JP6001500B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、液晶表示装置に関する。

近年のフラットパネルディスプレイ市場において、画質向上を目的に画素の高精細化がすすんでいる。特に、タブレットＰＣやスマートフォンなどの小型サイズで顕著だが、ＴＶ用途でもいわゆる４Ｋ２Ｋと呼ばれる高精細ＴＶが販売され始めている。
液晶モードは、ＴＮモード、ＩＰＳモード、ＶＡモード等が知られているが、ＴＶ用途ではＶＡモードが多くを占めており、現在ＶＡモードは８ドメイン（８Ｄ）と呼ばれる画素分割方式が主流である。
しかし、画素構造が複雑なため、高精細化に向いておらず、また高精細化すると、バックライト光の利用効率が下がる欠点がある。そこで、構造がシンプルでバックライト光利用効率を下げないために、ドメイン数（４ドメイン（４Ｄ）、２ドメイン（２Ｄ））を下げた画素分割方式を使用することが考えられる。
しかし、ドメイン数を下げると、横方向からの観察時に、画像が白っぽくなる「白とび」という問題が発生する。これは「γカーブ」などの名前で知られている「階調特性」（横軸をGRAY LEVEL、縦軸を透過率にしたときの特性）が、正面と斜めで異なってしまうためである。これに対し、セルやフィルムで改善することが検討されている（特許文献１、非特許文献１および非特許文献２）。

特開２００５−６２７２４号公報

SID 06 Digest 69.3 p.1946-1949 Optics Letters Vol. 38, No. 5 p.799-801

ここで、特許文献１は、厚さ方向で配列が異なるハイブリッド配列された円盤状の高分子からなる光学フィルムで白とびを改善している。しかしながら、視野角コントラストが極端に悪化するという問題がある。また、非特許文献１は液晶セルで白とびを改善している。しかしながら、液晶セルで白とびを改善する場合、液晶セルが限定されてしまうという問題がある。一方、非特許文献２は、位相差フィルムを用いて白とびを改善している。しかしながら、色味付きしやすいという問題がある。
本発明はかかる問題点を解決することを目的とするものであって、４ドメイン以下のＶＡモードの液晶表示装置において、白とびを抑制し、かつ、色味付きを抑制した液晶表示装置を提供することを目的とする。

上記課題のもと、本発明者が鋭意検討を行った結果、下記手段＜１＞により、好ましくは＜２＞〜＜７＞により上記課題は解決された。
＜１＞少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、
液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、
第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、１２．５〜６２．５ｎｍであり、
第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−２００〜−１００ｎｍであり、
第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が３００〜４００ｎｍであり、
第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、
第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と平行であり、
第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、
液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍである、液晶表示装置。
＜２＞少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、
液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、
第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、１２．５〜６２．５ｎｍであり、
第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−３００〜−２００ｎｍであり、
第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであり、
第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、
第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と直交しており、
第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、
液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍである、液晶表示装置。
＜３＞少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、
液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、
第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、−１２．５〜−６２．５ｎｍであり、
第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−１５０〜−５０ｎｍであり、
第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであり、
第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、
第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と平行であり、
第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、
液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍである、液晶表示装置。
＜４＞少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、
液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、
第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、−１２．５〜−６２．５ｎｍであり、
第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−２００〜−１００ｎｍであり、
第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであり、
第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、
第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と直交しており、
第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、
液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍである、液晶表示装置。
＜５＞第１の位相差層、第２の位相差層、第３の位相差層、および第４の位相差層の少なくとも１つが、液晶化合物を含む光学異方性層を有する、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の液晶表示装置。
＜６＞第１の偏光膜と第１の位相差層の間、または、第２の偏光膜と第４の位相差層の間に、第５の位相差層を有する、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の液晶表示装置。
＜７＞第５の位相差層が、Ｒｅ（５５０）が７０〜１４０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）が４０〜１１０ｎｍであるフィルムと、Ｒｅ（５５０）は１０ｎｍ以下であり、Ｒｔｈ（５５０）は−１８０〜−９０ｎｍであるフィルムとの積層フィルムである、＜６＞に記載の液晶表示装置。

４ドメイン以下のＶＡモードの液晶表示装置において、色づきの発生および白とびを抑制可能な液晶表示装置を提供可能になった。

本発明の液晶表示装置の構成の一例を示す概略図である。 従来技術の液晶表示装置の構成の一例を示す概略図である。 本発明の液晶表示装置の第１の実施形態の構成の一例を示す概略図である。 本発明の液晶表示装置の第２の実施形態の構成の一例を示す概略図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

本明細書において、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味する。
また、本明細書において、特に述べない限り、例えば、「４５°」、「平行」、「垂直」あるいは「直交」とは、厳密な角度±５度未満の範囲内であることを意味する。すなわち、略４５°、略平行、略垂直の意である。厳密な角度との誤差は、±４度未満であることが好ましく、±３度未満であることがより好ましい。また、角度について、「＋」は反時計周り方向を意味し、「−」は時計周り方向を意味するものとする。
遅相軸および吸収軸の角度は、第１の偏光膜の吸収軸を０°とし、視認側から見たときに、反時計回りを正の方向とする。

本発明の液晶表示装置は、少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、第１〜第４の位相差層は、それぞれ、所定のレターデーションを有し、第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と平行であり、第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交していることを特徴とする。このような構成とすることにより、白とびおよび色味付きが抑制された液晶表示装置を提供可能になる。ここで、色味付きとは、２枚の偏光膜の間に、Ｒｅがλ/２を超えるフィルムを配置すると、色がつくことを意味する。
さらに、高い正面コントラストを維持しながら、高い視野角コントラストを達成することも可能になる。

白とびを改善する方法は種々検討されている。上記非特許文献１（SID 06 Digest）では、Ａ画素（４ドメイン）とＢ画素（４ドメイン）で電圧のかけ方を変えた表示とすることで、平均的な画像を出力することを開示している。すなわち、該文献では、セルそのもので白とびを改善している。

一方、非特許文献２（Optics Letters Vol. 38, No. 5）では、位相差フィルムを用いて白とびを改善している。しかしながら、本発明者が検討したところ、該文献では、色味付きが発生することが分かった。この点を図を用いて詳細に説明する。
図１は本発明の液晶表示装置の構成の一例を示す概略図であって、上側から順に、第１の偏光膜１、第１の位相差層２、第２の位相差層３、液晶層４、第３の位相差層５、第２の偏光膜６の順に積層している。これに対し、非特許文献２（Optics Letters Vol. 38, No. 5）では、図２に示す構成となっている。図１と対比させると、上側から順に、第１の偏光膜１１、第１の位相差層１２、第４の位相差層１３、液晶層１４、第２の位相差層１５、第３の位相差層１６、第２の偏光板１７の構成となっている。ここで、図１および図２の構成の各位相差層の波長５５０ｎｍにおけるレターデーションの値としては、以下の値が例示される（単位はｎｍ）。

上記のとおり、図２における第１の位相差層１２のＲｅが３２０ｎｍとなっており、Ｒｅがλ／２を大きく超えるため、色味付きが発生してしまう。

図１と図２の違いについて、より具体的に説明する。
図１の配置と光学特性を所定の範囲にすることで、電圧印加時における液晶セル内の液晶分子の複屈折性の影響を小さくすることができる。
図１と図２において、第３と第４の位相差層の通過後の各々の偏光状態の軸は、一方が液晶セルの液晶分子の屈折率最大方向と、他方が液晶セルの液晶分子の屈折率最小方向と、平行付近になるように偏光変化されている。このためどちらの構成にしても、液晶セルの液晶分子による偏光変化への影響は小さい。
また、第１と第２の位相差層は、液晶層通過後の偏光状態を、第２の偏光膜通過後の
偏光状態に戻す機能を有している。よって、これらの層構成順にすることで、階調特性の改善が可能となっている。

本発明の液晶表示装置は、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有する。図１における上側（第１の偏光膜側）が視認側であってもよいし、図１における下側（第２の偏光膜側）が視認側であってもよい。第１の位相差層、第２の位相差層、第３の位相差層、第４の位相差層およびその他の位相差層は、それぞれ、１層から構成されていてもよいし、２層以上からなっていてもよく、少なくとも１つの位相差層が液晶化合物を含む光学異方性層を有していることが好ましい。

本発明の液晶表示装置は、より具体的には、図３に構成の一例を示す第１の実施形態および第３の実施形態、図４に一例を示す第２の実施形態および第４の実施形態が示される。図３および図４における符号は、図１と共通である。以下これらの詳細を説明する。

（第１の実施形態）
本発明の液晶表示装置の第１の実施形態は、その構成の一例を図３に示すものであり、少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、１２．５〜６２．５ｎｍであり、第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−２００〜−１００ｎｍであり、第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が３００〜４００ｎｍであり、第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と平行であり、第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍであることを特徴とする。

第１の偏光膜および第２の偏光膜は吸収軸が互いに直交している。偏光膜は公知の偏光膜を用いることができる。例えば、特開２０１２−１５０３７７号公報の段落番号００９０の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

第１の位相差層は、第１の偏光膜と第２の位相差層の間に配置されるフィルムであって、第１の位相差層のＲｅ（５５０）が２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層のＲｔｈ（５５０）が１２．５〜６２．５ｎｍであることを特徴とする。第１の位相差層は、第４の位相差層と協働して、白とびの発生を抑制する。
第１の位相差層のＲｅ（５５０）は、４０〜１１０ｎｍが好ましく、５５〜９５ｎｍがより好ましい。第１の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、２０〜５５ｎｍが好ましく、２７．５〜４７．５ｎｍがより好ましい。このようなフィルムの一例として、いわゆる正のＡプレートが挙げられる。
第１の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法（特に、棒状液晶化合物を水平配向させて形成する方法）や、レターデーション調整剤を配合する方法および／または延伸する方法によって製造できる。これらの詳細は、特許４８２５９３４号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

第１の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第１の位相差層を形成することにより、第１の位相差層の厚さを０．１μｍ〜２．０μｍ程度とすることができる。

第１の位相差層の遅相軸（例えば、図３の第１の位相差層２中の矢印）は、第１の偏光膜の吸収軸（例えば、図１の第１の偏光膜１中の矢印）とのなす角度が４５°であり、第１の位相差層の遅相軸が電圧印加時の液晶層の面内遅相軸（例えば、図３の液晶層中の点線の矢印）と平行の構成となっている。

第２の位相差層は、第１の位相差層と液晶層の間に配置されるフィルムであって、第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−２００〜−１００ｎｍであることを特徴とする。第２の位相差層は液晶層を補償するフィルムとして働く。従って、第２の位相差層と液晶層の間には位相差層を有さないことが好ましい。本発明では、第２の位相差層を第１の位相差層に近い側に配置することにより、第１の位相差層のＲｅを小さくでき、色味付きを抑制している。
第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、−１９０〜−１１０ｎｍがより好ましく、−１８０〜−１２０ｎｍがさらに好ましい。
第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値は５ｎｍ以下が好ましく、実質的に０ｎｍがより好ましい。このようなフィルムとして、正のＣプレートが例示される。

第２の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法（特に、棒状液晶化合物を垂直配向させて形成する方法）が例示される。これらの詳細は、特許５０３６２０９号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
第２の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第２の位相差層を形成することにより、第２の位相差層の厚さを０．５〜３．０μｍ程度とすることができる。

本発明における液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、４ドメインであっても、２ドメインであってもよく、特に、４ドメインに好ましく用いられる。
ＶＡモードの液晶層のレターデーション（即ち、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）は２５０〜４５０ｎｍであり、２７５〜４２５ｎｍが好ましく、３００〜４００ｎｍがより好ましい。尚、後述する本願実施例では、液晶層のレターデーションをＲｔｈで表しているが、これらはＲｔｈ＝−Δｎ・ｄの関係にある。
これは液晶セルに電圧が印加されていないとき、つまり、黒表示のとき、液晶セル中の液晶は、基板に対し屈折率最大の方向が実質的に垂直になっており、正のＣプレートと考えられるためである。
ＶＡモードの液晶セルおよび液晶層の詳細は、特開２０１３−０７６７４９号公報の記載、特に、段落番号０１８５〜０１８７の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

第３の位相差層は、第４の位相差層と液晶層の間に配置されるフィルムであって、第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が３００〜４００ｎｍであることを特徴とする。第３の位相差層は第２の位相差層と協働して液晶層を補償するフィルムとして働く。従って、第３の位相差層と液晶層の間には位相差層を有さないことが好ましい。
第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、３１０〜３９０ｎｍがより好ましく、３２０〜３８０ｎｍがさらに好ましい。
第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値は５ｎｍ以下が好ましく、実質的に０ｎｍがより好ましい。このようなフィルムとして、負のＣプレートが例示される。

第１実施形態の液晶表示装置では、第２の位相差層のＲｅ（５５０）と第３の位相差層のＲｅ（５５０）の差を小さくすることが好ましい。第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値と第３の位相差層のＲｔｈの絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。

第３の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法（特に、円盤状液晶化合物を水平配向させて形成する方法）が例示される。これらの詳細は、特許２００８−４０３０９号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
第３の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第３の位相差層を形成することにより、第３の位相差層の厚さを２．０〜５．０μｍ程度とすることができる。

第４の位相差層は、第２の偏光膜と第３の位相差層の間に配置されるフィルムであって、第４の位相差層のＲｅ（５５０）が２５〜１２５ｎｍであり、第４の位相差層のＲｔｈ（５５０）が１２．５〜６２．５ｎｍであることを特徴とする。
第４の位相差層のＲｅ（５５０）は、４０〜１１０ｎｍが好ましく、５５〜９５ｎｍがより好ましい。第４の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、２０〜５５ｎｍが好ましく、２７．５〜４７．５ｎｍがより好ましい。このようなフィルムの一例として、いわゆる正のＡプレートが挙げられる。

上述のとおり、第１の位相差層と第４の位相差層は、協働して白とびを抑制する。従って、本発明の液晶表示装置では、第１の位相差層のＲｅ（５５０）と第４の位相差層のＲｅ（５５０）の差を小さくすることにより、白とびがより効果的に抑制される。第１の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値と第４の位相差層のＲｔｈの絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。
また、第１の位相差層のＲｔｈ（５５０）の絶対値と第４の位相差層のＲｔｈの絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。このような構成とすることにより、正面コントラストをより効果的に向上させることができる。

第４の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法（特に、棒状液晶化合物を水平配向させて形成する方法）や、レターデーション調整剤を配合する方法および／または延伸する方法によって製造できる。これらの詳細は、特許４８２５９３４号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

第４の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第１の位相差層を形成することにより、第１の位相差層の厚さを０．１μｍ〜２．０μｍ程度とすることができる。

第４の位相差層の遅相軸（例えば、図３の第４の位相差層６中の矢印）は、第１の位相差層の遅相軸（例えば、図３の第１の位相差層２中の矢印）とが互いに直交している構成となっている。

液晶層が４ドメインの場合、第４の位相差層は、パターン位相差層となる（後述する、第２〜第４の実施形態についても同じ）。パターン位相差層の形成方法としては、特開２０１３−０１１８００号公報、特開２０１３−０６８９２４号公報、特表２０１２−５１７０２４号公報等の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
また、液晶層が４ドメインの場合、液晶層は、横ストライプパターンであってもよい。横ストライプパターンとしては、Y. Tanaka, Y. Taniguchi, T. Sasaki, A. Takeda, Y. Koibe, and K. Okamoto, "A New Design to Improve Performance and Simply the manufacturing Process of High-Quality MVA TFT-LCD Panels", SID Symposium Digest, p. 206, 1999、K. H. Kim, K. H. Lee, S. B. Park, J. K. Song, S. N. Kim, and J. H. Souk, Asia Display' 98, p. 383, 1998 等の記載の参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

本発明の液晶表示装置では、各層の構成順序を変えなければ、第１の偏光膜を視認側としたときと、第２の偏光膜を視認側にしたときとで同様の効果を得ることができる（後述する、第２〜第４の実施形態についても同じ）。

また、本発明の液晶表示装置では、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、他の構成層を有していても良い。例えば、第１の偏光膜と第１の位相差層の間、または、第２の偏光膜と第４の位相差層の間に、第５の位相差層を有する構成とすることができる。すなわち、図３は、第１の偏光膜と第１の位相差層の間にさらに、第５の位相差層８を有している。第５の位相差層の遅相軸（図３の第５の位相差層８中の矢印）は、第１の偏光膜の吸収軸（図３の第１の偏光膜１中の矢印）と直交していることが好ましい。このように第５の位相差層８を設けることにより、偏光膜の補償を行うことができ、斜め方向からのコントラスト（視野角ＣＲ）をより向上させることができる。

第５の位相差層は単層であっても、積層であってもよい。
単層の場合、Ｒｅ（５５０）は２５０〜３０５ｎｍが好ましく、２６０〜２９０ｎｍがより好ましい。Ｒｔｈ（５５０）は−３０〜３０ｎｍが好ましく、−１５〜１５ｎｍがより好ましい。ただし、単層の場合は波長分散制御が難しく、斜め方向での黒色味付きが発生する可能性が高い。
第５の位相差層は、黒色味付き低減のために、積層にすることがより好ましい。積層構成の態様は、様々な組合せが考えるが、その中でも、２軸フィルムと正のＣ−プレートの積層構成が好ましい。２軸フィルムのＲｅ（５５０）は７０〜１４０ｎｍが好ましく、９０〜１２０ｎｍがさらに好ましい。２軸フィルムのＲｔｈ（５５０）は４０〜１１０ｎｍが好ましく、９０〜１１０ｎｍがさらに好ましい。また、正のＣ−プレートのＲｅ（５５０）は１０ｎｍ以下が好ましく、正のＣ−プレートのＲｔｈ（５５０）は−１８０〜−９０ｎｍが好ましく、−１８０〜−１３０ｎｍがさらに好ましい。
これらは公知の偏光膜の補償に用いられる位相差フィルムを広く採用できる。これらの詳細は、単層構成においては特開２００９−２３５３７４号公報を、積層構成においては特開２０１２−８５４８号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

また、第１の位相差層および第４の位相差層のいずれかは、インセル構造であってもよい（後述する、第２〜第４の実施形態についても同じ）。インセル構造とすることにより、より白とびが抑制される傾向にある。第１の位相差層がインセル構造の場合、第４の位相差層もインセル構造であることが好ましい。

（第２の実施形態）
本発明の液晶表示装置の第２の実施形態は、その構成の一例を図４に示すものであり、少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、１２．５〜６２．５ｎｍであり、第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−３００〜−２００ｎｍであり、第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであり、第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と直交しており、第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍであることを特徴とする。

第２の実施形態における第１の偏光膜、第２の偏光膜、液晶層、第１の位相差層および第４の位相差層は、それぞれ、第１の実施形態における第１の偏光膜、第２の偏光膜、液晶層、第１の位相差層および第４の位相差層と同義であり、好ましい範囲も同様である。ただし、第１の位相差層および第４の位相差層の遅相軸の向きが異なる。

第１の位相差層の遅相軸（例えば、図４の第１の位相差層２中の矢印）は、第１の偏光膜の吸収軸（例えば、図４の第１の偏光膜１中の矢印）とのなす角度が４５°であり、第１の位相差層の遅相軸が電圧印加時の液晶層の面内遅相軸（例えば、図４の液晶層中の点線の矢印）と直交する構成となっている。

第２の位相差層は、第１の位相差層と液晶層の間に配置されるフィルムであって、第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−３００〜−２００ｎｍであることを特徴とする。第２の位相差層は液晶層を補償するフィルムとして働く。従って、第２の位相差層と液晶層の間には位相差層を有さないことが好ましい。本発明では、第２の位相差層を第１の位相差層に近い側に配置することにより、第１の位相差層のＲｅを小さくでき、色味付きを抑制している。
第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、−２９０〜−２１０ｎｍがより好ましく、−２８０〜−２２０ｎｍがさらに好ましい。
第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値は５ｎｍ以下が好ましく、実質的に０ｎｍがより好ましい。このようなフィルムとして、正のＣプレートが例示される。

第２の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、第一の実施形態の第２位相差層の記載を参酌できる。
第２の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第２の位相差層を形成することにより、第２の位相差層の厚さを１．５μｍ〜４．０μｍ程度とすることができる。

第３の位相差層は、第４の位相差層と液晶層の間に配置されるフィルムであって、第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００ｎｍ〜５００ｎｍであることを特徴とする。第３の位相差層は第２の位相差層と協働して液晶層を補償するフィルムとして働く。従って、第３の位相差層と液晶層の間には位相差層を有さないことが好ましい。
第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、４１０ｎｍ〜４９０ｎｍがより好ましく、４２０ｎｍ〜４８０ｎｍがさらに好ましい。
第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値は５ｎｍ以下が好ましく、実質的に０ｎｍがより好ましい。このようなフィルムとして、負のＣプレートが例示される。

第２実施形態の液晶表示装置では、第２の位相差層のＲｅ（５５０）と第３の位相差層のＲｅ（５５０）の差を小さくすることが好ましい。第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値と第３の位相差層のＲｔｈの絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。

第３の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、第一の実施形態の第３位相差層の記載を参酌できる。
第３の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第３の位相差層を形成することにより、第３の位相差層の厚さを３．０μｍ〜６．０μｍ程度とすることができる。

第４の位相差層は、第２の偏光膜と第３の位相差層の間に配置されるフィルムであって、第４の位相差層のＲｅ（５５０）が２５〜１２５ｎｍであり、第４の位相差層のＲｔｈ（５５０）が１２．５〜６２．５ｎｍであることを特徴とする。第４の位相差層は、第１の位相差層と協働して、白とびの発生を抑制する。
第４の位相差層のＲｅ（５５０）は、４０〜１１０ｎｍが好ましく、５５〜９５ｎｍがより好ましい。第４の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、２０〜５５ｎｍが好ましく、２７．５〜４７．５ｎｍがより好ましい。このようなフィルムの一例として、いわゆる正のＡプレートが挙げられる。

上述のとおり、第１の位相差層と第４の位相差層は、協働して白とびを抑制する。従って、本発明の液晶表示装置では、第１の位相差層のＲｅ（５５０）と第４の位相差層のＲｅ（５５０）の差を小さくすることにより、白とびがより効果的に抑制される。第１の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値と第３の位相差層のＲｔｈの絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。
また、第１の位相差層のＲｔｈ（５５０）の絶対値と第４の位相差層のＲｔｈの絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。このような構成とすることにより、正面コントラストをより効果的に向上させることができる。

第４の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、上述の第１位相差層の記載を参酌できる。

第４の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第１の位相差層を形成することにより、第１の位相差層の厚さを０．１μｍ〜２．０μｍ程度とすることができる。

第４の位相差層の遅相軸（例えば、図４の第４の位相差層６中の矢印）は、第１の位相差層の遅相軸（例えば、図４の第１の位相差層２中の矢印）が互いに直交している構成となっている。

さらに、図４で示す実施形態では、第５の位相差層８を有している。第５の位相差層の詳細は、第１の実施形態の記載を参酌でき、好ましい範囲も同様である。

（第３の実施形態）
本発明の液晶表示装置の第３の実施形態は、その構成の一例を図３に示すものであり、少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、−１２．５〜−６２．５ｎｍであり、第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−１５０〜−５０ｎｍであり、第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであり、第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と直交しており、第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍであることを特徴とする。

第３の実施形態における第１の偏光膜、第２の偏光膜、液晶層は、それぞれ、第１の実施形態における第１の偏光膜、第２の偏光膜、液晶層と同義であり、好ましい範囲も同様である。

第１の位相差層は、第１の偏光膜と第２の位相差層の間に配置されるフィルムであって、第１の位相差層のＲｅ（５５０）が２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−６２．５〜−１２．５ｎｍであることを特徴とする。第１の位相差層は、第４の位相差層と協働して、白とびの発生を抑制する。
第１の位相差層のＲｅ（５５０）は、４０〜１１０ｎｍが好ましく、５５〜９５ｎｍがより好ましい。第１の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、−５５〜−２０ｎｍが好ましく、−４７．５〜−２７．５ｎｍがより好ましい。このようなフィルムの一例として、いわゆる負のＡプレートが挙げられる。
第１の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法（特に、円盤状液晶化合物を垂直配向させて形成する方法）や、レターデーション調整剤を配合する方法および／または延伸する方法によって製造できる。これらの詳細は、特開２０１２−０１８３９６号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

第２の位相差層は、第１の位相差層と液晶層の間に配置されるフィルムであって、第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−１５０〜−５０ｎｍであることを特徴とする。第２の位相差層は液晶層を補償するフィルムとして働く。従って、第２の位相差層と液晶層の間には位相差層を有さないことが好ましい。本発明では、第２の位相差層を第１の位相差層に近い側に配置することにより、第１の位相差層のＲｅを小さくでき、色味付きを抑制している。
第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、−１４０〜−６０ｎｍがより好ましく、−１３０〜−７０ｎｍがさらに好ましい。
第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値は５ｎｍ以下が好ましく、実質的に０ｎｍがより好ましい。このようなフィルムとして、正のＣプレートが例示される。

第２の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、第一の実施形態の第２位相差層の記載を参酌できる。
第２の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第２の位相差層を形成することにより、第２の位相差層の厚さを０．３μｍ〜２．５μｍ程度とすることができる。

第３の位相差層は、第４の位相差層と液晶層の間に配置されるフィルムであって、第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであることを特徴とする。第３の位相差層は第２の位相差層と協働して液晶層を補償するフィルムとして働く。従って、第３の位相差層と液晶層の間には位相差層を有さないことが好ましい。
第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、４１０〜４９０ｎｍがより好ましく、４２０〜４８０ｎｍがさらに好ましい。
第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値は５ｎｍ以下が好ましく、実質的に０ｎｍがより好ましい。このようなフィルムとして、負のＣプレートが例示される。

第３の実施形態の液晶表示装置では、第２の位相差層のＲｅ（５５０）と第３の位相差層のＲｅ（５５０）の差を小さくすることが好ましい。第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値と第３の位相差層のＲｔｈの絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。

第３の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、第一の実施形態の第２位相差層の記載を参酌できる。
第３の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第３の位相差層を形成することにより、第３の位相差層の厚さを３．０μｍ〜６．０μｍ程度とすることができる。

第４の位相差層は、第２の偏光膜と第３の位相差層の間に配置されるフィルムであって、第４の位相差層のＲｅ（５５０）が２５〜１２５ｎｍであり、第４の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−６２．５〜−１２．５ｎｍであることを特徴とする。
第４の位相差層のＲｅ（５５０）は、４０〜１１０ｎｍが好ましく、５５〜９５ｎｍがより好ましい。第４の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、−５５〜−２０ｎｍが好ましく、−４７．５〜−２７．５ｎｍがより好ましい。このようなフィルムの一例として、いわゆる負のＡプレートが挙げられる。

上述のとおり、第１の位相差層と第４の位相差層は、協働して白とびを抑制する。従って、本発明の液晶表示装置では、第１の位相差層のＲｅ（５５０）と第４の位相差層のＲｅ（５５０）の差を小さくすることにより、白とびがより効果的に抑制される。第１の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値と第４の位相差層のＲｔｈの絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。
また、第１の位相差層のＲｔｈ（５５０）の絶対値と第４の位相差層のＲｔｈの絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。このような構成とすることにより、正面コントラストをより効果的に向上させることができる。

第４の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法（特に、円盤状液晶化合物を垂直配向させて形成する方法）や、レターデーション調整剤を配合する方法および／または延伸する方法によって製造できる。これらの詳細は、特開２０１２−０１８３９６号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

さらに、本実施形態では、第５の位相差層を有している。これらの詳細は、第１の実施形態の記載を参酌でき、好ましい範囲も同様である。

（第４の実施形態）
本発明の液晶表示装置の第４の実施形態は、その構成の一例を図４に示すものであり、少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、−１２．５〜−６２．５ｎｍであり、第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−２００〜−１００ｎｍであり、第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであり、第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と直交しており、第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍである、ことを特徴とする。

第４の実施形態における第１の偏光膜、第２の偏光膜、液晶層は、それぞれ、第３の実施形態における第１の偏光膜、第２の偏光膜、液晶層と同義であり、好ましい範囲も同様である。
第４の実施形態における第１の位相差層および第４の位相差層は、それぞれ、第３の実施形態における第１の位相差層および第４の位相差層と同義であり、好ましい範囲も同様である。

第２の位相差層は、第１の位相差層と液晶層の間に配置されるフィルムであって、第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−２００〜−１００ｎｍであることを特徴とする。第２の位相差層は液晶層を補償するフィルムとして働く。従って、第２の位相差層と液晶層の間には位相差層を有さないことが好ましい。本発明では、第２の位相差層を第１の位相差層に近い側に配置することにより、第１の位相差層のＲｅを小さくでき、色味付きを抑制している。
第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、−１９０〜−１１０ｎｍがより好ましく、−１８０〜−１２０ｎｍがさらに好ましい。
第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値は５ｎｍ以下が好ましく、実質的に０ｎｍがより好ましい。このようなフィルムとして、正のＣプレートが例示される。

第２の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、第一の実施形態の第２位相差層の記載を参酌できる。
第２の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第２の位相差層を形成することにより、第２の位相差層の厚さを０．３μｍ〜２．５μｍ程度とすることができる。

第３の位相差層は、第４の位相差層と液晶層の間に配置されるフィルムであって、第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであることを特徴とする。第３の位相差層は第２の位相差層と協働して液晶層を補償するフィルムとして働く。従って、第３の位相差層と液晶層の間には位相差層を有さないことが好ましい。
第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）は、４１０〜４９０ｎｍがより好ましく、４２０〜４８０ｎｍがさらに好ましい。
第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値は５ｎｍ以下が好ましく、実質的に０ｎｍがより好ましい。このようなフィルムとして、負のＣプレートが例示される。

第４の実施形態の液晶表示装置では、第２の位相差層のＲｅ（５５０）と第３の位相差層のＲｅ（５５０）の差を小さくすることが好ましい。第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値と第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値との差は１０ｎｍ以下であり、５ｎｍ以下であることが好ましく、実質的に０ｎｍであることがより好ましい。

第３の位相差層の製造方法は特に定めるものではなく、上記のレターデーションを満たすように公知の技術を用いて製造される。一例としては、第一の実施形態の第３位相差層の記載を参酌できる。
第３の位相差層は、液晶表示装置の薄型化の観点からは、液晶化合物を含む光学異方性層を形成する方法が好ましい。液晶化合物を含む光学異方性層を用いて第３の位相差層を形成することにより、第３の位相差層の厚さを３．０μｍ〜６．０μｍ程度とすることができる。

さらに、本実施形態では、第５の位相差層８を有している。第５の位相差層の詳細は、第１の実施形態の記載を参酌でき、好ましい範囲も同様である。

本明細書において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーション（単位：ｎｍ）および厚さ方向のレターデーション（単位：ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。

測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基に、以下の数式（２１）および数式（２２）よりＲｔｈを算出することもできる。

上記式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、上記式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。

なお、本明細書において、ＲｅおよびＲｔｈについて特に測定波長が付記されていない場合は、測定波長５５０ｎｍであるものとする。また、特に測定環境について記載がない場合は、温度２５℃相対湿度６０％ＲＨの環境下で測定した値であるものとする。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。

＜セルロースアシレートフィルム００１の作製＞
＜＜セルロースアシレートの調製＞＞
全置換度２．９７（内訳：アセチル置換度０．４５、プロピオニル置換度２．５２）のセルロースアシレートを調製した。触媒としての硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）とカルボン酸無水物との混合物を−２０℃に冷却してからパルプ由来のセルロースに添加し、４０℃でアシル化を行った。この時、カルボン酸無水物の種類及びその量を調整することで、アシル基の種類及びその置換比を調整した。またアシル化後に４０℃で熟成を行って全置換度を調整した。

＜＜セルロースアシレート溶液の調製＞＞
１）セルロースアシレート
調製したセルロースアシレートを１２０℃に加熱して乾燥し、含水率を０．５質量％以下とした後、３０質量部を溶媒と混合させた。
２）溶媒
ジクロロメタン／メタノール／ブタノール（８１／１５／４質量部）を溶媒として用いた。なお、これらの溶媒の含水率は、いずれも０．２質量％以下であった。
３）添加剤
全ての溶液調製に際し、トリメチロールプロパントリアセテート０．９質量部を添加した。また、全ての溶液調製に際し、二酸化ケイ素微粒子（粒径２０ｎｍ、約０．２５質量部）を添加した。
また、下記ＵＶ吸収剤Ａを前記セルロースアシレート１００質量部に対し、１．２質量％添加し、下記Ｒｔｈ低減剤Ｂを前記セルロースアシレート１００質量部に対し、１１質量％入れた。
得られたセルロースアシレートフィルム００１のＲｅ（５５０）は−１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１ｎｍであり、光学的に等方的なフィルムが得られた。

４）膨潤、溶解
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環するステンレス製溶解タンクに、上記溶媒、添加剤を投入して撹拌、分散させながら、上記セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。
なお、攪拌には、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０⁴ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ²）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸及び中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０⁴ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ²）で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。

５）ろ過
上記で得られたセルロースアシレート溶液を、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過し、更に絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ＦＨ０２５、ポール社製）にて濾過してセルロースアシレート溶液を得た。

＜＜セルロースアシレートフィルムの作製＞＞
上記セルロースアシレート溶液を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは１５ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、更に１４０℃で１０分乾燥して、セルロースアシレートフィルム００１を得た（膜厚８１μｍ）。得られたセルロースアシレートフィルムのＲｅは−１ｎｍ、Ｒｔｈは−１ｎｍであった。

＜製法１：第３及び第４の実施形態における第１及び第４の位相差層の作製＞
以下の方法に従って、２ドメイン（２Ｄ）の液晶層を用いた実施例および比較例の液晶表示装置に用いた第４の位相差層用フィルムを作製した。
＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
セルロースアシレートフィルム００１を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルムを作製した。

アルカリ溶液組成
───────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
───────────────────────────────────

＜＜配向膜の形成＞＞
上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアセテートフィルムに、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。
配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、ＢＡＳＦ製） ０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

変性ポリビニルアルコール

＜＜ディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層の形成＞＞
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸は時計回りに４５°の方向とした。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液（Ａ）を上記作製した配向膜上にワイヤーバーを用いて塗布した。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、８０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成し、光学フィルムを得た。光学異方性層の膜厚は２．０μｍであった。

光学異方性層塗布液（Ａ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶化合物 １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、ＢＡＳＦ製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のピリジニウム塩 １質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．４質量部
メチルエチルケトン ２５２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

作製した光学フィルムの評価結果を以下に示す。なお、遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と平行であった。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は時計回りに４５°の方向であった。また、Ｒｅ（５５０）およびＲｔｈ(５５０)が下記表の値となるように光学異方性層の膜厚を調整して、それぞれの第１、第４の位相差層用フィルムを作製した。

＜製法２：第２位相差層のディスコティック液晶化合物層を有するフィルム）の作製＞
以下の方法に従って、本願実施例および比較例で用いた第２の位相差層用のフィルムを作製した。
上記で得られたセルロースアシレートフィルム００１について、上記第３の位相差層の作製と同様にアルカリ鹸化処理を行った。

＜＜配向膜の形成＞＞
特開２００８−４０３０９号公報の実施例記載の方法を参考に、セルロースアシレートフィルム００１上に光学異方性層の膜厚を調整して、第２の位相差層用のフィルムを作製した。

＜＜ディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層の形成＞＞
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸は時計回りに０°の方向とした。

下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む塗布液（Ｃ）を上記作製した配向膜上に＃２．７のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／分とした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１００℃の温風で３０秒、更に１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にて紫外線照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成し、光学フィルム（負のＣ−プレート）を得た。Ｒｅ及びＲｔｈを測定した。

光学異方性層塗布液（Ｃ）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記のディスコティック液晶性化合物 ９１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、ＢＡＳＦ社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
メチルエチルケトン １９５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――――

ディスコティック液晶性化合物

また、Ｒｔｈ(５５０)が下記表の値となるように光学異方性層の膜厚を調整して、それぞれの第２の位相差層用フィルムを作製した。

＜製法３：第３の位相差層の作製＞
特許５０３６２０９を参考に、上記で作製したセルロースアシレートフィルム００１上に棒状液晶の屈折率最大方向が、フィルムの法線方向に対して実質的に垂直になるように配向させて、実施例記載のＲｔｈになるように、膜厚を調整した。

＜製法４：第１及び第２の実施形態における第１及び第２の位相差層の作製（棒状液晶化合物層を有するフィルム）の作製＞
以下の方法に従って、２ドメイン（２Ｄ）の液晶層を用いた実施例および比較例の液晶表示装置に用いた第１の位相差層用フィルムを作製した。
上記で作製したセルロースアシレートフィルム００１の表面をアルカリ溶液でケン化後、このフィルム上に下記の組成の配向膜塗布液をワイヤーバーコーターで２０ｍｌ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥し、膜を形成した。次に、形成した膜にセルロースアシレートフィルム００１の長手方向に対して、４５°方向にラビング処理を施して配向膜を形成した。

配向膜塗布液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

次に、下記の組成の光学異方性層塗布液を、ワイヤーバーで塗布した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物 １．８ｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ０．２ｇ
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、ＢＡＳＦ社製） ０．０６ｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．０２ｇ
メチルエチルケトン ３．９ｇ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――

これを１２５℃の恒温槽中で３分間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。次に、１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、３０秒間紫外線照射し棒状液晶性化合物を架橋した。紫外線硬化時の温度を８０℃として、光学異方性層を得た。光学異方性層の厚さは、２．０μｍであった。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学フィルム（＋Ａ−プレート）を製作した。

また、Ｒｅ（５５０）およびＲｔｈ(５５０)が下記表の値となるように光学異方性層の膜厚を調整して、それぞれの第１の位相差層用フィルムを作製した。

＜製法５：第４の位相差層（パターンリターダー）の作製＞
以下の方法に従って、４ドメイン（４Ｄ）の液晶層を用いた実施例および比較例の液晶表示装置に用いた第４の位相差層用フィルムを作製した。
＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
セルロースアシレートフィルム００１を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体を作製した。

（アルカリ溶液組成）
・水酸化カリウム ４．７質量部
・水 １５．８質量部
・イソプロパノール ６３．７質量部
・界面活性剤 ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
・プロピレングリコール １４．８質量部

＜＜ラビング配向膜の形成＞＞
上記作製した支持体の、鹸化処理を施した面に、下記の組成のラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。次に、透過部の横ストライプ幅１００μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅３００μｍのストライプマスクをラビング配向膜上に配置し、室温空気下にて、ＵＶ−Ｃ領域における照度２．５ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を４秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第１の位相差領域用配向層を形成した。その後に、５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。

配向膜形成用塗布液の組成
・配向膜用ポリマー材料（ポリビニルアルコールＰＶＡ１０３、クラレ社製）
３．９質量部
・光酸発生剤Ｓ−２ ０．１質量部
・メタノール ３６質量部
・水 ６０質量部

＜＜パターン光学異方性層の形成＞＞
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液とし、バーコーターを用いて塗布量８ｍｌ／ｍ²で塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で２分間乾燥して液晶相状態とし均一配向させた後、１００℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層を形成した。マスク露光部分（第１の位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶（ＤＬＣ）が垂直配向しており、未露光部分（第２の位相差領域）は直交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚は、１．６μｍであった。

光学異方性層用組成
・ディスコティック液晶Ｅ−１ １００質量部
・配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
・空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．４質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）３．０質量部
・増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬社製） １．０質量部
・メチルエチルケトン ４００質量部

形成されたパターン光学フィルムの第１の位相差領域及び第２の位相差領域をそれぞれＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ Ｖ）により分析したところ、第１の位相差領域と第２の位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤Ｓ−２の存在比（モル比）が８対９２であり、第１の位相差領域ではＳ−２がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第１の位相差領域の空気界面に、II−１のカチオン及び光酸発生剤Ｓ−２から発生した酸ＨＢＦ₄のアニオンＢＦ₄ ^-が存在していることが確認された。第２の位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、II−１のカチオン及びＢｒ−が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、II−１のカチオンは９３対７、ＢＦ₄ ^-は９０対１０であった。このことから、第２の位相差領域中、配向膜界面配向剤(II−１)は配向膜界面に偏在しているが、第１の位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、及び第１の位相差領域においては、発生した酸ＨＢＦ₄とII−１がアニオン交換することによってII−１カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。
また、Ｒｅ（５５０）およびＲｔｈ(５５０)が下記表の値となるように光学異方性層の膜厚を調整して、それぞれの第４の位相差層用フィルムを作製した。

＜製法６：第１の位相差層（パターンリターダー）の作製＞
以下の方法に従って、２ドメイン（２Ｄ）の液晶層を用いた実施例および比較例の液晶表示装置に用いた第１の位相差層用フィルムを作製した。
上記第４位相差層（パターンリターダー）の作製と同様に行って形成した配向膜の表面に、光学異方性層を特表２０１２−５１７０２４号公報の実施例に記載された方法を利用し、棒状液晶（ＲＬＣ）としてＢＡＳＦ社製のＬＣ２４２を用いて第１及び第２位相差領域を有すように形成した。
また、Ｒｅ（５５０）およびＲｔｈ(５５０)が下記表の値となるように光学異方性層の膜厚を調整して、それぞれの第１の位相差層用フィルムを作製した。

＜第５の位相差層（光学補償フィルム）の作製＞
特開２０１２−８５４８号公報の実施例に記載された方法を利用し、表記載の第４の位相差層を作製した。

＜第１の実施形態の液晶表示装置の作製（実施例１Ａ〜２０Ａ、比較例１Ａ〜１７Ａ）＞
＜＜偏光膜＞＞
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて厚み２０μｍの偏光膜を作製した。

ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、図３および下記表に示す層構成となるように、偏光子の片側に第１位相差層、第２位相差層、第３位相差層、第４位相差層、および第５位相差層のいずれかを鹸化処理貼りあわせた。７０℃で１０分以上乾燥し、他方の表面に鹸化処理を行った市販のセルロースアセテートフィルム（富士フイルム製、ＴＤ８０）を同様に貼合して積層体を得た。この様にして、偏光板を作製した。

＜＜ＶＡモード液晶セルの作製＞＞
基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のレターデーション（即ち、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を液晶層の厚さｄを調整して下記表に示す値とした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。この様にしてＶＡモード液晶セルを作製した。
なお、作製した液晶表示装置のうち、実施例１９Ａは、第５の位相差層を第２の偏光膜と第４の位相差層との間に設け、実施例２０Ａは、第５の位相差層を設けなかった。

上記表において、２Ｄは液晶セルの画素が２ドメインであることを、４Ｄは４ドメインであることを、８Ｄは８ドメインであることをそれぞれ示している。
また、遅相軸および吸収軸は、第１の偏光膜を０°とし、視認側から見たときに、反時計回りを正の方向とした角度である。

＜第２の実施形態の液晶表示装置の作製（実施例１Ｂ〜２０Ｂ、比較例１Ｂ〜１７Ｂ）＞
第１の実施形態の液晶表示装置の作製（実施例１Ａ〜２０Ａ、比較例１Ａ〜１７Ａ）において、図４および下記表に示す層構成となるように各位相差層を貼り合せた以外は第１の実施形態の液晶表示装置（実施例１Ａ〜２０Ａ、比較例１Ａ〜１７Ａ）と同様にして作製した。
なお、作製した液晶表示装置のうち、実施例１９Ｂは、第５の位相差層を第２の偏光膜と第４の位相差層との間に設け、実施例２０Ｂは、第５の位相差層を設けなかった。

上記表において、２Ｄは液晶セルの画素が２ドメインであることを、４Ｄは４ドメインであることを、８Ｄは８ドメインであることをそれぞれ示している。
また、遅相軸および吸収軸は、第１の偏光膜を０°とし、視認側から見たときに、反時計回りを正の方向とした角度である。

＜第３の実施形態の液晶表示装置の作製（実施例１Ｃ〜２０Ｃ、比較例１Ｃ〜１７Ｃ）＞
第１の実施形態の液晶表示装置の作製（実施例１Ａ〜２０Ａ、比較例１Ａ〜１７Ａ）において、図３および下記表に示す層構成となるように各位相差層を貼り合せた以外は第１の実施形態の液晶表示装置（実施例１Ａ〜２０Ａ、比較例１Ａ〜１７Ａ）と同様にして作製した。
なお、作製した液晶表示装置のうち、実施例１９Ｃは、第５の位相差層を第２の偏光膜と第４の位相差層との間に設け、実施例２０Ｃは、第５の位相差層を設けなかった。

上記表において、２Ｄは液晶セルの画素が２ドメインであることを、４Ｄは４ドメインであることを、８Ｄは８ドメインであることをそれぞれ示している。
また、遅相軸および吸収軸は、第１の偏光膜を０°とし、視認側から見たときに、反時計回りを正の方向とした角度である。

＜第４の実施形態の液晶表示装置の作製（実施例１Ｄ〜２０Ｄ、比較例１Ｄ〜１７Ｄ）＞
第１の実施形態の液晶表示装置の作製（実施例１Ａ〜２０Ａ、比較例１Ａ〜１７Ａ）において、図４および下記表に示す層構成となるように各位相差層を貼り合せた以外は第１の実施形態の液晶表示装置（実施例１Ａ〜２０Ａ、比較例１Ａ〜１７Ａ）と同様にして作製した。
なお、作製した液晶表示装置のうち、実施例１９Ｄは、第５の位相差層を第２の偏光膜と第４の位相差層との間に設け、実施例２０Ｄは、第５の位相差層を設けなかった。

上記表において、２Ｄは液晶セルの画素が２ドメインであることを、４Ｄは４ドメインであることを、８Ｄは８ドメインであることをそれぞれ示している。
また、遅相軸および吸収軸は、第１の偏光膜を０°とし、視認側から見たときに、反時計回りを正の方向とした角度である。

＜評価＞
得られた液晶表示装置について、測定機“ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ ＸＬ８８”（ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、以下の通り評価した。

＜＜白とび＞＞
正面のγカーブを２．２に設定（１００×（各信号値／信号値の最大値）の2.2乗が、各信号値の規格化輝度(白を１００としたときの値)となるように設定する。）し、信号値１２８での輝度と白表示での輝度を測定した。次に、正面と上下左右方向(方位角０°、９０°、１８０°、２７０°)４方位の極角６０°における、これらの比(信号値１２８輝度/白輝度)を算出した。さらに、正面の比と上下左右方向の比の平均値との差を算出し、以下の区分に従って評価した。
Ａ：差が０以上、０．０５未満
Ｂ：差が０．０５以上、０．１０未満
Ｃ：差が０．１０以上、０．１５未満
Ｄ：差が０．１５以上

＜＜色味付き＞＞
白輝度の色味において、正面と右方向(方位角０°)の極角６０°における差をΔu’v’を下記式を用いて算出し、以下の区分に従って評価した。
(Δu’v’ = √(u’＿右 - u’＿正面)^2 + (v’＿右 - v’＿正面)^2)
Ａ：Δu’v’が０．００５未満
Ｂ：Δu’v’が０．００５以上、０．０１未満
Ｃ：Δu’v’が０．０１以上

＜＜視野角コントラスト＞＞
白表示での輝度及び黒表示での輝度を測定し、斜め方向（方位角４５°、１３５°、２２５°、３１５°）４方位の極角６０°におけるコントラスト比（白輝度／黒輝度）の平均値を算出し、以下の区分に従って評価した。
Ａ：コントラスト比の平均値が１０以上
Ｂ：コントラスト比の平均値が５以上、１０未満
Ｃ：コントラスト比の平均値が５未満

＜＜バックライト（ＢＬ）光の利用効率＞＞
白表示での輝度およびバックライトのみ輝度を測定し、その比(白輝度/バックライト輝度)を算出した。次に、比較例１との比(実施例もしくは比較例の比/比較例１の比)算出し、以下の区分に従って評価した。
Ａ：比が１０５以上
Ｂ：比が１０２．５以上、１０５未満
Ｃ：比が１００以上、１０２．５未満

＜＜正面コントラスト（ＣＲ）＞＞
白表示での輝度及び黒表示での輝度を測定し、正面におけるコントラスト比（白輝度／黒輝度）を算出した。次に、比較例１の正面コントラストとの比(実施例もしくは比較例の正面コントラスト/比較例１の正面コントラスト)を算出し、以下の区分に従って評価した。
Ａ：比が９８以上
Ｂ：比が９０以上、９８未満
Ｃ：比が９０未満

これらの結果を下記表に示す。

上記表から明らかなとおり、本発明の液晶表示装置では、高い視野角コントラストおよび高い正面コントラストを維持しながら、色づきの発生および白とびが抑制された。これに対し、比較例に液晶表示装置には、コントラストが劣ったり、色付きが発生したり、白とびが発生してしまった。

１、１１ 第１の偏光膜
２、１２ 第１の位相差層
３、１３ 第２の位相差層
４、１４ 液晶層
５、１５ 第３の位相差層
６、１６ 第４の位相差層
７、１７ 第２の偏光膜
８ 第５の位相差層

Claims (7)

1. 少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、
   液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、
   第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、１２．５〜６２．５ｎｍであり、
   第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−２００〜−１００ｎｍであり、
   第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が３００〜４００ｎｍであり、
   第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、
   第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と平行であり、
   第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、
   液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍである、液晶表示装置。
2. 少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、
   液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、
   第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、１２．５〜６２．５ｎｍであり、
   第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−３００〜−２００ｎｍであり、
   第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであり、
   第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、
   第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と直交しており、
   第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、
   液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍである、液晶表示装置。
3. 少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、
   液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、
   第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、−１２．５〜−６２．５ｎｍであり、
   第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−１５０〜−５０ｎｍであり、
   第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであり、
   第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、
   第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と平行であり、
   第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、
   液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍである、液晶表示装置。
4. 少なくとも、第１の偏光膜、第１の位相差層、第２の位相差層、液晶層、第３の位相差層、第４の位相差層および第２の偏光膜を該順に有し、
   液晶層は４ドメイン以下の電圧無印加時垂直配向モード（ＶＡモード）であり、
   第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、それぞれ、２５〜１２５ｎｍであり、第１の位相差層および第４の位相差層の波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）が、それぞれ、−１２．５〜−６２．５ｎｍであり、
   第２の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第２の位相差層のＲｔｈ（５５０）が−２００〜−１００ｎｍであり、
   第３の位相差層のＲｅ（５５０）の絶対値が１０ｎｍ以下であり、第３の位相差層のＲｔｈ（５５０）が４００〜５００ｎｍであり、
   第１の偏光膜の吸収軸と、第２の偏光膜の吸収軸とは、互いに直交しており、
   第１の位相差層の遅相軸は、第１の偏光膜の吸収軸とのなす角度が４５°であり、かつ電圧印加時の液晶層の面内遅相軸と直交しており、
   第１の位相差層の遅相軸と第４の位相差層の遅相軸とは、互いに直交しており、
   液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが２５０〜４５０ｎｍである、液晶表示装置。
5. 第１の位相差層、第２の位相差層、第３の位相差層、および第４の位相差層の少なくとも１つが、液晶化合物を含む光学異方性層を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
6. 第１の偏光膜と第１の位相差層の間、または、第２の偏光膜と第４の位相差層の間に、第５の位相差層を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
7. 第５の位相差層が、Ｒｅ（５５０）が７０〜１４０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）が４０〜１１０ｎｍであるフィルムと、Ｒｅ（５５０）は１０ｎｍ以下であり、Ｒｔｈ（５５０）は−１８０〜−９０ｎｍであるフィルムとの積層フィルムである、請求項６に記載の液晶表示装置。

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