JP5652105B2 - 露光装置 - Google Patents
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Description
請求項3の発明による露光装置は、二次元方向に移動可能な基板ステージと、前記基板ステージ上に配設され、裏面に裏面基準マークを有する露光基板を載置する基板載置部を有し、前記基板載置部に貫通孔を有する基板載置ユニットと、前記貫通孔に設けられる視標部材と、前記基板載置部に載置された前記露光基板の裏面基準マークを前記視標部材を介して照明すると共に視標マークの像を前記視標部材に投影する照明光学系と、前記照明光学系によって照明された前記裏面基準マークと前記視標部材に投影された前記視標マーク像とを検出するアライメント光学系とを有し、前記基板載置ユニットに内蔵されるアライメント検出系と、を備え、前記照明光学系は、前記アライメント光学系が前記裏面基準マークに合焦している状態で前記アライメント光学系の焦点深度内に、前記視標マークの像を投影することを特徴とする。
ベースライン計測について説明する。図2は、ベースライン計測の原理を説明する要部構成図である。上述した照明光学系を構成するコンデンサー光学系19を介して均一照明されるマスク100は、マスクステージ150に保持されている。ベースライン計測に際し、マスクステージ150は、マスク100の中心100Cが投影光学系50の光軸Axと合致するように位置決めされる。
Dw=Dm/A (1)
ただし、Aはウェハ200側からマスク100側を見たときの投影光学系50の倍率である。投影倍率が1/5倍の縮小投影光学系の場合は、A=5である。
BL=P1−P2 (2)
ウェハ200の裏面(図2において下側)に形成されている裏面基準マークを検出しながらウェハ200の位置決めをする場合は、ウェハ200の裏面についての基準量が必要となる。本実施形態では、ウェハ200の裏面に形成された裏面基準マークを検出するために裏面アライメント用顕微鏡を備える。
裏面アライメント用顕微鏡370(390)を用いた裏面ベースライン計測について説明する。裏面ベースライン計測の開始時は、ウェハステージ300上の基板載置ユニット350からウェハ200を取り外しておく。これにより、図3に例示するように、ウェハ吸着部360の穴362を介して裏面アライメント用顕微鏡370の裏面視標マーク378が検出可能である。裏面アライメント用顕微鏡390の裏面視標マーク398についても、穴363を介して検出可能である。
BL2=P3−P4 (3)
BL2=P3−P4’ (4)
(1)露光装置は、二次元方向に移動可能なウェハステージ300と、ウェハステージ300上に配設され、貫通孔362,363を有するウェハ吸着部360上にウェハ200を載置する基板載置ユニット350と、ウェハ吸着部360の貫通孔に設けられる裏面視標マーク378,398と、基板載置ユニット350に設けられる裏面アライメント用顕微鏡370,390とを備える。裏面アライメント用顕微鏡370,390とウェハ吸着部360とを相対移動させなくてよいので、簡単な構成でウェハ200の裏面からアライメントを適切に行うことができる。
上述した説明では、視標板377に裏面視標マーク378を形成する例を説明した。視標板377に裏面視標マーク378を形成する代わりに、視標板377上に裏面視標マークの像を投影するように構成してもよい。たとえば図4に例示するように、裏面視標マーク382を形成したガラス板381を配することにより、裏面視標マーク382の像を投影する。
図5は、変形例2による基板載置ユニット350Bを説明する図である。基板載置ユニット350Bは、ウェハステージ300(図1)に対して着脱可能に構成される。上述した基板載置ユニット350と比べて、裏面アライメント用顕微鏡370と裏面アライメント用顕微鏡390との間隔がマイクロメータ420および430によって調節可能に構成される点が異なる。
上述した基板載置ユニット350を用いて露光装置の定期検査を行うこともできる。検査用のガラスウェハとして、あらかじめ裏面に裏面基準マークを形成した厚さ約1mmのガラスウェハを用意する。該ガラスウェハの表面には、レジストの付着性を高めるために上記裏面基準マークが観察できる程度の範囲(窓と呼ぶ)を残してクロム蒸着を施しておく。
40…ウェハアライメント用顕微鏡ユニット
50…投影光学系
100…マスク
111…マスクマーク
140…マスクアライメント用顕微鏡ユニット
150…マスクステージ
200…ウェハ
211…基準マーク
221…裏面基準マーク
300…ウェハステージ
350…基板載置ユニット
360…ウェハ吸着部
370、390…裏面アライメント用顕微鏡
377…視標板
378、398…裏面視標マーク
Claims (4)
- 二次元方向に移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージ上に配設され、裏面に裏面基準マークを有する露光基板を載置する基板載置部を有し、前記基板載置部に貫通孔を有する基板載置ユニットと、
前記貫通孔に設けられ、視標マークを有する視標部材と、
前記基板載置ユニットに設けられるアライメント検出系と、を備え、
前記アライメント検出系は、前記基板載置部に載置された前記露光基板の裏面基準マークを前記視標部材を介して照明する照明光学系と、前記照明光学系によって照明された前記裏面基準マークと前記視標部材の前記視標マークとを検出するアライメント光学系とを有し、
前記視標部材は、前記アライメント光学系が前記裏面基準マークに合焦している状態で前記アライメント光学系の焦点深度内に前記視標マークを有することを特徴とする露光装置。 - 請求項1に記載の露光装置において、
前記視標部材は、前記貫通孔に取り付けられた透明板と、前記透明板に形成された前記視標マークとを有することを特徴とする露光装置。 - 二次元方向に移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージ上に配設され、裏面に裏面基準マークを有する露光基板を載置する基板載置部を有し、前記基板載置部に貫通孔を有する基板載置ユニットと、
前記貫通孔に設けられる視標部材と、
前記基板載置部に載置された前記露光基板の裏面基準マークを前記視標部材を介して照明すると共に視標マークの像を前記視標部材に投影する照明光学系と、前記照明光学系によって照明された前記裏面基準マークと前記視標部材に投影された前記視標マーク像とを検出するアライメント光学系とを有し、前記基板載置ユニットに内蔵されるアライメント検出系と、を備え、
前記照明光学系は、前記アライメント光学系が前記裏面基準マークに合焦している状態で前記アライメント光学系の焦点深度内に、前記視標マークの像を投影することを特徴とする露光装置。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板載置ユニットは、前記基板ステージに対して着脱可能に構成されていることを特徴とする露光装置。
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