JP5934939B2 - プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
環状のフレームと保持シートからなる搬送キャリアに保持された基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、
減圧可能な内部空間を有するチャンバと、
前記チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ源と、
前記チャンバ内に設けられて前記搬送キャリアが載置されるステージと、
前記ステージの上方に配置されて前記保持シートと前記フレームとを覆い、厚み方向に貫通するように形成された窓部を有するカバーと、
前記ステージに対する前記カバーの相対的な位置を、前記ステージから離れて前記ステージに対する前記搬送キャリアの載せ降ろしを許容する第1の位置と、前記カバーが前記ステージに載置された前記搬送キャリアの前記保持シートと前記フレームとを覆い、前記窓部が前記保持シートに保持された前記基板を露出させる第2の位置とに変更する駆動機構と、
を備え、
前記第2の位置は、前記カバーが、前記保持シート、前記フレーム、及び、前記基板に接触しない位置であり、
前記カバーの下面は、少なくとも、前記フレームの上面に延びる天井面と、この天井面と連続して設けられ、前記フレームの内径側に露出する保持シートの上面に対して徐々に接近するように傾斜する傾斜面と、を備えることを特徴とするプラズマ処理装置である。
2 ウエハ(基板)
2a 表面
2b 裏面
2c 外周領域
3 マスク
5 搬送キャリア
6 保持シート
6a 粘着面
6b 非粘着面
6c 円形領域
6d 環状領域
7 フレーム
11 チャンバ
11a ガス導入口
11b 排気口
12 誘電体壁
13 アンテナ(プラズマ源)
14A,14B 高周波電源
15 処理室
16 ステージ部
17 プロセスガス源
18 アッシングガス源
19 減圧機構
21 電極部
21a 上端面
21b 冷媒流路
22A 第1外装部
22B 第2外装部
22a 上端面
23 載置面
24 冷却装置
25 冷媒循環装置
26 静電吸着用電極
27 直流電源
31 カバー
32a 上面
32b 下面
32c テーパ状窪み
33 窓部
33a 内周縁部
36a 載置面
36b 天井面
36c 傾斜面
36d 対向面
37A,37B 駆動ロッド
38 駆動機構
40 制御装置
Claims (6)
- 環状のフレームと保持シートからなる搬送キャリアに保持された基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、
減圧可能な内部空間を有するチャンバと、
前記チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ源と、
前記チャンバ内に設けられて前記搬送キャリアが載置されるステージと、
前記ステージの上方に配置されて前記保持シートと前記フレームとを覆い、厚み方向に貫通するように形成された窓部を有するカバーと、
前記ステージに対する前記カバーの相対的な位置を、前記ステージから離れて前記ステージに対する前記搬送キャリアの載せ降ろしを許容する第1の位置と、前記カバーが前記ステージに載置された前記搬送キャリアの前記保持シートと前記フレームとを覆い、前記窓部が前記保持シートに保持された前記基板を露出させる第2の位置とに変更する駆動機構と、
を備え、
前記第2の位置は、前記カバーが、前記保持シート、前記フレーム、及び、前記基板に接触しない位置であり、
前記カバーの下面は、少なくとも、前記フレームの上面に延びる天井面と、この天井面と連続して設けられ、前記フレームの内径側に露出する保持シートの上面に対して徐々に接近するように傾斜する傾斜面と、を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記カバーは、前記天井面と前記フレームの上面との間隔が、前記窓部を構成する内周縁下部と前記保持シートとの間隔よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記カバーは、前記天井面よりも内径側の領域で、前記窓部に向かって徐々に前記搬送キャリアに接近する上面を備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ処理装置。
- 前記カバーの前記下面は、前記傾斜面に連続し、前記搬送キャリアに最も接近して平行に延びる対向面を備えたことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 前記カバーの窓部は、前記基板の外縁領域よりも内側の領域を露出させることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。
- 環状のフレームと保持シートからなる搬送キャリアに保持された基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理方法であって、
減圧可能な内部空間を有するチャンバ内のステージに搬送キャリアを載置し、
厚み方向に貫通するように形成された窓部を有するカバーによって前記ステージに載置された前記搬送キャリアの前記保持シートと前記フレームの上方を覆うと共に、前記窓部から前記保持シート上の基板を露出させ、
前記カバーが前記保持シートと前記フレームを覆っている状態で、前記内部空間にプラズマを発生させて、前記窓部から露出する基板に対してプラズマ処理を行い、
前記カバーの下面は、少なくとも、前記フレームの上面に延びる天井面と、この天井面に連続して設けられ、前記フレームの内径側に露出する保持シートの上面に対して徐々に接近するように傾斜する傾斜面とを備え、前記カバーは、少なくともプラズマ処理が行われている最中は、前記保持シート、前記フレーム、及び、前記基板に接触しないことを特徴とするプラズマ処理方法。
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