JP5644789B2 - 粉体組成物 - Google Patents
粉体組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5644789B2 JP5644789B2 JP2012030610A JP2012030610A JP5644789B2 JP 5644789 B2 JP5644789 B2 JP 5644789B2 JP 2012030610 A JP2012030610 A JP 2012030610A JP 2012030610 A JP2012030610 A JP 2012030610A JP 5644789 B2 JP5644789 B2 JP 5644789B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fine particles
- powder
- silica fine
- hydrophobic
- silica
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
親水性沈降シリカの水性懸濁液を触媒量の酸及びオルガノシラン化合物と、オルガノシラン化合物と親水性沈降シリカとの反応を促進させるのに十分な量の水−混和性有機溶媒の共存下で接触させて、疎水性沈降シリカを生成させる方法(特許文献1:特開2000−327321号公報参照。)、平均一次粒子径が5〜50nmのフュームドシリカを、ヘキサメチルジシラザンで表面処理して粒子表面のシラノール基を40%以上封鎖し、かつ残存シラノール基濃度が1.5個/nm2以下である酸化ケイ素粒子を得る方法(特許文献2:特開平07−286095号公報参照。)、フュームドシリカをヘキサメチルジシラザン等の有機珪素化合物で疎水化処理して、80〜300g/lの嵩密度を有し、単位表面積あたりのOH基が0.5個/nm2以下であり、且つ粒子径45μm以上の凝集粒子が2,000ppm以下である疎水性フュームドシリカを得る方法(特許文献3:特開2000−256008号公報参照。)、フュームドシリカを、ポリシロキサンで処理した後、トリメチルシリル化剤で処理して疎水性シリカ粉体を得る方法(特許文献4:特開2002−256170号公報参照。)、フュームドシリカにシリコーンオイル系処理剤による一次表面処理、一次表面処理後の解砕、及び解砕後のアルキルシラザン系処理剤による二次表面処理を行うことによって高分散疎水性シリカ粉体を得る方法(特許文献5:特開2004−168559号公報参照。)がある。
平均粒子径が0.01〜0.3μmの範囲で、粒度分布D90/D10の値が3以下であり、平均円形度が0.8〜1である疎水性球状シリカ微粒子からなる粉体用流動化剤を0.1〜5.0質量%添加してなることを特徴とする粉体組成物を提供する。
<疎水性球状シリカ微粒子の特徴>
まず、本発明の流動化剤である疎水性球状シリカ微粒子の特徴について、詳細に説明する。
<製造方法A>
本方法によると、本発明の疎水性球状シリカ微粒子は、
工程(A1):親水性球状シリカ微粒子の合成工程、
工程(A2):3官能性シラン化合物による表面処理工程、
工程(A3):濃縮工程、
工程(A4):1官能性シラン化合物による表面処理工程
によって得られる。以下、各工程を順を追って説明する。
下記一般式(I):
Si(OR3)4 (I)
(但し、R3は同一又は異種の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である。)
で示される4官能性シラン化合物又はその部分加水分解生成物又はこれらの混合物を、塩基性物質を含む親水性有機溶媒と水の混合液中で加水分解、縮合することによって親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液を得る。
R5OH (V)
(式中、R5は炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である。)
で示されるアルコールが挙げられる。
工程(A1)において得られた親水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液に、下記一般式(II):
R1Si(OR4)3 (II)
(但し、R1は非置換又は置換の炭素原子数1〜20の1価炭化水素基、R4は同一又は異種の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である。)
で示される3官能性シラン化合物又はその部分加水分解生成物又はこれらの混合物を添加して親水性球状シリカ微粒子表面をこれにより処理することにより、前記親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(但し、R1は前記の通り)を導入し、第一の疎水性球状シリカ微粒子の混合溶媒分散液を得る。
工程(A2)で得られた第一の疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒分散液から親水性有機溶媒と水の一部を除去し濃縮することにより、第一の疎水性球状シリカ微粒子の混合溶媒濃縮分散液を得る。この際、疎水性有機溶媒をあらかじめ、あるいは工程中に加えてもよい。使用する疎水性溶媒としては炭化水素系、ケトン系溶媒が好ましい。具体的には、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられ、好ましくはメチルイソブチルケトンが好ましい。親水性有機溶媒と水の一部を除去する方法としては、例えば留去、減圧留去等が挙げられる。得られる濃縮分散液はシリカ微粒子濃度が15〜40質量%であることが好ましく、20〜35質量%であることがより好ましく、25〜30質量%であることが特に好ましい。15質量%より少ないと後工程の表面処理がうまくいかない場合があり、40質量%より大きいとシリカ微粒子の凝集が生じてしまうおそれがある。
工程(A3)で得られた第一の疎水性球状シリカ微粒子の混合溶媒濃縮分散液に、下記一般式(III):
R2 3SiNHSiR2 3 (III)
(但し、R2は同一又は異種の非置換もしくは置換の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である。)
で示されるシラザン化合物又は下記一般式(IV):
R2 3SiX (IV)
(但し、R2は一般式(III)に同じ。XはOH基又は加水分解性基である。)
で示される1官能性シラン化合物又はこれらの混合物を添加し、これにより前記第一の疎水性球状シリカ微粒子表面を処理し、該微粒子の表面にR2 3SiO1/2単位(但し、R2は一般式(III)で定義の通り)を導入することにより第二の疎水性球状シリカ微粒子を得る。この工程では、上記の処理により第一の疎水性球状シリカ微粒子の表面に残存するシラノール基をトリオルガノシリル化する形でR2 3SiO1/2単位が該表面に導入される。
本発明の疎水性球状シリカ微粒子からなる流動化剤(流動性付与剤)は、各種粉体への流動性付与剤として使用することができる。
なお、ここでの粉体の平均粒子径の測定は、レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(堀場製作所(株)製:商品名LA−950V2)により測定し、その体積基準によるメジアン径を粒子径とした。
[疎水性球状シリカ微粒子の合成]
・工程(A1):親水性球状シリカ微粒子の合成工程
撹拌機と、滴下ロートと、温度計とを備えた3リットルのガラス製反応器にメタノール989.5gと、水135.5gと、28質量%アンモニア水66.5gとを入れて混合した。この溶液を35℃となるように調整し、撹拌しながらテトラメトキシシラン436.5g(2.87モル)を6時間かけて滴下した。この滴下が終了した後も、更に0.5時間撹拌を継続して加水分解を行うことにより、親水性球状シリカ微粒子の懸濁液を得た。
上で得られた懸濁液に室温でメチルトリメトキシシラン4.4g(0.03モル)を0.5時間かけて滴下し、滴下後も12時間撹拌を継続し、シリカ微粒子表面を疎水化処理することにより、疎水性球状シリカ微粒子分散液を得た。
次いで、ガラス製反応器にエステルアダプターと冷却管とを取り付け、前工程で得られた分散液を60〜70℃に加熱してメタノールと水の混合物1,021gを留去し、疎水性球状シリカ微粒子混合溶媒濃縮分散液を得た。このとき、濃縮分散液中の疎水性球状シリカ微粒子含有量は28質量%であった。
前工程で得られた濃縮分散液に、室温において、ヘキサメチルジシラザン138.4g(0.86モル)を添加した後、この分散液を50〜60℃に加熱し、9時間反応させることにより、分散液中のシリカ微粒子をトリメチルシリル化した。次いで、この分散液中の溶媒を130℃、減圧下(6,650Pa)で留去することにより、疎水性球状シリカ微粒子<1>186gを得た。
1.工程(A1)で得られた親水性球状シリカ微粒子の粒子径測定
メタノールにシリカ微粒子懸濁液を、シリカ微粒子が0.5質量%となるように添加し、10分間超音波にかけることにより、該微粒子を分散させた。このように処理した微粒子の粒度分布を、動的光散乱法/レーザードップラー法ナノトラック粒度分布測定装置(日機装株式会社製、商品名:UPA−EX150)により測定し、その体積基準メジアン径を粒子径とした。なお、メジアン径とは粒度分布を累積分布として表した時の累積50%に相当する粒子径である。
メタノールにシリカ微粒子を、0.5質量%となるように添加し、10分間超音波にかけることにより、該微粒子を分散させた。このように処理した微粒子の粒度分布を、動的光散乱法/レーザードップラー法ナノトラック粒度分布測定装置(日機装株式会社製、商品名:UPA−EX150)により測定し、その体積基準メジアン径を粒子径とした。
また粒度分布D90/D10の測定は、上記粒子径測定した際の分布において小さい側から累積が10%となる粒子径をD10、小さい側から累積が90%となる粒子径をD90とし測定された値からD90/D10を計算した。
電子顕微鏡(日立製作所製、商品名:S−4700型、倍率:10万倍)によって観察を行い、形状を確認した。「球状」とは、真球だけでなく、若干歪んだ球も含む。なおこのような粒子の形状は、粒子を二次元に投影した時の円形度で評価し、円形度が0.8〜1の範囲にあるものとする。ここで円形度とは、(粒子面積と等しい円の周囲長)/(粒子周囲長)である。
合成例1において、工程(A1)でメタノール、水、及び28質量%アンモニア水の量をメタノール1,045.7g、水112.6g、28質量%アンモニア水33.2gに変えたこと以外は同様にして、疎水性球状シリカ微粒子<2>188gを得た。この疎水性球状シリカ微粒子を用いて合成例1と同様に測定した。この結果を表1に示す。
撹拌機、滴下ロート、温度計を備えた3リットルのガラス製反応器にメタノール623.7g、水41.4g、28質量%アンモニア水49.8gを添加して混合した。この溶液を35℃に調整し、撹拌しながらテトラメトキシシラン1,163.7g及び5.4質量%アンモニア水418.1gを同時に添加開始し、前者は6時間、そして後者は4時間かけて滴下した。テトラメトキシシラン滴下後も0.5時間撹拌を続け、加水分解を行い、シリカ微粒子の懸濁液を得た。
こうして得られた懸濁液に室温でメチルトリメトキシシラン11.6g(テトラメトキシシランに対してモル比で0.01相当量)を0.5時間かけて滴下し、滴下後も12時間撹拌し、シリカ微粒子表面の処理を行った。
ガラス製反応器にエステルアダプターと冷却管を取り付け、上記の表面処理を施したシリカ微粒子を含む分散液にメチルイソブチルケトン1,440gを添加した後、80〜110℃に加熱し、メタノール水を7時間かけて留去した。
こうして得られた分散液に室温でヘキサメチルジシラザン357.6gを添加し、120℃に加熱し3時間反応させ、シリカ微粒子をトリメチルシリル化した。その後溶媒を減圧下で留去して、球状疎水性シリカ微粒子<3>472gを得た。
こうして得られたシリカ微粒子について合成例1と同様の試験を行った。結果を表1に示す。
シリカ微粒子の合成の際にテトラメトキシシランの加水分解温度を35℃の代りに45℃とした以外は合成例3と同様にして各工程を行ったところ、疎水性球状シリカ微粒子<4>469gを得た。この疎水性球状シリカ微粒子を用いて合成例1と同様に測定した。この結果を表1に示す。
撹拌機と温度計とを備えた0.3リットルのガラス製反応器に爆燃法シリカ(商品名:SOC1、アドマテックス社製)100gを仕込み、純水1gを撹拌下で添加し、密閉後、更に60℃で10時間撹拌した。次いで、室温まで冷却した後、ヘキサメチルジシラザン2gを撹拌下で添加し、密閉後、更に24時間撹拌した。120℃に昇温し、窒素ガスを通気しながら残存原料及び生成したアンモニアを除去し、疎水性球状シリカ微粒子<5>100gを得た。
得られたシリカ微粒子について合成例1と同様の試験を行った。結果を表1に示す。
撹拌機と温度計とを備えた0.3リットルのガラス製反応器に爆燃法シリカ(商品名:SOC1、アドマテクス社製)100gを仕込み、純水1gを撹拌下で添加し、密閉後、更に60℃で10時間撹拌した。次いで、室温まで冷却した後、メチルトリメトキシシラン1gを撹拌下で添加し、密閉後、更に24時間撹拌した。次にヘキサメチルジシラザン2gを撹拌下で添加し、密閉後、更に24時間撹拌した。120℃に昇温し、窒素ガスを通気しながら残存原料及び生成したアンモニアを除去し、疎水性球状シリカ微粒子<6>101gを得た。得られたシリカ微粒子について合成例1と同様の試験を行った。結果を表1に示す。
上記得られた疎水性球状シリカ微粒子を表2〜7にあるような各種粉体に添加し、サンプルミルにより3分撹拌混合を行った。その時の疎水性球状シリカ微粒子添加処理粉体の基本流動性エネルギー測定は以下の通りである。なお、各粉体の平均粒子径はレーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(堀場製作所(株)製:商品名LA−950V2)により測定した。
容器:容積160ml(内径50mm、長さ79mm)のガラス製円筒型容器を使用した。
ブレード:円筒型容器内の中央に鉛直に装入されるステンレス製の軸棒の先端に水平に対向する形で二枚取り付けられている。ブレードは、直径48mmのものを使用する。H1からH2までの長さは69mmである。
Claims (2)
- 平均粒子径が1〜6μmのスチレン−アクリル球状樹脂粒子、酸化チタン粒子、ガラス粉末、ポリリン酸アンモニウムから選ばれる粉体に対し、4官能性シラン化合物及び/又はその部分加水分解縮合生成物を加水分解及び縮合することによって得られた実質的にSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子の表面にR1SiO3/2単位(式中、R1は非置換又は置換の炭素原子数1〜20の1価炭化水素基である)とR2 3SiO1/2単位(式中、R2は同一又は異なり、非置換又は置換の炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である)を導入した疎水化処理シリカであり、
平均粒子径が0.01〜0.3μmの範囲で、粒度分布D90/D10の値が3以下であり、平均円形度が0.8〜1である疎水性球状シリカ微粒子からなる粉体用流動化剤を0.1〜5.0質量%添加してなることを特徴とする粉体組成物。 - 基体流動性エネルギーが100mJ以下である請求項1記載の粉体組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012030610A JP5644789B2 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 粉体組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012030610A JP5644789B2 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 粉体組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013166667A JP2013166667A (ja) | 2013-08-29 |
JP5644789B2 true JP5644789B2 (ja) | 2014-12-24 |
Family
ID=49177414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012030610A Active JP5644789B2 (ja) | 2012-02-15 | 2012-02-15 | 粉体組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5644789B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015089898A (ja) * | 2013-11-05 | 2015-05-11 | 信越化学工業株式会社 | 無機蛍光体粉末、無機蛍光体粉末を用いた硬化性樹脂組成物、波長変換部材および光半導体装置 |
US9862804B2 (en) | 2014-02-25 | 2018-01-09 | Toray Industries, Inc. | Polyarylene sulfide resin powder/grain composition and method of producing same |
JP6183319B2 (ja) * | 2014-08-21 | 2017-08-23 | 信越化学工業株式会社 | 熱伝導性シリコーン組成物及び熱伝導性シート |
JP2016073919A (ja) * | 2014-10-06 | 2016-05-12 | 株式会社アドマテックス | 粉粒体の製造方法 |
US11001046B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-05-11 | Toray Industries, Inc. | Polybutylene terephthalate resin powder mixture |
US20180186926A1 (en) | 2015-06-29 | 2018-07-05 | Toray Industries, Inc. | Polyester resin powder mixture |
JP6582776B2 (ja) | 2015-09-14 | 2019-10-02 | 富士ゼロックス株式会社 | シリカ粒子、及びシリカ粒子の製造方法 |
JP6645237B2 (ja) | 2016-02-10 | 2020-02-14 | 富士ゼロックス株式会社 | 樹脂粒子組成物 |
JP2017142394A (ja) | 2016-02-10 | 2017-08-17 | 富士ゼロックス株式会社 | 磁性一成分現像剤、現像剤カートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法 |
JP6642077B2 (ja) | 2016-02-10 | 2020-02-05 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法 |
JP2017142397A (ja) | 2016-02-10 | 2017-08-17 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、画像形成装置、及び、画像形成方法 |
JP7040529B2 (ja) * | 2017-09-04 | 2022-03-23 | 東亞合成株式会社 | 粉体塗料用組成物及び塗装物品 |
JP2020019921A (ja) * | 2018-02-06 | 2020-02-06 | 信越化学工業株式会社 | 蛍光体粒子 |
JP7085647B2 (ja) * | 2018-12-13 | 2022-06-16 | エルジー・ケム・リミテッド | エアロゲルブランケットの製造方法 |
JP2023104800A (ja) * | 2022-01-18 | 2023-07-28 | 信越化学工業株式会社 | 熱伝導性シリコーン組成物および半導体装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4579265B2 (ja) * | 2007-04-25 | 2010-11-10 | 信越化学工業株式会社 | 高度の流動性を有する疎水性球状シリカ微粒子、その製造方法、それを用いた静電荷像現像用トナー外添剤およびそれを含有する有機樹脂組成物 |
-
2012
- 2012-02-15 JP JP2012030610A patent/JP5644789B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013166667A (ja) | 2013-08-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5644789B2 (ja) | 粉体組成物 | |
US7186440B2 (en) | Process for producing hydrophobic silica powder | |
JP5267758B2 (ja) | 疎水性シリカ粉末の製造法 | |
JP6013531B2 (ja) | 表面処理された金属酸化物粒子 | |
JP5032328B2 (ja) | 水性コロイドシリカ分散液からの直接的疎水性シリカの製造法 | |
KR101450781B1 (ko) | 실리카 입자의 제조 방법 | |
JP5650786B2 (ja) | 疎水性シリカの調製方法 | |
KR101463879B1 (ko) | 실리카 입자 및 그 제조 방법 | |
JP4781769B2 (ja) | 高疎水性球状ゾルゲルシリカ微粒子、その製造方法、該微粒子からなる静電荷像現像用トナー外添剤および該トナー外添剤を用いた現像剤 | |
EP1657283B1 (en) | Process for producing hydrophobic silica powder | |
JP2002256170A (ja) | 疎水性シリカ粉末およびその製造方法 | |
JP2014114175A (ja) | 表面疎水化球状シリカ微粒子、その製造方法及びそれを用いた静電荷像現像用トナー外添剤 | |
JP2011185998A (ja) | 静電像現像トナーおよび外添用電荷制御粒子 | |
JP2011032114A (ja) | 疎水性球状シリカ微粒子、その製造方法及びそれを用いた静電荷像現像用トナー外添剤 | |
JP7155046B2 (ja) | 疎水性シリカ粉末及びトナー樹脂粒子 | |
JP4888633B2 (ja) | 疎水性シリカ粉末の製造法 | |
JP5974986B2 (ja) | シリカ付着珪素粒子及び焼結混合原料、ならびにシリカ付着珪素粒子及び疎水性球状シリカ微粒子の製造方法 | |
JP7061000B2 (ja) | シリカ粒子又はその分散体の製造方法 | |
TWI804672B (zh) | 正電荷型疏水性球形二氧化矽顆粒、其製造方法以及使用該正電荷型疏水性球形二氧化矽顆粒的正電荷調色劑組成物 | |
JP7007982B2 (ja) | コロイダルシリカ | |
JP6008137B2 (ja) | 表面有機樹脂被覆疎水性球状シリカ微粒子、その製造方法及びそれを用いた静電荷像現像用トナー外添剤 | |
JP6007867B2 (ja) | 非水電解質二次電池活物質用粉砕助剤及び粉砕方法 | |
JP5907092B2 (ja) | 金属珪素粉末の製造方法 | |
JP5915550B2 (ja) | 高分散性及び低凝集性を有するシリカ系微粒子静電荷現像用トナー外添剤の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140522 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140610 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140723 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141007 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141020 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Ref document number: 5644789 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |