JP5849650B2 - 窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法 - Google Patents
窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5849650B2 JP5849650B2 JP2011258878A JP2011258878A JP5849650B2 JP 5849650 B2 JP5849650 B2 JP 5849650B2 JP 2011258878 A JP2011258878 A JP 2011258878A JP 2011258878 A JP2011258878 A JP 2011258878A JP 5849650 B2 JP5849650 B2 JP 5849650B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum
- simple substance
- composite material
- magnesium
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims description 230
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 222
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 111
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 85
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 83
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 title claims description 54
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 52
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 52
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 115
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 85
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 84
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 82
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 44
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 31
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 17
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 17
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 claims description 11
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 6
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 42
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 19
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 16
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N asunaprevir Chemical compound O=C([C@@H]1C[C@H](CN1C(=O)[C@@H](NC(=O)OC(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=NC=C(C2=CC=C(Cl)C=C21)OC)N[C@]1(C(=O)NS(=O)(=O)C2CC2)C[C@H]1C=C XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229940125961 compound 24 Drugs 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- ZBELDPMWYXDLNY-UHFFFAOYSA-N methyl 9-(4-bromo-2-fluoroanilino)-[1,3]thiazolo[5,4-f]quinazoline-2-carboximidate Chemical compound C12=C3SC(C(=N)OC)=NC3=CC=C2N=CN=C1NC1=CC=C(Br)C=C1F ZBELDPMWYXDLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- VIJSPAIQWVPKQZ-BLECARSGSA-N (2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-acetamido-5-(diaminomethylideneamino)pentanoyl]amino]-4-methylpentanoyl]amino]-4,4-dimethylpentanoyl]amino]-4-methylpentanoyl]amino]propanoyl]amino]-5-(diaminomethylideneamino)pentanoic acid Chemical compound NC(=N)NCCC[C@@H](C(O)=O)NC(=O)[C@H](C)NC(=O)[C@H](CC(C)C)NC(=O)[C@H](CC(C)(C)C)NC(=O)[C@H](CC(C)C)NC(=O)[C@H](CCCNC(N)=N)NC(C)=O VIJSPAIQWVPKQZ-BLECARSGSA-N 0.000 description 1
- MPDDTAJMJCESGV-CTUHWIOQSA-M (3r,5r)-7-[2-(4-fluorophenyl)-5-[methyl-[(1r)-1-phenylethyl]carbamoyl]-4-propan-2-ylpyrazol-3-yl]-3,5-dihydroxyheptanoate Chemical compound C1([C@@H](C)N(C)C(=O)C2=NN(C(CC[C@@H](O)C[C@@H](O)CC([O-])=O)=C2C(C)C)C=2C=CC(F)=CC=2)=CC=CC=C1 MPDDTAJMJCESGV-CTUHWIOQSA-M 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 magnesium nitride Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1305—Bipolar Junction Transistor [BJT]
- H01L2924/13055—Insulated gate bipolar transistor [IGBT]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/191—Disposition
- H01L2924/19101—Disposition of discrete passive components
- H01L2924/19107—Disposition of discrete passive components off-chip wires
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Description
以下、本発明の第1の実施形態について、図1乃至図5を参照して説明する。本実施形態では、他金属としてマグネシウム(Mg)を用いる。マグネシウムは、アルミニウム(Al)の融点よりも低い温度で窒素(N2)と反応する物質である。
次に、本発明の第2の実施形態について、図6乃至図8を参照して説明する。第2の実施形態は、第1の実施形態に対してアルミニウム単体の形状が異なる。即ち、アルミニウム単体21は、その表面21a(図6では上面)側が平面に形成されていると共に、その裏面21b(図1では下面)側に多数のフィン22を有する形状に形成されている。この場合、アルミニウム単体21の表面21aの絶縁処理の対象とする箇所にマグネシウム23を配置し、マグネシウム23を配置した状態で、マグネシウム23とアルミニウム単体21とを加熱炉(図示せず)内に配置する。
次に、本発明の第3の実施形態について、図9及び図10を参照して説明する。第3の実施形態は、冷却器のケースを構成する形状に成形された2個のアルミニウム単体をろう付けで接合した後に、各々のアルミニウム単体の絶縁処理の対象とする箇所にマグネシウムを配置し、3元化合物を各々のアルミニウム単体の表面に形成することで、電気的絶縁性及び低熱抵抗性に優れた冷却器を製造するものである。
次に、本発明の第4の実施形態について、図11を参照して説明する。第4の実施形態は、冷却器のケースを構成する形状に成形された2個のアルミニウム単体の絶縁処理の対象とする箇所にマグネシウムを配置し、2個のアルミニウム単体をろう付けで接合すると同時に、3元化合物を各々のアルミニウム単体の表面に形成することで、電気的絶縁性及び低熱抵抗性に優れた冷却器を製造するものである。
次に、本発明の第5の実施形態について、図12乃至図17を参照して説明する。第5の実施形態は、細線状のアルミニウム単体を絶縁処理することで、電気的絶縁性及び低熱抵抗性に優れた細線状の複合材料を製造するものである。細線状のアルミニウムは、軸方向に直交する断面が円形であり、その円の直径が例えば0.01〜1[mm]である。
本発明は、上記した実施形態にのみ限定されるものではなく、以下のように変形又は拡張することができる。
Claims (5)
- アルミニウムと前記アルミニウム以外の金属である他金属とを含む混合物又は前記他金属単体をアルミニウム単体の表面上の少なくとも一部に配置し、前記混合物又は前記他金属単体と前記アルミニウム単体とを窒素雰囲気中でアルミニウムの融点以下で加熱することで、前記アルミニウムと前記他金属とを窒化し、窒素と前記アルミニウムと前記他金属とを含む多元化合物を当該アルミニウム単体の表面上の少なくとも一部に形成することを特徴とする窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法。
- 請求項1に記載した窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法において、
前記他金属としてマグネシウムを用いることを特徴とする窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法。 - 請求項1又は2に記載した窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法において、
前記混合物又は前記他金属として板状の混合物又は板状の他金属を用いることを特徴とする窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法。 - 請求項1又は2に記載した窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法において、
前記混合物又は前記他金属として粉末状の混合物又は粉末状の他金属を用いることを特徴とする窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法。 - 請求項1又は2に記載した窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法において、
前記他金属をスパッタ又は蒸着により前記アルミニウム単体上に膜状に形成することを特徴とする窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011258878A JP5849650B2 (ja) | 2011-04-13 | 2011-11-28 | 窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011089145 | 2011-04-13 | ||
JP2011089145 | 2011-04-13 | ||
JP2011258878A JP5849650B2 (ja) | 2011-04-13 | 2011-11-28 | 窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012231113A JP2012231113A (ja) | 2012-11-22 |
JP5849650B2 true JP5849650B2 (ja) | 2016-01-27 |
Family
ID=47432408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011258878A Active JP5849650B2 (ja) | 2011-04-13 | 2011-11-28 | 窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5849650B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015153869A (ja) * | 2014-02-13 | 2015-08-24 | 三菱マテリアル株式会社 | 絶縁層付冷却器、およびその製造方法、冷却器付パワーモジュール |
JP6409690B2 (ja) * | 2014-11-20 | 2018-10-24 | 株式会社デンソー | 冷却モジュール |
WO2016079970A1 (ja) * | 2014-11-20 | 2016-05-26 | 株式会社デンソー | 冷却モジュール |
US20240006271A1 (en) | 2020-10-08 | 2024-01-04 | Hitachi Astemo, Ltd. | Heating element cooling structure and power conversion device |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01280022A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-10 | Showa Denko Kk | 窒化アルミニウム繊維及びその製造方法 |
JP2732290B2 (ja) * | 1989-04-18 | 1998-03-25 | 日新製鋼株式会社 | 窒化アルミニウム基焼結体の製造方法 |
FR2671339B1 (fr) * | 1991-01-03 | 1993-08-27 | Pechiney Electrometallurgie | Procede de nitruration directe de metaux a bas point de fusion. |
JP3918161B2 (ja) * | 1997-04-17 | 2007-05-23 | 東洋アルミニウム株式会社 | 窒化アルミニウム質粉末の製造方法 |
JP2000290767A (ja) * | 1999-02-04 | 2000-10-17 | Ngk Insulators Ltd | アルミニウム含有部材の製造方法及びアルミニウム含有部材 |
JP3559195B2 (ja) * | 1999-05-11 | 2004-08-25 | 日本碍子株式会社 | 表面窒化改質部材 |
JP3891076B2 (ja) * | 2001-11-13 | 2007-03-07 | 株式会社茨木研究所 | 窒化アルミニウムの製造方法 |
JP4874013B2 (ja) * | 2006-06-28 | 2012-02-08 | 有限会社Tcfm | 窒化アルミニウムの製造方法及び窒化装置 |
US7833922B2 (en) * | 2009-01-08 | 2010-11-16 | Battelle Energy Alliance, Llc | Method of forming aluminum oxynitride material and bodies formed by such methods |
JP4826849B2 (ja) * | 2009-04-20 | 2011-11-30 | 株式会社デンソー | Al−AlN複合材料、Al−AlN複合材料の製造方法及び熱交換器 |
-
2011
- 2011-11-28 JP JP2011258878A patent/JP5849650B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012231113A (ja) | 2012-11-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Lei et al. | Microstructurally tailored thin β‐Ag2Se films toward commercial flexible thermoelectrics | |
US10468577B2 (en) | Method for manufacturing magnesium-based thermoelectric conversion material, method for manufacturing magnesium-based thermoelectric conversion element, magnesium-based thermoelectric conversion material, magnesium-based thermoelectric conversion element, and thermoelectric conversion device | |
US10573798B2 (en) | Thermoelectric conversion module and thermoelectric conversion device | |
EP3352233B1 (en) | Thermoelectric conversion module and thermoelectric conversion device | |
Li et al. | Ag-doped SnSe 2 as a promising mid-temperature thermoelectric material | |
JP5849650B2 (ja) | 窒素とアルミニウムと他金属とを含む多元化合物の複合材料の製造方法 | |
US20140209140A1 (en) | Stacked thermoelectric conversion module | |
Romanjek et al. | High-performance silicon–germanium-based thermoelectric modules for gas exhaust energy scavenging | |
CN102612745A (zh) | 电子设备用散热板及其制造方法 | |
JP2007523998A (ja) | 高性能熱電材料インジウム−コバルト−アンチモンの製造方法 | |
WO2017146095A1 (ja) | マグネシウム系熱電変換材料の製造方法、マグネシウム系熱電変換素子の製造方法、マグネシウム系熱電変換材料、マグネシウム系熱電変換素子、熱電変換装置 | |
JP5520815B2 (ja) | 絶縁基板およびパワーモジュール用ベース | |
WO2014064945A1 (ja) | 熱電変換モジュール | |
JPH0555640A (ja) | 熱電変換素子の製造方法及び該製造方法により製造された熱電変換素子 | |
JP2008124361A (ja) | 熱電変換モジュール | |
Tashiro et al. | Investigation of interfacial reactions between metallic substrates and n-type bulk bismuth telluride thermoelectric material | |
JP6498040B2 (ja) | アルミニウムと炭素粒子との複合体及び絶縁基板 | |
CN108028306A (zh) | 热电转换模块及热电转换装置 | |
TWI768045B (zh) | 鎂系熱電變換材料、鎂系熱電變換元件、及鎂系熱電變換材料之製造方法 | |
JP2005016836A (ja) | 冷却装置 | |
WO2023145340A1 (ja) | 熱電変換モジュール及び熱電変換システム | |
US20240381773A1 (en) | Thermoelectric conversion module and thermoelectric conversion system | |
WO2023145337A1 (ja) | 熱電変換材料、熱電変換材料用組成物、熱電変換素子、熱電変換モジュール、熱電変換システム、熱電変換材料用組成物の製造方法、及び熱電変換材料の製造方法 | |
WO2022114239A1 (ja) | 熱電材料、熱電変換素子、熱電発電モジュールおよびペルチェ冷却器 | |
Wu et al. | Constructing high-performance bulk thermoelectric composites by incorporating uniformly dispersed fullerene sub-nanoclusters |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140207 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150303 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150422 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150721 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150902 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20151104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151117 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5849650 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |