JP5746203B2 - Ｕｖ安定化封止材を有する光起電モジュール - Google Patents

Description

発明の詳細な説明
光起電モジュールは、光起電性半導体に加えて、数層までの合成ポリマーからの層を含む。封止材として、合成ポリマーからの１層またはそれより多くの層は、いくつかの機能のためにはたらく。例えば、光起電モジュールの構造を支持し、外部の機械的応力に対する保護を提供し、環境に対する隔離（電気的にも）を実現し、且つ、熱エネルギーを回路から運び去る。

光起電性半導体と、外部照射源との間に設置される層の場合、高効率の光起電モジュールのためには、初期および長期の使用の間、該層が光について透明度が高いことが必要とされる。従って、該層の変色は美的な問題だけではない。それどころか、有害な環境作用、例えば光および熱によるポリマーの劣化についてのこの一般的な指標は、著しいさらなる影響がある。

光起電モジュール内で封止材として使用されるいくつかの合成ポリマーは、例えば架橋がより適した機械的特性を生じる場合、架橋されることがある。その架橋自体は、しばしば、ペルオキシド官能性を有する有機化合物による合成ポリマーの加工段階の間に開始される。加工段階の間、合成ポリマー内に他の添加剤も存在する場合、高温での加工段階の間のペルオキシドの存在は、ポリマー鎖との所望の相互作用をみちびき得るだけでなく、後者の間の共有結合の形成を生じる。それどころか、添加剤との相互作用も特定の度合いで起こり得る。該相互作用は、架橋速度の低下、および/または、添加剤不在下での同量のペルオキシドを用いて得られる最終的な程度よりも低い、合成ポリマー内での架橋の最終的な程度をみちびくことがある。特に、酸化、光および熱による劣化に対する安定化のための添加剤の存在は、ペルオキシド誘導架橋における公知の障害であり、例えばＰｌａｓｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、７６６ページ、第５版、２００１、Ｈ．Ｚｗｅｉｆｅｌ編、Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、ミュンヘン内に述べられている。

さらには、ペルオキシド官能性を有する有機化合物の添加量を増加して、加工段階の間に所望の程度の架橋が達成されることがある。しかしながら、残っているペルオキシドまたはその副生成物の残留物は、架橋されたポリマーの酸化、熱および光に対する長期安定性に有害に干渉することがある。並行して、酸化、熱および光に対する長期安定性に必要とされる添加剤は、加工段階の間のペルオキシド誘導架橋の際の相互作用によって、それらの活性を損ないかねない。

従って、ペルオキシド官能性を有する有機化合物によって誘導される合成ポリマーの架橋の間に、相互作用の少ない添加剤が、光起電モジュール内の層のためには望ましい。

「Ｉｎｖｅｓｔｉｇａｔｉｏｎ ｏｆ ｔｈｅ ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ ａｎｄ ｓｔａｂｉｌｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ＥＶＡ−ｂａｓｅｄ ｅｎｃａｐｓｕｌａｎｔ ｉｎ ｆｉｅｌｄ−ａｇｅｄ ｓｏｌａｒ ｅｎｅｒｇｙ ｍｏｄｕｌｅｓ」、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ ａｎｄ Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ、１９９７、５５５、３４７−３６５、Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｌｔｄ内に、光起電モジュールにおけるポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）ベースの封止材の変色現象、およびベンゾフェノン誘導体、即ち、（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ−フェニル）フェニルメタノンを、ＵＶ吸収剤として用いることが記載されている。

ＪＰ−Ａ−２００８−１５９８５６号は、その実施例の中に、ベンゾフェノン誘導体、即ち、（２，４−ジヒドロキシ−フェニル）フェニルメタノンを、ＵＶ吸収剤として、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）中で、架橋剤としての有機ペルオキシドおよびヒンダードアミン光安定剤と共に用いる使用を開示している。

ＵＳ−３５８０９２７号は、合成ポリマー用のＵＶ吸収剤として有用な二量体のベンゾフェノン誘導体の合成を開示している。

ＪＰ−Ｂ−４７０４８８８８号は、二量体のベンゾフェノン誘導体を、比較的高温で加工されるいくつかのポリマーの安定化のために用いることについて開示している。

本発明は以下の成分を含む光起電モジュールに関する：
（１） 光起電性半導体、および
（２） 以下を含有する１つまたはそれより多くの層：
（Ａ） 合成ポリマーおよび
（Ｂ） 式ＩのＵＶ吸収剤

［式中、
Ｘは直鎖または分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₁₆−アルキレン、ｏ−、ｍ−またはｐ−キシリレン、または式−ＣＨ₂ＣＨ₂［ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂］_n−、−ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）［ＯＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）］_n−または−ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂［ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂］_n− （前記ｎは１〜４である）のオキサアルカンジイルである；
Ｒ₁は水素、直鎖または分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₁₈−アルキル、直鎖または分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₁₈−アルコキシまたはクロロである；
Ｒ₂は水素、または直鎖または分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₁₈−アルキルである］。

直鎖または分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₁₆−アルキレンの例は、メチレン、エチレン、１，３−プロピレン、１−メチルエチレン、１，４−ブチレン、１，５−ペンチレン、１，４−（２−メチル）ブチレン、１，３−（２，２−ジメチル）プロピレン、１，６−ヘキサメチレン、１，８−オクチレン、１，１０−デシレンである。特に好ましいのは、Ｃ₂〜Ｃ₁₀−アルキレン、特にＣ₃〜Ｃ₈−アルキレンである。好ましい例は、エチレン、１，３−プロピレン、１，４−ブチレンおよび１，６−ヘキサメチレンである。

直鎖または分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₁₈−アルキルの例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、２−メチルプロピル、１−メチルプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，１−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルメチル、ヘキシル、１−メチルペンチル、ヘプチル、イソヘプチル、２−エチルペンチル、１−プロピルブチル、オクチル、イソオクチル、１−エチルヘキシル、２−エチルヘキシル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、２，４，４−トリメチルペンチル、ノニル、イソノニル、ネオノニル、ウンデシル、ラウリル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシルおよびオクタデシルである。好ましいのは、Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アルキル、特にＣ₁〜Ｃ₈−アルキル、特にＣ₁〜Ｃ₄−アルキルである。好ましい例はメチルおよびｔｅｒｔ−ブチルである。

直鎖または分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₁₈−アルキルオキシの例は、メチルオキシ、エチルオキシ、２−メチルエチルオキシ、プロピルオキシ（＝プロポキシ）、ブチルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシおよび２−エチルヘキシルオキシである。好ましいのは、Ｃ₁〜Ｃ₈−アルキルオキシである。好ましい例は、メチルオキシ、オクチルオキシおよび２−エチルヘキシルオキシである。

好ましいのは、式Ｉにおいて、ＸがＣ₂〜Ｃ₁₀−アルキレンである光起電モジュールである。

好ましいのは、式ＩにおいてＲ₂が水素またはｔｅｒｔ−ブチルである光起電モジュールである。

好ましいのは、式ＩにおいてＲ₁が水素、ｔｅｒｔ−ブチル、メトキシまたはクロロである光起電モジュールである。

好ましいのは、式Ｉにおいて、Ｒ₁が水素、ｔｅｒｔ−ブチルまたはメトキシまたはクロロであり、Ｒ₂が水素であり、且つＸがＣ₃〜Ｃ₈−アルキレンである光起電モジュールである。

好ましいのは、式Ｉにおいて、ＸがＣ₃〜Ｃ₈−アルキレンであり、Ｒ₁およびＲ₂が水素である、光起電モジュールである。

好ましいのは、式ＩにおいてＸがｎ−ブチレンまたはヘキサメチレンである光起電モジュールである。

特に好ましいのは、成分（Ｂ）が４−［４−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシ−フェノキシ）−ブトキシ］−２−ヒドロキシ−フェニル｝−フェニル−メタノンまたは｛４−［６−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシ−フェノキシ）−ヘキシルオキシ］−２−ヒドロキシ−フェニル｝−フェニル−メタノンである光起電モジュールである。

非常に好ましいのは、成分（Ｂ）が４−［４−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシ−フェノキシ）−ブトキシ］−２−ヒドロキシ−フェニル｝−フェニル−メタノンである光起電モジュールである。

合成ポリマーの例は、以下である：
１． モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペンタ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポリマー、例えばシクロペンテンまたはノルボルネン、ポリエチレン（随意に架橋していてよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）および（ＵＬＤＰＥ）。

２． １）で述べられたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）、および異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。

３． モノオレフィンおよびジオレフィンのお互いの、または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えば、エチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびそれらと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えばエチレン／ノルボルネン、例えばＣＯＣ）、エチレン／１−オレフィンコポリマー、ここで１−オレフィンはインサイチューで生成される； プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマー（ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、ＥＶＡ）またはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩（イオノマー）、並びにエチレンとプロピレンおよびジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー、；および、かかるコポリマー同士の、および上記１）で述べられたポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニルコポリマー、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル））、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ、および交互またはランダムなポリアルキレン／一酸化炭素コポリマーおよびそれらと他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。

４． α，β−不飽和酸から誘導されるポリマーおよびその誘導体、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリレート；ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル、ブチルアクリレートを用いたそれらの耐衝撃性改質物。

５． 不飽和アルコールおよびアミンまたはアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにそれらと上記の１）で述べられたオレフィンとのコポリマー。

６． ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。

７． ジカルボン酸およびジオールから誘導される、および／またはヒドロキシカルボン酸または相応するラクトンから誘導されるポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）およびポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル基を末端にもつポリエーテルから誘導されるブロックコポリエーテルエステル；およびさらにポリカーボネートまたはＭＢＳで改質されたポリエステル。

８． ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。

９． 一方で末端にヒドロキシル基を有するポリエステル、ポリエステルまたはポリブタジエンから、且つ他方で脂肪族または芳香族ポリイソシアネートから誘導されるポリウレタン、並びにそれらの前駆体。

１０． ジアミンおよびジカルボン酸から、および／またはアミノカルボン酸または相応するラクタムから誘導されるポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸または／およびテレフタル酸から製造され、且つ改質剤としてのエラストマーを有するまたは有さないポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；および上述のポリアミドと、ポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオノマー、あるいは化学結合またはグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；またはポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで改質されたポリアミドまたはコポリアミド；および加工の間に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。

１１． 上述のポリマーのブレンド（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。

１２． ポリシロキサン、例えばシリコーン、例えばアルキル置換されたシリコーン（例えばメチルシリコーン）、部分的にビニル置換されたシリコーン（ＶＭＱ、例えばビニルメチルシリコーン）、部分的にフェニル置換されたシリコーン（ＰＭＱ、例えばフェニルメチルシリコーン）、部分的にビニルおよびフェニル置換されたシリコーン（ＰＶＭＱ、例えばフェニルビニルメチルシリコーン）、部分的にフルオロアルキル置換されたシリコーン（ＦＭＱ、例えば３，３，３−トリフルオロプロピルメチルシリコーン）、部分的にフルオロアルキルビニル置換されたシリコーン（ＦＶＭＱ、例えば３，３，３−トリフルオロプロピルビニルメチルシリコーン）、部分的にアミノアルキル置換されたシリコーン（例えば３−アミノプロピルメチルシリコーン）、部分的にカルボキシアルキル置換されたシリコーン（例えば３−カルボキシプロピルメチルシリコーン）、部分的にアルコキシ置換されたシリコーン（例えばエトキシメチルシリコーン）、部分的にアリル置換されたシリコーン（例えばアリルメチルシリコーン）またはシリコーン樹脂（高度に架橋したシリコーン）。

好ましいのは、成分（Ａ）が、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、ポリ（エチレン−ｃｏ−メタクリル酸）およびそれらの塩、ポリ（エチレン−ｃｏ−アクリル酸）およびそれらの塩、ポリウレタン、ポリ（ビニルブチラール）、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリエステルおよびシリコーンから選択される合成ポリマーである光起電モジュールである。

合成ポリマーは、熱可塑性または架橋されていてよい。

好ましいのは、成分（Ａ）が熱可塑性合成ポリマーである光起電モジュールである。

好ましいのは、成分（Ａ）が、熱可塑性合成ポリマーであり、且つポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、ポリ（エチレン−ｃｏ−メタクリル酸）およびそれらの塩、ポリ（エチレン−ｃｏ−アクリル酸）およびそれらの塩、ポリウレタン、ポリ（ビニルブチラール）、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリエステルおよびシリコーンから選択される光起電モジュールである。

好ましいのは、成分（Ａ）が熱可塑性ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）である光起電モジュールである。

特に好ましいのは、成分（Ａ）が、１０％〜４０％の酢酸ビニルの相対質量含有率を有する熱可塑性ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）である光起電モジュールである。

適したモノマーを選択すれば、架橋された合成ポリマーを既に重合の間に形成できる。選択的に、既に形成された熱可塑性ポリマーの変性のための別の加工段階によって架橋を達成することもできる。後者の場合、追加的な共有結合が、ポリマー中の個々の分枝鎖の間に形成され、従って三次元ネットワークが作られる。従って、元々は熱可塑性である合成ポリマーのいくつかの特性は、架橋された合成ポリマーでは変性され、例えば粘度が特により高い温度にて著しく増加される。

この用途においては、ゲル含有率が５０％〜１００％である場合、ポリマーが架橋されているとしてみなされ、ここで１００％は完全架橋を示す。特に関連するのは、ゲル含有率５０％〜９８％、特に８０％〜９５％である。

本文献に関するポリマーのゲル含有率は、以下の通りに測定される：
３ｇのポリマーを、３００ｍＬのキシレン中で、還流しながら（約１４０℃で）１２時間の間、溶解させる。室温への冷却後、溶解されていない残留物を、ろ過によって１００メッシュの金属網を通して単離する。該残留物を１２０℃で４時間、真空下で乾燥させる。乾燥された残留物の、元の量のポリマーに対する質量比が、ゲル含有率である。

好ましいのは、成分（Ａ）が架橋された合成ポリマーである光起電モジュールである。

いくつかの熱可塑性ポリマーは架橋のために特に適しており、例えばポリエチレン、エチレン／１-オレフィンコポリマー、エチレンとプロピレンおよびジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、ポリ（ビニルブチラール）、ポリメタクリレート、ポリアクリレートおよびシリコーンである。

好ましいのは、成分（Ａ）がポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、ポリ（ビニルブチラール）およびシリコーンから選択される架橋されたポリマーである光起電モジュールである。

好ましいのは、成分（Ａ）が架橋されたポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）である光起電モジュールである。好ましいのは、成分（Ａ）が、１０％〜４０％の酢酸ビニルの相対質量含有率を有する架橋されたポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）である光起電モジュールである。

架橋工程を、ペルオキシド官能性を有する有機化合物を添加し、且つポリマーをより高い温度に曝露することによって誘導でき、なぜなら、より高い温度で、ペルオキシド官能性が反応性ラジカルの生成をみちびくからである。それらのラジカルは、合成熱可塑性ポリマーの異なる分子鎖間での前記の共有結合の形成反応を開始する。特定の熱可塑性合成ポリマーの架橋の最終的な程度、およびさらに架橋速度は、とりわけ、用いられる有機ペルオキシド化合物の種類および量、工程条件、例えば温度および特定の温度への曝露時間に依存する。さらには、熱可塑性合成ポリマー中に存在する添加剤が架橋工程に影響することがある。

ペルオキシド官能性を有する有機化合物の例は以下である：
１． ヒドロペルオキシド、例えばｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドまたはクミルヒドロペルオキシド。

２． アルキル／アリールペルオキシド、例えばジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−アミルペルオキシド、２，２−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ブタン、２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−３−ヘキシン−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ビス−（１−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−１−メチル−エチル）−ベンゼン、α，α’−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ジイソプロピルベンゼン、１，４−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチル−ペルオキシジイソプロピル）ベンゼンまたはｔｅｒｔ−ブチルクミルペルオキシド。

３． ペルオキシエステル、例えばｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ２−エチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ジドデカノイルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシドまたはコハク酸ペルオキシド。

４． ペルオキシカーボネート、例えばペルオキシ炭酸 Ｏ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルエステルＯ−イソプロピルエステルまたはペルオキシ炭酸 Ｏ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルエステルＯ−（２−エチルヘキシル）エステル。

５． ジアロイルペルオキシド、例えばジベンゾイルペルオキシド、ジ−（４−クロロベンゾイル）ペルオキシド、ジ−（２，４−ジクロロベンゾイル）ペルオキシドまたはジ−（４−メチルベンゾイル）ペルオキシド。

６． ペルオキシケタール、例えば１，１−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ジ−（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）シクロヘキサン、エチル ３，３−ジ−（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）ブタノエートまたはｎ−ブチル ４，４−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）バレレート。

７． 環状ペルオキシド、例えば３，６，９−トリエチル−３，６，９−トリメチル−［１，２，４，５，７，８］ヘキサオキソナン（ｈｅｘｏｘｏｎａｎｅ）または３，３，６，６，９，９−ヘキサメチル−１，２，４，５−テトラオキソシクロヘキサン。

いくつかの有機ペルオキシド化合物は、市販であり、例えばＬｕｐｅｒｏｘ １０１ （登録商標 Ａｒｋｅｍａ Ｉｎｃ．）中に含有される２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、またはＬｕｐｅｒｏｘ ＴＢＥＣ （登録商標 Ａｒｋｅｍａ Ｉｎｃ．）中に含有されるペルオキシ炭酸Ｏ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル Ｏ−イソプロピルエステルである。

好ましいのは、成分（Ａ）が、架橋がペルオキシド官能性を有する有機化合物を元の熱可塑性ポリマーに添加することに起因する、架橋された合成ポリマーである光起電モジュールである。

好ましいのは、成分（Ａ）が、架橋がペルオキシド官能性を有する有機化合物を元の熱可塑性ポリマーに添加することに起因し、且つ、ペルオキシド官能性を有する有機化合物が、ジデカノイルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、コハク酸ペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、２，５−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルクミルペルオキシド、α，α’−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−アミルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチル−３−ヘキシン、１，１−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−シクロヘキサン、１，１−ジ−（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）シクロヘキサン、ｎ−ブチル ４，４−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）バレレート、エチル３，３−ジ−（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）ブタノエート、エチル３，３−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ブチレートおよびｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ ２−エチルヘキシルカーボネートから選択される、架橋された合成ポリマーである光起電モジュールである。

特に好ましいのは、ペルオキシ炭酸Ｏ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルエステルＯ−イソプロピルエステルである。

好ましいのは、成分（Ａ）が、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、ポリ（ビニルブチラール）および部分的にビニル置換されたシリコーンから選択され、且つ、架橋がペルオキシド官能性を有する有機化合物を元の熱可塑性ポリマーに添加することに起因する、架橋された合成ポリマーである光起電モジュールである。

好ましいのは、成分（Ａ）が、架橋がペルオキシド官能性を有する有機化合物を元の熱可塑性ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）へ添加することに起因する、架橋されたポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）である光起電モジュールである。

好ましいのは、成分（Ａ）が、架橋がペルオキシド官能性を有する有機化合物を元の熱可塑性ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）へ添加することに起因する、酢酸ビニルの相対質量含有率１０％〜４０％を有する架橋されたポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）である光起電モジュールである。

典型的な光起電モジュールは、例えば以下の層を含有する：
・ 光起電モジュールＩ：
（ａ） 前面支持層
（ｂ） 封止層
光起電性半導体としての結晶シリコン層
（ｂ） 封止層
（ｃ） 裏面基板層。

・ 光起電モジュールＩＩ：
前面支持層
透明導電層
光起電性半導体としてのアモルファスシリコン層
裏面コンタクト層
封止層
裏面基板層。

・ 光起電モジュールＩＩＩ：
前面支持層
封止層
透明導電層
光起電性半導体としての複合型半導体
裏面コンタクト層
裏面基板層。

・ 光起電モジュールＩＶ：
前面支持層
透明導電層
光起電性半導体としての複合型半導体
透明導電層
封止層
裏面基板層。

好ましいのは、成分（２）の単数または複数の層が、前面支持層、封止層および裏面基板層から選択される光起電モジュールである。

前面支持層、封止層および裏面基板層は、有利には合成ポリマー製である。望ましい場合、前面支持層および／または裏面基板層は、選択的に例えばガラスまたは金属から製造されてよい。

光起電モジュールは、光起電性半導体を含む。光起電性半導体は、例えば結晶シリコン、アモルファスシリコン、または複合型半導体の場合、ＣｕＩｎＳｅ₂（ＣＩＳ）、Ｃｕ（ＩｎＧａ）Ｓｅ₂（ＣＩＧＳ）、Ｃｕ（ＩｎＧａ）（ＳＳｅ）₂またはＣｄＴｅ−ＣｄＳを含有する。

好ましいのは、光起電半導体（１）が結晶シリコン、アモルファスシリコン、ＣｕＩｎＳｅ₂、Ｃｕ（ＩｎＧａ）Ｓｅ₂またはＣｄＴｅ−ＣｄＳを含有する光起電モジュールである。

光起電モジュールの成分（２）の単数または複数の層は、成分（Ｂ）の下で、さらなる添加剤を含有してよい。

さらなる添加剤の例は以下である：
１． 酸化防止剤
１．１． アルキル化モノフェノール、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、ノニルフェノール（側鎖内で直鎖または分岐鎖である）、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデカ−１’−イル）フェノール、およびそれらの混合物。

１．２． アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。

１．３． ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。

１．４． トコフェロール、例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、およびそれらの混合物（ビタミンＥ）。

１．５． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。

１．６． アルキリデンビスフェノール、例えば、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル−フェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール ビス−［３，３−ビス−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。

１．７． Ｏ−、Ｎ−、およびＳ−ベンジル化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。

１．８． ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。

１．９． 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。

１．１０． トリアジン化合物、例えば２，４−ビス−（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。

１．１１． ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。

１．１２． アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウルアニリド（ｈｙｄｒｏｘｙｌａｕｒａｎｉｌｉｄｅ）、４−ヒドロキシステアルアニリド、オクチル Ｎ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。

１．１３． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と下記とのエステル： 一価または多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

１．１４． β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と下記とのエステル、一価または多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン；３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］−ウンデカン。

１．１５． β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と下記とのエステル： 一価または多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

１．１６． ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と下記とのエステル： 一価または多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。

１．１７． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド。

１．１８． アスコルビン酸（ビタミンＣ）。

１．１９． アミン系酸化防止剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチル−アミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス−［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチル−フェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブト−２−エン。

２． ＵＶ吸収剤および光安定剤。

２．１． ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソ−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］； ２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと、ポリエチレングリコール３００とのエステル交換反応生成物；

前記Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾール； ２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル］ベンゾトリアゾール。

２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。

２．３． 置換された、および置換されていない安息香酸のエステル、例えば、４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレソルシノール、ビス−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レソルシノール、ベンゾイルレソルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

２．４． アクリレート、例えばエチル α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル α−カルボメトキシシンナメート、メチル α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチル α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、ネオペンチルテトラ（α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート。

２．５ ニッケル化合物、例えば、２，２’−チオ−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチル−ブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２の錯体であって、さらなる配位子、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミンを有するまたは有さないもの、ニッケル ジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシムの、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、さらなる配位子を有するもの、または有さないもの。

２．６． 立体障害アミン、例えば、ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル） ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状または環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス−（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状または環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス−（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、１，２−ビス−（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；１，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、並びにＮ，Ｎ−ジブチルアミンと４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１９２２６８−６４−７］）； Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ−［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンまたは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、５−（２−エチルヘキサノイル）−オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、Ｓａｎｄｕｖｏｒ （登録商標、Ｃｌａｒｉａｎｔ； ＣＡＳ 登録番号［１０６９１７−３１−１］）、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−オン−４−イル）−アミノ）−ｓ−トリアジン。

２．７． オキサミド、例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド（ｂｕｔｏｘａｎｉｌｉｄｅ）、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エトキサニリド（ｅｔｈｏｘａｎｉｌｉｄｅ）、およびその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。

２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリス−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス−（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス−（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス−（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス−（４−［２−エチルヘキシルオキシ］−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン。

３． 金属不活性化剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラール−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。

４． ホスフィットおよびホスホナイト、例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス−（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス−（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス−（２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル） ４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス−（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。

以下のホスフィットが特に好ましい：
トリス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット（ｌｒｇａｆｏｓ１６８、（登録商標、Ｃｉｂａ Ｉｎｃ）、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、

５． ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化タローアミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。

６． ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン（ｔｒｉｄｅｃｙｌｎｎｉｔｒｏｎｅ）、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化タローアミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されるニトロン。

７． チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート（ｄｉｍｉｓｔｒｙｌ ｔｈｉｏｄｉｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ）、ジステアリルチオジプロピオネート、またはジステアリルジスルフィド。

８． 過酸化物除去剤、例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルのエステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス−（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。

９． ポリアミド安定剤、例えば、銅塩とヨウ化物および／またはリン化合物との組み合わせ、および二価のマンガン塩。

１０． 塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、ウレア誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモンまたはピロカテコール酸亜鉛。

１１． 成核剤、例えば、無機物質、例えば滑石、金属酸化物、例えば二酸化チタンまたは酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩または硫酸塩； 有機化合物、例えばモノカルボン酸またはポリカルボン酸およびそれらの塩、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム； ポリマー化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）、またはＩｒｇａ−ｃｌｅａｒ ＸＴ ３８６ （登録商標、Ｃｉｂａ）。特に好ましいのは、１，３：２，４−ビス−（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビトール、および１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトールである。

１２． 充填剤および強化剤、例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラスビーズ、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉および他の天然物の粉末または繊維、合成繊維。

１３． 他の添加剤、例えば顔料、例えばカーボンブラック、ルチルまたはアナターゼ形の二酸化チタン、着色顔料； 可塑剤； 潤滑剤； 乳化剤； 流動添加剤； 滑り防止／粘着防止添加剤； 触媒； 流動調節剤； 蛍光増白剤、帯電防止剤および膨張剤。

１４． ベンゾフラノンおよびインドリノン、例えば、Ｕ．Ｓ．４３２５８６３号； Ｕ．Ｓ．４３３８２４４号； Ｕ．Ｓ．５１７５３１２号； Ｕ．Ｓ．５２１６０５２号； Ｕ．Ｓ．５２５２６４３号； ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号； ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号； ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号； ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号、ＥＰ−Ａ−０５９１１０２号； ＥＰ−Ａ−１２９１３８４号内に開示されているもの、あるいは３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシ−エトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２−アセチル−５−イソオクチルフェニル）−５−イソオクチル−ベンゾフラン−２−オン。

好ましいのは、成分（２）の単数または複数の層が、ベンゾトリアゾールＵＶ吸収剤、トリアジンベースのＵＶ吸収剤、立体障害アミン、フェノール系酸化防止剤、塩基性補助安定剤および中和剤の群から選択される１つまたはそれより多くのさらなる成分を含有する光起電モジュールである。

好ましいのは、成分（２）の単数または複数の層が、項目２．６の立体障害アミンの下で列挙されたヒンダードアミン光安定剤の群から選択されるさらなる成分を含有する光起電モジュールである。

当該成分（２）の単数または複数の層は、例えば１０〜２０００μｍ、特に５０〜１０００μｍの厚さを有する。

当該成分（２）の単数または複数の層は、優れた光学特性、例えば光学的な透明度、例えば高い収縮性（ｃｏｎｔｒａｃｔａｂｉｌｉｔｙ）を有する分極剤の収縮を防ぐために充分に高い機械的強度、プロセスの間に適用される高温に耐えることができる耐熱性、およびその種のものを有する。

当該成分（２）の単数または複数の層は、好ましくは、波長２８０〜３４０ｎｍでの光透過率５％未満を有している。

当該成分（２）の単数または複数の層は好ましくは、ＡＳＴＭ Ｄ１００３による例えば５未満（１００μｍ膜で測定）の低いヘイズ値を有する。

当該成分（２）の単数または複数の層は、典型的には、成分（Ｂ）としてのＵＶ吸収剤および随意にさらなる添加剤を含む成分（Ａ）としての合成ポリマー製のシートを変換することによる製造工程の間に生成される。前記シートは、当業者によく知られているプラスチック加工についての通常の方法、例えば溶液流延法、溶融成形法、例えば溶融押出成形、プレス成形または射出成形またはその種のものによって製造できる。

それらの方法は随意に追加的な加工段階、例えば延伸、貼り合わせ、同時押出またはその種のものを含んでよい。

式Ｉの当該化合物、随意のさらなる添加剤および随意のペルオキシドを、単数または複数のシートへの変形前またはその間に、合成ポリマー中に混合できる。この単数または複数のシートを、その後、光起電モジュール製造の間に、当該成分（２）の単数または複数の層に変換する。それらの混合方法は特に限定されず、且つ、当業者にはよく知られている。例えば、合成ポリマー中への式Ｉの化合物の混合、または合成ポリマー中に混合するための式Ｉの化合物のマスターバッチの使用を述べることができる。例えば、式Ｉの化合物を溶融押出成形および同様のものの間に供給することが可能であり、且つ、任意のそれらの方法を用いることができる。

式Ｉの化合物は好ましくは、成分（２）中の合成ポリマー中に、合成ポリマーの質量に対して０．０１％〜１０％、好ましくは０．０５％〜５％、および特に０．０５％〜２％の量で存在する。好ましいのは、成分（Ｂ）が成分（Ａ）の質量に対して０．０１％〜１０％で存在する光起電モジュールである。

さらなる添加剤は、合成ポリマー中に、合成ポリマーの質量に対して０．００１％〜１０％、好ましくは０．０１％〜５％、および特に０．０１％〜２％の量で存在してよい。好ましいのは、さらなる添加剤が、成分（Ａ）中に、成分（Ａ）の質量に対して０．００１％〜１０％の量で存在する光起電モジュールである。

望ましい場合、単数または複数のシートを当該成分（２）の単数または複数の層の前駆体として、処理に供することができる。該シートと他の層との互いの付着性を改善するための処理が有利である。特に、表面処理、例えば接着剤によるシート表面への特別なコーティングの適用は、光起電モジュールの製造工程の間に機械的に硬質なままである層と層とに変形するシートの間の、貼り合わせ工程を改善できる。ここで、機械的な硬性とは、光起電モジュールの製造工程の間に適用される加温に対して敏感ではない層、例えばガラス、金属またはポリマー、例えば特定のポリエステルからの層に関している。

選択的に、またはシートの表面処理に加えて、定着剤を合成ポリマー中に混入して、光起電モジュールの製造の間にシートから形成される層の付着性を改善する。前記定着剤を、随意のさらなる添加剤および随意のペルオキシドについて記載された方法と同様に、合成ポリマー中に混入できる。定着剤の混入を、随意のさらなる添加剤および随意のペルオキシドと同時に、例えばポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からのシート形成の間に行うことができる。

定着剤の例は、カップリング機能を有するシランである。

１． ビニルシラン、例えばビニルクロロシラン、ビニル−トリス−（２−メトキシエトキシ）−シラン、ビニル−トリエトキシ−シラン、ビニル−トリアセトキシ−シランまたはビニル−トリメトキシ−シラン。

２． アクリルオキシシラン、例えば（３−（メタクリルオキシ）プロピル）−トリメトキシ−シラン。

３． エポキシシラン、例えば（２−（７−オキサ−ビシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−イル）エチル）−トリメトキシ−シラン、（３−オキシラニルメトキシ−プロピル）−トリメトキシ−シランまたは（３−オキシラニルメトキシ−プロピル）−ジエトキシ−メチル−シラン。

４． アミノシラン、例えば、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル）−トリメトキシ−シラン、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル）−ジメトキシ−メチル−シラン、（３−アミノプロピル）−トリエトキシ−シランまたは（Ｎ−フェニル−３−アミノプロピル）−トリメトキシ−シラン。

５． 他の種類のシラン、例えば、（３−メルカプトプロピル）−トリメトキシ−シランまたは（３−クロロプロピル）−トリメトキシシラン。

定着剤として好ましいのは、（３−（メタクリルオキシ）プロピル）−トリメトキシ−シランである。

合成ポリマー中の定着剤の典型的な量は、０．０１％〜５％、特に０．１％〜２％である。好ましいのは、定着剤が、成分（Ａ）中に、成分（Ａ）の質量に対して０．０１％〜５％の量で存在する光起電モジュールである。

光起電モジュールについての標準的な製造工程を、結晶シリコン、２層の架橋されたポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、ガラスからの前面支持層、およびポリエステルからの裏面支持層を含むモジュールについて例示する。

結晶シリコンから、自体が光起電性の半導体を含有するセルを含む光起電モジュールの標準的な構造は、スーパーストレート構造と呼ばれている。そのようなスーパーストレート構造の部品は、二次元的にいくつかのセルを配列することによって製造され、前記セルが光起電性半導体を含み、それらがタンデムおよび並列に接続されている。

成分（Ｂ）としての式ＩによるＵＶ吸収剤、ペルオキシドおよび随意のさらなる添加剤を含有するポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からのシートを、ガラスからのシート上に設置する。このガラスシートは後で、完成された光起電モジュールの前面支持層になる。前記ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からのシートの上部に、上述のセルの配列物を載せ、次に、成分（Ｂ）としての式ＩによるＵＶ吸収剤、ペルオキシドおよび随意のさらなる添加剤を含有するポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からの他のシートを載せる。最後に、成分（Ｂ）として式ＩによるＵＶ吸収剤および随意のさらなる添加剤を含有するポリエステルからのシートを、上部に設置する。ポリエステルからの前記シートは後で、完成された光起電モジュールの裏面支持層になる。

積層物全体をここで、貼り合わせ機内で加工し、その際、第一の段階として１２０℃までの加温を真空下で行い、そしてこの温度で３〜６０分間、例えば２０分間維持する。この時間の間に、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からの２つのシートが熱により溶融し（しかし裏面支持層としてのポリエステルシートはそうではない）、それによりセルの配列物が封止され、且つ、ガラスとポリエステルシートとが接着される。第二の段階において、積層物全体をさらに１５０℃まで貼り合わせ機内で加熱し、そしてこの温度で５〜６０分、例えば２０分間保持して、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）の架橋反応を開始させ、且つ完了させる。前記の架橋は、ここで、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からの元のシートにより形成された層において機械的特性の改善をもたらす。積層物の冷却後、光起電モジュールを、その端部をシーリングし、フレーミングし、且つケーブルおよび接続箱を組み込むことによって、完成させる。

他の光起電性半導体を用いた他の光起電モジュールシステム、例えばアモルファスシリコンを含有する光起電モジュールまたは複合型半導体を含有する光起電モジュールでは、セルを異なる方法によって、例えばスパッタまたは化学気相成長によって製造してよい。しかしながら、封止工程は常に類似しており、そのことは、シートから作られる積層物が貼り合わせ機内で加工されて、封止材として予見される合成ポリマーを溶融し、そして（選択された場合）架橋反応を後で開始することを意味する。

本発明の他の実施態様は、光起電モジュール内に存在する１層またはそれより多くの層中の合成ポリマーを安定化させるための方法であって、請求項１に定義される式Ｉの化合物を該合成ポリマー中に添加することを含む方法である。

本発明の他の実施態様は、光起電モジュール内に存在する１層またはそれより多くの層中の合成ポリマーを安定化させるための、式Ｉの化合物の使用である。好ましいのは、光および熱による劣化に対する安定化である。

本発明の他の実施態様は、光起電モジュール内に存在する１層またはそれより多くの層中の合成ポリマーのペルオキシド誘導架橋のための方法であって、請求項１に定義される式Ｉの化合物および有機ペルオキシド化合物を、該合成ポリマー中に添加することを含む方法である。

本発明の他の実施態様は、光起電モジュール内に存在する１層またはそれより多くの層中の合成ポリマーのペルオキシド誘導架橋の工程における低干渉のための、式Ｉの化合物の使用である。

式Ｉの化合物を、公知の方法、例えばＵＳ３５８０９２７号に記載のとおり、製造できる。

実施例１： 架橋されたポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）の安定化
１００部のペレットのＥＬＶＡＸ ＰＶ １４００ （登録商標 ＤｕＰｏｎｔ Ｌｔｄ、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、３２％の相対質量含有率の酢酸ビニルを有する）を、１部の液体のＬｕｐｅｒｏｘ １０１ （登録商標 Ａｒｋｅｍａ Ｉｎｃ．、２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサンを含有 ［ＣＡＳ番号７８−６３−７］）に、さらなる溶剤を用いないで、回転ガラスフラスコ内で２時間、室温で浸漬させる。

浸漬されたペレットおよび表１によるそれぞれの相対質量の量の添加剤を、７０℃未満で１０分間、カレンダーミキサー（Ｓｃｈｗａｂｅｎｔｈａｎ Ｉｎｃ．）によって混合する。製造された混合材料を、１５０℃で１５分間、圧縮成型機（Ｓｕｔｅｒ Ｉｎｃ．）によって、０．５ｍｍ厚の圧縮シートへと変形する。真空、即ち、大気圧よりも低い圧力は、このシート製造の間には適用されない。製造されたシートを加速耐候試験に曝露し、該試験を、Ｅｙｅ Ｓｕｐｅｒ ＵＶ試験機、ＳＵＶ−Ｗ１５１ （岩崎電気株式会社）を使用し、放射照度１００ｍＷ／ｃｍ²、ブラックパネル温度６３℃、湿度５０％を用い、且つ水の噴霧を用いないで稼働して実施する。

初期および規則的な間隔後、黄色度指数（ＹＩ）を、日本工業標準Ｋ７１０３に従って、分光光度計（コニカ−ミノルタ ＣＭ−３７００ｄ）を用いて測定する。黄色度指数については、低い値が保たれることが望ましい。

表１： 耐候試験前後の、製造されたシート（０．５ｍｍ厚）の黄色度指数

ａ） 比較
ｂ） 本発明による
ｃ） Ｃｈｉｍａｓｓｏｒｂ ８１ （登録商標 Ｃｉｂａ）： （２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシ−フェニル）フェニルメタノン

ｄ） ＵＶＡ−１： ｛４−［４−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシ−フェノキシ）ブトキシ］−２−ヒドロキシ−フェニル｝フェニルメタノン

実施例２： １５０℃での等温熱重量分析
粉末形態での２０ｍｇの添加剤の減量を、１００ｍＬ／分の窒素フローおよび大気圧下での１５０℃への加熱および１５０℃で３０分間の保持の間、熱重量分析（ＴＧＡ／ＳＤＴＡ ８５１、Ｍｅｔｔｌｅｒ Ｌｔｄ製）により測定する。

表２： １５０℃での等温熱重量分析の間の相対減量

該実施例は、１５０℃且つ大気圧で、即ち、実施例１の間に生じる最高温度且つ最低圧力で、両方の添加剤の揮発性が無視できるほどであることを明らかにする。

実施例３： ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）のペルオキシド誘導架橋に及ぼす添加剤の影響
１００部のペレットのＥＬＶＡＸ ＰＶ １４００ （登録商標、ＤｕＰｏｎｔ Ｌｔｄ、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、３２％の相対質量含有率の酢酸ビニルを有する）を、１部の液体のＬｕｐｅｒｏｘ ＴＢＥＣ （登録商標 Ａｒｋｅｍａ Ｉｎｃ．、ペルオキシ炭酸Ｏ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルエステルＯ−イソプロピルエステルを含有 ［ＣＡＳ番号３４４４３−１２−４］）で、さらなる溶剤を用いないで、回転ガラスフラスコ内で２時間、室温で浸漬させる。

浸漬されたペレットおよび表２によるそれぞれの相対質量の量の添加剤を、７０℃未満で１０分間、カレンダーミキサー（Ｓｃｈｗａｂｅｎｔｈａｎ Ｉｎｃ．）によって混合する。架橋速度を、経時的な粘度値の増加を記録することによって測定する。粘度値の欠損（ｄｅｌｅｔｉｏｎ）は、架橋の水準と相関している。材料の粘度の欠損を、動的レオメータ（機器 ＳＩＳ Ｖ５０、Ｓｃａｒａｂａｅｕｓ Ｉｎｃ．製）により、１５０℃で、０．５度の振幅および１．６７Ｈｚを用いて３０分間、測定する。

表３： ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）の架橋の間のトルク値の推移

１５０℃に到達した後、元は固体であった混合材料が液体になる際、モーメントについての３つ全ての材料の出発値は、初めはゼロに近い。この溶融のモーメントは、全ての材料についてほぼ同時に生じ、且つ、定められた時間スケールで０〜１分の間に観察される。加熱の間、ペルオキシドの分解が開始し（いわゆる誘導期）、そして測定されたトルク値により示される架橋を誘導する。約２５分後、各々の材料のトルク値が最終的な安定水準に達し、且つ、３０分にてそれが測定される。

ＵＶ吸収剤のないものに近いトルク値が望ましい。

Claims (11)

1. 光起電性半導体を含有する光起電モジュール内に存在する１層またはそれより多くの層中の合成ポリマーのペルオキシド誘導架橋のための方法であって、
   式Ｉの化合物：
   

   

   ［式中、
   Ｘは直鎖または分枝鎖のＣ₂〜Ｃ₁₀−アルキレンである；
   Ｒ₁は水素である；
   Ｒ₂は水素またはｔｅｒｔ−ブチルである］および有機ペルオキシド化合物を該合成ポリマー中に添加することを含み、かつ
   該合成ポリマーが、１０％〜４０％の酢酸ビニルの相対質量含有率を有するポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）である、
   前記方法。
2. 前記光起電性半導体が、結晶シリコン、アモルファスシリコン、ＣｕＩｎＳｅ₂、Ｃｕ（ＩｎＧａ）Ｓｅ₂またはＣｄＴｅ−ＣｄＳを含有する、請求項１に記載の方法。
3. 前記１層またはそれより多くの層が、ベンゾトリアゾールＵＶ吸収剤、トリアジンベースのＵＶ吸収剤、立体障害アミン、フェノール系酸化防止剤、塩基性補助安定剤および中和剤の群から選択される１つまたはそれより多くのさらなる成分を含有する、請求項１または２記載の方法。
4. 前記１層またはそれより多くの層が、厚さ１０〜２０００μｍを有する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方法。
5. 前記式（Ｉ）の化合物が、合成ポリマーの質量に対して０．０１％〜１０％で存在する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の方法。
6. 前記有機ペルオキシド化合物が、ヒドロペルオキシド、アルキルペルオキシド、アリールペルオキシド、ペルオキシエステル、ペルオキシカーボネート、ジアロイルペルオキシド、ペルオキシケタールまたは環状ペルオキシドである、請求項１から５までのいずれか１項に記載の方法。
7. 前記有機ペルオキシド化合物が、ペルオキシカーボネートである、請求項６に記載の方法。
8. Ｒ₂が水素である、請求項１から７までのいずれか１項に記載の方法。
9. Ｘが直鎖のＣ₂〜Ｃ₁₀−アルキレンである、請求項１から８までのいずれか１項に記載の方法。
10. Ｘがｎ−ブチレンまたはヘキサメチレンである、請求項１から９までのいずれか１項に記載の方法。
11. トルク発生に及ぼす影響が小さい、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の方法。