2022-02-08 주식회사 에스엠하이텍 Automatic Separating Equipment

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08172027A (en) * 1994-12-15 1996-07-02 Murata Mfg Co Ltd Manufacture of electronic part
JP3949934B2 (en) * 2001-10-31 2007-07-25 株式会社ディスコ Method for dividing ceramic chip capacitor sheet
JP2005123288A (en) * 2003-10-15 2005-05-12 Tdk Corp Manufacturing method for laminated electronic component
JP5947010B2 (en) * 2011-09-15 2016-07-06 株式会社ディスコ Splitting device
JP6425368B2 (en) * 2012-04-27 2018-11-21 株式会社ディスコ Laser processing apparatus and laser processing method

Also Published As

Publication number Publication date
TWI633592B (en) 2018-08-21
JP2015133375A (en) 2015-07-23
CN104779080A (en) 2015-07-15
TW201533787A (en) 2015-09-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6342659B2 (en) Splitting device
US7629229B2 (en) Laser processing method
JP5389580B2 (en) Cutting equipment
JP6679157B2 (en) Transfer mechanism of processing equipment
JP5604186B2 (en) Processing equipment
KR20160012073A (en) Processing method of package substrate
JP6692578B2 (en) Wafer processing method
JP5192999B2 (en) Ionized air supply program
JP2011023540A (en) Device for detection of cutting groove, and cutting machine
JP4989498B2 (en) Wafer transfer device and processing device
JP2015037145A (en) Processing method of package substrate
JP6305867B2 (en) Wafer processing method
JP5872799B2 (en) Laser processing equipment
JP6525845B2 (en) Laser processing equipment
JP5536534B2 (en) Glass plate division method
JP2015170675A (en) Processing method of plate-like object
KR102293784B1 (en) Conveying apparatus, processing apparatus and conveying method
JP2007061980A (en) Cutting device and cutting method
JP2001319899A (en) Dividing method of semiconductor wafer
JP2014229772A (en) Processing apparatus
JP2016207820A (en) Processing method of wafer
JP2005066675A (en) Laser beam machining method
CN110707017A (en) Method for drying workpiece and cutting device
JP2013222936A (en) Method for processing tabular object
JP2009032867A (en) Dividing device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161117

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171013

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171024

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171128

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180424

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180517

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6342659

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250