JP6274809B2 - 薄膜蒸着用マスク組立体およびその製造方法 - Google Patents
薄膜蒸着用マスク組立体およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6274809B2 JP6274809B2 JP2013216761A JP2013216761A JP6274809B2 JP 6274809 B2 JP6274809 B2 JP 6274809B2 JP 2013216761 A JP2013216761 A JP 2013216761A JP 2013216761 A JP2013216761 A JP 2013216761A JP 6274809 B2 JP6274809 B2 JP 6274809B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- control unit
- moving members
- main body
- moving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 14
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 title description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 18
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 7
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C21/00—Accessories or implements for use in connection with applying liquids or other fluent materials to surfaces, not provided for in groups B05C1/00 - B05C19/00
- B05C21/005—Masking devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
- H10K71/10—Deposition of organic active material
- H10K71/16—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering
- H10K71/166—Deposition of organic active material using physical vapour deposition [PVD], e.g. vacuum deposition or sputtering using selective deposition, e.g. using a mask
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49826—Assembling or joining
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
10 マスク、
15 パターン開口部、
20,201 フレーム、
21 開口部、
22 フレーム本体、
30,40 移動部材、
31,32,33 第1、第2、第3移動部材。
Claims (14)
- 開口部を有するフレーム本体と、フレーム本体上に少なくとも一方向に沿って移動可能に設けられる複数の移動部材とを備えたフレームと、
複数のパターン開口部を有し、引張力が加えられた状態で前記複数の移動部材に固定されるマスクと、を含み、
前記複数の移動部材それぞれは、マスク固定面を含むマスク固定部と、前記フレーム本体に固定され前記マスク固定部に接続されて前記マスク固定部の移動を制御する移動制御部と、を含み、
前記移動制御部は、移動ガイドを含む制御部本体と、前記フレーム本体に相対する前記マスク固定部の後面に固定された雌ねじ部と、前記制御部本体に設けられ、前記雌ねじ部に締結される調整ねじと、を含み、
前記マスク固定部は、前記制御部本体を収容する収容部と、前記移動ガイドに対応するガイド溝とを有することを特徴とするマスク組立体。 - 前記マスクは、第1方向および第1方向と交差する第2方向に沿って引っ張られ、前記複数の移動部材に固定されることを特徴とする請求項1に記載のマスク組立体。
- 前記フレーム本体は、前記第1方向に並ぶ一対の第1直線部と、前記第2方向に並ぶ一対の第2直線部とを含み、
前記複数の移動部材は、前記一対の第1直線部と前記一対の第2直線部それぞれにおいて複数個備えられ、移動方向と変位が独立に制御されることを特徴とする請求項2に記載のマスク組立体。 - 前記複数の移動部材は、
前記一対の第1直線部に設けられ、前記第2方向に沿ってスライディングする複数の第1移動部材と、
前記一対の第2直線部に設けられ、前記第1方向に沿ってスライディングする複数の第2移動部材と、を含むことを特徴とする請求項3に記載のマスク組立体。 - 前記複数の移動部材は、前記フレーム本体のコーナー側に設けられ、第3方向に沿ってスライディングする複数の第3移動部材を含むことを特徴とする請求項4に記載のマスク組立体。
- 前記第1移動部材の前記調整ねじは前記第2方向に並び、
前記第2移動部材の前記調整ねじは前記第1方向に並び、
前記第1方向と前記第2方向は前記マスクの幅方向であることを特徴とする請求項4又は5に記載のマスク組立体。 - 前記第3移動部材の前記調整ねじは前記第3方向に並び、
前記第3方向は前記マスクの幅方向であることを特徴とする請求項5に記載のマスク組立体。 - 開口部を有するフレーム本体と、フレーム本体上に少なくとも一方向に沿って移動可能に設けられる複数の移動部材とを備えたフレームと、
複数のパターン開口部を有し、引張力が加えられた状態で前記複数の移動部材に固定されるマスクと、を含み、
前記マスクは、第1方向および第1方向と交差する第2方向に沿って引っ張られ、前記複数の移動部材に固定され、
前記フレーム本体は、前記第1方向に並ぶ一対の第1直線部と、前記第2方向に並ぶ一対の第2直線部とを含み、
前記複数の移動部材は、前記一対の第1直線部と前記一対の第2直線部それぞれにおいて複数個備えられ、移動方向と変位が独立に制御され、
前記複数の移動部材それぞれは、
マスク固定面を含むマスク固定部と、
前記フレーム本体と前記マスク固定部との間に設けられ、前記マスク固定部を前記第1方向および前記第2方向に沿って移動させる第1移動制御部および第2移動制御部とを含み、
前記第1移動制御部は、前記フレーム本体に固定され、
前記第2移動制御部は、前記第1移動制御部と前記マスク固定部との間に位置し、
前記第1移動制御部と前記第2移動制御部との間に支持台が位置し、
前記第1移動制御部は、第1移動ガイドを含む第1制御部本体と、前記支持台の後面に固定された第1雌ねじ部と、第1制御部本体に設けられ、第1雌ねじ部に締結される第1調整ねじとを含み、
前記第2移動制御部は、第2移動ガイドを含む第2制御部本体と、前記マスク固定部の後面に固定された第2雌ねじ部と、第2制御部本体に設けられ、第2雌ねじ部に締結される第2調整ねじとを含むことを特徴とするマスク組立体。 - 前記第1調整ねじは前記第2方向に並び、
前記第2調整ねじは前記第1方向に並び、
前記第1方向と前記第2方向は前記マスクの幅方向であることを特徴とする請求項8に記載のマスク組立体。 - 前記支持台は、前記第1制御部本体を収容する第1収容部と、前記第1移動ガイドに対応する第1ガイド溝とを有し、
前記マスク固定部は、前記第2制御部本体を収容する第2収容部と、前記第2移動ガイドに対応する第2ガイド溝とを有することを特徴とする請求項8に記載のマスク組立体。 - フレーム本体と、フレーム本体上に少なくとも一方向に沿って移動可能に設けられた複数の移動部材とを含むフレームを用意するステップと、
マスクに引張力を加えた状態でマスクを前記複数の移動部材に固定させるステップと、
前記複数の移動部材の少なくとも1つの移動部材をスライディングし、前記マスクの引張力を調整するステップと、を含み、
前記複数の移動部材それぞれは、マスク固定面を含むマスク固定部と、前記フレーム本体に固定され前記マスク固定部に接続されて前記マスク固定部の移動を制御する移動制御部と、を有し、前記移動制御部は、移動ガイドを含む制御部本体と、前記フレーム本体に相対する前記マスク固定部の後面に固定された雌ねじ部と、前記制御部本体に設けられ、前記雌ねじ部に締結される調整ねじと、を有し、
前記マスク固定部は、前記制御部本体を収容する収容部と、前記移動ガイドに対応するガイド溝と、を有し、前記ガイド溝に沿って前記少なくとも1つの移動部材をスライディングし前記マスクの引張力を調整することを特徴とするマスク組立体の製造方法。 - 前記フレーム本体は、4つの直線部を含み、
前記複数の移動部材は、前記4つの直線部それぞれにおいて複数個備えられ、移動方向と変位が独立に制御されることを特徴とする請求項11記載のマスク組立体の製造方法。 - 前記複数の移動部材には、前記マスクの引張力による圧縮力が作用し、
前記複数の移動部材それぞれは、圧縮力が作用する一方向に沿ってスライディングし、前記マスクの引張力を調整することを特徴とする請求項12記載のマスク組立体の製造方法。 - 前記複数の移動部材それぞれは、圧縮力が作用する方向と交差する方向に沿ってスライディングし、前記マスクに形成されたパターン開口部の位置を変更させることを特徴とする請求項13記載のマスク組立体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120142767A KR102100446B1 (ko) | 2012-12-10 | 2012-12-10 | 박막 증착용 마스크 조립체 및 이의 제조 방법 |
KR10-2012-0142767 | 2012-12-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014114504A JP2014114504A (ja) | 2014-06-26 |
JP6274809B2 true JP6274809B2 (ja) | 2018-02-07 |
Family
ID=50879589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013216761A Active JP6274809B2 (ja) | 2012-12-10 | 2013-10-17 | 薄膜蒸着用マスク組立体およびその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9657392B2 (ja) |
JP (1) | JP6274809B2 (ja) |
KR (1) | KR102100446B1 (ja) |
CN (1) | CN103866229B (ja) |
TW (1) | TWI612169B (ja) |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101813549B1 (ko) * | 2011-05-06 | 2018-01-02 | 삼성디스플레이 주식회사 | 분할 마스크와 그 분할 마스크를 포함한 마스크 프레임 조립체의 조립장치 |
KR102352279B1 (ko) * | 2015-05-13 | 2022-01-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체와 그 제조방법 |
KR102366569B1 (ko) * | 2015-07-01 | 2022-02-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 인장 용접 장치 |
TWI633197B (zh) | 2016-05-24 | 2018-08-21 | 美商伊麥傑公司 | 高精準度蔽蔭遮罩沉積系統及其方法 |
US10386731B2 (en) * | 2016-05-24 | 2019-08-20 | Emagin Corporation | Shadow-mask-deposition system and method therefor |
KR102377183B1 (ko) * | 2016-05-24 | 2022-03-21 | 이매진 코퍼레이션 | 고정밀 섀도 마스크 증착 시스템 및 그 방법 |
JP6298110B2 (ja) * | 2016-07-08 | 2018-03-20 | キヤノントッキ株式会社 | マスク支持体、成膜装置及び成膜方法 |
KR102696806B1 (ko) * | 2016-09-22 | 2024-08-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 마스크, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
DE102016121374A1 (de) | 2016-11-08 | 2018-05-09 | Aixtron Se | Maskenhalterung mit geregelter Justiereinrichtung |
JP7134095B2 (ja) * | 2017-05-17 | 2022-09-09 | イマジン・コーポレイション | 高精度シャドーマスク堆積システム及びその方法 |
CN107419219B (zh) * | 2017-09-20 | 2019-06-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜框架、掩膜版及其制作方法 |
CN207828397U (zh) * | 2018-01-02 | 2018-09-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板框架、掩膜板及蒸镀设备 |
CN108866476B (zh) * | 2018-06-29 | 2020-03-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版及其制作方法、蒸镀方法、显示屏 |
CN108950475B (zh) * | 2018-07-25 | 2020-11-10 | 京东方科技集团股份有限公司 | 张网结构、张网装置及张网方法 |
CN109285972B (zh) * | 2018-09-28 | 2021-01-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种发光材料的位置调整方法及装置 |
CN109468587B (zh) * | 2019-01-02 | 2021-01-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜板安装架及掩膜板组件 |
US12037678B2 (en) * | 2019-11-12 | 2024-07-16 | Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Mask |
CN110699638A (zh) * | 2019-11-28 | 2020-01-17 | 云谷(固安)科技有限公司 | 掩膜版的张网设备和张网方法 |
JP2021175824A (ja) * | 2020-03-13 | 2021-11-04 | 大日本印刷株式会社 | 有機デバイスの製造装置の蒸着室の評価方法、評価方法で用いられる標準マスク装置及び標準基板、標準マスク装置の製造方法、評価方法で評価された蒸着室を備える有機デバイスの製造装置、評価方法で評価された蒸着室において形成された蒸着層を備える有機デバイス、並びに有機デバイスの製造装置の蒸着室のメンテナンス方法 |
KR102208779B1 (ko) * | 2020-07-21 | 2021-01-28 | 풍원정밀(주) | 인장 시간 단축 및 인장 품질 향상 효과를 갖는 oled용 메탈 마스크 및 이의 인장 방법 |
KR20220030437A (ko) * | 2020-08-31 | 2022-03-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크, 이의 제조 방법, 및 표시 패널 제조 방법 |
KR20220089809A (ko) * | 2020-12-21 | 2022-06-29 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 및 마스크 프레임의 제조 방법 |
CN112962056B (zh) * | 2021-02-02 | 2022-12-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法 |
KR20230174365A (ko) * | 2022-06-20 | 2023-12-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 증착 방법 |
KR20240033734A (ko) * | 2022-09-05 | 2024-03-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 스테이지 및 그것을 포함하는 마스크 제조 장치 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3402681B2 (ja) * | 1993-06-02 | 2003-05-06 | サンエー技研株式会社 | 露光における位置合わせ方法 |
JP4862236B2 (ja) * | 2001-08-24 | 2012-01-25 | 大日本印刷株式会社 | 有機el素子製造に用いる真空蒸着用多面付けマスク装置 |
KR100490534B1 (ko) | 2001-12-05 | 2005-05-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 |
JP2004006257A (ja) * | 2002-04-26 | 2004-01-08 | Tohoku Pioneer Corp | 真空蒸着用マスク及びこれを用いて製造された有機elディスプレイパネル |
KR100813832B1 (ko) | 2002-05-31 | 2008-03-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 증착용 마스크 프레임 조립체와 이의 제조방법 |
US6955726B2 (en) | 2002-06-03 | 2005-10-18 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Mask and mask frame assembly for evaporation |
JP4173722B2 (ja) | 2002-11-29 | 2008-10-29 | 三星エスディアイ株式会社 | 蒸着マスク、これを利用した有機el素子の製造方法及び有機el素子 |
US20040163592A1 (en) * | 2003-02-20 | 2004-08-26 | Tohoku Poineer Corporation | Mask for vacuum deposition and organic EL display panel manufactured by using the same |
JP2005353510A (ja) * | 2004-06-14 | 2005-12-22 | Canon Inc | 真空蒸着マスクとその固定方法、該マスクを用いた有機elディスプレイパネルの製造方法 |
KR100659057B1 (ko) | 2004-07-15 | 2006-12-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 유기 전계 발광표시장치 |
JP4784145B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2011-10-05 | 大日本印刷株式会社 | 金属テープの取り付け方法、マスクユニットの製造方法及びテンション付加用治具 |
KR20070063307A (ko) | 2005-12-14 | 2007-06-19 | 주성엔지니어링(주) | 마스크 어셈블리 |
KR100941311B1 (ko) | 2008-04-21 | 2010-02-11 | 순천향대학교 산학협력단 | 유기 el용 새도우 마스크 |
KR101156442B1 (ko) | 2010-04-29 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 마스크 프레임 조립체 |
KR20150002614A (ko) * | 2012-04-05 | 2015-01-07 | 소니 주식회사 | 마스크 조정 유닛, 마스크 장치 및 마스크의 제조 장치 및 제조 방법 |
KR102000718B1 (ko) * | 2012-11-15 | 2019-07-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 조립체 및 이의 제조 방법 |
-
2012
- 2012-12-10 KR KR1020120142767A patent/KR102100446B1/ko active IP Right Grant
-
2013
- 2013-10-17 JP JP2013216761A patent/JP6274809B2/ja active Active
- 2013-12-03 TW TW102144193A patent/TWI612169B/zh active
- 2013-12-04 US US14/096,816 patent/US9657392B2/en active Active
- 2013-12-10 CN CN201310665412.2A patent/CN103866229B/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140074614A (ko) | 2014-06-18 |
CN103866229B (zh) | 2018-08-07 |
TWI612169B (zh) | 2018-01-21 |
CN103866229A (zh) | 2014-06-18 |
JP2014114504A (ja) | 2014-06-26 |
KR102100446B1 (ko) | 2020-04-14 |
US20140158044A1 (en) | 2014-06-12 |
TW201435123A (zh) | 2014-09-16 |
US9657392B2 (en) | 2017-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6274809B2 (ja) | 薄膜蒸着用マスク組立体およびその製造方法 | |
KR102000718B1 (ko) | 박막 증착용 마스크 조립체 및 이의 제조 방법 | |
WO2016112638A1 (zh) | 基板支撑装置、基板支撑方法以及真空干燥设备 | |
EP3059725B1 (en) | Mechanism for mounting led modules | |
WO2014155939A1 (en) | Mask frame unit, mask apparatus, and processing method | |
JPWO2006115106A1 (ja) | スクリーン印刷装置 | |
US20190157562A1 (en) | Tension mask frame assembly manufacturing apparatus and method | |
JP2015200710A (ja) | 表示装置取付金具および表示装置取付治具 | |
CN207159336U (zh) | 一种掩膜板 | |
US9496525B2 (en) | Aligning method of mask assembly using deposition apparatus | |
US9567663B2 (en) | Manufacturing apparatus and method of mask assembly | |
WO2017163878A1 (ja) | マスクフレーム及び真空処理装置 | |
JP2019016801A5 (ja) | 物体移動方法、物体移動装置、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
TWI616348B (zh) | 網罩 | |
KR20150006247A (ko) | 진공 증착 장치 및 이를 이용한 진공 증착 방법 | |
JP2013209697A6 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
KR20110034341A (ko) | 코팅 장치의 코팅 높이 조정 장치 및 방법, 및 이를 구비한 코팅 장치 | |
JP2006235019A (ja) | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
KR101906250B1 (ko) | 평탄조절 블록이 구비된 패널 스테이지 | |
JP4881965B2 (ja) | 液晶露光装置 | |
JP2016224303A (ja) | 測定装置 | |
WO2018146941A1 (ja) | 蒸着マスク固定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161005 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20170421 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170519 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170814 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170822 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171122 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180109 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6274809 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |