JP5869198B2 - 光学積層体 - Google Patents
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Description
そこで、前記のような延伸加工性、耐久性及び光学均一性を改善するための技術が、特許文献2において提案されている。
本発明は上記の課題に鑑みて創案されたもので、厚みが薄く、耐久性及び光学均一性に優れる光学積層体を提供することを目的とする。
すなわち、本発明は以下の〔1〕及び〔2〕を要旨とする。
|前記A層の正面レターデーション|>|前記B層の正面レターデーション|であり、
前記A層及び前記B層の総厚が25μm以上60μm以下であり、
前記A層及び前記B層の総厚に対する前記A層の厚みの割合が40%以上80%未満であり、
総延伸倍率が2.3倍以上4.7倍以下の延伸処理を経て得られる、光学積層体。
〔2〕 前記延伸処理が同時二軸延伸処理である、〔1〕記載の光学積層体。
液晶表示装置の光学補償手段等に使用される光学積層体では、要求される光学特性(面内レタデーションRe、Nz係数等)を有するようにしながら光学積層体の総厚を薄くすることが求められている。そこで、本発明者の検討によれば光学積層体中における固有複屈折が負の樹脂の層(A層)の割合を所定値以上にすると、光学積層体の総厚を薄くしても光学均一性の低下を抑制できることが判明した。しかしながら、A層の割合を大きくすると、従来の技術常識によれば、光学積層体が脆くなり耐久性が低下するおそれがあった。そこで本発明者が更に検討したところ、光学積層体にレターデーションを発現させるために行なう延伸処理において総延伸倍率を従来よりも大きくすると、光学積層体の強度が向上して耐久性の低下を抑制できることが見出された。
すなわち、本発明の光学積層体は、固有複屈折値が負の樹脂AからなるA層と、透明な樹脂BからなるB層とを備える光学積層体であって、(1)|A層の正面レターデーション|>|B層の正面レターデーション|であり、(2)A層及びB層の総厚が薄く、(3)A層及びB層の総厚に占めるA層の厚みの割合が大きく、(4)総延伸倍率が大きい延伸処理を経て得られるものである。これにより、厚みが薄く、耐久性及び光学均一性に優れる光学積層体を実現できる。
本発明の光学積層体は、固有複屈折値が負の樹脂AからなるA層と、透明な樹脂BからなるB層とを備える。
A層は、固有複屈折値が負の樹脂Aからなる層である。固有複屈折値が負の樹脂Aとは、分子の配向方向の屈折率が他の方向の屈折率よりも小さい樹脂のことであり、例えば、それを用いた成形体を延伸した場合に延伸方向の屈折率が最も小さくなる樹脂である。固有複屈折値(Δn0)とは、下記式[1]により算出される値である。
Δn0=(2π/9)(Nd/M){(na2+2)2/na}(α1−α2) [1]
(式[1]において、πは円周率、Nはアボガドロ数、dは密度、Mは分子量、naは平均屈折率、α1は高分子の分子鎖軸方向の分極率、α2は高分子の分子鎖軸と垂直な方向の分極率を表す。)
なお、これらの重合体は1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
また、A層を構成する樹脂Aのビカット軟化温度をTeg(a)(℃)、B層を構成する樹脂Bのビカット軟化温度をTeg(b)(℃)とした場合、Teg(a)>Teg(b)+15℃であることが好ましく、Teg(a)>Teg(b)+20℃であることがより好ましく、Teg(a)>Teg(b)+25℃であることがさらに好ましい。また、一般的には、Teg(a)<Teg(b)+50℃である。
固有複屈折値が負の樹脂Aからなる未延伸の樹脂層(以下、適宜「a層」という。)と、透明な樹脂Bからなる未延伸の樹脂層(以下、適宜「b層」という。)が積層された未延伸の積層体cを共延伸するとき、温度Tg(a)(℃)付近で延伸すると、樹脂AからなるA層の複屈折特性を十分かつ均一に発現させることができる。このとき、樹脂Aのガラス転移温度Tg(a)及びビカット軟化温度Teg(a)を前記のように樹脂Bのガラス転移温度Tg(b)及びビカット軟化温度Teg(b)よりも高くしておくと、樹脂Bからなる未延伸の樹脂層(b層)は、そのガラス転移温度Tg(b)又はビカット軟化温度Teg(b)よりも高い温度で延伸されることになるので、高分子はほとんど配向せず、実質的に無配向の状態にできる。
また、A層及びB層の総厚に対するA層の厚みの割合の上限は、通常80%未満である。A層を厚くしすぎると、脆くなりハンドリングが困難となる傾向がある。
ここで、本発明の光学積層体が備えるA層及びB層の層数は1層でもよく、2層以上でもよい。A層及びB層を2層以上備える場合、A層及びB層それぞれの厚みの合計により、前記のA層及びB層の総厚に対するA層の厚みの割合を算出するものとする。
なお、本発明の光学積層体における各層の厚みは、光学積層体をエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム(例えば、大和光機工業(株)、RUB−2100)を用いて0.05μm厚にスライスし、透過型電子顕微鏡を用いて断面を観察して測定すればよい。
なお、正面レターデーションReとは、面内の遅相軸方向の屈折率nxと、面内で前記遅相軸に直交する方向の屈折率nyとの差に、フィルム(又は各層)の平均厚みDを乗算した値、すなわち、Re=(nx−ny)×Dである。また、A層及びB層が2層以上存在する場合、前記のA層の正面レターデーションRe(A)及びB層の正面レターデーションRe(B)とは、各A層及びB層の正面レターデーションの合計を指す。さらに、レターデーションの評価は、特に断らない限り、波長590nmの光に対して行なうものとする。
B層は、透明な樹脂Bからなる層である。ここで樹脂が透明であるとは、厚み1mmの試験片を形成して測定した全光線透過率が、通常70%以上、好ましくは80%以上、より好ましくは90%以上である樹脂をいう。
なお、これらの重合体は1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
具体的なB層の正面レターデーションRe(B)の範囲を挙げると、例えば波長400〜700nmの光で測定したB層の正面レターデーションRe(B)(nm)は、好ましくは0nm以上15nm以下である。
本発明の光学積層体において、A層及びB層がそれぞれ少なくとも1層ずつ存在していれば、A層及びB層の層数及び順番に制限は無い。本発明の光学積層体における層構成の好ましい例を挙げると、A層及びB層がこの順で存在する層構成;B層、A層及びB層がこの順で存在する層構成、などが挙げられる。また、A層が2層以上存在する場合は各A層は同じでも異なっていても良く、B層が2層以上存在する場合は各B層は同じでも異なっていてもよい。
本発明の光学積層体は、A層及びB層の総厚(即ち、A層の厚みとB層の厚みの総合計)が、通常60μm以下であり、50μm以下や、40μm以下とすることもできる。本発明の光学積層体はこのように薄い総厚でありながらも優れた耐久性及び光学均一性を有するという顕著な利点を有する。また、総厚が薄いため、本発明の光学積層体は反り等の変形を生じにくい。したがって、本発明の光学積層体を光学用パネルに設けた場合でも、当該光学用パネルにおいて反りを生じ難くできる。さらに、総厚が薄いことにより、光学用パネルの軽量化及び薄膜化が可能であり、材料を削減できるので製造コストを下げることが可能である。
前記のA層及びB層の総厚の下限は、本発明の光学積層体の強度をハンドリング性を損なわない程度に保つ観点から、通常25μm以上、好ましくは30μm以上、より好ましくは35μm以上である。
なお、ここで長尺とは、フィルムの幅に対して、少なくとも5倍程度以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻回されて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。
本発明の光学積層体のNz係数は、光学補償機能を発揮させる観点から、通常−4.5以上であり、通常−0.5以下である。
さらに、本発明の光学積層体において、Nz係数のバラツキ(変動幅)は、好ましくは0.7以下、より好ましくは0.5以下、特に好ましくは0.3以下である。
ここでNz係数は、厚み方向の屈折率をnz、厚み方向に垂直な面内において、互いに直交する2方向の屈折率をnx及びny(ただし、nx>ny)として、Nz=(nx−nz)/(nx−ny)で表される係数である。光学積層体のNz係数は、自動複屈折計を用いて、波長590nmで、光学積層体の幅方向に一定間隔(例えば、100mm間隔)で測定を行う。この測定を光学積層体の流れ方向に一定間隔(例えば、100mm間隔)で所定の長さ(例えば、1000mm)にわたって行ない、全測定結果の平均値をNz係数とする。また、Nz係数のバラツキはNz係数の最大値と最小値の差とする。
また、本発明の光学積層体の配向角θの平均値の具体的な範囲は、例えば幅方向に平行な遅相軸を有する光学積層体の場合、通常0.6°以下、好ましくは0.4°以下、より好ましくは0.2°以下である。
ここで配向角とは、光学積層体の幅方向と、光学積層体の面内の遅相軸とがなす角である。光学積層体の配向角θは、オンライン位相差計(王子計測機器社製:KOBRA−WIST/2RT)を用い、オンラインで測定間隔は幅方向25mm間隔で、ラインスピードは150mm/秒で、フィルム幅方向に20回測定を行い、全測定結果を平均して配向角の平均値とする。なお、オンライン測定開始前、測定終了時でサンプリングし、オフライン測定を行い、オンライン位相差計の絶対値(平均値)の補正を行う。オフライン測定は、光学積層体の幅方向に一定間隔(例えば、100mm間隔)で、偏光顕微鏡を用いて光学積層体の面内の遅相軸を測定し、光学積層体の幅方向と面内の遅相軸とがなす角度を測定する。オンライン測定開始前、測定終了時でサンプリングし測定した2つの測定結果(オンライン測定前、測定終了時)を平均して配向角の平均値(オフライン)とする。オンライン平均値はオフラインの平均値と合うように補正する。また、配向角θのバラツキは、各測定結果の最大値から最小値を差し引いた値とする。
また、本発明の光学積層体の正面レターデーションRe(nm)の平均値は、所望の光学補償機能を発現させる観点から、通常30nm以上であり、通常150nm以下、好ましくは80nm以下である。
前記の光学積層体の正面レターデーションReは、オンライン位相差計(王子計測機器社製:KOBRA−WIST/2RT)を用い、オンラインで測定間隔は幅方向25mm間隔で、ラインスピードは150mm/秒で、フィルム幅方向に20回測定を行い、全測定結果を平均してReの平均値とする。なお、オンライン測定開始前、測定終了時でサンプリングし、オフライン測定を行い、オンライン位相差計の絶対値(平均値)の補正を行う。オフライン測定は、光学積層体の幅方向に一定間隔(例えば、100mm間隔)で、自動複屈折計を用いて波長590nmで測定する。オンライン測定開始前、測定終了時でサンプリングし測定した2つの測定結果(オンライン測定前、測定終了時)を平均してReの平均値(オフライン)とする。オンライン平均値はオフラインの平均値と合うように補正する。また、正面レターデーションReのバラツキは、各測定結果の最大値から最小値を差し引いた値とする。
本発明の光学積層体では、必要に応じて、A層及びB層の表面を粗面化してもよい。粗面化する手段に特に制限はなく、例えば、コロナ放電処理、エンボス加工、サンドブラスト、エッチング、微粒子の付着などが挙げられる。表面を粗面化することにより、接着性を向上させることができる。
接着剤層は、通常、A層とB層との間に設けられる。接着剤層は、光学積層体を構成するA層及びB層のそれぞれに対して親和性があるものから形成することが好ましい。接着剤層を形成する接着剤としては、例えば、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体等のエチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体;エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−スチレン共重合体等のエチレン系共重合体や他のオレフィン系重合体などが挙げられる。また、これらの(共)重合体を酸化、ケン化、塩素化、クロルスルホン化などにより変性した変性物を用いることもできる。接着剤層の厚みは、好ましくは1〜50μm、さらに好ましくは2〜30μmである。ただし、本発明の光学積層体が接着剤層を備える場合は、接着剤のガラス転移温度又は軟化点Tg(d)は、樹脂Aのガラス転移温度Tg(a)及び樹脂Bのガラス転移温度Tg(b)よりも低いことが好ましく、樹脂Aのガラス転移温度Tg(a)及び樹脂Bのガラス転移温度Tg(b)よりも15℃以上低いことがさらに好ましい。
本発明の光学積層体は、樹脂Aからなるa層と、樹脂Bからなるb層とを備える未延伸の積層体cを用意する工程と、この未延伸の積層体cに延伸処理を施す工程とを経て得られる。
未延伸の積層体cを得る方法としては、例えば、共押出Tダイ法、共押出インフレーション法、共押出ラミネーション法等の共押出による成形方法;ドライラミネーション等のフィルムラミネーション成形方法;基材樹脂フィルムに対して樹脂溶液をコーティングするようなコーティング成形方法などの公知の方法が適宜できる。中でも、製造効率や、フィルム中に溶剤などの揮発性成分を残留させないという観点から、共押出による成形方法が好ましい。押出し温度は、使用するA層を構成する樹脂A、B層を構成する樹脂B及び必要に応じて用いられる接着剤の種類に応じて適宜選択され得る。通常、未延伸の積層体cは長尺の積層フィルムであり、その幅は1000mm以上である。
未延伸の積層体cを用意した後、その未延伸の積層体cに延伸処理を施す。延伸処理により、未延伸の積層体cにおいて所望の光学特性が発現し、本発明の光学積層体が得られる。ただし前記の延伸処理においては、総延伸倍率を、通常2.3倍以上、好ましくは2.7倍以上、より好ましくは3.3倍以上にする。ここで、総延伸倍率とは、1方向のみに延伸する延伸処理においては当該一方向への延伸倍率の事をいい、2方向以上の延伸方向に延伸する延伸処理においては各延伸方向への延伸倍率の積のことをいう。このように総延伸倍率を大きくすることにより、得られる本発明の光学積層体の強度を強くして破損等を抑制できる。
前記の総延伸倍率の上限は、特に限定されないが、用いる樹脂の歩留まりを考慮すれば、通常4.7倍以下である。
例えば、一対のガイドレールに沿ってそれぞれ走行する複数のクリップ(把持具)を備えるパンタグラフ方式の同時二軸延伸装置を用いて行えばよい。この同時二軸延伸装置は、未延伸の積層体cを把持するクリップの間隔が開かれて縦方向(流れ方向)の延伸がなされると同時に、ガイドレールの広がり角度により横方向(幅方向)に延伸するものである。また、例えば、ロール間の周速の差を利用して縦方向に延伸した後に、その両端部がクリップで把持されてテンターを用いて横方向に延伸する逐次二軸延伸法を行ってもよい。ただし逐次二軸延伸法では、縦方向に延伸してから樹脂が一旦冷却され、その後に横方向に延伸するために再度加熱されるので、熱緩和によって、横方向の延伸時に、縦方向の延伸で得られた所望の光学特性が変化して、所望の光学特性を発現することが難しくなる傾向がある。これに対し、前記の同時二軸延伸装置等を用いた同時二軸延伸処理により延伸処理を行うようにすれば、逐次二軸延伸法のようなことがなく、良好な光学特性を有する光学積層体を得ることができる。
ここで、例えば同時二軸延伸装置で延伸処理を行なう場合には、微延伸とは同時二軸延伸装置のオーブン内で未延伸の積層体cを延伸終了前に少量延伸あるいは収縮させる(最終延伸倍率は変わらない)ことであり、熱固定温度とは同時二軸延伸装置のオーブン出口の外側近傍に配置される未延伸の積層体cを安定化させるための加熱区間の温度(延伸温度よりも低い温度)であり、引取張力とは同じくオーブン出口の外側近傍から未延伸の積層体cの巻取に至るまでの区間におけるフィルムの流れ方向に作用させる張力である。前記の微延伸は、同時二軸延伸装置のテンターのレールパターンを調整することにより可能である。また前記の熱固定温度は、(延伸温度−30℃)以上、延伸温度未満の温度範囲内で設定できる。ボーイングが発生している場合には、通常、上記に示したような微延伸で調整するが、熱固定温度を上げるか、引取張力を下げることによっても調整可能である。また、同様に、逆ボーイングが発生している場合には、熱固定温度を下げるか、引取張力を上げることにより、配向角のプロファイルがフラットとなるように、微調整することが可能である。
本発明の光学積層体の製造方法においては、本発明の光学積層体が得られる限り、上述した以外の処理を行うようにしてもよい。
上述した本発明の光学積層体の製造方法によれば、上述したように優れた利点を有する本発明の光学積層体を、低コストで安定的に製造できる。
本発明の光学積層体は、例えば位相差板等の光学フィルムとして好適に使用できる。
その用途の具体例を挙げると、本発明の光学積層体と偏光板とを積層することにより、液晶表示装置等に用いることができる光学素子が得られる。偏光板としては、例えば、二色性物質含有のポリビニルアルコール系偏光フィルム等からなる偏光子の片側又は両側に、適切な接着層を介して、保護層となる透明保護フィルムを接着したものを用いることができる。偏光子としては、例えばポリビニルアルコールや部分ホルマール化ポリビニルアルコール等の従来に準じた適宜なビニルアルコール系ポリマーよりなるフィルムに、ヨウ素や二色性染料等よりなる二色性物質による染色処理、延伸処理、架橋処理等の適宜な処理を適宜な順序や方式で施したもので、自然光を入射させると直線偏光を透過する適宜なものを用いることができる。中でも、偏光子としては光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。偏光子の厚みは、5〜80μmが一般的であるが、これに限定されない。
(1)フィルムの厚みの測定(μm)
積層フィルム(未延伸の積層体又は延伸後の光学積層体)をエポキシ樹脂に包埋したのち、ミクロトーム[大和光機工業(株)、RUB−2100]を用いて0.05μm厚にスライスし、透過型電子顕微鏡を用いて断面を観察し、各層の厚み、及び全体の厚み(総厚)を測定した。この測定を流れ方向に100mm間隔で、長さ1000mmに亘って行った。そして、各層の厚み、全体の厚みそれぞれについて、全測定結果の平均値を算出した。
オンライン位相差計(王子計測機器社製:KOBRA−WIST/2RT)を用い、150mm/秒の速度で搬送される長尺の光学積層体の、配向角(光学積層体の幅方向と遅相軸方向とがなす角)θと、正面レターデーションReとを、波長590nmにおいて、光学積層体の幅方向25mm間隔で、フィルム幅方向に20回測定した。ここで、光学積層体の評価幅は、1490mmとした。測定結果から、配向角θの最大値と最小値の差を配向角θのバラツキとした。また、正面レターデーションReの最大値と最小値の差を正面レターデーションReのバラツキとした。
光学積層体のA層及びB層の正面レターデーションRe(A)及びRe(B)を、光学積層体を各層に分離したのち、自動複屈折[王子計測機器(株)、KOBRA−ADH21]を用いて波長590nmで各層の幅方向に対し、中央部及び両端部から10mmの3点で測定し、その平均値を測定値とする。ただし、B層が複数層ある場合におけるB層の正面レターデーションは各B層の絶対値の合計値である。
光学積層体のNz係数は、自動複屈折計[王子計測機器(株)、KOBRA−ADH21]を用いて、波長590nmで、光学積層体の幅方向に一定間隔(例えば、100mm間隔)で測定を行う。この測定を光学積層体の流れ方向に一定間隔(例えば、100mm間隔)で所定の長さ(例えば、1000mm)にわたって行ない、全測定結果の平均値をNz係数とする。
延伸装置内で長尺の光学積層体を実際に搬送し、破断、しわの発生の有無及びその程度を調べた。その結果、定常状態20分間においては破断、しわの無いものを「良好」とし、定常状態20分間においては破断、しわの発生したものを「不良」とした。
判断が困難な場合には、光学積層体から長手方向300mm、幅方向300mmの正方形の試験片を切り出し、一辺の幅方向の中心位置に10mmのノッチをカッターで入れ、そこから手で引き裂いて評価する。その結果、途中で引っ掛かりがあり、引き裂きにくい場合を「良好」とし、サンプルが一直線に端まで裂けてしまう場合を「不良」とした。
トリアセチルセルロースからなるTAC層(厚み40μm、富士写真フィルム社製、品名フジタック)と、ポリビニルアルコールからなるPVAフィルム(厚み30μm、クラレ社製、品名クラレビニロンフィルム)と、ノルボルネン樹脂からなるゼオノアフィルム(厚み37μm、日本ゼオン社製)と、本実施例もしくは比較例で得られる光学積層体とを、接着剤としてアクリル接着剤を用いてこの順で貼り合わせてフロントフィルムを用意した。
その後、IPS液晶セルのフロントフィルムとは反対側の面に、前記のリアフィルムを前記の接着剤を用いて貼り合わせた。この際、リアフィルムは低レターデーションフィルム側の面でIPS液晶セルに貼り合わせるようにした。
このようにして用意したパネルを、温度60℃、湿度90%RHの環境下に500時間置き、反りの発生の有無を評価した。
固有複屈折値が負の樹脂であるスチレン−無水マレイン酸共重合体樹脂(ノヴァケミカルジャパン社製、品名ダイラークD332)からなるa層と、ゴム粒子を含むメタクリル樹脂組成物からなるb層とを、b層/a層/b層の順に有する未延伸の積層体cを、前記の樹脂を共押出成形することにより用意した。この際、2つあるb層は、いずれも同じ厚みにした。
得られた未延伸の積層体cの各層の平均厚みを測定した。結果を表1に示す。
未延伸の積層体cにおけるa層及びb層の厚み、並びに未延伸の積層体cのMD方向及びTD方向の延伸倍率を表1に示すようにしたこと以外は実施例1と同様にして、光学積層体を得た。得られた光学積層体について、上述した要領で、各層の厚み及び総厚、配向角θのバラツキ、正面レターデーションReのバラツキ、A層及びB層それぞれの正面レターデーションRe(A)及びRe(B)、並びにNz係数を測定し、連続搬送性及びパネル反りの評価を行なった。結果を表1に示す。
上述した実施例及び比較例の結果を表1に示す。
Claims (3)
- 総延伸倍率が2.3倍以上4.7倍以下の延伸処理を経て光学積層体を製造する、光学積層体の製造方法であって、
前記光学積層体が、固有複屈折値が負の樹脂AからなるA層と、透明な樹脂BからなるB層とを備え、
前記光学積層体のNz係数が−4.5以上かつ−0.5以下であり、
|前記A層の正面レターデーション|>|前記B層の正面レターデーション|であり、
前記A層及び前記B層の総厚が25μm以上60μm以下であり、
前記A層及び前記B層の総厚に対する前記A層の厚みの割合が40%以上80%未満であり、
波長590nmの光で測定したA層の正面レターデーションRe(A)が30nm以上70nm以下である、光学積層体の製造方法。 - 前記延伸処理が同時二軸延伸処理である、請求項1記載の光学積層体の製造方法。
- 前記延伸処理が、幅方向に対する配向角θの平均値が0°±1°、配向角θのバラツキが0.5°以下となる条件で行うものである、請求項1又は2記載の光学積層体の製造方法。
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