JP5720574B2 - 着色ポリイミド成形体及びその製造方法 - Google Patents
着色ポリイミド成形体及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5720574B2 JP5720574B2 JP2011535478A JP2011535478A JP5720574B2 JP 5720574 B2 JP5720574 B2 JP 5720574B2 JP 2011535478 A JP2011535478 A JP 2011535478A JP 2011535478 A JP2011535478 A JP 2011535478A JP 5720574 B2 JP5720574 B2 JP 5720574B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyamic acid
- film
- polyimide
- colored
- porous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims description 204
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 title claims description 188
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 36
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims description 206
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 96
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 85
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 76
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 69
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 53
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 51
- -1 ferrocene compound Chemical class 0.000 claims description 45
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 33
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 23
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 20
- 238000004040 coloring Methods 0.000 claims description 19
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 18
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 14
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 14
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical group NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 9
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 claims description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 3
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 225
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 171
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 39
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 30
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 25
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 19
- 230000008859 change Effects 0.000 description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Substances C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 13
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 11
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical class [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 6
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 6
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 5
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000006358 imidation reaction Methods 0.000 description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 5
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 5
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 4
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 4
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 4
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 208000016261 weight loss Diseases 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbenzidine Chemical group C1=C(N)C(C)=CC(C=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 NUIURNJTPRWVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LBPVOEHZEWAJKQ-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 LBPVOEHZEWAJKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POXPSTWTPRGRDO-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminophenyl)phenyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(C=2C=CC(=CC=2)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 POXPSTWTPRGRDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 LFBALUPVVFCEPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methylphenyl)-3-methylaniline Chemical group CC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C QYIMZXITLDTULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOVVHULZWVFIOX-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenyl)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 BOVVHULZWVFIOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 3
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 3
- UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N cyclohexatrienamine Chemical group NC1=CC=C=C[CH]1 UKJLNMAFNRKWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 3
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007966 viscous suspension Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 3
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2-methylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1CC1=CC=CC=C1 FBHPRUXJQNWTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyloxan-4-one Chemical compound CC1(C)CC(=O)CC(C)(C)O1 NOGFHTGYPKWWRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC(C)=C1 JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ILCOCZBHMDEIAI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-octadecoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOCCOCCO ILCOCZBHMDEIAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1C NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CN=CC(C)=C1 HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWNABCFITWBKEM-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenyl)phenyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(C=2C=C(C=CC=2)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 WWNABCFITWBKEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenyl)phenyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(C=2C=CC(N)=CC=2)C=C1 QBSMHWVGUPQNJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPMWEFXCIYCJSA-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol monododecyl ether Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCOCCOCCOCCO WPMWEFXCIYCJSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N butanoyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC(=O)CCC YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 150000004712 monophosphates Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- WRKCIHRWQZQBOL-UHFFFAOYSA-N octyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(O)=O WRKCIHRWQZQBOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 2
- GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylimidazole Chemical compound CC1=NC=CN1C GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- WDKIARLEQFHVKC-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopenta-1,3-dien-1-ylethanone;iron(2+) Chemical compound [Fe+2].CC(=O)C1=CC=C[CH-]1.CC(=O)C1=CC=C[CH-]1 WDKIARLEQFHVKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSHOPPGMNYULAD-UHFFFAOYSA-N 1-tridecoxytridecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCCC CSHOPPGMNYULAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLYCRLGLCUXUPO-UHFFFAOYSA-N 2,6-diaminotoluene Chemical compound CC1=C(N)C=CC=C1N RLYCRLGLCUXUPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHDSBTKCTUXBEG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1OC1=CC=CC=C1OC1=CC=CC=C1N QHDSBTKCTUXBEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXPYJVUYLVNEBB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-carboxybenzoyl)oxycarbonylbenzoyl]oxycarbonylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O MXPYJVUYLVNEBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWAFONKLAVPSGE-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]ethyl tridecyl hydrogen phosphate Chemical compound P(=O)(OCCCCCCCCCCCCC)(O)OCCOCCOCCO OWAFONKLAVPSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVYLAOQBFOJZNX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2,2-dimethylpropoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)(C)COCCOCCOCCOCCO DVYLAOQBFOJZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dichlorobenzidine Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C(Cl)=C1 HUWXDEQWWKGHRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFEXPVDGVLNUSC-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfanylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(SC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 JFEXPVDGVLNUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMPZWXKBGSQATE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC(N)=C1 ZMPZWXKBGSQATE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(CC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGWQCROGAHMWSU-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=CC(N)=C1 FGWQCROGAHMWSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVUCUHVQYAPMEU-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(C(C=2C=C(N)C=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 UVUCUHVQYAPMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVXYMCJCMDTSQA-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=CC(N)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC(N)=C1 DVXYMCJCMDTSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFBKIKKAUTUAHK-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)-4-(trifluoromethyl)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C(=CC=2)C(F)(F)F)=C1 WFBKIKKAUTUAHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBUNNYTXPDCASY-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[2-[3-(3-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(C=CC=2)C(C=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 GBUNNYTXPDCASY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWUJUIPIZSDTR-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[2-[3-(3-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=CC=1C(C)(C)C(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=CC(N)=C1 FJWUJUIPIZSDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZBHMJRTCUJCBO-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(OC=4C=C(N)C=CC=4)C=CC=3)C=CC=2)=C1 GZBHMJRTCUJCBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFIONUVRAOILLH-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[3-(3-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group NC1=CC=CC(OC=2C=C(C=CC=2)C=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 MFIONUVRAOILLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLTIRYJAWQHSQS-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[3-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(C=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 YLTIRYJAWQHSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLFCXXUMDWEXKG-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[[3-(3-aminophenoxy)phenyl]methyl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(CC=3C=C(OC=4C=C(N)C=CC=4)C=CC=3)C=CC=2)=C1 OLFCXXUMDWEXKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYRFBMFAUFUULG-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[2-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=C(N)C=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 NYRFBMFAUFUULG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQZOFDAHZVLQJO-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(OC=3C=CC(OC=4C=C(N)C=CC=4)=CC=3)=CC=2)=C1 NQZOFDAHZVLQJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JERFEOKUSPGKGV-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfanylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(SC=3C=CC(OC=4C=C(N)C=CC=4)=CC=3)=CC=2)=C1 JERFEOKUSPGKGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMXOEWEUZTWAK-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[[4-(3-aminophenoxy)phenyl]methyl]phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(CC=3C=CC(OC=4C=C(N)C=CC=4)=CC=3)=CC=2)=C1 YSMXOEWEUZTWAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylene bis(2-methylaniline) Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=CC=2)=C1 WECDUOXQLAIPQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YARZEPAVWOMMHZ-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxy-4-phenylcyclohexa-1,5-dien-1-yl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1C=C(C=2C=C(C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)C=CC1(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 YARZEPAVWOMMHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILWHDNLOJCHNJ-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfanylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1SC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 VILWHDNLOJCHNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNLCDRXVEPWSBQ-UHFFFAOYSA-N 4-(4,5-dicarboxy-5-phenylcyclohexa-1,3-dien-1-yl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C=2C=C(C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)CC1(C(O)=O)C1=CC=CC=C1 QNLCDRXVEPWSBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJOAIOIVLVUPST-UHFFFAOYSA-N 4-(4-amino-2-methoxyphenyl)-3-methoxyaniline Chemical compound COC1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1OC YJOAIOIVLVUPST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MITHMOYLTXMLRB-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)sulfinylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MITHMOYLTXMLRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMHOXRVODFQGCA-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3,5-dimethylphenyl)methyl]-2,6-dimethylaniline Chemical compound CC1=C(N)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(N)=C(C)C=2)=C1 OMHOXRVODFQGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(N)C=C1 BEKFRNOZJSYWKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYZPDAUOQGFBKT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[2-[2-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC=C(OC=2C=C(C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 JYZPDAUOQGFBKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQUSLIBGUTZKJZ-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenoxy]phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=C(C(C(O)=O)=CC=2)C(O)=O)=C1 GQUSLIBGUTZKJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJMZKMOQJDOAIE-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[2-[3-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(C(C=2C=C(OC=3C=CC(N)=CC=3)C=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 WJMZKMOQJDOAIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOCLRAYUOZLPKA-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[2-[3-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=CC=1C(C)(C)C(C=1)=CC=CC=1OC1=CC=C(N)C=C1 LOCLRAYUOZLPKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCJSCAOEKCHDQO-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=CC(N)=CC=3)C=CC=2)=C1 HCJSCAOEKCHDQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVIGQQBEFCXWRW-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[3-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(C=2C=C(OC=3C=CC(N)=CC=3)C=CC=2)=C1 WVIGQQBEFCXWRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZZOONBAZHZSEB-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[3-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(OC=3C=CC(N)=CC=3)C=CC=2)=C1 VZZOONBAZHZSEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXZCKKLBICAHRA-UHFFFAOYSA-N 4-[3-[[3-(4-aminophenoxy)phenyl]methyl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(CC=2C=C(OC=3C=CC(N)=CC=3)C=CC=2)=C1 IXZCKKLBICAHRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDFYRFKAYFZVNH-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 LDFYRFKAYFZVNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJCCVNKHRXIAHZ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methyl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 PJCCVNKHRXIAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical group FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPAQFJJCWGSXGJ-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-(4-aminophenyl)benzamide Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1NC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 XPAQFJJCWGSXGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAWZAONCXMJLFT-UHFFFAOYSA-N 4-propylpyridine Chemical group CCCC1=CC=NC=C1 JAWZAONCXMJLFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 5-[2-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)=C1 QHHKLPCQTTWFSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBTGUNMUUYNPLH-UHFFFAOYSA-N 5-[4-[(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-yl)oxy]phenoxy]-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(OC2=CC=C(C=C2)OC=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 BBTGUNMUUYNPLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWXZXCZBMQPOBF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzimidazole Chemical compound CC1=CC=C2N=CNC2=C1 RWXZXCZBMQPOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWFXMGRDAJSUQG-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)[C-]1C(=CC=C1)C(C)=O.[CH-]1C=CC=C1.[Fe+2] Chemical compound C(C)(=O)[C-]1C(=CC=C1)C(C)=O.[CH-]1C=CC=C1.[Fe+2] XWFXMGRDAJSUQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGFCWFRSSOMWDF-UHFFFAOYSA-N C=C.P(O)(O)(O)=O.C=C Chemical compound C=C.P(O)(O)(O)=O.C=C HGFCWFRSSOMWDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N Diphenyl sulfoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)C1=CC=CC=C1 JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANWIAADRJNGQCQ-UHFFFAOYSA-N NC=1C=C(C=CC1)C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)N.NC1=CC=C(C(=O)NC2=CC=C(C=C2)N)C=C1 Chemical compound NC=1C=C(C=CC1)C1=CC(=CC=C1)C1=CC(=CC=C1)N.NC1=CC=C(C(=O)NC2=CC=C(C=C2)N)C=C1 ANWIAADRJNGQCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTRILIHQYKVCBZ-UHFFFAOYSA-N NC=1C=C(OC2=CC=C(C=C2)C(=O)C2=CC=C(C=C2)OC2=CC(=CC=C2)N)C=CC1.NC1=CC=C(OC=2C=C(C=CC2)C(=O)C2=CC(=CC=C2)OC2=CC=C(C=C2)N)C=C1 Chemical compound NC=1C=C(OC2=CC=C(C=C2)C(=O)C2=CC=C(C=C2)OC2=CC(=CC=C2)N)C=CC1.NC1=CC=C(OC=2C=C(C=CC2)C(=O)C2=CC(=CC=C2)OC2=CC=C(C=C2)N)C=C1 ZTRILIHQYKVCBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHOMKOPTBSYOCI-UHFFFAOYSA-N [Fe].c1cccc1.c1ccc(c1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound [Fe].c1cccc1.c1ccc(c1)C1=CC=CC=C1 IHOMKOPTBSYOCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDLNATOTGAPSLR-UHFFFAOYSA-N [ethoxy(hydroxy)phosphoryl] diethyl phosphate Chemical compound CCOP(O)(=O)OP(=O)(OCC)OCC NDLNATOTGAPSLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- KYJFTSJZXHMIEL-UHFFFAOYSA-N bis(3-amino-4-chlorophenyl)methanone Chemical compound C1=C(Cl)C(N)=CC(C(=O)C=2C=C(N)C(Cl)=CC=2)=C1 KYJFTSJZXHMIEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQHONQTZEHHWKX-UHFFFAOYSA-N bis(3-amino-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound C1=C(N)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C(N)=C1 BQHONQTZEHHWKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminophenyl)methanone Chemical compound NC1=CC=CC(C(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 TUQQUUXMCKXGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTYCLLYQJOQSB-UHFFFAOYSA-N bis[3-(3-aminophenoxy)phenyl]methanone Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(C=CC=2)C(=O)C=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 CCTYCLLYQJOQSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPCCFJZBAILZNL-UHFFFAOYSA-N bis[3-amino-4-(4-phenylphenoxy)phenyl]methanone Chemical compound NC1=CC(C(=O)C=2C=C(N)C(OC=3C=CC(=CC=3)C=3C=CC=CC=3)=CC=2)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 VPCCFJZBAILZNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDYQEILXDCDTR-UHFFFAOYSA-N bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 LSDYQEILXDCDTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 239000011300 coal pitch Substances 0.000 description 1
- 239000011280 coal tar Substances 0.000 description 1
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSCUSVNBJPMSBE-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene 1-cyclopenta-2,4-dien-1-yl-N-methylmethanamine iron(2+) Chemical compound [Fe++].c1cc[cH-]c1.CNC[c-]1cccc1 FSCUSVNBJPMSBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSHTTYWCNWNGII-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene 2-(2,3-dimethylcyclopenta-2,4-dien-1-yl)ethanamine iron(2+) Chemical compound [Fe++].c1cc[cH-]c1.Cc1cc[c-](CCN)c1C YSHTTYWCNWNGII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYATMWZHXSTSP-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene 5-(1-cyclopenta-2,4-dien-1-ylethyl)cyclopenta-1,3-diene iron(2+) Chemical compound [Fe++].[Fe++].c1cc[cH-]c1.c1cc[cH-]c1.CC([c-]1cccc1)[c-]1cccc1 SCYATMWZHXSTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTLXUGOVTIJBAP-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene 5-(2-cyclopenta-2,4-dien-1-ylethyl)cyclopenta-1,3-diene iron(2+) Chemical compound [Fe++].[Fe++].c1cc[cH-]c1.c1cc[cH-]c1.C(C[c-]1cccc1)[c-]1cccc1 UTLXUGOVTIJBAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZILCTNWIPQCEPU-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene cyclopenta-2,4-diene-1-sulfonic acid iron(2+) Chemical compound [Fe++].c1cc[cH-]c1.OS(=O)(=O)[c-]1cccc1 ZILCTNWIPQCEPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJWHJJGNVKMMKT-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene iron(2+) pyrrol-1-ide Chemical compound [Fe++].c1cc[cH-]c1.c1cc[n-]c1 RJWHJJGNVKMMKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNPXCFINMKSQPQ-UHFFFAOYSA-N dicetyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCC RNPXCFINMKSQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093541 dicetylphosphate Drugs 0.000 description 1
- JTXUVYOABGUBMX-UHFFFAOYSA-N didodecyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCCCCCC JTXUVYOABGUBMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- FRXGWNKDEMTFPL-UHFFFAOYSA-N dioctadecyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC FRXGWNKDEMTFPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N dioctyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCC HTDKEJXHILZNPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001177 diphosphate Substances 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J diphosphate(4-) Chemical compound [O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical class OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N dipropylamine Chemical compound CCCNCCC WEHWNAOGRSTTBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- CYFHLEMYBPQRGN-UHFFFAOYSA-N ditetradecyl hydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOP(O)(=O)OCCCCCCCCCCCCCC CYFHLEMYBPQRGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVACALAUIQMRDF-UHFFFAOYSA-N dodecyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOP(O)(O)=O TVACALAUIQMRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- ZUVCYFMOHFTGDM-UHFFFAOYSA-N hexadecyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOP(O)(O)=O ZUVCYFMOHFTGDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000012417 linear regression Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000001471 micro-filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- UHGIMQLJWRAPLT-UHFFFAOYSA-N octadecyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOP(O)(O)=O UHGIMQLJWRAPLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000011301 petroleum pitch Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- UJDCDJDPWCGFTO-UHFFFAOYSA-N phosphono hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OP(O)(O)=O UJDCDJDPWCGFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 230000002980 postoperative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000011269 tar Substances 0.000 description 1
- KRIXEEBVZRZHOS-UHFFFAOYSA-N tetradecyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCOP(O)(O)=O KRIXEEBVZRZHOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 238000004260 weight control Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/20—Compounding polymers with additives, e.g. colouring
- C08J3/205—Compounding polymers with additives, e.g. colouring in the presence of a continuous liquid phase
- C08J3/21—Compounding polymers with additives, e.g. colouring in the presence of a continuous liquid phase the polymer being premixed with a liquid phase
- C08J3/212—Compounding polymers with additives, e.g. colouring in the presence of a continuous liquid phase the polymer being premixed with a liquid phase and solid additives
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/0066—Use of inorganic compounding ingredients
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/28—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof by elimination of a liquid phase from a macromolecular composition or article, e.g. drying of coagulum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J9/00—Working-up of macromolecular substances to porous or cellular articles or materials; After-treatment thereof
- C08J9/34—Chemical features in the manufacture of articles consisting of a foamed macromolecular core and a macromolecular surface layer having a higher density than the core
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
- C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2201/00—Foams characterised by the foaming process
- C08J2201/04—Foams characterised by the foaming process characterised by the elimination of a liquid or solid component, e.g. precipitation, leaching out, evaporation
- C08J2201/05—Elimination by evaporation or heat degradation of a liquid phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
- C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/249921—Web or sheet containing structurally defined element or component
- Y10T428/249953—Composite having voids in a component [e.g., porous, cellular, etc.]
- Y10T428/249981—Plural void-containing components
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
Description
例えば、特許文献1には、ポリアミック酸中に染料を混入した着色ポリイミド樹脂材料を用いて着色樹脂パターンを形成した後、熱処理することによって硬化させるに際し、着色ポリイミド樹脂材料中に予め芳香族ジアミンを加え、熱処理によって、その芳香族ジアミンを介して染料をポリイミド化した高分子マトリックスと結合させる着色樹脂パターンの色溶出防止方法が開示されている。
特許文献2には、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂肪族直鎖を有する芳香族ジアミン、及びシロキサンジアミンから得られるポリイミド樹脂を主成分とする樹脂成分に対して、着色顔料が含有された電子部品被覆用着色ポリイミドフィルムが開示されている。
例えば、特許文献3には、直径約0.01〜10μmの貫通穴を有するポリイミド多孔膜、及びポリアミック酸ワニスのキャストフィルムに多孔質フィルムを積層した後、貧溶媒に浸漬することを特徴とするポリイミド多孔質膜の製造方法が開示されている。
しかし、多孔質膜の表面を着色すると、制御した多孔質膜の特性を失う可能性がある。
また、カーボンブラック等の顔料は、ポリマー溶液との溶解性がなく、均一な混合・分散状態を得るためには、カーボンブラック等の顔料の表面を改質したり、十分な混練を行うための特殊な混練機が必要となり、実用上多大な労力を有する。さらに得られる成形体は、表面外観に優れた物が容易に得られる訳ではなく、材料の組み合わせ、成形条件、混練条件等に合わせて試行錯誤し、最適条件を決定する必要がある。
さらに、カーボンブラック等の顔料を使用すると生産ラインが汚れるために、専用の製造ラインを準備するか、又はラインを全て分解して十分に洗浄する必要があり、多大な労力と費用、また多量の洗浄溶媒等の洗浄剤が必要となる。
(1)少なくともテトラカルボン酸成分とジアミン成分とから得られるポリアミック酸溶液と着色前駆体とを含むポリアミック酸溶液組成物、又はポリイミド溶液と着色前駆体とを含むポリイミド溶液組成物を成形した後、250℃以上で熱処理する工程を含み、前記着色前駆体が、アクリロニトリルを含むモノマーから得られる重合体、及び/又はフェロセン化合物である、着色ポリイミド成形体の製造方法。
(2)前記(1)に記載の方法により得られる着色ポリイミド成形体。
本発明の効果をより詳細に述べれば以下のとおりである。
本発明の着色ポリイミド成形体の製造方法は、熱イミド化工程においてポリアミック酸の存在の有無に関わらず自発的に熱分解、炭化して着色する着色前駆体を用いることから、ポリイミドやその添加物との組み合わせ、すなわち材料を設計する際の自由度が大きく、工業的に非常に有益である。
また、染料、顔料は熱イミド化工程や材料の使用環境下で熱分解により脱色するものがほとんどであるが、本発明で用いる着色前駆体は、室温、常態では透明、白色であっても、熱イミド化工程や高温使用環境下で熱分解して炭化物に変性することで着色することから、材料の長期高温化での使用においても脱色することなく初期の色相を維持することができるため、この着色前駆体を用いる本発明は工業的に非常に有益である。
(1)少なくともテトラカルボン酸成分とジアミン成分とから得られるポリアミック酸溶液と着色前駆体とを含むポリアミック酸溶液組成物を成形した後、250℃以上で熱処理する工程を含むこと(第1発明)、及び
(2)ポリイミド溶液と着色前駆体とを含むポリイミド溶液組成物を成形した後、250℃以上で熱処理する工程を含むこと(第2発明)、を特徴とする。
また、第1発明において、前記着色ポリイミド成形体が着色ポリイミド多孔質膜である場合、本発明の着色ポリイミド多孔質膜の製造方法は、前記ポリアミック酸溶液組成物を流延して得られるフィルムを、ポリアミック酸の貧溶媒に浸漬して多孔質ポリアミック酸フィルムを作製する工程、及び該多孔質ポリアミック酸フィルムを250℃以上で熱処理する工程を含むことを特徴とする(第3発明)。
第1発明は、少なくともテトラカルボン酸成分とジアミン成分とから得られるポリアミック酸溶液と着色前駆体とを含むポリアミック酸溶液組成物を成形した後、250℃以上で熱処理する工程を含むことを特徴とする。
ポリアミック酸は、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを重合して得られる。ポリアミック酸は、熱イミド化又は化学イミド化することにより閉環してポリイミドとすることができるポリイミド前駆体である。
テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPDA)、2,3,3’,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(a−BPDA)、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等のビフェニルテトラカルボン酸二無水物;オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホン−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィド二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,3,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、p−ビフェニレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、m−ターフェニル−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物、p−ターフェニル−3,4,3’,4’−テトラカルボン酸二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ビフェニル二無水物、2,2−ビス〔(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕プロパン二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、4,4’−(2,2−ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物等が挙げられる。また、2,3,3’,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸等の芳香族テトラカルボン酸を用いることもできる。
上記のテトラカルボン酸成分は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(i)ベンゼン核1つのべンゼンジアミンとしては、1,4−ジアミノベンゼン(パラフェニレンジアミン)、1,3−ジアミノベンゼン、2,4−ジアミノトルエン、2,6−ジアミノトルエン等が挙げられる。
(ii)ベンゼン核2つのアミンとしては、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DADE)、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル等のジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジカルボキシ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、ビス(4−アミノフェニル)スルフィド、4,4’−ジアミノベンズアニリド、3,3’−ジクロロベンジジン、3,3’−ジメチルベンジジン、2,2’−ジメチルベンジジン、3,3’−ジメトキシベンジジン、2,2’−ジメトキシベンジジン、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホキシド、3,4’−ジアミノジフェニルスルホキシド、4,4’−ジアミノジフェニルスルホキシド等が挙げられる。
上記のジアミン成分は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
(1)3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及びピロメリット酸二無水物から選ばれる成分を主成分として含むテトラカルボン酸成分、好ましくはテトラカルボン酸成分100モル%中、70モル%以上、さらに80モル%以上、特に90モル%以上含むテトラカルボン酸成分と、
(2)パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DADE)、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、o−トリジン、m−トリジン、4,4’−ジアミノベンズアニリド、1,3−ビス(3−アミノフェニル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェニル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン及び1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンから選ばれる成分を主成分として含むジアミン、好ましくはジアミン成分100モル%中、70モル%以上、さらに80モル%以上、特に90モル%以上含むジアミン成分とから得られるポリイミドが好ましい。
(1)3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物と、p−フェニレンジアミン又はp−フェニレンジアミン及びジアミノジフェニルエーテル類(4,4’−ジアミノジフェニルエーテル又は3,4’−ジアミノジフェニルエーテル)の組合せ、
(2)3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及びピロメリット酸二無水物と、p−フェニレンジアミン又はp−フェニレンジアミン及びジアミノジフェニルエーテル類(4,4’−ジアミノジフェニルエーテル又は3,4’−ジアミノジフェニルエーテル)の組合せ、
(3)ピロメリット酸二無水物と、p−フェニレンジアミン及びジアミノジフェニルエーテル類(4,4’−ジアミノジフェニルエーテル又は3,4’−ジアミノジフェニルエーテル)の組合せ等が挙げられる。
これらの組合せにより得られるポリイミドは、プリント配線板、フレキシブルプリント基板、TABやCOFテープ、カバーシート、補強シート等の電子部品の素材として好適に用いられ、優れた機械的特性を有し、長期耐熱性を有し、耐加水分解性に優れ、熱分解開始温度が高く、難燃性に優れるために好ましい。
ポリアミック酸溶液は、有機極性溶媒の存在下でテトラカルボン酸二無水物とジアミンを重合反応させて得られる溶液であってもよく、ポリアミック酸を有機極性溶媒に溶解させて得られる溶液であってもよい。
前記溶媒としては特に制限はない。例えば、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素等の有機極性溶媒等が挙げられ、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)等が好ましい。
ポリアミック酸の製造は、例えば、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを略等モルで重合することができる。その重合温度は、好ましくは約100℃以下、より好ましくは80℃以下、更に好ましくは0〜60℃、特に好ましくは20〜60℃の温度であり、その重合時間、好ましくは約0.2時間以上、より好ましくは0.3〜60時間である。
ポリアミック酸の製造時には、任意の分子量調整剤を添加することができる。
ポリアミック酸の重合反応を行うに際して、溶媒中の全モノマーの濃度は、使用する目的や製造する目的に応じて適宜選択すればよく、例えばポリアミック酸溶液は、溶媒中の全モノマーの濃度が、好ましくは5〜40質量%、より好ましくは6〜35質量%、更に好ましくは10〜30質量%であることが好ましい。
ポリアミック酸を熱イミド化する場合は、必要に応じて、イミド化触媒、有機リン含有化合物、無機微粒子、有機微粒子等の微粒子等をポリアミック酸溶液に添加することができる。また、ポリアミック酸を化学イミド化する場合は、必要に応じて、化学イミド化剤、脱水剤、無機微粒子、有機微粒子等の微粒子等をポリアミック酸溶液に添加することができる。ポリアミック酸溶液に前記成分を配合しても、着色前駆体が析出しない条件で行うことが好ましい。
イミド化触媒の使用量は、ポリアミック酸のアミド酸単位に対して0.01〜2倍当量、特に0.02〜1倍当量程度であることが好ましい。イミド化触媒を使用することによって、得られるポリイミドフィルムの物性、特に伸びや端裂抵抗が向上するので好ましい。
有機微粒子としては、溶媒に不要で250℃以上に加熱しても変質しない有機微粒子を挙げることができ、ポリイミド粒子、ポリアミド粒子、架橋性の粒子等を挙げることができる。
上記のイミド化触媒、有機リン含有化合物、無機微粒子、及び有機微粒子は、それぞれ単独で又は二種以上を組合せて使用することができる。
イミド化反応に伴い生成する水の脱水剤としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、無水安息香酸、無水フタル酸等の芳香族酸無水物等が挙げられるが、脂肪族酸無水物が好ましく、無水酢酸がより好ましい。
本発明において着色前駆体とは、250℃以上の熱処理により一部または全部が炭化して着色化物を生成する前駆体を意味する。
本発明で用いられる着色前駆体としては、ポリアミック酸溶液又はポリイミド溶液に均一に溶解し、250℃以上、好ましくは260℃以上、更に好ましくは280℃以上、より好ましくは300℃以上の熱処理、好ましくは空気等の酸素存在下での250℃以上、好ましくは260℃以上、更に好ましくは280℃以上、より好ましくは300℃以上の熱処理により熱分解し、炭化して着色化物を生成するものが好ましく、黒色系の着色化物を生成するものがより好ましく、炭素系着色前駆体がより好ましい。
着色前駆体は、加熱していくと一見炭素化物に見えるものになるが、組織的には炭素以外の異元素を含み、層構造、芳香族架橋構造、四面体炭素を含む無秩序構造のものを含む。
炭素系着色前駆体は特に制限されず、例えば、石油タール、石油ピッチ、石炭タール、石炭ピッチ等のタール又はピッチ、コークス、アクリロニトリルを含むモノマーから得られる重合体、フェロセン化合物(フェロセン及びフェロセン誘導体)等が挙げられる。これらの中では、アクリロニトリルを含むモノマーから得られる重合体及び/又はフェロセン化合物が好ましく、アクリロニトリルを含むモノマーから得られる重合体としてはポリアクリルニトリルが好ましい。
本発明におけるフェロセン誘導体とは、ジ−π−シクロペンタジエニル鉄錯体をいい、シクロペンタジエニル環のペンダント基として種々の置換基が結合していているものが挙げられる。例えば、ビスインデニル鉄(II)(ジベンズフェロセン)、1,1’−ジアセチルフェロセン、1,2−ジアセチルフェロセン、1,1−ジフェロセニルエタン、ジメチルアミノエチルフェロセン、メチルアミノメチルフェロセン、フェロセニルアセトニトリル、フェロセニルカルボナール、フェロセンスルホン酸、1,2−ジフェロセニルエタン、ジフェロセニルメタン、フェニルフェロセン、フェロセンカルボキシアルデヒド、Ω−フェロセニル脂肪酸、フェニルシロクペンタフェロセン、1,1’−(1,3−シクロペンチレン)フェロセン、フェニルシロクペンチルフェロセン、ベンゾイルフェロセン、アセチルフェロセン等が挙げられる。また、アザフェロセンのような複素環式π錯体も使用することができる。
ポリアミック酸溶液組成物は、ポリアミック酸溶液に前記着色前駆体を均一に溶解してなる溶液組成物である。なお、ポリアミック酸溶液組成物は、懸濁液又は透明の均一溶液であることが好ましい。
ポリアミック酸溶液組成物は、ポリアミック酸溶液に、着色前駆体を添加して混合する方法、ポリアミック酸の重合前に予め着色前駆体を溶媒に添加して重合する方法、ポリアミック酸の重合中に着色前駆体を添加して重合する方法等により製造することができる。
ポリアミック酸溶液組成物に含まれる着色前駆体、特に炭素系着色前駆体の配合量は、目的とする着色量により適宜選択すればよく、得られるポリイミド100質量部に対して、着色前駆体を好ましくは1〜60質量部、より好ましく1〜40質量部、更に好ましくは2〜40質量部、更に好ましくは2〜30質量部、特に好ましくは3〜25質量部配合して行うことが好ましい。60質量部以上配合しても着色効果は得られるが、着色前駆体の種類によっては得られる着色ポリイミド成形体の膜特性、特に力学特性が低下する場合があるので好ましくない。
第2発明は、ポリイミド溶液と着色前駆体とを含むポリイミド溶液組成物を成形した後、250℃以上で熱処理する工程を含むことを特徴とする。
第2発明で用いられるポリイミドとしては、成形温度で、溶媒に溶解するポリイミドを用いることができ、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを選択して組み合わせて、溶媒中で重合することにより溶媒に可溶なポリイミドを得ることができる。
ポリイミドを構成するテトラカルボン酸成分及びジミン成分は前記のとおりであり、テトラカルボン酸成分とジミン成分との好適な組み合わせも前記のとおりである。
ポリイミドの製造は、例えば、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを略等モルで重合することができる。その重合温度は、好ましくは130℃以上、より好ましくは150〜250℃、更に好ましくは170〜230℃の温度であり、その重合時間、好ましくは約0.2時間以上、より好ましくは0.3〜60時間である。
ポリイミドの製造時には、任意の分子量調整剤を添加することができる。
ポリイミドの重合反応を行うに際して、溶媒中の全モノマーの濃度は、使用する目的や製造する目的に応じて適宜選択すればよく、例えばポリイミド溶液は、溶媒中の全モノマーの濃度が、好ましくは5〜30質量%、より好ましくは6〜25質量%、更に好ましくは10〜20質量%であることが好ましい。
ポリイミド溶液組成物は、成形時の温度でポリイミド溶液に前記着色前駆体を均一に溶解してなる溶液組成物である。なお、ポリイミド溶液組成物は、懸濁液又は透明の均一溶液であることが好ましい。
ポリイミド溶液組成物は、ポリイミド溶液に、着色前駆体を添加して混合する方法、ポリイミドの重合前に予め着色前駆体を溶媒に添加して重合する方法、ポリイミドの重合中に着色前駆体を添加して重合する方法等により製造することができる。
ポリイミド溶液組成物に含まれる着色前駆体の配合量は、目的とする着色量により適宜選択すればよく、得られるポリイミド100質量部に対して、着色前駆体を好ましくは1〜60質量部、より好ましくは2〜40質量部、更に好ましくは2〜30質量部配合して行うことが好ましい。60質量部以上配合しても着色効果は得られるが、着色前駆体の種類によっては得られる着色ポリイミド成形体の膜特性、特に力学特性が低下する場合があるので好ましくない。
上記のイミド化触媒、有機リン含有化合物、無機微粒子、及び有機微粒子は、前記と同じであり、それぞれ単独で又は二種以上を組合せて使用することができる。
第1発明及び第2発明において、ポリアミック酸溶液組成物及びポリイミド溶液組成物の成形方法としては特に制限はなく、公知の方法を使用して、膜状、フィルム状、シート状、繊維状、管状等に成形することができる。より具体的には、以下の(i)〜(iii)の方法等が挙げられる。
(i)ポリアミック酸溶液組成物又はポリイミド溶液組成物を基板上に流延し、加熱乾燥又は減圧乾燥等により溶媒を揮発させた後、基板からフィルム又はシートを剥離する方法。
(ii)上記(i)等の方法により得たフィルム又はシート状成形体を所定の長さ及び幅に切り、繋ぎ合わせてベルト又はチューブを得る方法。
(iii)円筒状金型の内面又は外面にポリアミック酸溶液組成物又はポリイミド溶液組成物を塗布し、溶媒を揮発させ、そのまま加熱するか、又は一旦剥離して、内径を規定するための別金型の外周にはめ込み、加熱して、無端ベルト又はチューブ状成形体を得る方法。
ポリアミック酸溶液組成物を用いる着色ポリイミド成形体の製造方法の具体例としては、以下の(1)及び(2)等を挙げることができる。
(1)ポリアミック酸溶液組成物をフィルム状等に成形し、溶剤の一部又は全部を徐々に除去しながら、250℃以上、必要に応じて最高加熱温度350〜600℃に加熱処理して、イミド化と着色とを行う方法。
(2)ポリアミック酸溶液組成物をフィルム状等に成形し、その成形物を着色前駆体が着色しない温度、好ましくは50〜210℃、より好ましくは60〜200℃に加熱して、溶剤の一部又は全部を徐々に除去して前乾燥し(フィルム状であれば、支持体から剥離できる自己支持性を有するまで前乾燥し)、その後、着色前駆体が着色する温度である250℃以上、必要に応じて最高加熱温度350℃〜600℃に加熱処理して、イミド化と着色とを行う方法。
次いで、剥離した自己支持性フィルムを250℃以上の温度、好ましくは280〜600℃、より好ましくは310〜590℃、更に好ましくは320〜580℃、特に好ましくは350〜500℃で熱処理する。
熱処理時間はポリアミック酸を構成する酸成分とジアミン成分の組み合わせで、適宜選択すればよい。熱処理は、多段の条件で行うことができ、250℃以上の加熱では、ピンテンター、クリップ、枠等で、両端又は全周、長尺のフィルムでは長手方向に直角の方向の両端縁を固定して加熱処理を行うことが好ましい。熱処理は、熱風炉、赤外線加熱炉等の公知の種々の装置を使用して行うことができる。加熱時間は、適宜選択して行うことができるが、好ましくは5〜120分間、より好ましくは5〜60分間である。この熱処理によりイミド化及び/又は着色が進行する。
上記の方法はポリイミド溶液組成物にも適用することができる。
ポリイミド溶液組成物を用いる着色ポリイミド成形体の製造方法の具体例としては、以下の(1)及び(2)等を挙げることができる。
(1)ポリイミド溶液組成物をフィルム状等に成形し、溶剤の一部又は全部を徐々に除去しながら、250℃以上、好ましくは最高加熱温度350〜600℃に加熱処理して、着色する方法。
(2)ポリイミド溶液組成物をフィルム状等に成形し、その成形物を着色前駆体が着色しない温度、好ましくは50〜210℃、より好ましくは60〜200℃に加熱して、溶剤の一部又は全部を徐々に除去することにより、自己支持性になるまで前乾燥して、その後着色前駆体が着色する温度である250℃以上、好ましくは最高加熱温度350℃〜600℃に加熱処理して、着色する方法。
第3発明の着色ポリイミド多孔質膜の製造方法は、ポリアミック酸溶液組成物を流延して得られるフィルムを、ポリアミック酸の貧溶媒に浸漬して多孔質ポリアミック酸フィルムを作製する工程、及び該多孔質ポリアミック酸フィルムを250℃以上で熱処理する工程を含むことを特徴とする。
第3発明に用いられるポリアミック酸溶液組成物は、第1発明に用いられるポリアミック酸溶液組成物と同様である。
第3発明に用いられる着色前駆体の好ましい具体例は、第1発明に用いられる着色前駆体の好ましい具体例と同様である。
本発明の多孔質ポリイミドの製造方法では、まず、前記で得られたポリアミック酸溶液と、前記の着色前駆体とを混合して、着色前駆体がポリアミック酸溶液に均一に溶解しているポリアミック酸溶液組成物を調製し、これを基板上に流延して、フィルムを作成する。
化学イミド化で行う場合には、ポリアミック酸溶液組成物に触媒と脱水剤とを混合すると同時に、これを基板上に流延して、フィルムを作成することができる。
流延方法は特に限定されず、例えば、Tダイ、コンマコーター、ブレード等を用いて、ポリアミック酸溶液組成物をガラス板やステンレス板等の基板上にフィルム状に流延することができる。また、連続可動式のベルト上に、ポリアミック酸溶液組成物をフィルム状に断続的又は連続的に流延して、連続的にフィルム個片又は長尺状フィルムを製造することができる。ベルトは、ポリアミック酸溶液組成物及び後述する貧溶媒に影響を受けないものであればよく、ステンレス等の金属製、ポリテトラフルオロエチレン等の樹脂製を用いることができる。また、フィルム状に成形したポリアミック酸溶液組成物をそのまま貧溶媒中に投入することもできる。また、必要に応じて得られたフィルム状物の片面又は両面を、水蒸気等を含むガス(空気、不活性ガス等)、ポリオレフィンやフッ素系ポリオレフィンの多孔質材料、貧溶媒と溶媒の混合溶液等と接触させてもよい。
多孔質ポリアミック酸フィルムは、ポリアミック酸溶液組成物を流延して得られた前記のフィルム(無延伸)を、ポリアミック酸の貧溶媒に浸漬等により接触させて多孔質化することにより得ることができる。ポリアミック酸溶液組成物中の良溶媒を貧溶媒で置換することにより、ポリアミック酸の相分離現象を起こし、必要に応じて洗浄及び/又は乾燥を行った後、多孔質ポリアミック酸フィルムを得ることができる。
得られた多孔質ポリアミック酸フィルムは、必要に応じて洗浄及び/又は乾燥を行った後、250℃以上で熱処理する熱イミド化により、着色とイミド化とを同時に行い、着色ポリイミド多孔質膜とすることができる。この着色ポリイミド多孔質膜は、黒色系から茶色系に着色していることが好ましい。
ポリアミック酸溶液組成物を流延して得られたフィルムに積層することができる多孔フィルムとしては、以下の性質を有するものが好ましい。
(1)析出するポリアミック酸から容易に剥がれること。
(2)N−メチル−2−ピロリドン(NMP)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)等のポリアミック酸溶媒及び水、アルコール等の析出溶媒が適切な速度で透過することができる程度の透過性を有し、これらの溶媒と適度な親和性をもち、0.1〜数μmの孔が十分な密度で分散している構造を有すること。
(3)少なくとも片面が、作製しようとしている多孔膜に求められる程度以上の平滑性を有していること。
(4)ポリアミック酸溶液が浸漬した際にしわを発生しない程度の剛性を有すること。
上記の多孔フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、テフロン(登録商標)等からなり、孔径0.1〜5μm、厚み10〜100μm多孔フィルムが好適に用いられる。
ポリアミック酸の貧溶媒としては、ポリアミック酸の重合に用いられる重合溶媒と混和するものを用いることができる。例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、トリエチレングリコール、2−ブチルアルコール、2−プロピルアルコール、2−ヘキシルアルコール、シクロペンチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、フェノール、t−ブチルアルコール等のアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン等のケトン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等の有機溶媒が挙げられる。
これらの中でも、安全性及び得られる多孔質フィルムの均質性の観点から、水単独、又は、水とメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の1〜3の脂肪族アルコール、炭素数3〜6のケトン等の貧溶媒との混合溶媒が好ましい。
貧溶媒は、必要に応じてポリアミック酸の重合に用いた重合溶媒との混合溶媒を用いることができる。
貧溶媒の温度は、通常−30〜70℃、好ましくは0〜60℃、更に好ましくは10〜50℃である。
得られる多孔質ポリアミック酸フィルムは、用いるポリアミック酸の種類、ポリアミック酸溶液の固形分濃度、ポリアミック酸溶液組成物の溶液粘度、有機溶媒、凝固条件(温度、貧溶媒の種類等)等を適宜選択することにより、膜厚、空孔率、平均孔径等を適宜調整することができる。
本発明の製造方法によれば、種々の形態の多孔質ポリアミック酸フィルムを得ることができる。例えば、代表的な形態として、次の(1)〜(4)の形態の多孔質ポリアミック酸フィルムが挙げられる。
形態(1):両表面に緻密な表層がなく、膜内部にボイド(大きな空孔)も実質的に存在しない均質な多孔質フィルム。
形態(2):2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質フィルムであって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通している、いわゆるハニカムサンドウィッチ構造を有する多孔質フィルム。
形態(2)のフィルムを作製する場合は、ポリアミック酸溶液組成物中に、予め極性基を有する有機化合物を、ポリアミック酸100質量部に対して、1〜150質量部、好ましくは10〜100質量部、更に好ましくは20〜70質量部含有させておく必要がある。極性基を有する有機化合物としては、安息香酸、フタル酸等のカルボン酸基を有する有機化合物が好ましい。
形態(3):片面又は両表面に緻密な表層を有し、膜内部にボイド(大きな空孔)も実質的に存在しない対称又は非対称な多孔質フィルム。
形態(4):片面又は両表面に緻密な表層を有し、膜内部にボイド(大きな空孔)が多数存在する対称又は非対称な多孔質フィルム。
形態(1)及び(2)の多孔質ポリアミック酸フィルムを用いた着色ポリイミド多孔質膜の作製については、後術する。
本発明の着色ポリイミド多孔質膜は、前記の多孔質ポリアミック酸フィルムを250℃以上で熱処理することにより得ることができる。
熱処理においては、熱収縮によりフィルムの平滑性が損なわれる等の悪影響を抑制するため、例えば、多孔質ポリアミック酸フィルムの端部の一部又は全部、好ましくは両端部又は全端部(全周)を、ピン、チャック又はピンチロール等を用いて支持体に固定し、大気中で加熱することにより行うことができる。加熱温度は、好ましくは280〜500℃、より好ましくは300〜480℃、更に好ましくは330〜450℃である。加熱時間は、適宜選択して行うことができるが、好ましくは5〜120分間、より好ましくは5〜60分間である。この熱処理によりイミド化及び/又は着色が進行する。
イミド化反応に伴い生成する水は、加熱気流と共に反応系外に取り除くことができる。
得られる着色ポリイミド多孔質膜を構成するポリイミドは、IR測定法によるイミド化率が、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、更に好ましくは90%以上、特に好ましくは95%以上の耐熱性ポリマーである。
化学イミド化は、反応速度、粘度上昇の抑制、分子量制御等の観点から、触媒及び脱水剤の存在下で、通常20〜200℃、好ましくは25〜150℃、より好ましくは30〜100℃で行うことができる。
触媒としては、トリメチルアミン、トリエチレンジアミン等の脂肪族第3級アミン、ジメチルアニリン等の芳香族第3級アミン、イソキノリン、ピリジン、2−メチルピリジン、3−メチルピリジン、4−メチルピリジン、イミダール、ベンズイミダゾール等の複素環第3級アミン等が挙げられるが、複素環式第3級アミンが好ましく、3−メチルピリジン、4−メチルピリジン、イミダール、ベンズイミダゾールがより好ましい。
脱水剤としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、無水安息香酸、無水フタル酸等の芳香族酸無水物等が挙げられるが、脂肪族酸無水物が好ましく、無水酢酸がより好ましい。
<形態(A)着色ポリイミド多孔質膜の作製>
前記形態(1)の多孔質ポリアミック酸フィルム(無延伸)に、(i)該フィルムの片面又は両面に重合溶媒(貧溶媒を含んでもよい)等の保護溶媒をコーティングする、さらに必要に応じて放置する、又は(ii)該フィルムの片面又は両面にポリオレフィン等の多孔フィルムを積層する。その後、得られた積層体をポリアミック酸の貧溶媒に浸漬等により接触させて多孔質化する。多孔質ポリアミック酸フィルム中の良溶媒を貧溶媒で置換することにより、ポリアミック酸の相分離現象を起こし、必要に応じて洗浄及び/又は乾燥を行った後、多孔質ポリアミック酸フィルムを得ることができる。
得られた多孔質ポリアミック酸フィルムは、250℃で熱処理され、着色ポリイミド多孔質膜〔形態(A)〕とすることができる。
形態(A)の着色ポリイミド多孔質膜は、両表面に緻密な表層がなく、膜内部にボイド(大きな空孔)も実質的に存在しない均質な多孔質膜である。この多孔質膜の膜厚は好ましくは5〜100μm、より好ましくは10〜80μmであり、片面又は両面の表面に平均孔径が好ましくは0.01〜5μm、より好ましくは0.02〜2μm、更に好ましくは0.03〜1μmの孔を有し、該孔が一方の面から他の面に向かって非直線に連続する多孔質構造を有し、空孔率が好ましくは15〜80%、より好ましくは20〜70%、更に好ましくは25〜60%であり、ガーレー値(透気度)が好ましくは30〜1000秒/100cc、より好ましくは30〜1000秒/100cc、更に好ましくは30〜120秒/100ccであるものが望ましい。
前記形態(2)の多孔質ポリアミック酸フィルム(無延伸)を(i)大気中に放置するか、又はポリアミック酸溶液組成物を流延して得られた前記のフィルム(無延伸)に、(ii)該フィルムの片面又は両面に重合溶媒(貧溶媒を含んでもよい)等の保護溶媒をコーティングする、又は(iii)該フィルムの片面又は両面にポリオレフィン等の多孔フィルムを積層する。その後、得られた積層体を、ポリアミック酸の貧溶媒に浸漬等により接触させて多孔質化することにより得ることができる。ポリアミック酸溶液組成物中の良溶媒を貧溶媒で置換することにより、ポリアミック酸の相分離現象を起こし、必要に応じて洗浄及び/又は乾燥を行った後、多孔質ポリアミック酸フィルムを得ることができる。
得られた多孔質ポリアミック酸フィルムは、250℃で熱処理され、着色ポリイミド多孔質膜〔形態(B)〕とすることができる。
更に、250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、好ましくは5%以下、より好ましくは3%以下、更に好ましくは0〜1%である。また、ASTM D1204に準拠した200℃、2時間での膜平面方向における寸法安定性は、好ましくは±1%以内である。
なお、膜厚、平均孔径、空孔率、ガーレー値は、実施例に記載の方法で測定される。
I−1.ポリアミック酸溶液組成物の溶液粘度の測定
ポリアミック酸溶液組成物を密閉容器に入れ、30℃の恒温槽に10時間保持して得られたポリアミック酸溶液を測定溶液として、E型粘度計(東京計器株式会社製、高粘度用(EHD型)円錐平板型回転式、コーンローター:1°34’)を用いて、温度30±0.1℃の条件で溶液粘度を測定した。測定は3回行い、平均値を採用した。測定点に5%以上のばらつきがあった場合は、さらに2回の測定を行い、5点の平均値を採用した。
極限粘度数は、固有粘度と同義であり、重合体の無限希釈における還元粘度(重合体の質量濃度cに対する相対粘度の増加分ηrの比ηr/c)又はインヘレント粘度(相対粘度の自然対数の、重合体の質量濃度cに対する比)の極限値である。
下記のマーク−ホーウインク式(Mark-Houwink equation:ポリマーの固有粘度の分子量依存性を記述する式。)を用いることにより、極限粘度数から分子量を求めることができる。
[η]=K×Mr a
(式中、Mrは通常、分子量の1つ。aはポリマーと溶媒の種類で一義的に決まる定数である。)
極限粘度数の測定は、厳密にはθ溶媒を用いてθ状態の希薄溶液を用いて行うべきであるだが、測定対象であるポリアミック酸は溶媒分子との相互作用が大きくθ溶媒を作製することが困難である。ポリアミック酸の場合は極限粘度数の測定に良溶媒を用いてもマーク−ホーウインク式で分子量を算出できるという研究報告例があることから、本発明では、希釈溶媒としてN−メチル−2ピロリドン(以下、NMPという)を用いて、以下の手順で測定した。
(1)溶液濃度cが0.1,0.075,0.05,0.025,0.010〔g/dL〕になるように、測定対象のポリアミック酸のNMP溶液を調製した。溶液は、嫌気雰囲気中で1週間の間連続して攪拌操作を施した。
(2)ウベローデ型希釈粘度計を用いて30℃の恒温槽中で、NMPの流下時間を測定した。続けて、前記(1)で作製した溶液についても各々流下時間を測定した。いずれの測定も3回行い、平均値を採用した。測定時間のばらつきが3%以上であった場合は、更に2回の追加測定を行い、小さい値から3点の平均値を取り、採用値とした。
前記測定値から比粘度ηspを算出し、y軸をηsp/c、x軸をcにしたグラフを作成した(Hugginsプロット)。プロット点をグラフソフトで直線回帰分析を行い回帰直線の切片から極限粘度数を求めた。回帰直線のR2が0.900以下であった場合は、再度溶液を作製し、再測定を行った。
(1)膜厚
多孔質膜の膜厚の測定は、接触式厚み計を用いて行った。
(2)空孔率
所定の大きさに切取った多孔質膜の膜厚及び質量を測定し、目付質量から空孔率を次式によって求める。
空孔率=S×d×D/w×100
上式中、Sは多孔質膜の面積、dは膜厚、wは測定した質量、Dはポリイミドの密度をそれぞれ表す。ポリイミドの密度は1.34g/cm3とする。
(3)ガーレー値(透気度)
ガーレー値(0.879g/m2の圧力下で100ccの空気が多孔質膜を透過するのに要する秒数)の測定は、JIS P8117に準拠して行った。
多孔質膜表面の走査型電子顕微鏡写真より、200点以上の開孔部について孔面積を測定し、該孔面積の平均値から次式(式中、Saは孔面積の平均値である)に従って孔形状が真円であるとした際の平均孔径を計算より求めた。
平均孔径=2×(Sa/π)1/2
また、該孔面積から孔形状が真円であるとした際の直径を計算し、その最大値を最大孔径とした。
(5)ガラス転移温度
固体粘弾性アナライザーを用いて、引張モード、周波数10Hz、ひずみ2%、窒素ガス雰囲気、の条件で動的粘弾性測定を行い、その温度分散プロファイルにおいて損失正接が極大値を示す温度をガラス転移温度とした。
(6)寸法安定性
ASTM D1204に準拠し、200℃、2時間の条件での膜平面方向における寸法安定性を測定した。
(7)圧縮応力負荷後の膜厚変化率
測定する膜を3cm角の正方形に切り出し、格子状に9点にマジックで目印を付け接触式の厚み計で膜厚みを測定する。次に、平行度±10μm未満、温度分布±1℃の圧縮盤である高精度ホットプレスを用いて、測定対象膜を250℃、15分、0.5MPaの条件で圧縮する。続いて、膜を室温のSUS板の上に30分間静置した後に、接触式の膜厚み計で目印部分の膜厚みを測定する。9点での圧縮前後の膜厚変化率(%)を次式によって求めた。9点の平均値を膜厚み変化率とした。
膜厚変化率(%)=〔1−[(圧縮後の膜厚み)/(圧縮前の膜厚み)]〕×100
JIS K7361、7136及び7105、並びにASTM D1003に準拠したヘーズメーター(日本電色工業株式会社製、商品名:NDH5000)を用いて、膜の全光線透過率、濁度(ヘイズ)を測定した。
(9)色相
着色ポリイミド成形体(フィルム)の色相を、分光測色計(株式会社カラーテクノシステム社製、商品名:カラーロボIII)を用いて、測定物平面に対して透過の条件で測定した。測定に際しては減光フィルターを介して測定を行った。
また、ポリイミド多孔質膜の色相を、分光測色計(株式会社カラーテクノシステム社製、商品名:カラーロボIII)を用いて、測定物平面に対する投光角度45度の条件で測定した。測定するフィルムは白色体の上に静置して測定を行った。
結果は、L*a*b*表色系(ここで、L*は明度、a*は赤−緑方向の色度、b*は黄−青方向の色度を示す。)で各指数を数値化した。
ポリアクリロニトリル共重合体(三井化学株式会社製、商品名:バレックス2090S、以下「PAN」ともいう)のペレットを空気雰囲気下で室温から5℃/分の速度で加熱した際の熱重量減少率を測定した。結果を図1に示す。その結果、250℃付近から微小の重量減少が観察され、280℃では約0.2%、290℃では約0.5%、300℃では約2%、330℃では約8%の重量減少が発生することがわかった。これらの重量減少は、ポリアクリロニトリル分子中の切断及び架橋反応が同時に進行する形で炭素化が進んだことによるものであると考えられる。
以上の結果から、PANが本発明における着色前駆体として好ましく用いることができること、並びに本発明においてPANを着色前駆体として用いる場合には、250℃以上、好ましくは280℃以上、より好ましくは300℃以上の熱処理を施すことが好ましいことがわかる。
500mlのセパラブルフラスコに、N−メチルピロリドン(NMP)を溶媒とし、テトラカルボン酸成分として3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPDA)を、ジアミン成分として4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DADE)をモル比が1、ポリマー濃度が6質量%になる量を測り取って投入し、30℃で28時間重合反応させて、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液の固形分濃度は6質量%、極限粘度数は3.5であった。
得られたポリアミック酸100質量部に対してPAN(三井化学株式会社製、商品名:バレックス2090S)5質量部を投入した。その後、撹拌翼、窒素導入管、排気管を取り付けたセパラブルカバーで蓋をし、撹拌を開始した。20時間後、ポリアミック酸100質量部に対して、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸(BPDA)0.5質量部をフラスコ内に添加し、攪拌操作を継続した。40時間後に攪拌を終了し、フラスコ内のドープを加圧ろ過器(アドバンテック東洋株式会社製、粘調液用濾紙No.60使用)でろ過して、ポリアミック酸溶液組成物A1を得た。溶液は粘調な懸濁液体で、溶液粘度は410ポイズ(30℃)であった。
PANを添加しなかった以外は調製例101と同様の操作を行い、ポリアミック酸溶液組成物B1を得た。溶液は粘調な液体で溶液粘度は400ポイズ(30℃)あった。
500mlのセパラブルフラスコに、N−メチルピロリドン(NMP)を溶媒とし、テトラカルボン酸成分として3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(s−BPDA)を、ジアミン成分として4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(DADE)をモル比が1、ポリマー濃度が6質量%になる量を測り取って投入し、30℃で28時間重合反応させて、ポリアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液の極限粘度数は3.8であり、固形分濃度は6質量%であった。
得られたポリアミック酸100質量部に対してPAN(三井化学株式会社製、商品名:バレックス2090S)5質量部を投入した。その後、撹拌翼、窒素導入管、排気管を取り付けたセパラブルカバーで蓋をし、撹拌を開始した。20時間後、ポリアミック酸100質量部に対して、安息香酸30質量部、及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸1質量部をフラスコ内に添加し、攪拌操作を継続した。40時間後に攪拌を終了し、フラスコ内のドープを加圧ろ過器(アドバンテック東洋株式会社製、粘調液用濾紙No.60使用)でろ過して、ポリアミック酸溶液組成物A2を得た。溶液は粘調な懸濁液体で、溶液粘度は430ポイズ(30℃)であった。結果を表1に示す。
表1に示すように、PANの添加量を変化させた以外は調製例201と同様の操作を行い、ポリアミック酸溶液組成物B2、C2、D2を得た。溶液は粘調な懸濁液体であった。
調製例201において、ポリアミック酸100質量部に対して、フェロセン(和光純薬工業株式会社製)5質量部、安息香酸30質量部、及び3,3’、4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸1質量部を添加した以外は、調製例201と同様の操作を行い、ポリアミック酸溶液組成物E2を得た。溶液は粘調な液体で、溶液粘度は460ポイズ(30℃)であった。
PANを添加しなかった以外は調製例201と同様の操作を行い、ポリアミック酸溶液組成物F2を得た。溶液は粘調な液体で、溶液粘度は390ポイズ(30℃)であった。
安息香酸を添加しなかった以外は調製例203と同様の操作を行い、ポリアミック酸溶液組成物G2を得た。溶液は粘調な液体で、溶液粘度は450ポイズ(30℃)であった。
PANを添加しなかった以外は調製例207と同様の操作を行い、ポリアミック酸溶液組成物H2を得た。溶液は粘調な液体で、溶液粘度は425ポイズ(30℃)であった。
室温下、卓上自動コーターを用いて、表面に鏡面研磨を施したステンレス製の20cm角の基板上に、調製例101で得られたポリアミック酸溶液組成物A1を厚さ約300μmで、均一に流延塗布した。その後、熱風炉中に基板全体を入れ、平均10℃/分の昇温速度で360℃まで加熱し、そのまま5分間保持した後、徐々に冷却した。基板を熱風炉から取り出し、基板に張り付いたフィルムの四辺の周囲にカッターナイフで切り欠きを入れ、その後純水中に基板ごと24時間浸漬した。基板上から自然剥離したポリイミドフィルムを温度100℃で乾燥させ、膜厚みが20μmのポリイミドフィルムを得た。このフィルムはこげ茶色を呈していた。ポリイミドフィルムの全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表2に示す。
調製例102で得られたポリアミック酸溶液組成物B1を用いた以外は実施例101と同様の操作を行い、ポリイミドフィルムを得た。得られたフィルムは濃い黄色で透明であり、厚みは21μmであった。ポリイミドフィルムの全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表2に示す。
室温下、卓上自動コーターを用いて、表面に鏡面研磨を施したステンレス製の20cm角の基板上に、調製例201で得られたポリアミック酸溶液組成物A2を厚さ約120μmで、均一に流延塗布した。その後、90秒間、温度23℃、湿度40%の大気中に放置し、その後、ポリアミック酸の貧溶媒(水80質量%、NMP20質量%)、室温中に基板全体を浸漬した。浸漬後、8分間放置し、基板上にポリアミック酸膜を析出させた。その後、基板を浴中から取り出し、基板上に析出したポリアミック酸膜を剥離した後に、純水中に3分間浸漬し、温度23℃、湿度40%の大気中で乾燥させてポリアミック酸膜を得た。なお、このポリアミック酸膜の一部をサンプリングして色相測定を行った。ポリアミック酸膜の色相の測定結果を表3に示す。
得られたポリイミド多孔質膜は、膜厚が32μm、空孔率が79%、ガーレー値が22秒/100ccであった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基板側の表面には連通する孔を多数有する多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.19μm、最大孔径が10μm以下であった。また、ポリイミド多孔質膜の断面には複数のマクロボイドが存在し、膜横方向の長さ10μm以上のマクロボイドが多数確認でき、横方向の長さ5μm以上のボイド中、横方向の長さ(L)と膜厚み方向の長さ(d)との比(L/d)が0.5〜3の範囲に入るボイドの数は75%以上であった。すなわち、得られた多孔質膜は、2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有することが分かった。
ポリイミド多孔質膜のガラス転移温度は約290℃であり、寸法安定性は200℃で1%以内であった。250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
調製例202〜205で得られたポリアミック酸溶液組成物B2〜E2を用いた以外は実施例201と同様の操作を行い、ポリイミド多孔質膜を得た。得られたポリイミド多孔質膜の膜厚、空孔率、及びガーレー値を表3に示す。膜はいずれもこげ茶〜黒色で不透明であった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基板側の表面には連通する孔を多数有する多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.15〜0.20μmの範囲であり、最大孔径が10μm以下であった。また、ポリイミド多孔質膜の断面には複数のマクロボイドが存在し、前記(L/d)が0.5〜3の範囲に入るボイドの数は75%以上であった。すなわち、得られた多孔質膜は、2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有することが分かった。また、すべてのポリイミド多孔質膜について、寸法安定性は200℃で1%以内であり、前記圧縮応力負荷後の膜厚変化率は1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
室温下、卓上自動コーターを用いて、表面に鏡面研磨を施したステンレス製の20cm角の基板上に、調製例207で得られたポリアミック酸溶液組成物G2を厚さ約250μmで、均一に流延塗布した。基板上に塗布したポリアミック酸溶液の上に、ポリアミック酸溶液液面に対して100μmの間隔を持つドクターナイフを用いて、保護溶媒層としてNMPを均一に塗布し1分間静置した。その後、90秒間、温度23℃、湿度40%の大気中に放置し、ポリアミック酸の貧溶媒(メタノール90質量%、水5質量%、NMP5質量%)、室温中に基板全体を浸漬した。浸漬後、10分間放置し、基板上にポリアミック酸膜を析出させた。その後、基板を浴中から取り出し、基板上に析出したポリアミック酸膜を剥離した後に、純水中に3分間浸漬し、温度23℃、湿度40%の大気中で乾燥させてポリアミック酸膜を得た。このポリアミック酸膜の一部をサンプリングして色相測定を行った。ポリアミック酸膜の色相の測定結果を表3に示す。
得られたポリイミド多孔質膜はこげ茶〜黒色で不透明であり、膜厚が29μm、空孔率が48%、ガーレー値が78秒/100ccであった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、両表面共に、ポリイミドがネットワーク上に連なったような多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.17μm、最大孔径が1.6μmであった。また、ポリイミド多孔質膜の断面は、ポリイミドと空間とが共連続的に均質に連なった多孔質構造であり、膜横方向の長さが1μm以上のボイドは観察されなかった。すなわち、得られた膜は両表面に緻密層がない均一な膜であり、片面又は両面の表面に平均孔径が0.01〜5μmの孔を有し、該孔が一方の面から他の面に向かって非直線に連続する多孔質構造を有していることを確認した。
ポリイミド多孔質膜のガラス転移温度は約280℃であり、寸法安定性は200℃で1%以内であった。250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
室温下、卓上自動コーターを用いて、表面に鏡面研磨を施したステンレス製の20cm角の基板上に、調製例202で得られたポリアミック酸溶液組成物B2を厚さ約120μmで、均一に流延塗布した。その後、90秒間、温度23℃、湿度40%の大気中に放置し、その後、ポリアミック酸の貧溶媒(水80質量%、NMP20質量%)、室温中に基板全体を浸漬した。浸漬後、8分間放置し、基板上にポリアミック酸膜を析出させた。その後、基板を浴中から取り出し、基板上に析出したポリアミック酸膜を剥離した後に、純水中に3分間浸漬し、温度23℃、湿度40%の大気中で乾燥させてポリアミック酸膜を得た。なお、このポリアミック酸膜の一部をサンプリングして色相測定を行った。ポリアミック酸膜の色相の測定結果を表3に示す。
得られたポリイミド多孔質膜は、膜厚が33μm、空孔率が80%、ガーレー値が56秒/100ccであった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基板側の表面には連通する孔を多数有する多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.16μm、最大孔径が10μm以下であった。また、ポリイミド多孔質膜の断面には複数のマクロボイドが存在し、膜横方向の長さ10μm以上のマクロボイドが多数確認でき、横方向の長さ5μm以上のボイド中、横方向の長さ(L)と膜厚み方向の長さ(d)との比(L/d)が0.5〜3の範囲に入るボイドの数は75%以上であった。すなわち、得られた多孔質膜は、2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有することが分かった。
ポリイミド多孔質膜のガラス転移温度は約275℃であり、寸法安定性は200℃で1%以内であった。250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
熱処理の最高温度を300℃にした以外は実施例207と同様の操作を行い、ポリイミド多孔質膜を得た。得られたポリイミド多孔質膜は、膜厚が33μm、空孔率が79%、ガーレー値が41秒/100ccであった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基板側の表面には連通する孔を多数有する多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.17μm、最大孔径が10μm以下であった。また、ポリイミド多孔質膜の断面には複数のマクロボイドが存在し、膜横方向の長さ10μm以上のマクロボイドが多数確認でき、横方向の長さ5μm以上のボイド中、横方向の長さ(L)と膜厚み方向の長さ(d)との比(L/d)が0.5〜3の範囲に入るボイドの数は75%以上であった。すなわち、得られた多孔質膜は、2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有することが分かった。
ポリイミド多孔質膜のガラス転移温度は約280℃であり、寸法安定性は200℃で1%以内であった。250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
熱処理の最高温度を400℃にした以外は実施例207と同様の操作を行い、ポリイミド多孔質膜を得た。得られたポリイミド多孔質膜は、膜厚が31μm、空孔率が76%、ガーレー値が31秒/100ccであった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基板側の表面には連通する孔を多数有する多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.18μm、最大孔径が10μm以下であった。また、ポリイミド多孔質膜の断面には複数のマクロボイドが存在し、膜横方向の長さ10μm以上のマクロボイドが多数確認でき、横方向の長さ5μm以上のボイド中、横方向の長さ(L)と膜厚み方向の長さ(d)との比(L/d)が0.5〜3の範囲に入るボイドの数は75%以上であった。すなわち、得られた多孔質膜は、2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有することが分かった。
ポリイミド多孔質膜のガラス転移温度は約290℃であり、寸法安定性は200℃で1%以内であった。250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
用いた溶液を調製例203で得られたポリアミック酸溶液組成物C2に変更した以外は実施例207と同様の操作を行い、ポリイミド多孔質膜を得た。得られたポリイミド多孔質膜は、膜厚が34μm、空孔率が81%、ガーレー値が53秒/100ccであった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基板側の表面には連通する孔を多数有する多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.16μm、最大孔径が10μm以下であった。また、ポリイミド多孔質膜の断面には複数のマクロボイドが存在し、膜横方向の長さ10μm以上のマクロボイドが多数確認でき、横方向の長さ5μm以上のボイド中、横方向の長さ(L)と膜厚み方向の長さ(d)との比(L/d)が0.5〜3の範囲に入るボイドの数は75%以上であった。すなわち、得られた多孔質膜は、2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有することが分かった。
ポリイミド多孔質膜のガラス転移温度は約275℃であり、寸法安定性は200℃で1%以内であった。250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
用いた溶液を調製例203で得られたポリアミック酸溶液組成物C2に変更した以外は実施例208と同様の操作を行い、ポリイミド多孔質膜を得た。得られたポリイミド多孔質膜は、膜厚が32μm、空孔率が80%、ガーレー値が38秒/100ccであった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基板側の表面には連通する孔を多数有する多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.17μm、最大孔径が10μm以下であった。また、ポリイミド多孔質膜の断面には複数のマクロボイドが存在し、膜横方向の長さ10μm以上のマクロボイドが多数確認でき、横方向の長さ5μm以上のボイド中、横方向の長さ(L)と膜厚み方向の長さ(d)との比(L/d)が0.5〜3の範囲に入るボイドの数は75%以上であった。すなわち、得られた多孔質膜は、2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有することが分かった。
ポリイミド多孔質膜のガラス転移温度は約285℃であり、寸法安定性は200℃で1%以内であった。250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
用いた溶液を調製例203で得られたポリアミック酸溶液組成物C2に変更した以外は実施例209と同様の操作を行い、ポリイミド多孔質膜を得た。得られたポリイミド多孔質膜は、膜厚が31μm、空孔率が78%、ガーレー値が28秒/100ccであった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基板側の表面には連通する孔を多数有する多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.18μm、最大孔径が10μm以下であった。また、ポリイミド多孔質膜の断面には複数のマクロボイドが存在し、膜横方向の長さ10μm以上のマクロボイドが多数確認でき、横方向の長さ5μm以上のボイド中、横方向の長さ(L)と膜厚み方向の長さ(d)との比(L/d)が0.5〜3の範囲に入るボイドの数は75%以上であった。すなわち、得られた多孔質膜は、2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有することが分かった。
ポリイミド多孔質膜のガラス転移温度は約290℃であり、寸法安定性は200℃で1%以内であった。250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
調製例206で得られたポリアミック酸溶液組成物F2を用いた以外は実施例201と同様の操作を行い、ポリイミド多孔質膜を得た。得られた膜は薄い黄色で不透明であった。得られたポリイミド多孔質膜の膜厚、空孔率、及びガーレー値を表3に示す。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、基板側の表面には連通する孔を多数有する多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.18μm、最大孔径が10μm以下であった。また、ポリイミド多孔質膜の断面には複数のマクロボイドが存在し、横方向の長さ5μm以上のボイド中、横方向の長さ(L)と膜厚み方向の長さ(d)との比がL/d=0.5〜3の範囲に入るボイドの数は75%以上であった。すなわち、得られた多孔質膜は、2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有することが分かった。また、ポリイミド多孔質膜の寸法安定性は200℃で1%以内であり、前記圧縮応力負荷後の膜厚変化率は1%以下であった。全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
調製例208で得られたポリアミック酸溶液組成物Hを用いた以外は実施例206と同様の操作を行い、ポリイミド多孔質膜を得た。得られた膜は薄い黄色で不透明であり、膜厚が30μm、空孔率が48%、ガーレー値が69秒/100ccであった。
ポリイミド多孔質膜の表面を走査型電子顕微鏡で観察したところ、両表面共に、ポリイミドがネットワーク上に連なったような多孔質構造であり、表面の平均孔径は0.17μm、最大孔径が1.7μmであった。また、ポリイミド多孔質膜の断面は、ポリイミドと空間とが共連続的に均質に連なった多孔質構造であり、膜横方向の長さが1μm以上のボイドは観察されなかった。すなわち、得られた膜は両表面に緻密層がない均一な膜であり、片面又は両面の表面に平均孔径が0.01〜5μmの孔を有し、該孔が一方の面から他の面に向かって非直線に連続する多孔質構造を有していることを確認した。
ポリイミド多孔質膜のガラス転移温度は約285℃であり、寸法安定性は200℃で1%以内であった。250℃、15分、0.5MPaの圧縮応力負荷後の膜厚変化率は、1%以下であった。ポリイミド多孔質膜の全光線透過率、濁度、及び色相等の測定結果を表3に示す。
Claims (9)
- 少なくともテトラカルボン酸成分とジアミン成分とから得られるポリアミック酸溶液と着色前駆体とを含むポリアミック酸溶液組成物、又はポリイミド溶液と着色前駆体とを含むポリイミド溶液組成物を成形した後、250℃以上で熱処理する工程を含み、
前記着色前駆体が、アクリロニトリルを含むモノマーから得られる重合体、及び/又はフェロセン化合物である、着色ポリイミド成形体の製造方法。 - 前記テトラカルボン酸成分が、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及びピロメリット酸二無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種であり、前記ジアミン成分が、パラフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルエーテル、及びビス(アミノフェノキシ)ベンゼンからなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項1に記載の着色ポリイミド成形体の製造方法。
- 前記ポリアミック酸溶液組成物又は前記ポリイミド溶液組成物が、懸濁液又は透明の均一溶液である、請求項1又は2に記載の着色ポリイミド成形体の製造方法。
- 前記ポリアミック酸溶液組成物を流延して得られるフィルムを、ポリアミック酸の貧溶媒に浸漬して多孔質ポリアミック酸フィルムを作製する工程、及び該多孔質ポリアミック酸フィルムを250℃以上で熱処理する工程を含み、前記着色ポリイミド成形体が着色ポリイミド多孔質膜である、請求項1〜3のいずれかに記載の着色ポリイミド成形体の製造方法。
- 前記貧溶媒が、水又は水を含有する混合溶媒である、請求項4に記載の着色ポリイミド成形体の製造方法。
- 前記熱処理が、前記ポリアミック酸溶液組成物又はポリイミド溶液組成物を用いて成形した成形品を固定した状態で、大気中、280〜500℃で5〜60分間行う、請求項1〜5のいずれかに記載の着色ポリイミド成形体の製造方法。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の方法により得られる着色ポリイミド成形体。
- 両表面に緻密層がない均一な膜厚5〜100μmの膜であり、片面又は両面の表面に平均孔径が0.01〜5μmの孔を有し、該孔が一方の面から他の面に向かって非直線に連続する多孔質構造を有し、空孔率が15〜80%、ガーレー値が30〜1000秒/100ccである着色ポリイミド多孔質膜である、請求項7に記載の着色ポリイミド成形体。
- 2つの表面層とそれに挟まれたマクロボイド層とを有する三層構造の多孔質膜であって、該マクロボイド層は、該表面層と該表面層に結合した隔壁とに囲まれた複数のマクロボイドと複数の細孔を有し、該細孔及び該マクロボイドが互いに連通した構造を有する、請求項7に記載の着色ポリイミド成形体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011535478A JP5720574B2 (ja) | 2009-10-09 | 2010-10-08 | 着色ポリイミド成形体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009235672 | 2009-10-09 | ||
JP2009235673 | 2009-10-09 | ||
JP2009235672 | 2009-10-09 | ||
JP2009235673 | 2009-10-09 | ||
PCT/JP2010/067760 WO2011043467A1 (ja) | 2009-10-09 | 2010-10-08 | 着色ポリイミド成形体及びその製造方法 |
JP2011535478A JP5720574B2 (ja) | 2009-10-09 | 2010-10-08 | 着色ポリイミド成形体及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011043467A1 JPWO2011043467A1 (ja) | 2013-03-04 |
JP5720574B2 true JP5720574B2 (ja) | 2015-05-20 |
Family
ID=43856916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011535478A Active JP5720574B2 (ja) | 2009-10-09 | 2010-10-08 | 着色ポリイミド成形体及びその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9346927B2 (ja) |
EP (1) | EP2487196B1 (ja) |
JP (1) | JP5720574B2 (ja) |
KR (1) | KR101747462B1 (ja) |
CN (1) | CN102575028B (ja) |
TW (1) | TWI485191B (ja) |
WO (1) | WO2011043467A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150069409A (ko) * | 2013-12-13 | 2015-06-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | 플렉서블 표시장치의 제조방법 |
JP2016145308A (ja) * | 2014-02-21 | 2016-08-12 | 東京応化工業株式会社 | カーボンブラック分散液 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5916498B2 (ja) * | 2011-06-06 | 2016-05-11 | 日東電工株式会社 | ポリイミド多孔質体及びその製造方法 |
TWI466924B (zh) * | 2013-01-23 | 2015-01-01 | Mortech Corp | 聚醯亞胺膜及其聚醯亞胺積層板 |
US8829089B1 (en) * | 2013-07-30 | 2014-09-09 | Xerox Corporation | Fuser member compositions |
JP6440092B2 (ja) * | 2013-09-06 | 2018-12-19 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド多孔質膜及び多孔質膜製造用のポリイミド前駆体反応生成物溶液 |
JP6269373B2 (ja) * | 2014-07-29 | 2018-01-31 | 日立金属株式会社 | エナメル線の製造方法及び製造装置 |
US10177357B2 (en) | 2014-09-10 | 2019-01-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method for producing porous polyimide film |
US9985251B2 (en) * | 2014-10-28 | 2018-05-29 | The Trustees of Princeton University, Office of Technology and Trademark Licensing | Process for fabricating a porous film in a scattering layer |
JP6288311B2 (ja) * | 2015-01-26 | 2018-03-07 | 宇部興産株式会社 | 物質の産生方法 |
CN113142187B (zh) * | 2015-01-26 | 2022-07-01 | 宇部兴产株式会社 | 使用聚酰亚胺多孔膜的细胞的长期培养及冷冻保存方法 |
KR101983486B1 (ko) | 2015-01-26 | 2019-05-28 | 우베 고산 가부시키가이샤 | 폴리이미드 다공질막을 이용하는 세포의 대량 배양 방법, 장치 및 키트 |
WO2016121775A1 (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 宇部興産株式会社 | 細胞の培養方法及びキット |
EP3252150B1 (en) * | 2015-01-26 | 2021-10-27 | UBE Industries, Ltd. | Cell culture method using bone marrow-like structure, and polyimide porous membrane for treating bone damage site |
WO2016121766A1 (ja) * | 2015-01-26 | 2016-08-04 | 宇部興産株式会社 | 細胞を分離、除去、及び解析する方法 |
JP6485805B2 (ja) * | 2015-04-02 | 2019-03-20 | 宇部興産株式会社 | ポリイミドフィルムの製造方法 |
US10968328B2 (en) | 2016-07-25 | 2021-04-06 | Ube Industries, Ltd. | Porous polyimide film production method and porous polyimide film produced using said method |
CA3031921A1 (en) * | 2016-07-25 | 2018-02-01 | Ube Industries, Ltd. | Cell preparation method, cell cultivation device, and kit |
US10487178B2 (en) | 2016-09-28 | 2019-11-26 | Dow Global Technologies Llc | DMPA-based solvent systems for the synthesis of poly (amic acid) and polyimide polymers |
EP3519504A4 (en) | 2016-09-28 | 2020-05-20 | Dow Global Technologies LLC | SOLVENT SYSTEMS FOR THE SYNTHESIS OF POLY (AMIC ACID) AND POLYIMIDE POLYMERS |
CN106751822B (zh) * | 2016-11-29 | 2018-11-09 | 江西师范大学 | 高介电常数聚酰亚胺金属有机络合物复合膜及其制备方法 |
JP6508296B2 (ja) * | 2017-11-20 | 2019-05-08 | 宇部興産株式会社 | 積層体および積層体の製造方法 |
CN108169997B (zh) * | 2017-12-26 | 2020-12-22 | 武汉华星光电技术有限公司 | 光学补偿膜、掩膜版以及曝光机 |
JP2019124830A (ja) * | 2018-01-17 | 2019-07-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置及びその製造方法 |
CN109056102B (zh) * | 2018-08-13 | 2021-06-29 | 长春高琦聚酰亚胺材料有限公司 | 一种黑色系聚酰亚胺纳米纤维长丝纱线及其批量化制备方法 |
KR102347593B1 (ko) * | 2019-11-21 | 2022-01-10 | 피아이첨단소재 주식회사 | 폴리이미드 필름 및 이의 제조 방법 |
CN113025038B (zh) * | 2019-12-25 | 2022-05-10 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种含高相容性色素的黑色聚酰亚胺膜及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS636503A (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-12 | Kyodo Printing Co Ltd | ポリアミド酸膜の熱硬化方法 |
JP2000275423A (ja) * | 1999-03-24 | 2000-10-06 | Toray Ind Inc | カラーフィルターおよび液晶表示装置 |
JP2004304024A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 電子部品被覆用ポリイミドフィルム |
Family Cites Families (48)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3541036A (en) | 1967-03-30 | 1970-11-17 | Du Pont | Polyamic acid polymer dispersion |
FR2220552B1 (ja) * | 1973-03-07 | 1976-06-11 | Rhone Poulenc Ind | |
EP0267289B1 (en) * | 1986-04-09 | 1993-03-17 | MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. | Polyimide resin composition |
DE3626333C2 (de) * | 1986-08-02 | 1996-01-18 | Teves Gmbh Alfred | Ausgleichsbehälter für eine hydraulische Bremsanlage |
JPH05119212A (ja) | 1991-10-29 | 1993-05-18 | Kyodo Printing Co Ltd | 着色樹脂パターンの色溶出防止方法およびカラーフイルタの製造方法 |
JPH06329997A (ja) * | 1993-05-18 | 1994-11-29 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | シリコーンゴムによる基材の接着方法 |
DE69636067T2 (de) * | 1995-08-28 | 2006-09-07 | Daicel-Degussa Ltd. | Verbundbauteil und verfahren zu seiner herstellung |
JP3994241B2 (ja) | 1998-04-27 | 2007-10-17 | 宇部興産株式会社 | ポリイミド多孔膜及び製造方法 |
JP3940546B2 (ja) * | 1999-06-07 | 2007-07-04 | 株式会社東芝 | パターン形成方法およびパターン形成材料 |
US6441083B1 (en) | 1999-06-11 | 2002-08-27 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Polyamidic acid-containing and fine particles-dispersed composition and production process therefor |
JP3589125B2 (ja) * | 1999-11-19 | 2004-11-17 | 宇部興産株式会社 | 多孔質膜の製造方法および多孔質膜 |
US6653433B2 (en) * | 1999-11-24 | 2003-11-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide composition having improved peel strength when clad |
JP3908424B2 (ja) | 1999-12-16 | 2007-04-25 | 株式会社リコー | 無端状ベルトの製造方法 |
GB2369311B (en) * | 2000-11-24 | 2002-12-11 | Membrane Extraction Tech Ltd | Separating phase transfer agents |
DE10116232A1 (de) * | 2001-04-02 | 2002-10-10 | Creavis Tech & Innovation Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Formkörpern mit innenbeschichteten Hohlräumen |
US6565962B2 (en) * | 2001-07-23 | 2003-05-20 | Ube Industries, Ltd. | Polyimide porous film |
US6913694B2 (en) * | 2001-11-06 | 2005-07-05 | Saehan Industries Incorporation | Selective membrane having a high fouling resistance |
JP3992040B2 (ja) * | 2002-06-19 | 2007-10-17 | 宇部興産株式会社 | 高分子電解質膜およびその製造法 |
WO2004022637A2 (en) * | 2002-09-05 | 2004-03-18 | Nanosys, Inc. | Nanocomposites |
JP4398650B2 (ja) * | 2002-09-18 | 2010-01-13 | マナック株式会社 | 新規な熱可塑性ポリイミド及びイミドオリゴマー |
US8034866B2 (en) * | 2003-12-30 | 2011-10-11 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Polymer compositions, method of manufacture, and articles formed therefrom |
US8193291B2 (en) * | 2004-02-23 | 2012-06-05 | Caiteng Zhang | Solution of metal-polymer chelate(s) and applications thereof |
JP4993845B2 (ja) | 2004-03-03 | 2012-08-08 | グンゼ株式会社 | 半導電性高濃度ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いた半導電性ポリイミド管状物 |
KR101092164B1 (ko) * | 2004-03-12 | 2011-12-13 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 컬러 필터 |
JP2006068920A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フレキシブル銅箔ポリイミド積層板の製造方法 |
US20060118999A1 (en) * | 2004-12-06 | 2006-06-08 | Bayer Materialscience Llc | Method of preparing a coated molded article |
US7754108B2 (en) * | 2005-06-08 | 2010-07-13 | UBE Industires, Ltd. | Polyimide powder for antistatic polyimide molded product and polyimide molded product thereby |
US8475694B2 (en) * | 2005-10-25 | 2013-07-02 | Zephyros, Inc. | Shaped expandable material |
US7854788B2 (en) * | 2007-06-06 | 2010-12-21 | The Boeing Company | Filter membrane |
US8714401B2 (en) * | 2008-03-27 | 2014-05-06 | Toyo Seikan Kaisha, Ltd. | Stretched and foamed plastic container and method of producing the same |
WO2009120151A1 (en) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | Nanyang Technological University | Membrane made of a nanostructured material |
EP2354180B1 (en) | 2008-10-02 | 2016-05-25 | Ube Industries, Ltd. | Porous polyimide membrane and process for production of same |
JP5479163B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-04-23 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 |
TW201037035A (en) * | 2009-04-01 | 2010-10-16 | Microcosm Technology Co Ltd | Polyimide film having sheltering property and application thereof and preparation method thereof |
JP2011009147A (ja) * | 2009-06-29 | 2011-01-13 | Tokai Carbon Co Ltd | 燃料電池用セパレータの製造方法 |
KR101470524B1 (ko) * | 2009-06-30 | 2014-12-08 | 한화케미칼 주식회사 | 혼화성이 증대된 복합탄소소재 및 이의 연속적인 제조 방법 |
US8697208B2 (en) * | 2009-07-24 | 2014-04-15 | Fina Technology, Inc. | Polystyrene nanocomposites for blow molding applications |
US8541107B2 (en) * | 2009-08-13 | 2013-09-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Pigmented polyimide films and methods relating thereto |
CN102782024B (zh) * | 2010-03-01 | 2015-04-22 | 新日铁住金化学株式会社 | 金属微粒复合体及其制造方法 |
WO2011125988A1 (ja) * | 2010-04-07 | 2011-10-13 | 宇部興産株式会社 | 多孔質ポリイミド膜及びその製造方法 |
JP5827578B2 (ja) * | 2011-02-14 | 2015-12-02 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 光学素子の作製方法 |
TW201302858A (zh) * | 2011-06-24 | 2013-01-16 | Du Pont | 有色聚醯亞胺膜及與其有關之方法 |
MX2014002035A (es) * | 2011-09-02 | 2014-09-12 | Abb Research Ltd | Aislante para conmutador aislado al gas, de alto voltaje. |
GB201117950D0 (en) * | 2011-10-18 | 2011-11-30 | Imp Innovations Ltd | Membranes for separation |
ES2641954T5 (es) * | 2011-12-16 | 2021-06-21 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Productos moldeados |
US9123955B2 (en) * | 2012-04-06 | 2015-09-01 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Negative active material, lithium battery including the material, and method for manufacturing the material |
TWI492970B (zh) * | 2013-01-28 | 2015-07-21 | Taimide Technology Inc | 粉狀呈色消光劑、含有該消光劑之聚醯亞胺膜、及其製造方法 |
CN104117288B (zh) * | 2013-04-25 | 2017-07-18 | 财团法人工业技术研究院 | 过滤材料及其制造方法 |
-
2010
- 2010-10-08 KR KR1020127008940A patent/KR101747462B1/ko active IP Right Grant
- 2010-10-08 CN CN201080045100.6A patent/CN102575028B/zh active Active
- 2010-10-08 TW TW099134532A patent/TWI485191B/zh active
- 2010-10-08 US US13/500,771 patent/US9346927B2/en active Active
- 2010-10-08 EP EP10822137.5A patent/EP2487196B1/en active Active
- 2010-10-08 JP JP2011535478A patent/JP5720574B2/ja active Active
- 2010-10-08 WO PCT/JP2010/067760 patent/WO2011043467A1/ja active Application Filing
-
2016
- 2016-04-08 US US15/094,223 patent/US9902824B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS636503A (ja) * | 1986-06-26 | 1988-01-12 | Kyodo Printing Co Ltd | ポリアミド酸膜の熱硬化方法 |
JP2000275423A (ja) * | 1999-03-24 | 2000-10-06 | Toray Ind Inc | カラーフィルターおよび液晶表示装置 |
JP2004304024A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 電子部品被覆用ポリイミドフィルム |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20150069409A (ko) * | 2013-12-13 | 2015-06-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | 플렉서블 표시장치의 제조방법 |
KR102156766B1 (ko) | 2013-12-13 | 2020-09-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 플렉서블 표시장치의 제조방법 |
JP2016145308A (ja) * | 2014-02-21 | 2016-08-12 | 東京応化工業株式会社 | カーボンブラック分散液 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20120207999A1 (en) | 2012-08-16 |
US20160221279A1 (en) | 2016-08-04 |
US9902824B2 (en) | 2018-02-27 |
EP2487196B1 (en) | 2018-01-17 |
WO2011043467A1 (ja) | 2011-04-14 |
KR101747462B1 (ko) | 2017-06-14 |
US9346927B2 (en) | 2016-05-24 |
TWI485191B (zh) | 2015-05-21 |
TW201130898A (en) | 2011-09-16 |
KR20120093856A (ko) | 2012-08-23 |
EP2487196A4 (en) | 2014-04-09 |
CN102575028A (zh) | 2012-07-11 |
JPWO2011043467A1 (ja) | 2013-03-04 |
EP2487196A1 (en) | 2012-08-15 |
CN102575028B (zh) | 2015-06-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5720574B2 (ja) | 着色ポリイミド成形体及びその製造方法 | |
KR101680391B1 (ko) | 다공질 폴리이미드막 및 그의 제조 방법 | |
KR101814225B1 (ko) | 다공질 폴리이미드막 및 그의 제조 방법 | |
JP5577804B2 (ja) | 多孔質ポリイミド膜及びその製造方法 | |
JP5577803B2 (ja) | 多孔質ポリイミド膜及びその製造方法 | |
CN109563300B (zh) | 多孔质聚酰亚胺膜的制造方法及由该方法制造的多孔质聚酰亚胺膜 | |
JP6330261B2 (ja) | ポリマー多孔質膜の製造方法及びポリマー多孔質膜 | |
JP7326785B2 (ja) | 多孔質ポリイミド膜及びその製造方法 | |
JP6440092B2 (ja) | ポリイミド多孔質膜及び多孔質膜製造用のポリイミド前駆体反応生成物溶液 | |
KR20240131021A (ko) | 그라파이트 시트용 폴리이미드 필름 및 이로부터 제조된 그라파이트 시트 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130816 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140902 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141030 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150224 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150309 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5720574 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |