JP5783797B2 - ゴム組成物の製造方法 - Google Patents
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Description
このような発熱性の低いゴム組成物を得る方法として、充填材としてシリカ等の無機充填材を使用する方法が知られている。
しかし、無機充填材配合ゴム組成物において、シリカ等の無機充填材を配合する際には、無機充填材、特にシリカはゴム組成物中で凝集してしまうため(シリカ表面の水酸基が原因で凝集してしまうため)、凝集を防止するためにシランカップリング剤が用いられる。
従って、シランカップリング剤を配合して上記問題を好適に解決するために、シランカップリング剤のカップリング機能の活性を高める目的で種々の試みがなされている。
また、特許文献2では、基本成分として、少なくとも(i)1種のジエンエラストマー、(ii)補強性充填剤として白色充填剤、(iii)カップリング剤(白色充填剤/ジエンエラストマー)としてポリ硫化アルコキシシランを、(iv)ジチオリン酸亜鉛及び(v)グアニジン誘導体と一緒に含むゴム組成物が開示されている。
特許文献3では、少なくとも、(i) ジエンエラストマー、(ii) 強化充填剤としての無機充填剤、(iii)(無機充填剤/ジエンエラストマー)カップリング剤としての多硫化アルコキシシラン(PSAS)をベースとし、(iv) アルジミン(R−CH=N−R)及び(v) グアニジン誘導体とが併用されているゴム組成物が記載されている。
さらに、特許文献4では、少なくとも:(i)ジエンエラストマー、(ii)補強フィラーとしての無機フィラー、(iii)カップリング剤としての多硫化アルコキシシランに基づき、(iv)1,2-ジヒドロピリジン及び(v)グアニジン誘導体を伴うゴム組成物が提案されている。
しかしながら、これらの発明は、混練条件についての考慮がなされていなかった。
また、混練条件を考慮して、シランカップリング剤のカップリング機能の活性を高める例としては、特許文献5が挙げられるが、さらにシランカップリング剤のカップリング機能の活性を高める効果が要望されている。
即ち、本発明は、
[1] シリカに対して親和性を有する官能基を含む変性剤を使用して得られる変性共役ジエン系重合体を含むゴム成分(A)、無機充填剤(B)を含む充填剤、シランカップリング剤(C)及びグアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、チオウレア類、ジチオカルバミン酸類及びキサントゲン酸類から選択される少なくとも一種の促進剤(D)を含むゴム組成物の製造方法であって、該ゴム組成物を複数段階で混練し、混練の第一段階(X)で該ゴム成分(A)、該無機充填材(B)の全部又は一部、該シランカップリング剤(C)の全部又は一部、及び該促進剤(D)を加えて混練することを特徴とするゴム組成物の製造方法である。
本発明のゴム組成物の製造方法は、シリカに対して親和性を有する官能基を含む変性剤を使用して得られる変性共役ジエン系重合体を含むゴム成分(A)、無機充填剤(B)を含む充填剤、シランカップリング剤(C)及びグアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、チオウレア類、ジチオカルバミン酸類及びキサントゲン酸類から選択される少なくとも一種の促進剤(D)を含むゴム組成物の製造方法であって、該ゴム組成物を複数段階で混練し、混練の第一段階(X)で該ゴム成分(A)、該無機充填材(B)の全部又は一部、該シランカップリング剤(C)の全部又は一部、及び該促進剤(D)を加えて混練することを特徴とする。
本発明において、混練の第一段階で促進剤(D)を加えて混練するのは、シランカップリング剤(C)のカップリング機能の活性を高めるためである。
混練の第一段階で、該ゴム成分(A)、該無機充填材(B)の全部又は一部、及び該シランカップリング剤(C)の全部又は一部を加えた後、該第一段階の途中で該促進剤(D)を加えるまでの時間を10〜180秒とすることがより好ましい。この時間の下限値は、30秒以上であることが更に好ましく、上限値は、150秒以下であることが更に好ましく、120秒以下であることが特に好ましい。この時間が10秒以上であれば(B)と(C)の反応を十分に進行させることができる。この時間が180秒を超えても(B)と(C)の反応は既に十分に進行しているので、更なる効果は享受しにくく、上限値を180秒とすることが好ましい。
0≦X≦1.5×Y ・・・[1]
混練の第一段階(X)における有機酸量を減少させるためには、有機酸が混練りの第二段階以降に加えられることが好ましい。
なお、本発明における混練の第一段階とは、ゴム成分(A)と無機充填材(B)とシランカップリング剤(C)とを混練する最初の段階をいい、最初の段階でゴム成分(A)と無機充填材(B)以外の充填材とを混練する場合やゴム成分(A)のみを予備練りする場合の段階は含まれない。
本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるシランカップリング剤(C)は、下記一般式(I)及び(II)で表わされる化合物からなる群から1種以上選択される化合物であることが好ましい。
本発明方法に係るゴム組成物は、このようなシランカップリング剤(C)を用いることにより、ゴム加工時の作業性に更に優れると共に、より耐摩耗性の良好な空気入りタイヤを与えることができる。
以下、下記一般式(I)及び(II)を順に説明する。
(−S−R8−S−)、(−R9−Sm1−R10−)及び(−R11−Sm2−R12−Sm3−R13−)のいずれかの二価の基(R8〜R13は同一でも異なっていても良く、各々炭素数1〜20の二価の脂肪族炭化水素基、炭素数3〜20の二価の脂環式炭化水素基、二価の芳香族基又は硫黄及び酸素以外のヘテロ元素を含む二価の有機基であり、m1、m2、m3は同一でも異なっていても良く、各々平均値として1以上4未満である。)であり、kは同一でも異なっていても良く、各々平均値として1〜6であり、s及びtは同一でも異なっていても良く、各々平均値として0〜3、但しs及びtの双方が3であることはない。
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S2−(CH2)6−S2−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S2−(CH2)10−S2−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S3−(CH2)6−S3−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S4−(CH2)6−S4−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S−(CH2)6−S2−(CH2)6−S−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S−(CH2)6−S2.5−(CH2)6−S−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S−(CH2)6−S3−(CH2)6−S−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S−(CH2)6−S4−(CH2)6−S−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S−(CH2)10−S2−(CH2)10−S−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S4−(CH2)6−S4−(CH2)6−S4−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S2−(CH2)6−S2−(CH2)6−S2−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3、
平均組成式(CH3CH2O)3Si−(CH2)3−S−(CH2)6−S2−(CH2)6−S2−(CH2)6−S−(CH2)3−Si(OCH2CH3)3等で表される化合物が好適に挙げられる。
本発明においては、シランカップリング剤(C)は一種を単独で用いても良く、二種以上を組み合わせて用いても良い。
本発明に係るゴム組成物のシランカップリング剤(C)の配合量は、無機充填材の1〜20質量%であることが好ましい。1質量%未満ではゴム組成物の低発熱性向上の効果が発揮しにくくなり、20質量%を超えると、ゴム組成物のコストが過大となり、経済性が低下するからである。更には無機充填材の3〜20質量%であることがより好ましく、無機充填材の4〜10質量%であることが特に好ましい。
本発明のゴム組成物の製造方法に用いられる促進剤(D)として、グアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、チオウレア類、ジチオカルバミン酸類及びキサントゲン酸類が挙げられる。
グアニジン類としては、1,3−ジフェニルグアニジン、1,3−ジ−o−トリルグアニジン、1−o−トリルビグアニド、ジカテコールボレートのジ−o−トリルグアニジン塩、1,3−ジ−o−クメニルグアニジン、1,3−ジ−o−ビフェニルグアニジン、1,3−ジ−o−クメニル−2−プロピオニルグアニジン等が挙げられ、1,3−ジフェニルグアニジン、1,3−ジ−o−トリルグアニジン及び1−o−トリルビグアニドは反応性が高いので好ましく、1,3−ジフェニルグアニジンは反応性がより高いので特に好ましい。
なお、促進剤(D)は、硫黄加硫の促進剤としても用いられるので、混練の最終段階においても所望により適量を配合しても良い。
本発明のゴム組成物の製造方法に用いられるゴム成分(A)は、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子から選ばれる少なくとも1つを含む変性剤を使用して得られる変性共役ジエン系重合体を含むものである。
上記の変性共役ジエン系重合体は、変性共役ジエン共重合体であっても良いし、変性共役ジエン単独重合体であっても良い。変性共役ジエン共重合体としては、変性芳香族ビニル−共役ジエン共重合体であっても良いし、複数の共役ジエンの共重合体であっても良い。
また、重合方法としては、アニオン重合、配位重合及び乳化重合のいずれでも良い。変性剤は、アニオン重合又は配位重合の重合活性末端と反応する変性剤であっても良いし、重合開始剤として用いられるリチウムアミド化合物のアミド部分であっても良い。また、乳化重合において、変性剤が、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子から選ばれる少なくとも1つを含むモノマーとして共重合されても良い。
本発明に係る変性共役ジエン系重合体の変性に使用される変性剤は、シリカに対して親和性を有する官能基を含む変性剤である。そして、この変性剤が、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子から選ばれる少なくとも1つの原子を有する変性剤であることが好ましい。即ち、シリカに対して親和性を有する官能基が、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子から選ばれる少なくとも1つの原子を有することが好ましい。ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子のいずれかを有する官能基は、シリカに対して親和性を有するからである。
シリカに対して親和性を有する観点から、本発明に係る変性剤は、ヒドロカルビルオキシシラン化合物であることがより好ましい。
そして、本発明に係るヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式(III)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。
加水分解性基を有する第一もしくは第二アミノ基又は加水分解性基を有するメルカプト基における加水分解性基として、トリメチルシリル基又はtert−ブチルジメチルシリル基が好ましく、トリメチルシリル基が特に好ましい。
なお、本発明において、「炭素数1〜20の一価の脂肪族もしくは脂環式炭化水素基」とは、「炭素数1〜20の一価の脂肪族炭化水素基もしくは炭素数3〜20の一価の脂環式炭化水素基」をいう。二価の炭化水素基の場合も同様である。
さらに、上記一般式(III)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式(IV)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることがより好ましい。
さらに、上記一般式(III)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、下記一般式(V)又は(VI)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることがより好ましい。
また、上記変性剤が、下記一般式(VII)又は(VIII)で表される2つ以上の窒素原子を有するヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。
また、上記一般式(III)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物が、下記一般式(IX)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。
さらに、上記変性剤が、下記一般式(X)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物であることが好ましい。
以上の一般式(III)〜(X)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、本発明に係る変性共役ジエン系重合体がアニオン重合により製造される場合の変性剤として用いられることが好ましい。
また、一般式(III)〜(X)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物は、アルコキシシラン化合物であることが好ましい。
このリチウムアミド化合物としては、リチウムヘキサメチレンイミド、リチウムピロリジド、リチウムピぺリジド、リチウムへプタメチレンイミド、リチウムドデカメチレンイミド、リチウムジメチルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムジブチルアミド、リチウムジプロピルアミド、リチウムジへプチルアミド、リチウムジへキシルアミド、リチウムジオクチルアミド、リチウムジ−2−エチルへキシルアミド、リチウムジデシルアミド、リチウム−N−メチルピベラジド、リチウムエチルプロピルアミド、リチウムエチルブチルアミド、リチウムエチルベンジルアミド及びリチウムメチルフェネチルアミドから選ばれる化合物であることが好適に例示される。例えば、リチウムヘキサメチレンイミドのアミド部分となる変性剤はヘキサメチレンイミンであり、リチウムピロリジドのアミド部分となる変性剤はピロリジンであり、リチウムピぺリジドのアミド部分となる変性剤はピぺリジンである。
また、配位重合における場合は、変性配位重合ポリブタジエン(以下、「変性配位重合BR」と略称することがある。)が好ましい。
さらに、乳化重合における場合は、変性乳化重合芳香族ビニル−ブタジエン共重合体が好ましく、変性乳化重合芳香族ビニル−ブタジエン共重合体としては変性乳化重合スチレン−ブタジエン共重合体(以下、「変性乳化重合SBR」と略称することがある。)であることが好ましい。
上述の、アニオン重合、配位重合及び乳化重合のいずれの場合においても、公知の重合方法及び公知の変性方法が用いられる。
この他の合成ジエン系ゴムとしては、無変性溶液重合スチレン-ブタジエン共重合体ゴム(以下、「無変性溶液重合SBR」ということがある。)、乳化重合スチレン-ブタジエン共重合体ゴム(以下、「乳化重合SBR」ということがある。)、無変性ポリブタジエンゴム(無変性BR)、ポリイソプレンゴム(IR)、ブチルゴム(IIR)、エチレン-プロピレン−ジエン三元共重合体ゴム(EPDM)等を用いることができ、天然ゴム及び他の合成ジエン系ゴムは、1種単独でも、2種以上のブレンドとして用いても良い。
本発明における有機酸としては、ステアリン酸、パルミチン酸、ミリスチン酸、ラウリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、カプリン酸、ペラルゴン酸、カプリル酸、エナント酸、カプロン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、リノレン酸、ネルボン酸等の飽和脂肪酸及び不飽和脂肪酸並びにロジン酸や変性ロジン酸等の樹脂酸などが挙げられる。
本発明においては、加硫促進助剤としての機能を十分に発揮する必要があることから有機酸中の50モル%以上がステアリン酸であることが好ましい。
また、有機酸中の50モル%以下が乳化重合スチレン−ブタジエン共重合体に含まれるロジン酸(変性ロジン酸も包含される。)及び/又は脂肪酸であっても良い。
本発明のゴム組成物の製造方法に用いられる無機充填材(B)は、シリカ及び下記一般式(XI)で表される無機化合物を用いることができる。
dM1・xSiOy・zH2O ・・・(XI)
ここで、一般式(XI)中、M1は、アルミニウム、マグネシウム、チタン、カルシウム、及びジルコニウムからなる群から選ばれる金属、これらの金属の酸化物又は水酸化物、及びそれらの水和物、又はこれらの金属の炭酸塩から選ばれる少なくとも一種であり、d、x、y及びzは、それぞれ1〜5の整数、0〜10の整数、2〜5の整数、及び0〜10の整数である。
尚、一般式(XI)において、x、zがともに0である場合には、該無機化合物はアルミニウム、マグネシウム、チタン、カルシウム及びジルコニウムから選ばれる少なくとも1つの金属、金属酸化物又は金属水酸化物となる。
一般式(XI)で表されるこれらの無機化合物は、単独で使用しても良いし、2種以上を混合して使用しても良い。これらの無機化合物の平均粒径は、混練作業性、耐摩耗性及びウェットグリップ性能のバランスなどの観点から、0.01〜10μmの範囲が好ましく、0.05〜5μmの範囲がより好ましい。
本発明における無機充填材(B)は、シリカ単独で使用しても良いし、シリカと一般式(III)で表される無機化合物の1種以上とを併用しても良い。
また、本発明に係るゴム組成物の充填材は、ゴム成分(A)100質量部に対して、20〜150質量部使用することが好ましい。20質量部以上であれば、ゴム組成物の補強性向上の観点から好ましく、150質量部以下であれば、低発熱性向上の観点から好ましい。
前記充填材中、無機充填材(B)が40質量%以上であることがウェット性能と低発熱性の両立の観点から好ましく、70質量%以上であることがさらに好ましい。
本発明の製造方法における混練装置として、バンバリーミキサー、ロール、インテンシブミキサー等が用いられる。
なお、発熱性(tanδ指数)及び耐摩耗性を下記の方法により評価した。
粘弾性測定装置(レオメトリックス社製)を使用し、温度60℃、動歪5%、周波数15Hzでtanδを測定した。比較例3、5、7又は9のtanδを100として下記式にて指数表示した。指数値が小さい程、発熱性が低く、ヒステリシスロスが小さいことを示す。
発熱性指数={(供試加硫ゴム組成物のtanδ)/(比較例16、20、24又は28の加硫ゴム組成物のtanδ)}×100
JIS K 6264−2:2005に準拠し、ランボーン摩耗試験機を使用して23℃で摩耗量を測定し、比較例3、5、7又は9の摩耗量の逆数を100として下記式にて指数表示した。指数値が大きい程、摩耗量が少なく、耐摩耗性が良好であることを示す。
耐摩耗性指数={(比較例16、20、24又は28の加硫ゴム組成物の摩耗量)/(供試加硫ゴム組成物の摩耗量)}×100
変性剤A(テトラエトキシシラン)、変性剤B(N−(1,3−ジメチルブチリデン)−3−(トリエトキシシリル)−1−プロパンアミン:株式会社チッソ製、商品名「サイラエース S340」)、変性剤I又はN(2−シアノピリジン)、変性剤J(1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン)、変性剤K(1―メチル−2−ピロリドン)、変性剤Q(4−ヘキサメチレンイミノアルキルスチレン)及びヘキサメチレンイミンは、市販品又は試薬を用いた。
変性剤C、D及びFは、特開2010−270212に記載された変性剤H、i、及びEである。
変性剤Eは、特表2009−512762に記載された式M2によって表される修飾剤2である。
変性剤G、O及びPは、WO2009/086490に実施例21として記載された3,4−ビス(トリメチルシリルオキシ)ベンズアルデヒドである。
変性剤Hは、特表2010−530464に記載されたN,N-ビス(トリメチルシリル)-(3-アミノ-1-プロピル)](メチル)(ジクロロ)シランである。
変性剤Lは、リチウムヘキサメチレンイミドのアミド部分となるヘキサメチレンイミンであり、アニオン重合に際して、リチウムヘキサメチレンイミドを重合開始剤として用いた。
なお、変性剤C、D、E、F及びHの化学式を下記する。式中、TMSはトリメチルシリル基、Meはメチル基、OEtはエトキシ基である。
乾燥し、窒素置換した容積800mLの耐圧ガラス容器に、1,3−ブタジエンのシクロヘキサン溶液およびスチレンのシクロヘキサン溶液を、1,3−ブタジエンが60g、スチレンが15gとなるように加えた。そして、そこに2,2−ジテトラヒドロフリルプロパンを0.70mmol、n−ブチルリチウムを0.70mmol加えた後、50℃の温水浴中で1.5時間重合反応を行い、リチウム型の活性部位を末端に有するスチレン−ブタジエン共重合体を得た。なお、この際の重合転化率はほぼ100%であった。その後、50℃にて老化防止剤2,6−ジ−t−ブチル−4−クレゾール(BHT)のイソプロパノール5質量%溶液2ミリリットルを加えて重合反応の停止を行い、さらに微量のBHTを含むイソプロパノール中で再沈殿させた後、ドラムドライヤーにて乾燥し、無変性アニオン重合SBRを得た。結合スチレン量は20質量%、ブタジエン中のビニル結合含量は55%であった。
上記の無変性アニオン重合SBRの重合時において、リチウム型の活性部位を末端に有するスチレン−ブタジエン共重合体の重合転化率がほぼ100%となった重合反応系に対し、上記変性剤A〜Kのいずれかを0.63mmol添加し、50℃で30分間変性反応を行い、その後上記と同様にして、変性アニオン重合SBR−A〜Kを得た。
また、上記無変性アニオン重合SBRの重合において、0.70mmolのn−ブチルリチウムの代わりに0.70mmolのリチウムヘキサメチレンイミドを用いた以外は上記と同様にして変性剤Lを用いた変性アニオン重合SBR―Lを得た。
同様にして、上記無変性アニオン重合SBRの重合において、0.70mmolのn−ブチルリチウムの代わりに0.70mmolのリチウムヘキサメチレンイミドを用いて重合し、重合転化率はほぼ100%となった重合反応系に対し、上記変性剤Bを0.63mmol添加し、50℃で30分間変性反応を行い、変性アニオン重合SBR−Mを得た。
変性アニオン重合SBR−A〜Mの結合スチレン量(質量%)及びブタジエン中のビニル結合含量(%)を第1表に示す。
乾燥・窒素置換された、ゴム栓付き容器100ミリリットルのガラスビンに、ブタジエンのシクロヘキサン溶液(15.2質量%)7.11g、ネオジムネオデカノエートのシクロヘキサン溶液(0.56モル/リットル)0.59ミリリットル、メチルアルミノキサンMAO(東ソ−アクゾ製PMAO)のトルエン溶液(アルミニウム濃度として3.23モル)10.32ミリリットル、水素化ジイソブチルアルミ(関東化学製)のヘキサン溶液(0.90モル/リットル)7.77ミリリットルの順序で投入し、室温で2分間熟成した後、塩素化ジエチルアルミ(関東化学製)のヘキサン溶液(0.95モル/リットル)1.45ミリリットルを加え室温で時折攪拌しながら15分間熟成した。こうして得られた触媒溶液中のネオジムの濃度は、0.011モル/リットルであった。
次に、約1リットル容積のゴム栓付きガラスビンを乾燥・窒素置換し、乾燥精製されたブタジエンのシクロヘキサン溶液および及び乾燥シクロヘキサンを投入し、ブタジエン12.0質量%のシクロヘキサン溶液400gが投入された状態とした。
次に、前もって調製した触媒Aを1.56ミリリットル(ネオジム換算0.017ミリモル)投入し、50℃の水浴中で1.5時間重合を行なった。その後、50℃にて老化防止剤2,6−ジ−t−ブチル−4−クレゾールのイソプロパノール(BHT)5質量%溶液2ミリリットルを加えて重合反応の停止を行い、さらに微量のBHTを含むイソプロパノール中で再沈殿させた後、ドラムドライヤーにて乾燥し、ほぼ100%の収率で無変性配位重合BRを得た。シス1,4−結合含量は90%以上であった。
また、無変性配位重合BRの重合において、50℃の水浴中で1.5時間重合を行なった後、変性剤N又はOをネオジム対比25当量添加して50℃水浴中で1時間反応させた。その後無変性配位重合BRと同様な操作を行い変性配位重合BR−N及びOを得た。シス1,4−結合含量は90%以上であった。
撹拌機付き重合反応器に水200部、ロジン酸石鹸3部、単量体として1,3−ブタジエン71部、スチレン26部および変性剤P又はQ3部、並びに連鎖移動剤としてt−ドデシルメルカプタン0.2部を仕込んだ。反応温度を5℃とし、ラジカル開始剤としてクメンハイドロパーオキサイド0.1部、ソジウム・ホルムアルデヒド・スルホキシレート0.2部および硫酸第二鉄0.01部を添加して重合を開始した。
転化率が60%に達した時点でジエチルヒドロキシルアミンを添加して反応を停止した。次いで、未反応単量体を水蒸気蒸留により回収し、硫酸と食塩により共重合体を凝固させ、水洗後減圧乾燥して変性乳化重合SBR−P及びQを得た。結合スチレン量は23.5質量%、変性乳化重合SBR−P及びQ中の変性剤P又はQはいずれも3質量%であった。
第2表に示す配合処方及び混練方法により、比較例2以外の混練の第一段階(混練時間:3分)におけるゴム組成物の最高温度がいずれも150℃になるように調整してバンバリーミキサーで混練し、46種類のゴム組成物を調製した。比較例2の混練の第一段階(混練時間:6分)におけるゴム組成物の最高温度は180℃であった。第2表に示す組成物番号1、3、5及び5のゴム組成物の混練の第一段階において、ゴム成分(A)、無機充填材(B)の全部及びシランカップリング剤(C)を混練し、60秒後に、促進剤(D)としてグアニジン類である1,3−ジフェニルグアニジンを加えて、さらに混練した。一方、第2表に示す組成物番号2、4、6及び8のゴム組成物の混練の第一段階においては促進剤(D)を加えなかった。得られた47種類のゴム組成物の発熱性(tanδ指数)及び耐摩耗性を上記の方法により評価した。結果を第3〜10表に示す。
*1: 変性アニオン重合SBR−A〜K変性アニオン重合SBR−A〜M(実施例1〜15、比較例3〜15及び18、19)、無変性アニオン重合SBR(比較例1、2、16、17及び20)、変性配位重合BR−N及びO(実施例16、17、比較例22、23)、無変性配位重合BR(比較例21、24)、変性乳化重合SBR−P及びQ(実施例18、19)、並びに無変性乳化重合SBR(比較例25、28)
*2: JSR株式会社製、商品名「IR2200」
*3: 旭カーボン株式会社製、商品名「#80」
*4: 東ソーシリカ株式会社製、ニップシールAQ、 BET表面積220m2/g
*5: ビス(3−トリエトシキシリルプロピル)ジスルフィド(平均硫黄鎖長:2.35)、Evonik社製シランカップリング剤、商品名「Si75」(登録商標)
*6: N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、大内新興化学工業株式会社製、商品名「ノクラック6C」
*7: 1,3−ジフェニルグアニジン、三新化学工業株式会社製、商品名「サンセラーD」
*8: 2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリン重合体、大内新興化学工業株式会社製、商品名「ノクラック224」
*9: ジ−2−ベンゾチアゾリルジスルフィド、三新化学工業株式会社製、商品名「サンセラーDM」
*10: N−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、三新化学工業株式会社製、商品名「サンセラーNS」
Claims (22)
- シリカに対して親和性を有する官能基を含む変性剤を使用して得られる変性共役ジエン系重合体を含むゴム成分(A)、無機充填剤(B)を含む充填剤、シランカップリング剤(C)及びグアニジン類、スルフェンアミド類、チアゾール類、チウラム類、チオウレア類、ジチオカルバミン酸類及びキサントゲン酸類から選択される少なくとも一種の促進剤(D)を含むゴム組成物の製造方法であって、該変性剤は、ケイ素原子、窒素原子及び酸素原子から選ばれる少なくとも1つの原子を有し、かつ、下記一般式(III)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物、アニオン重合における重合開始剤として用いられるリチウムアミド化合物のアミド部分、3,4−ビス(トリメチルシリルオキシ)ベンズアルデヒド、3,4−ビス(tert−ブチルジメチルシリルオキシ)ベンズアルデヒド、2−シアノピリジン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1―メチル−2−ピロリドン、2−シアノピリジン、3,4−ジトリメチルシリルオキシベンズアルデヒド、3,4−ジトリメチルシリルオキシベンズアルデヒド及び4−ヘキサメチレンイミノアルキルスチレンから選ばれる少なくとも1種の化合物であり、該無機充填剤(B)はシリカを含み、該ゴム組成物を複数段階で混練し、混練の第一段階(X)で該ゴム成分(A)、該無機充填材(B)の全部又は一部、該シランカップリング剤(C)の全部又は一部、及び該促進剤(D)を加えて混練することを特徴とするゴム組成物の製造方法。
- 前記第一段階において、前記ゴム成分(A)、前記無機充填材(B)の全部又は一部及び前記シランカップリング剤(C)の全部又は一部を混練した後に前記促進剤(D)を加えて、さらに混練することを特徴とする請求項1に記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記第一段階におけるゴム組成物中の有機酸のモル量Xが前記促進剤(D)のモル量Yに対して以下の式[1]の関係にあることを特徴とする請求項1又は2に記載のゴム組成物の製造方法。
0≦X≦1.5×Y ・・・[1] - 前記ゴム組成物中の有機酸が混練りの第二段階以降に加えられることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記第一段階におけるゴム組成物におけるゴム組成物の最高温度が、120〜190℃である請求項1〜4のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記シランカップリング剤(C)が、下記一般式(I)〜(II)で表わされる化合物からなる群から1種以上選択される化合物である請求項1〜5のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記シランカップリング剤(C)が、上記一般式(I)で表わされる化合物である請求項6に記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記無機充填材(B)がシリカである請求項1〜7のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記充填材がカーボンブラックを含む請求項1〜8のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記充填材中、前記無機充填材(B)が40質量%以上である請求項1〜9のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記グアニジン類が、1,3−ジフェニルグアニジン、1,3−ジ−o−トリルグアニジン及び1−o−トリルビグアニドから選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜10のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記スルフェンアミド類が、N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド及び/又はN−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミドである請求項1〜10のいずれかに記載のゴム組成物の製造法。
- 前記チアゾール類が、2−メルカプトベンゾチアゾール及び/又はジ−2−ベンゾチアゾリルジスルフィドである請求項1〜10のいずれかに記載のゴム組成物の製造法。
- チウラム類が、テトラキス(2−エチルヘキシル)チウラムジスルフィド及びテトラベンジルチウラムジスルフィドから選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜10のいずれかに記載のゴム組成物の製造法。
- チオウレア類が、N,N’−ジエチルチオ尿素、トリメチルチオ尿素、N,N’−ジフェニルチオ尿素及びN,N’−ジメチルチオ尿素から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜10のいずれかに記載のゴム組成物の製造法。
- ジチオカルバミン酸類が、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、N−エチル−N−フェニルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛及びジメチルジチオカルバミン酸銅から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜10のいずれかに記載のゴム組成物の製造法。
- キサントゲン酸類が、イソプロピルキサントゲン酸亜鉛である請求項1〜10のいずれかに記載のゴム組成物の製造法。
- 前記有機酸中の50モル%以上がステアリン酸である請求項1〜17のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記一般式(III)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物が、下記一般式(IV)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物である請求項1〜18のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記一般式(III)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物が、下記一般式(V)又は(VI)で表されるヒドロカルビルオキシシラン化合物である請求項1〜18のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記加水分解性基が、トリメチルシリル基及びt-ブチルジメチルシリル基からから選ばれる少なくとも1つの基である請求項1〜20のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
- 前記リチウムアミド化合物が、リチウムヘキサメチレンイミド、リチウムピロリジド、リチウムピぺリジド、リチウムへプタメチレンイミド、リチウムドデカメチレンイミド、リチウムジメチルアミド、リチウムジエチルアミド、リチウムジブチルアミド、リチウムジプロピルアミド、リチウムジへプチルアミド、リチウムジへキシルアミド、リチウムジオクチルアミド、リチウムジ−2−エチルへキシルアミド、リチウムジデシルアミド、リチウム−N−メチルピベラジド、リチウムエチルプロピルアミド、リチウムエチルブチルアミド、リチウムエチルベンジルアミド及びリチウムメチルフェネチルアミドから選ばれる化合物である請求項1〜18のいずれかに記載のゴム組成物の製造方法。
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