JP5862423B2 - 有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ、およびこれらを備えて構成される有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」と称する場合がある）表示装置に関する。

近年、フラットディスプレイが多くの分野、場所で使われており、情報化が進む中でますますその重要性は高まってきている。

現在、フラットディスプレイの中で中心的な存在は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）と言えるが、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）とは異なる表示原理に基づくフラットディスプレイとして、有機ＥＬ、無機ＥＬ、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ライトエミッティングダイオード表示装置（ＬＥＤ）、蛍光表示管表示装置（ＶＦＤ）、およびフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などの開発も活発に行われている。

これらの新しいフラットディスプレイはいずれも自発光型と呼ばれるもので、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）とは次の点で大きく異なり、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）には無い優れた特徴を有している。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は受光型と呼ばれ、液晶は自身では発光することはなく、外光を透過、遮断するいわゆるシャッターとして動作し、表示装置を構成する。このため光源を必要とし、一般にバックライトが必要である。これに対して、自発光型は装置自身が発光するため、別光源が不要である。また、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような受光型では表示機能の様態に拘わらず、常にバックライトが点灯し、全表示状態とほぼ変わらない電力を消費することになる。これに対して自発光型は、表示情報に応じて点灯する必要のある箇所だけが電力を消費するだけなので、受光型表示装置に比較して、電力消費が少なくてすむという利点が原理的に存在する。

同様に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）ではバックライト光源の光を遮光して暗状態を得るため、少量であっても、光漏れを完全に無くすことは困難であるのに対して、自発光型では発光しない状態がまさに暗状態であるので、理想的な暗状態を容易に得ることができ、コントラストにおいても自発光型が圧倒的に優位である。また、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は液晶の複屈折による偏光制御を利用しているため、観察する方向によって大きく表示状態が変わる、いわゆる視野角依存性が強いが、自発光型ではこの問題がほとんど生じない。さらに、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は有機弾性物質である液晶の誘電異方性に由来する配向変化を利用するため、原理的に電気信号に対する応答時間が１ｍｓ以上である。これに対して、開発が進められている上記の自発光型の技術では、例えば、電子／正孔といったいわゆるキャリア遷移、電子放出、プラズマ放電などを利用しているため、応答時間はｎｓ桁であり、液晶とは比較にならないほど高速であり、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の応答の遅さに由来する動画残像の問題が生じない。

近時、これらの中でも特に有機ＥＬ表示装置の研究が活発であり、（１）三原色の発光層を発光色毎に所定のパターンを形成したもの、（２）白色発光の発光層を使用し、三原色のカラーフィルタを介して表示するもの、（３）青色発光の発光層を使用し、蛍光色素を利用した色変換層を設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原色表示をするもの等が提案されている。

有機ＥＬ表示装置は、主として車載ナビゲーション、携帯電話、デジタルカメラなどの数インチ程度の小さな画面用として実用化されてきたが、近時、薄型テレビに代表されるように例えば２０インチ以上の大画面化の開発が要望されるようになってきている。

しかしながら、有機ＥＬ表示装置を例えば２０インチ以上の大画面とする場合、画面の外周部と中央部では各画素に駆動電流を供給するための配線長さが極端に異なってくる。そのため、画面の中央部では、画面の外周部と比較して電圧降下の度合いが大きく、輝度ムラが発生してしまうという不都合が生じる。大画面化を図れば図るほどこの傾向は顕著となる。特に、駆動電流を供給する配線は発光層を含む有機ＥＬ層の上に形成されたＩＴＯ等の透明電極を経て導通され、このＩＴＯは例えば金属Ｃｕなどと比べて抵抗が大きく、このためＩＴＯの電圧降下の影響が大きい。

なお、有機ＥＬ表示装置の駆動方式としては、パッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式とがあるが、前者は、構造が単純であるものの、大型化かつ高精細の表示装置の実現が難しいなどの問題があり、大型化を図るためには、後者のアクティブマトリクス方式の開発が盛んに行われている。アクティブマトリクス方式では、画素ごとに配した有機ＥＬ素子に流れる電流を、有機ＥＬ素子ごとに設けた駆動回路内のＴＦＴ（Thin Film Transistor）によって制御するようになっている。

なお、本願発明に関連すると思われる先行技術として、下記特許文献１〜特許文献４が挙げられる。

特許第４４８９４７２号公報 特許第４３６７３４６号公報 特開２００９−２６８２８号公報 特開２０１１−９６２８２号公報

特許文献１には、大型化しても上部透明電極に起因する電圧降下による発光輝度むらを生じさせないことを目的の一つとして、第１の基板に形成された素子分離用バンク上に位置する上部電極と第２の基板に形成された導電性遮光パターンとが電気的に接続されるように第１の基板と第２の基板とを対向配置させ、少なくとも前記上部電極または前記導電性遮光パターンが給電点に接続されてなる有機エレクトロルミネッセンス表示装置の開示がなされている。

しかしながら、特許文献１では、柱状の突起である素子分離用バンクが、ＴＦＴや有機ＥＬ層が形成されている第１の基板側に形成されている。ＴＦＴや有機ＥＬ層が形成されているために第１の基板側は複雑な構成になっており、この上に素子分離用バンクを設けることは反対側の第２の基板側に設けるプロセスと比較して、歩留まりが低下する確率は極めて高いと言える。そして、第１の基板側の歩留まり低下は、複雑な工程を経て形成され、工数が多いＴＦＴや有機ＥＬ層の形成工程を無駄にすることにも通じ、コスト的なダメージが極めて大きいと言える。また、一対の電極によって挟持された状態にある有機ＥＬ層を備える有機ＥＬ素子は、通常、有機ＥＬ素子を保護するための封止層によって覆われて保護されており、この封止層の存在をも考慮していかように被覆された電極との導通を図るかを技術的に考察する必要がある。

また、特許文献２には、電源配線及び第２電極の更なる低抵抗化を可能ならしめ、表示の輝度ムラを低減し、高輝度化、高コントラスト化を図った高出力品位の有機ＥＬ装置等の電気光学装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献１と同様な問題が生じ得る。

また、特許文献３には、対向電極の電位の面内均一性を高めることを目的として開発された上面発光型の有機ＥＬ表示装置の提案がなされているが、やはり当該提案においても、上記特許文献１と同様な問題が生じ得る。

また、特許文献４には、透明電極の実効的な抵抗値を下げることができ、有機ＥＬ層に対して均一な電圧を加えることが可能となるため、表示ムラなどの表示不良を防ぐことができる発光装置の提案がなされているが、当該提案においても、やはり上記特許文献１と同様な問題が生じ得る。

このような実情のもとに本発明は創案されたものであって、その目的は、例えば、大画面の有機ＥＬ表示装置を開発するに際し、画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止することができ、かつ当該輝度ムラの発生防止手段の形成がコストリスクを低減させる構成で行なうことができる有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板やカラーフィルタ、さらにはこれらを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供することにある。

上記課題を解決するための発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板であって、透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部にはメタル電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱のメタル電極層とが導通しており、前記凸状柱の側部に設けられたメタル電極層は、着色剤を含む層で被覆されていることを特徴とする。

上記の発明にあっては、前記非画素エリアは、複数のラインが交わる交差部分を有し、当該交差部分に前記凸状柱が形成されていてもよい。

また、上記の発明にあっては、前記凸状柱は、基部側から頂部に至るまでにその径が漸減するテーパー形状をなしていてもよい。

また、上記の発明にあっては、基板中央部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ１と、基板の外周部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ２とを比較した場合、Ｄ１＞Ｄ２であってもよい。

また、上記課題を解決するための発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタであって、透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部にはメタル電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱のメタル電極層とが導通しており、前記凸状柱の側部に設けられたメタル電極層は、着色剤を含む層で被覆されている、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、を有することを特徴とする。

上記の発明にあっては、前記着色剤を含む層に含まれる着色剤が、画素部に形成された前記着色層を形成する少なくとも一色の着色剤であってもよい。

また、上記課題を解決するための発明は、透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部にはメタル電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱のメタル電極層とが導通しており、前記凸状柱の側部に設けられたメタル電極層は、着色剤を含む層で被覆されている、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタと、基板および当該基板上に形成された有機ＥＬ層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、を有する有機ＥＬ素子側基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、前記カラーフィルタと、前記有機ＥＬ素子側基板とは、前記着色層および前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対向するように配置されており、前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層を挟持するように配置された一対の下面電極層と上面透明電極層を含み、前記凸状柱の頂部に形成された前記メタル電極層の部分と前記上面透明電極層とが接触して導通が図れるように形成されていることを特徴とする。

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板やカラーフィルタ、さらにはこれらを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置によれば、その非画素エリアにメタル補助電極層が設けられているとともに、凸状柱の頂部および側部には、メタル電極層が設けられており、これらが導通しているので、特に大画面の有機ＥＬ表示装置などを構成した場合、画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止することができる。また、凸状柱が非導電性の材料から構成されているため、導電性材料が含有せしめられたそれと比べて強度低下の問題が生じる心配もない。

さらに、凸状柱の側部に設けられたメタル電極層が着色層を形成する少なくとも一色の着色剤で被覆されているので、有機ＥＬ層から発光される光がメタル電極層で反射することを防止できるので、画像特性が悪化する虞もない。

本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板を示す断面図である。 図１に示される有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ素子側基板を接合することによって形成した有機ＥＬ表示装置の断面図である。 第１の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した平面図であり、図１のα−α矢視平面図に相当する。 第２の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。 第３の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。 第４の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの一部を示した概略断面図である。

以下、図面を参照しながら、本発明を実施するための複数の実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は以下に説明する形態に限定されることはなく、技術思想を逸脱しない範囲において種々変形を行なって実施することが可能である。また、添付の図面においては、説明のために上下、左右の縮尺を誇張して図示することがあり、実際のものとは縮尺が異なる場合がある。

また、以下は、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタを中心に説明するが、これに限定されることはなく、以下で説明するカラーフィルタから着色層のみを除去すれば、本発明のカラーフィルタ用基板となる。

＜第１の実施形態＞
図１〜図４を参照しつつ本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタおよび有機ＥＬ表示装置について説明する。

図１は、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０および有機ＥＬ素子側基板７０を示す断面図である。これらの構成部材の断面図は、図３に示される有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ１０の平面図のＡ−Ｂ−Ｃ−Ｄ−Ｅ−Ｆ−Ｇ−Ｈ−Ｉ−Ｊ−Ｋ−Ｌ−Ｍ−Ｎ線での切断面およびそれに準ずる有機ＥＬ素子側基板７０の切断面を見た断面図である。図２は、図１に示される有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０および有機ＥＬ素子側基板７０を接合することによって形成した有機ＥＬ表示装置１００の断面図である。図３は、第１の実施形態である有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０の一部を示した平面図であり、図１のα−α矢視平面図に相当する。

（有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０の説明）
本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０は、有機ＥＬ素子の発光層を含む有機ＥＬ層からの光を発光光源とする有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ（以下、単に、カラーフィルタと称す場合がある）である。

図１に示されるように、本発明におけるカラーフィルタ１０は、透明基板１１と、この透明基板１１上に形成された画素部分である着色層１３と、着色層１３の周囲に形成された非画素エリア１２とを有している。通常、基板の最外周に配置された着色層１３を除いた他の大部分の着色層１３に着目してみれば、非画素エリア１２は、隣接する着色層１３同士の間隙部分に存在する。なお、画素部とは、カラーフィルタを各種表示装置に用いた場合に光が透過する部分のことをいい、本発明のカラーフィルタ１０においては、必ずしも画素部のすべて着色層１３が形成されていなくてもよく、画素部の一部は単に光が透過する領域となっていてもよい。

透明基板１１は、可視光に対して透明な基板であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタに用いられる透明基板と同様なものを用いることができる。具体的には、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英などのリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。

着色層１３は、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇおよび青色着色層１３Ｂを有し、通常、これらが順次配列された状態でパターン形成されるが、そのパターン配列は特に図示のものに限定されるものではない。ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列とすることができ、各着色層の面積は任意に設定することができる。また上記の３色に加え、透明着色層を有していてもよい。

なお、図面における画素部分である着色層１３の数（画素数）はあくまで例示として記載されているものであり、図示例のものに限定されるものではない。着色層１３の形成方法としては、一般的なカラーフィルタにおける着色層１３の形成方法、例えば、フォトリソグラフィー法、インクジェット法、印刷法等を用いればよい。

本実施形態における非画素エリア１２には、通常、遮光部１２ａ（いわゆるブラックマトリックスと称されることもある）が形成されることが望ましいが、本発明の作用効果を発現させるためには必須となるものではない。遮光部１２ａは、通常、格子状の遮光層として構成され、通常、黒色顔料とバインダー樹脂と溶剤とを含有したフォトレジストや印刷用インキ、あるいはクロムなどの金属を用いて構成される。印刷用インキに用いられる黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック等を挙げることができ、バインダー樹脂としては、例えば、ベンジルメタクリレート：スチレン：アクリル酸：２−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体等を挙げることができ、溶剤としては、公知の種々の中から選定して用いることができる。

遮光部１２ａの形成方法としては、フォトリソグラフィー法、各種のパターン印刷方法、各種のめっき方法等で形成することができる。

本発明におけるカラーフィルタ１０は、上記で説明した画素部分である着色層１３および非画素エリア１２に位置する遮光部１２ａの全体を覆うようにオーバーコート層１４が設けられている。当該オーバーコート層１４は、本発明の必須の構成ではないが、当該オーバーコート層１４を形成することにより、この後に説明するメタル補助電極層や凸状柱を形成するに当たり、これらの形成面を平坦化することができるとともに、着色層１３を保護することができる点で好適である。

オーバーコート層１４を形成する材料としては特に限定することはなく、従来から用いられている各種樹脂を適宜選択すればよく、その形成方法にあっても、各種印刷方法などを用いればよい。

ここで、非画素エリア１２には、より具体的には非画素エリア１２に位置する前記オーバーコート層１４の表面には、メタル補助電極層１５が設けられている。メタル補助電極層１５に用いられる材質としては、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｏといった金属やそれらの合金、またはＭＡＭ（モリブデン／アルミニウム・ネオジウム合金／モリブデン）に代表される複層金属膜等を挙げることができる。

また、このようなメタル補助電極層１５の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法が好適に用いられる。

メタル補助電極層１５を形成する場所については、図１や図２に示すように、非画素エリア１２に線状にパターン配設することが好ましいが、これに限定されることはなく、外部から供給される電流を、後述する凸状柱の頂部に形成される透明電極層を介して、有機ＥＬ素子側基板に導通することができる位置であって、表示時に開口部の開口率を低下させることがない位置であれれば自由に設計可能である。

本発明のカラーフィルタ１０の非画素エリア１２には、前記メタル補助電極層１５の他、当該非画素エリア１２の少なくとも一箇所以上に凸状柱１７が形成されている。そして、当該凸状柱１７の頂部および側部には、メタル電極層１８が設けられている。そして、本発明のカラーフィルタ１０においては、前記メタル補助電極層１５と当該凸状柱１７の頂部および側部のメタル電極層１８とが導通している。これにより、後述する有機ＥＬ層８３を有する有機ＥＬ素子側基板７０からの電流を凸状柱１７の頂部および側部のメタル電極層１８とメタル補助電極層１５を介してカラーフィルタ１０側に導いて逃がすことにより、電圧降下を防ぐことができる。そしてその結果、本発明の課題である画面の中央部と画面の外周部との輝度ムラの発生を防止することができる。

従って、凸状柱１７は、その作用を奏すべく輝度ムラが発生しやすい箇所、特に、基板の中央部付近に形成されることが望ましい。本実施形態では、図１における断面図の中央部近傍に３本の凸状柱１７が形成されているが、これらはあくまでも例示として記載されているだけであり、その本数および配置場所は図示のもに限定されるものではない。本発明の作用効果が最適な状態で発現できるように適宜、本数、配置場所等を設定するようにすればよい。

なお、１または複数の凸状柱１７を配設する場合において、基板中央部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ１と、基板外周部の凸状柱の配設密度Ｄ２とを比較した場合、Ｄ１≧Ｄ２、好ましくはＤ１＞Ｄ２となるように構成することが望ましい。

なお、Ｄ１およびＤ２を求めるに際しては、画面の大きさに相当する基板の大きさを縦横に３等分して基板を３×３の９分割にする。その中央部のエリアが基板中央部に該当し、ここで測定される凸状柱の配設密度がＤ１として定義される。そして、この中央部のエリア以外の８つの外エリアが基板外周部に該当し、これらの各エリアで測定される凸状柱の配設密度のうち最も大きい値がＤ２として定義される。

このような凸状柱１７は各種樹脂材料で形成されている。本発明のカラーフィルタ１０にあっては、凸状柱１７の頂部および側部のメタル電極層１８によって導通を担保しているため、当該凸状柱１７自体に導電性を付与する必要がないため、その材料設計の自由度を向上することができ、凸状柱１７に導電性材料を混入せしめる必要がないため、その強度が低下することもない。なお、当該凸状柱１７自体に導電性を付与してもよい。

凸状柱１７の形状としては、特に限定されることはないが、図示するように、基部側から頂部に至るまでにその径が漸減するテーパー形状をなすように構成することが望ましい。後述するように、有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ素子側基板７０との一体化を容易にするためである。凸状柱の具体的な形状としては、図示するように円錐の先端部を切り取った形状である円錐台や、円柱、三角錐台、四角錘台等を挙げることができる。凸状柱１７の根元である基部の幅は、８〜１００μｍ程度、頂部の幅は、３〜９５μｍ程度、高さは、２．５〜２５μｍ程度とされる。また、基部側から頂部に至るテーパー角度は３０〜８９°程度とされる。

ここで、凸状柱１７の側部に設けられたメタル電極層１８は、着色剤（図では赤色の着色剤）を含む層１９で被覆されていることに特徴を有している。このように、凸状柱１７の側部に設けられたメタル電極層１８上に、着色剤を含む層１９を設けることで、画素部分から発せられる光が凸状柱１７の側部で反射することを防止できる。

本発明のカラーフィルタ１０においては、当該着色剤を含む層１９の形成方法については特に限定されることはなく、また、当該層１９に含まれる着色剤についても特に限定することはなく、画素部分から発せられる光の反射を防止できるように適宜設計すればよい。例えば、用いられる着色剤としては、カラーフィルタ１０を構成する着色層１３を形成する少なくとも一色、つまり赤色着色剤、緑色着色剤および青色着色剤の中から一色を選択し、これを用いて着色剤を含む層１９を形成してもよく、さらには、これらすべてを混合して用いることもできる。さらには、着色層１３とは異なる色を呈する着色剤を調整し、これを用いて当該層１９を形成してもよい。また、上述したいわゆるブラックマトリックスを形成するための黒色着色剤を用いることも可能である。このように、着色剤を含む層１９を形成するために用いる着色剤については種々の選択が可能であるが、カラーフィルタ１０を構成する着色層１３において用いられている着色剤を用いることにより、製造コストを下げることができ、また歩留まりを向上することができる点で好ましい。なお、当該着色剤からなる層１９の厚さについても特に限定することはなく、反射防止性能を発揮できる範囲において適宜設計すればよい。

本発明のカラーフィルタ１０に好適に使用される着色層１３についてさらに説明を加える。なお、前述したように、本発明のカラーフィルタ用基板においては、当該着色層１３は必須の構成ではなく、また、本発明のカラーフィルタ１０においても、画素部の全部に着色層が設けられてなくてもよい。

赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇおよび青色着色層１３Ｂを有し構成される着色層１３は、有機ＥＬ表示装置１００（図２参照）の単位画素に対応して設けられる。そして、これらの赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇおよび青色着色層１３Ｂは、それぞれ、各色の顔料や染料等の着色剤を感光性樹脂中に分散または溶解させた後に基板の上に形成される。

赤色着色層１３Ｒに用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

緑色着色層１３Ｇに用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニンン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

青色着色層１３Ｂに用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

なお、非画素エリア１２は、複数のラインが交わる交差部位を有し、当該非画素エリア１２の交差部位に凸状柱１７を形成することが望ましい。凸状柱１７の形成位置にスペース的な余裕をもたせ、強度を高めた状態で形成させることができるからである。また、形成も比較的容易で歩留まり向上に寄与することができる。なお、ＴＦＴの設計によっては凸状柱１７の形成位置は交差部位でなくともよい。

（有機ＥＬ素子側基板７０の説明）
図１に示すように有機ＥＬ素子側基板７０は、基板７１と、当該基板７１上に形成された有機ＥＬ層８３を含む有機エレクトロルミネッセンス素子８０と、を有して構成される。

このような有機ＥＬ素子側基板７０と前記カラーフィルタ１０を一体化・接合させることによって、図２に示されるような有機エレクトロルミネッセンス表示装置１００が形成される。なお、有機ＥＬ素子側基板７０と前記カラーフィルタ１０との一体化・接合に際しては、有機ＥＬ素子側基板７０の有機エレクトロルミネッセンス素子８０と、カラーフィルタ１０の着色層１３とが対向するように配置される。

有機エレクトロルミネッセンス素子８０は、有機ＥＬ層８３と、この有機ＥＬ層８３を挟持するように配置された一対の下面電極層８１と上面透明電極層８５を有して構成される。また、有機ＥＬ層８３の周囲には絶縁層９１が形成され、この絶縁層９１によって有機ＥＬ層８３が区画化されるとともに、下面電極層８１と上面透明電極層８５とが直接接触することが防止される。さらに、上面透明電極層８５の上には、主として有機ＥＬ層８３を保護するための封止層９５が、素子全体を覆うように形成されている。なお、前記封止層９５は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置１００に必須の構成ではない。

そして、このような封止層９５の前記カラーフィルタ１０との対向面には、貫通孔９５ａが形成されている。この貫通孔９５ａは、前記カラーフィルタ１０に形成された凸状柱１７の先端部分を挿着させることができ、前記凸状柱１７の頂部に形成されたメタル電極層１８の部分と、有機エレクトロルミネッセンス素子８０の上面透明電極層８５とが接触して導通が図れるように形成されている。貫通孔９５ａは、挿入される凸状柱１７の先端部分と同様なテーパー形状を備える形態とし、凸状柱１７の先端部分が貫通孔９５ａに嵌着できるような形態とすることが望ましい。また、貫通孔９５ａの深さは、上面透明電極層８５に到達する深さとされる。また、図示はしていないが、メタル電極層１８と上面透明電極層８５との導通を確保し易いように、貫通孔９５ａの側面に導電膜を形成しておくようにしてもよい。このような貫通孔９５ａを設けておくことにより、封止層９５がある場合においても、導通を確保できるので好ましい。

貫通孔９５ａが形成される部位は、発光エリアを狭めないように有機ＥＬ層が存在しない部位に設けることが好ましい。例えば、図１や図２に示されるように、隣接する有機ＥＬ層８３同士の間隙部分に貫通孔９５ａを形成するようにすればよい。

上述のごとく構成を採択することによって、前述したように有機ＥＬ層８３を有する有機ＥＬ素子側基板７０からの電流を凸状柱１７の頂部および側部に形成されたメタル電極層１８と、当該メタル電極層１８と導通しているメタル補助電極層１５とを介してカラーフィルタ１０側に導いて逃がすことにより、電圧降下を防ぐように作用させることが可能となる。

なお、基板７１には、図示のごとく、画素を構成する有機エレクトロルミネッセンス素子８０に流れる電流を制御するためのＴＦＴ (Thin Film Transistor)７５が、画素ごとに配置形成されており、通常、各ＴＦＴの回路には、図示していないゲート線、信号線、電源線が接続されている。このようなＴＦＴ７５の形成手法は、公知の方法に従えばよく、ＴＦＴ７５の上には、通常、絶縁層７７が形成される。なお、絶縁層７７としては、後述する絶縁層９１と同様な材料を用いることができる。

以下、有機ＥＬ素子側基板７０の各構成について、さらに説明を加える。

基板７１
本発明に用いられる基板７１としては、有機エレクトロルミネッセンス素子８０等を支持することができるものであればよく、有機ＥＬ表示装置の構成部材として一般的に用いられるものを使用することができる。なお、本実施形態は、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０側から光が取り出される、いわゆるトップエミッション方式であるため、有機ＥＬ素子側基板７０の基板７１としては、透明であっても、不透明であってもよい。

絶縁層９１
本発明における絶縁層９１は、上述したように下面電極層８１と上面透明電極層８５とが直接接触することを防ぐために形成される。

このような絶縁層９１の形成材料としては、例えば感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、および熱硬化型樹脂、ならびに無機材料などを用いることができる。絶縁層９１のパターンは、通常、線状とすることができ、絶縁層９１の形成によって、例えばマトリクス状またはストライプ状等の開口部を有するパターンを形成することができる。

絶縁層９１の形成方法としては、上記材料を塗布して、フォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法が挙げられる。また、印刷法等を用いることもできる。

有機ＥＬ層８３
本発明に用いられる有機ＥＬ層８３は、発光層、特に、好ましくは白色発光層を有するように構成される。白色発光層に代えて、赤色発光層、青色発光層および緑色発光層を順じ備えるように構成することもできるが、ここでは、より好ましい態様である白色発光層を備える場合を例にとって説明する。

また、有機ＥＬ層８３は、発光層に加えて、通常、複数層の有機層から構成されるものであり、正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層や、白色発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、白色発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を有するものとすることができる。

白色発光層
本発明において好適な発光層として用いられる白色発光層は、白色光を発光することができるものであればよい。このような白色発光層は、具体的には、有機ＥＬ層８３に電圧が加えられた際に、少なくとも青色光（４３０ｎｍ〜４７０ｎｍ）、緑色光（４７０ｎｍ〜６００ｎｍ）、および赤色光（６００ｎｍ〜７００ｎｍ）の波長域の発光スペクトルを有するものであればよい。さらには、発光スペクトルにおいて緑色光（４７０ｎｍ〜６００ｎｍ）ピークの最大発光強度と青色光（４３０ｎｍ〜４７０ｎｍ）ピークの最大発光強度の比（緑色光ピークの最大発光強度／青色光ピークの最大は高強度）が、０．３〜０．８の範囲内であることが好ましく、０．３〜０．７の範囲内であることがより好ましく、特に０．３〜０．５の範囲内であることが好ましい。

緑色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比が上記の範囲内であることにより、青色パターンの透過率が大きいことによる消費電力低減効果を、より効果的に発揮することができる。また、赤色光（６００ｎｍ〜７００ｎｍ）については、赤色光ピークの最大発光強度と青色光ピークの最大発光強度の比（赤色光ピークの最大発光強度／青色光ピークの最大発光強度）が０．３〜１．０の範囲内であることが好ましい。

このような白色発光層を構成する材料としては、蛍光または燐光を発するものであればよく、特に限定されるものではない。また、発光材料は、正孔輸送性や電子輸送性を有していてもよい。発光材料としては、色素系材料、金属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができる。

上記の色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、およびピラゾリンダイマー等を挙げることができる。

また、上記の金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、およびユーロピウム錯体、あるいは、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等またはＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、およびキノリン構造等を有する金属錯体などを挙げることができる。

また、上記の高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ならびに上記の色素系材料および金属錯体系材料を高分子化したもの等を挙げることができる。

上記の白色発光層の形成方法としては、例えば、蒸着法、印刷法、インクジェット法、またはスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、および自己組織化法（交互吸着法、自己組織化単分子膜法）等を挙げることができる。これらの中でも特に、蒸着法、スピンコート法、およびインクジェット法を用いることが好ましい。

本発明に用いられる白色発光層の膜厚は、通常５ｎｍ〜５μｍ程度とされる。

正孔注入層
本発明においては、白色発光層と陽極（下面電極層８１もしくは上面透明電極層８５）との間に正孔注入層が形成されていてもよい。正孔注入層を設けることにより、白色発光層への正孔の注入が安定化し、発光効率を高めることができる。

本発明に用いられる正孔注入層の形成材料としては、一般的に有機ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている材料を用いることができる。また、正孔注入層の形成材料は、正孔の注入性もしくは電子の障壁性のいずれかを有するものであればよい。

具体的に、正孔注入層の形成材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、およびチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに、正孔注入層の形成材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、およびスチリルアミン化合物等を例示することができる。

このような材料から構成される正孔注入層の膜厚は、通常、５ｎｍ〜１μｍ程度とされる。

電子注入層
本発明においては、白色発光層と陰極（上記透明電極層８５もしくは下面電極層８１）との間に電子注入層が形成されていてもよい。電子注入層を設けることにより、白色発光層への電子の注入が安定化し、発光効率を高めることができるからである。

本発明に用いられる電子注入層の形成材料としては、例えばニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ならびにジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。

このような材料から構成される電子注入層の膜厚は、通常、５ｎｍ〜１μｍ程度とされる。

上面透明電極層８５
本発明における上面透明電極層８５は、後に詳述する下面電極層８１との間に挟まれた有機ＥＬ層８３に電圧をかけ、白色発光層で発光を起こさせるために設けられる。

また、上面透明電極層８５は、白色発光層で発生した光を、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ側に透過させるものであるから、図１に示されるように有機ＥＬ層８３と、有機ＥＬ層８３の上側に位置する有機ＥＬ表示装置カラーフィルタ１０との間に配置される。

本発明に用いられる上面透明電極層８５の形成材料としては、例えば、透明性および導電性を有する金属酸化物等が挙げられる。このような金属酸化物としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化亜鉛、および酸化第二錫等が挙げられる。

このような材料から構成される上面透明電極層８５の膜厚は、通常、１００ｎｍ〜３００ｎｍ程度とされる。

上面透明電極層８５の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターンニングする方法が好適に用いられる。

下面電極層８１
本発明における下面電極層８１は、図１に示されるように有機ＥＬ層８３と、有機ＥＬ層８３の下側に位置する基板７１との間に配置される。下面電極層８１は、白色発光層を発光させるための他方の電極をなすものであり、上記の上面透明電極層８５と反対の電荷をもつ電極として構成される。

用いられる下面電極層８１の形成材料としては、例えば仕事関数が４ｅＶ以下程度と小さい金属、合金、およびそれらの混合物等が挙げられる。具体的には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、および希土類金属等を例示することができる。より好ましくは、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）混合物、およびリチウム／アルミニウム混合物等を挙げることができる。

下面電極層８１は、そのシート抵抗が数Ω／ｃｍ以下であることが好ましい。また、下面電極層８１の膜厚は、通常、１０ｎｍ〜１μｍ程度とされる。

下面電極層８１の形成方法としては、例えば、蒸着法もしくはスパッタリング法等によって薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターニングする方法が好適に用いられる。なお、下面電極層８１には有機ＥＬ素子に流れる電流を制御するためのＴＦＴ(Thin Film Transistor)７５が接続される。

封止層９５
上述した貫通孔９５ａを有する封止層９５は、上面透明電極層８５の上、すなわち、上面透明電極層８５と、有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０との間に形成されている。封止層９５は、通常、有機ＥＬ層８３へ水蒸気や酸素が到達するのを遮断する保護層として設けられる。

封止層９５としては、水蒸気や酸素に対してバリア性を発現することができ、かつ透明であれば特に限定されるものではなく、例えば透明無機膜、透明樹脂膜、あるいは有機−無機ハイブリッド膜等が用いられる。中でも、バリア性が高い点から、透明無機膜が好ましい。

封止層９５として好適に用いられる透明無機膜パネルの形成材料としては、例えば酸化アルミニウム、酸化ケイ素、および酸化マグネシウム等の酸化物；窒化ケイ素等の窒化物；窒化酸化ケイ素等の窒化酸化物；などが用いられる。特に、ピンホールが生じにくくガスバリア性が高いことから、窒化酸化ケイ素が好適である。

封止層９５は、単層であっても良く、多層であってもよい。例えば、封止層９５が複数の窒化酸化ケイ素膜が積層された多層である場合は、バリア性をさらに高めることができる。また、封止層９５が多層である場合は、各層にそれぞれ異なる材料を用いてもよい。

封止層９５の膜厚は、用いる封止層９５の形成材料の種類等に応じて適宜、決定するようにすればよい。通常、５ｎｍ〜５μｍ程度とされる。この封止層９５の厚さが薄すぎるとバリア性が不十分となる傾向が生じ、また封止層９５の厚さが厚すぎると薄膜の膜応力によるクラック等の現象が生じ易くなるという傾向が生じる。

封止層９５が透明の無機膜である場合、この透明無機膜の形成方法としては、真空状態で形成できる膜の形成方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、電子ビーム（ＥＢ）蒸着法や抵抗加熱法等の真空蒸着法、原子層エピタキシ（ＡＬＥ）法、レーザーアブレーション法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等が挙げられる。これらの中でも、生産性の観点から、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法が好ましく用いられる。

封止層９５の所定の箇所に上述した貫通孔９５ａを形成する手法としては、例えば、封止層９５の薄膜を形成した後に、フォトリソグラフィー法によりパターニングする方法が好適に用いられる。

このような構成を有する有機ＥＬ素子側基板７０と、前記カラーフィルタ１０とを一体化・接合させることによって、図２に示されるような有機エレクトロルミネッセンス表示装置１００が形成される。すなわち、有機ＥＬ素子側基板７０と前記カラーフィルタ１０との一体化・接合に際しては、有機ＥＬ素子側基板７０の封止層９５に形成された貫通孔９５ａと、カラーフィルタ１０の非画素エリアに形成された凸状柱１７の先端部と、を位置合わせした後、凸状柱１７の先端部を封止層９５の貫通孔９５ａに嵌着させ、凸状柱の頂部１７ａに形成された前記メタル電極層１８の部分と前記上面透明電極層８５とを接触させて導通が図れるように一体化させる。しかる後、封止層９５とメタル電極層１８との隙間部分に、図２に示されるような接着剤層９９を充填して、カラーフィルタ１０と有機ＥＬ素子側基板７０との一体化・接合を図り、図２に示されるような有機エレクトロルミネッセンス表示装置１００が形成される。

接着剤層９９としては、透明で接着力を有し、かつ、硬化性を有するものであれば特に限定されるものではない。このような接着剤層９９を形成する材料としては、例えば、熱硬化性を有する接着剤、あるいは光硬化性を有する接着剤を好適例として挙げることができる。通常、溶剤を必要としないタイプのものがよい。また、フィルム状の接着シートタイプのものを用いてもよい。具体的には、エポキシ系、アクリル系、ポリイミド系、合成ゴム系などの接着剤や接着シートを挙げることができる。

また、接着剤層９９を設けることなく封止層９５とメタル電極層１８との隙間部分を空けたままにしておき、窒素等の不活性ガス雰囲気中において上記有機ＥＬ素子側基板７０および有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１０の周縁部をシール剤により封止し、中空の内部に酸化バリウム等の捕水剤を備えるようにしてもよい。

電源からの配線形態は、例えば、図２に示されるように、電源Ｐの一方の極から各々のＴＦＴ７５に至る配線２０１と、電源の他方の極から上面透明電極層８５に至る配線２０２−２０３と、電源の他方の極からメタル補助電極層１５に至る配線２０２−２０４と、を有し構成される。有機ＥＬ素子８０を発光させるための配線回路が配線２０１と配線２０２−２０３であり、ＴＦＴ側の電流をカラーフィルタ側のメタル補助電極層１５へ逃がして電圧降下を防止するための配線回路が配線２０１と配線２０４−２０２である。

このような構成を採択することによって、前述した用に有機ＥＬ層８３を有する有機ＥＬ素子側基板７０からの電流を、凸状柱１７の頂部および側部に形成されたメタル電極層１８とメタル補助電極層１５を介してカラーフィルタ１０側に導いて逃すことにより、電圧降下を防ぐように作用させることが可能となる。

なお、上記の実施形態においては、好適な態様として、白色発光層を備える有機ＥＬ層から発光される白色の光を、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇおよび青色着色層１３Ｂを備えるカラーフィルタを用いてＲＧＢの３色で発光させる方式を取り挙げて説明した。しかし、この方式に限定されることなく、例えば、青色発光の有機ＥＬ層を、青色の光を吸収して緑や赤の色で発光させる色変換層（ＣＣＭ）を用いてＲＧＢの３色で発光させるいわゆる青色ＥＬ色変換（ＣＣＭ）フルカラー方式や、ＲＧＢ発光する有機ＥＬ素子を画素ごとに塗り分けるいわゆるＲＧＢ発光層並置フルカラー方式のいずれにおいても本発明の要部の構成を適用させることができる。

＜第２の実施形態＞
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの第２の実施形態について説明する。なお、以降の説明は、カラーフィルタのみの説明とし、これと一体化・接合される有機ＥＬ素子側基板、および有機エレクトロルミネッセンス表示装置の説明については省略する。また、説明の便宜上、上記図１〜３に示した構成と同じ構成については、同じ符号を用いることとする。

図４は、本発明のカラーフィルタの第２の実施形態を説明するための概略断面図である。

このカラーフィルタ２０は、図１〜３に示したカラーフィルタ１０と同様に、透明基板１１、画素部分である着色層１３、非画素エリア１２としての遮光部１２ａを有しており、遮光部１２ａの間に、着色層１３として、赤色着色層１３Ｒ、緑色着色層１３Ｇ、青色着色層１３Ｂの他、透明着色層１３Ｗを有している。また、オーバーコート層は有しておらず、遮光部１２ａ上に直接メタル補助電極層１５が設けられているとともに、凸状柱１７も遮光部１２ａ上に直接設けられている。そして、凸状柱１７の頂部および側部にはメタル電極層１８が形成されており、さらに、当該側部に位置するメタル電極層１８は、赤色着色剤からなる層１９Ｒ、緑色着色剤からなる層１９Ｇ、および青色着色剤からなる層１９Ｂを順次積層することで被覆されている。

このように、本発明のカラーフィルタにおいては、凸状柱１７の側部に位置するメタル電極層１８を着色剤で被覆するにあたり、三色すべての着色剤を用いた積層構造とすることもできる。これにより３色の着色層（Ｒ・Ｇ・Ｂ）から発せられる光を効率良く吸収し、反射を防止することができる。
＜第３の実施形態＞
次に、本発明の有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタの第３の実施形態について説明する。

図５は、本発明のカラーフィルタの第３の実施形態を説明するための概略断面図である。

このカラーフィルタ２５は、図４に示したカラーフィルタ２０と基本的な構造は同じであり、凸状柱１７の側部に位置するメタル電極層１８が、黒色着色剤からなる層１９ＢＫで被覆されている。

このように、本発明のカラーフィルタにおいては、凸状柱１７の側部に位置するメタル電極層１８を、着色剤を含む層１９で被覆するにあたり、当該カラーフィルタ２５を構成する着色層１３では用いられていない色の着色剤を用いることもできる。

＜第４の実施形態＞
図６は、本発明のカラーフィルタの第４の実施形態を説明するための概略断面図である。

このカラーフィルタ３０は、図４に示す第２の実施形態にかかるカラーフィルタ２０と基本的な構造は同じであり、凸状柱１７の側面に位置するメタル電極層１８は、青色着色剤からなる層１９Ｂで被覆されている。そして、遮光部１２ａ上に形成されたメタル補助電極層１５も青色着色剤からなる層１９Ｂで被覆されていることに特徴を有している。

このように、本発明のカラーフィルタにおいては、凸状柱１７の側面に位置するメタル電極層１８のみならず、遮光部１２ａ上に形成されたメタル補助電極層１５も、着色層１３を形成する少なくとも一色の着色剤（本実施形態においては青色着色剤）で被覆してもよく、これにより、メタル補助電極層１５表面での光の反射を抑制することができる。

１０、２０、２５、３０…有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ
１１…透明基板
１２…非画素エリア
１３…着色層
１５…メタル補助電極層
１７…凸状柱
１８…メタル電極層
１９…着色剤を有する層
７０…有機ＥＬ素子側基板
１００…有機ＥＬ表示装置

Claims (7)

1. 透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、
   前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、
   前記凸状柱の頂部および側部にはメタル電極層が設けられており、
   前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱のメタル電極層とが導通しており、
   前記凸状柱の側部に設けられたメタル電極層は、着色剤を含む層で被覆されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板。
2. 前記非画素エリアは、複数のラインが交わる交差部分を有し、当該交差部分に前記凸状柱が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板。
3. 前記凸状柱は、基部側から頂部に至るまでにその径が漸減するテーパー形状をなしていることを特徴とする請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板。
4. 基板中央部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ１と、基板の外周部に配設された凸状柱の配設密度Ｄ２とを比較した場合、Ｄ１＞Ｄ２であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板。
5. 透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部にはメタル電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱のメタル電極層とが導通しており、前記凸状柱の側部に設けられたメタル電極層は、着色剤を含む層で被覆されている、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、
   前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、
   を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。
6. 前記着色剤を含む層に含まれる着色剤が、画素部に形成された前記着色層を形成する少なくとも一色の着色剤であることを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタ。
7. 透明基板と、当該透明基板上に形成された画素部分と、前記画素部分の周囲に形成された非画素エリアと、を有し、前記非画素エリアには、メタル補助電極層が設けられているとともに、当該非画素エリアの少なくとも一箇所以上に凸状柱が形成されており、前記凸状柱の頂部および側部にはメタル電極層が設けられており、前記非画素エリアのメタル補助電極層と前記凸状柱のメタル電極層とが導通しており、前記凸状柱の側部に設けられたメタル電極層は、着色剤を含む層で被覆されている、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるカラーフィルタ用基板と、前記カラーフィルタ用基板の画素部分に形成された着色層と、
   を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置用カラーフィルタと、
   基板および当該基板上に形成された有機ＥＬ層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子と、を有する有機ＥＬ素子側基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
   前記カラーフィルタと、前記有機ＥＬ素子側基板とは、前記着色層および前記有機エレクトロルミネッセンス素子が対向するように配置されており、
   前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層を挟持するように配置された一対の下面電極層と上面透明電極層を含み、
   前記凸状柱の頂部に形成された前記メタル電極層の部分と前記上面透明電極層とが接触して導通が図れるように形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。

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