JP5769989B2 - 表示装置 - Google Patents
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Description
前記複数の金属膜パターンの各々は、
該金属膜パターン本体が長方形状に形成され、前記金属膜パターンの短手方向中心位置が、前記外部接続用端子の短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつ前記金属膜パターンの短手方向の幅が、同一の並び位置の前記外部接続用端子の短手方向の幅以下に形成されてなることを特徴とする。
図1は、本発明の実施の形態にかかる表示装置1の模式図である。図2は、図1に示した表示装置1の一部断面を示した要部拡大側面図である。
本発明の実施の形態にかかる表示装置1は、表示パネル10内の流体を封止する封止材90の位置および寸法精度確認用の金属膜パターン30を有してなるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置である。この表示装置1は、表示パネル10と、フレキシブルプリント基板FPCと、不図示の制御部とを有してなる。
表示パネル10は、液晶材LCの注入口23bが形成された注入口部23aを有してなるシール部23を間にして貼り合わされた貼り合せ基板11を有してなる。
貼り合せ基板11は、より具体的には、長方形状のTFT基板20、および短辺の長さがTFT基板20の短辺の長さとほぼ等しく長辺の長さがTFT基板20の長辺の長さに比して短い長方形状のCF基板50を有し、TFT基板20とCF基板50とが液晶材LCを間に挟持して対向配置されている。また、TFT基板20とCF基板50との寸法の差によってTFT基板20にはCF基板50と重畳しない領域(以下、非重畳領域AR2という。)が設けられるようになっている。
このTFT基板20は、端子部21、駆動回路22、シール部23、および複数の金属膜パターン30を有してなる。
この実施の形態では、各外部接続用端子24は、フレキシブルプリント基板FPCの各接続端子60と電気的かつ機械的に接続され、フレキシブルプリント基板FPCを介して供給された信号や電力を表示パネル10内に取りこむ。
シール部23は、熱硬化性の樹脂からなり、貼り合わせ対象となるCF基板50の外形形状に沿うようにTFT基板20上に額縁状に形成される。このシール部23は、液晶材LCの注入口23bが形成された注入口部23aを有してなる。このようなシール部23は、注入口23bから注入された液晶材LCをTFT基板20とCF基板50との間に保持するとともに、TFT基板20とCF基板50とを接着する機能をなしている。なお、シール部23は、CF基板50に形成されるようにしてもよい。
また、表示パネル10は、複数のゲート信号線GLおよび複数のドレイン信号線DLを有する。ゲート信号線GLは、TFT基板20の表示領域AR1における液晶材LC側の面に図中X方向に延在し、Y方向に並設されている。ドレイン信号線DLは、ゲート信号線GLと絶縁されて図中Y方向に延在し、X方向に並設されている。これら各信号線GL,DLによって囲まれた各領域がそれぞれ画素領域となる。各ゲート信号線GLおよび各ドレイン信号線DLは、その一端がシール部23を超えて延在され、駆動回路22に接続されている。
フレキシブルプリント基板FPCは、表示パネル10と、不図示の制御部とを接続する回路基板で、各外部接続用端子24に電気的、かつ機械的に接続される複数の接続端子60を有してなる。この接続端子60は、外部接続用端子24に対応して形成されてなり、図2に示すように、異方性導電膜ACFを介して外部接続用端子24に接続される。なお、接続端子60と外部接続用端子24とを接続させる際、接続端子60と外部接続用端子24とが異方性導電膜ACFを介して熱圧着される。
まず、TFT基板20の断面について説明する。TFT基板20は、ガラス等からなる透明な基板である基板SUB1の液晶材LC側の面に、金属材料からなるゲート信号線GLが形成されている。
なお、このゲート信号線GLを形成する際、ゲート信号線GLと同じ金属膜によって外部接続用端子24および金属膜パターン30が形成される。
基板SUB1の表面には、ゲート信号線GLを含めて基板SUB1の表面を被う絶縁膜GIが形成される。この絶縁膜GIは、窒化シリコン等の無機材料からなり、薄膜トランジスタTFTの形成領域においてゲート絶縁膜として機能するものである。
また、ドレイン電極DT(ドレイン信号線DL)等の上面には有機材料からなる絶縁膜PASが形成されている。
着色膜CFは、R(赤色)、G(緑色)、B(青色)の三原色をもつ染料あるいは顔料を含んだ樹脂膜である。
保護膜OCは、樹脂からなり、着色膜CFの表面を保護するとともに表面を平坦化するための膜である。配向膜ORI2は、液晶材LCの初期配向方向を決定するものである。
このような大型貼り合わせ基板100は、図4(及び図5)に示すように、一つの製品形成領域WAの注入口部23aの一部が隣接する製品形成領域WAにはみ出して形成されることによって、製品取得率を向上している。このため、注入口部23aとともに上述の金属膜パターン30の一部が端子部21近傍に形成されることになる。
金属膜パターン30は、図6に示すように、金属膜パターン30の基部となる長方形状のパターン基部30aを有してなる。このパターン基部30aは、短手方向中心位置Pが、外部接続用端子24の基部24aの短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつパターン基部30aの短手方向の幅t1が、同一の並び位置の外部接続用端子24の基部24aの短手方向の幅t2と等しく形成されてなる。
これによって、図1に示すように、注入口部23aの各側部23a1,23a2近傍に配置された二箇所の金属膜パターン群40の間に封止材90の縁90a,90bが位置している場合、封止材90の位置および寸法精度が規格内であると判断することができる。
ここで、図7を用いて本発明の実施の形態の変形例1について説明する。図7は、本発明の実施の形態の変形例1の金属膜パターン70を示した図である。
この変形例1の金属膜パターン70は、パターン基部70aの短手方向中心位置の間隔が基部の短手方向中心位置の間隔と等しくなるように並設され、パターン基部70aの短手方向の幅t1が基部24aの短手方向の幅t2より小さく形成されている。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例1の金属膜パターン70は、外部接続端子24に比して間隔をあけて並設されているので、金属膜パターン70によるショートの発生をより効果的に防止することができる。なお、パターン基部70aの短手方向の幅は、視認性を低下させない程度の幅に設定するとよい。
次に、図8を用いて本発明の実施の形態の変形例2について説明する。図8は、本発明の実施の形態の変形例2の金属膜パターン30を示した図である。
この変形例2の金属膜パターン30は、並設された外部接続用端子24を一つ分空けて三つの金属膜パターン30が並設されることによって金属膜パターン群41を構成している。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例2の金属膜パターン30は、外部接続端子24に比して間隔をあけて並設されている部分があるので、金属膜パターン30によるショートの発生をより効果的に防止することができる。
次に、図9を用いて本発明の実施の形態の変形例3について説明する。図9は、本発明の実施の形態の変形例3の金属膜パターン30を示した図である。
この変形例3の金属膜パターン30は、並設された外部接続用端子24を一つ分空けて二つの金属膜パターン30が並設されることによって金属膜パターン群42を構成している。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例3の金属膜パターン30は、外部接続端子24に比して間隔をあけて並設されているので、金属膜パターン30によるショートの発生をより効果的に防止することができる。なお、金属膜パターン30の間隔は、視認性を低下させない程度の間隔に設定するとよい。
次に、図10を用いて本発明の実施の形態の変形例4について説明する。図10は、本発明の実施の形態の変形例4の金属膜パターン30を示した図である。
この実施の形態では、金属膜パターン群40が注入口部23aの各側部23a1,23a2近傍に二箇所ずつ配置されるものを例示したが、この変形例4では、注入口部23aの一方の側部23a1近傍の三箇所に金属膜パターン群40a,40b,40cが配置され、他方の側部23a2近傍には、二箇所に金属膜パターン群40d,40eが配置されている。
なお、実施の形態と同一構成部分には同一符号を付している。
この変形例4の金属膜パターン群40は、金属膜パターン群40bと金属膜パターン群40cとの間、および金属膜パターン群40dと金属膜パターン群40eとの間で封止材90の縁90a,90bの位置を確認するようになっている。また、金属膜パターン群40aが、金属膜パターン群40bと金属膜パターン群40c間を最初に検査することを示す表示となっている。
これにより、封止材90の位置および寸法精度確認の作業手順の標準化が容易となる。
10 表示パネル
11 貼り合わせ基板
20 TFT基板
21 端子部
22 駆動回路
23 シール部
23a 注入口部
23a1、23a2 側部
23b 注入口
24 外部接続用端子
24a 基部
30、70、 金属膜パターン
30a、70a パターン基部
40、41、42 金属膜パターン群
50 CF基板
60 接続端子
90 封止材
90a、90b 縁
100 大型貼り合わせ基板
110 マルチTFT基板
120 マルチCF基板
PX 画素電極
TFT 薄膜トランジスタ
LC 液晶材
AR2 非重畳領域
AR1 表示領域
FPC フレキシブルプリント基板
CT 対向電極
GL ゲート信号線
DL ドレイン信号線
ACF 異方性導電膜
SUB1 基板
GI 絶縁膜
AS 半導体層
DT ドレイン電極
ST ソース電極
PD パッド部
PAS 絶縁膜
CL コモン信号線
LI 絶縁膜
TH スルーホール
ORI1 配向膜
SUB2 基板
BM 遮光膜
CF 着色膜
OC 保護膜
ORI2 配向膜
L1、L2 切断線
WA 製品形成領域
Claims (5)
- 流体の注入口が形成された注入口部を有してなるシール部を間にして貼り合わされた貼り合せ基板と、前記注入口を封止する封止材と、前記貼り合わせ基板の端部に設けられ、前記封止材の位置および寸法精度確認用の複数の金属膜パターンと、長方形状に形成され、該長方形状の短手方向に並設された複数の外部接続用端子とを有してなる表示パネルを備える表示装置であって、
前記複数の金属膜パターンの各々は、
該金属膜パターン本体が長方形状に形成され、前記金属膜パターンの短手方向中心位置が、前記外部接続用端子の短手方向中心位置と等しくなるように短手方向に並設され、かつ前記金属膜パターンの短手方向の幅が、同一の並び位置の前記外部接続用端子の短手方向の幅以下に形成されてなることを特徴とする表示装置。 - 前記各金属膜パターンは、
前記外部接続端子と同層に形成されることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記金属膜パターンは、
近傍に集約して並設させた複数の前記金属膜パターンからなる金属膜パターン群ごとに配置されることを特徴とする請求項1または2に記載の表示装置。 - 前記金属膜パターン群は、
前記注入口部の各側部近傍に二箇所ずつ配置されることを特徴とする請求項3に記載の表示装置。 - 前記各金属膜パターンは、
前記外部接続端子に比して間隔をあけて並設されることを特徴とする請求項1、2、3または4に記載の表示装置。
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