JP5598733B2 - 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 186
- 238000005286 illumination Methods 0.000 title claims description 81
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 115
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 87
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 18
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 9
- 230000036544 posture Effects 0.000 claims description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 13
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 10
- 230000009471 action Effects 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 9
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- 241000276498 Pollachius virens Species 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
- G03F7/70116—Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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Description
所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
前記光源から入射した光に空間的な光変調を付与して、前記複数の光学要素の要素毎にその位置に応じた強度レベルの光束を入射させる空間光変調素子と、
前記複数の光学要素の各々に入射する光束の強度レベルに関する情報に基づいて前記複数の光学要素を個別に制御する制御部とを備えていることを特徴とする空間光変調ユニットを提供する。
第1形態の空間光変調ユニットと、
前記空間光変調ユニットを経た光に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学系を提供する。
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法を提供する。
前記複数の光学要素の各々には離散的な強度レベルの光束が入射し、該離散的な強度レベルに関する情報に基づいて前記複数の光学要素を個別に制御することを特徴とする制御方法を提供する。
第5形態の方法をコンピュータにより実行させることを特徴とする制御プログラムを提供する。
4000/(32×32×π/4)≒4.9 (1)
2 ビーム送光部
3,3A,3B 空間光変調ユニット
30 反射型の回折光学素子(空間光変調素子)
31 空間光変調器
32 制御部
4,6 リレー光学系
7 マイクロフライアイレンズ
8 コンデンサー光学系
9 マスクブラインド
10 結像光学系
DT 瞳強度分布計測部
CR 主制御系
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (21)
- 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニットであって、
所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器と、
前記光源から入射した光に空間的な光変調を付与して、前記複数の光学要素の要素毎にその位置に応じた強度レベルの光束を入射させる空間光変調素子と、
前記複数の光学要素の各々に入射する光束の強度レベルに関する情報に基づいて前記複数の光学要素を個別に制御する制御部とを備えていることを特徴とする空間光変調ユニット。 - 前記複数の光学要素の各々に入射する光束の強度レベルは、離散的であることを特徴とする請求項1に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調ユニットを経た光に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系と共に用いられることを特徴とする請求項1または2に記載の空間光変調ユニット。
- 前記制御部は、前記複数の光学要素の各々に入射する光束の強度レベルに関する前記情報と、前記照明瞳に形成する前記所定の光強度分布に関する情報とに基づいて、前記複数の光学要素を個別に制御することを特徴とする請求項3に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子と前記空間光変調器との間の光路中に配置されたリレー光学系を備えていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子は、回折光学素子を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記回折光学素子は、回折特性の異なる別の回折光学素子と交換可能であることを特徴とする請求項6に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子は、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子は、前記所定面内で二次元的に配列された複数のミラー要素と、該複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項8に記載の空間光変調ユニット。
- 前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的または離散的に変化させることを特徴とする請求項9に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調素子は、所定の空間的な透過率分布または所定の空間的な反射率分布を有するフィルタを有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記空間光変調器は、前記所定面内で二次元的に配列された複数のミラー要素と、前記制御部からの信号に基づいて前記複数のミラー要素の姿勢を個別に制御駆動する駆動部とを有することを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の空間光変調ユニット。
- 前記駆動部は、前記複数のミラー要素の向きを連続的または離散的に変化させることを特徴とする請求項12に記載の空間光変調ユニット。
- 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系において、
請求項1乃至13のいずれか1項に記載の空間光変調ユニットと、
前記空間光変調ユニットを経た光に基づいて、前記照明光学系の照明瞳に所定の光強度分布を形成する分布形成光学系とを備えていることを特徴とする照明光学系。 - 前記分布形成光学系は、オプティカルインテグレータと、該オプティカルインテグレータと前記空間光変調ユニットとの間の光路中に配置された集光光学系とを有することを特徴とする請求項14に記載の照明光学系。
- 前記被照射面と光学的に共役な面を形成する投影光学系と組み合わせて用いられ、前記照明瞳は前記投影光学系の開口絞りと光学的に共役な位置であることを特徴とする請求項14または15に記載の照明光学系。
- 所定のパターンを照明するための請求項14乃至16のいずれか1項に記載の照明光学系を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置。
- 前記所定のパターンの像を前記感光性基板上に形成する投影光学系を備えていることを特徴とする請求項17に記載の露光装置。
- 請求項17または18に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光する露光工程と、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成する現像工程と、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工する加工工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。 - 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系の光路中に配置されて、所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器の制御方法であって、
前記複数の光学要素の各々には離散的な強度レベルの光束が入射し、該離散的な強度レベルに関する情報に基づいて前記複数の光学要素を個別に制御することを特徴とする制御方法。 - 所定面内に配列されて個別に制御される複数の光学要素を有する空間光変調器における前記複数の光学要素の駆動を制御する制御プログラムであって、
請求項20に記載の方法をコンピュータにより実行させることを特徴とする制御プログラム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US28217009P | 2009-12-23 | 2009-12-23 | |
US61/282,170 | 2009-12-23 | ||
PCT/JP2010/072742 WO2011078070A1 (ja) | 2009-12-23 | 2010-12-17 | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014165632A Division JP5884871B2 (ja) | 2009-12-23 | 2014-08-18 | 照明光学装置、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2011078070A1 JPWO2011078070A1 (ja) | 2013-05-09 |
JP5598733B2 true JP5598733B2 (ja) | 2014-10-01 |
Family
ID=44195596
Family Applications (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011547512A Active JP5598733B2 (ja) | 2009-12-23 | 2010-12-17 | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2014165632A Active JP5884871B2 (ja) | 2009-12-23 | 2014-08-18 | 照明光学装置、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
JP2016023264A Pending JP2016130859A (ja) | 2009-12-23 | 2016-02-10 | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2017034821A Pending JP2017134408A (ja) | 2009-12-23 | 2017-02-27 | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2018070576A Pending JP2018112755A (ja) | 2009-12-23 | 2018-04-02 | 照明光学装置、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Family Applications After (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014165632A Active JP5884871B2 (ja) | 2009-12-23 | 2014-08-18 | 照明光学装置、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
JP2016023264A Pending JP2016130859A (ja) | 2009-12-23 | 2016-02-10 | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2017034821A Pending JP2017134408A (ja) | 2009-12-23 | 2017-02-27 | 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP2018070576A Pending JP2018112755A (ja) | 2009-12-23 | 2018-04-02 | 照明光学装置、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (4) | US9341956B2 (ja) |
JP (5) | JP5598733B2 (ja) |
WO (1) | WO2011078070A1 (ja) |
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- 2010-12-17 WO PCT/JP2010/072742 patent/WO2011078070A1/ja active Application Filing
- 2010-12-17 JP JP2011547512A patent/JP5598733B2/ja active Active
-
2012
- 2012-01-12 US US13/348,990 patent/US9341956B2/en active Active
-
2014
- 2014-08-18 JP JP2014165632A patent/JP5884871B2/ja active Active
-
2016
- 2016-02-10 JP JP2016023264A patent/JP2016130859A/ja active Pending
- 2016-04-21 US US15/134,812 patent/US9817229B2/en active Active
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- 2017-02-27 JP JP2017034821A patent/JP2017134408A/ja active Pending
- 2017-11-08 US US15/807,356 patent/US10203496B2/en active Active
-
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- 2018-04-02 JP JP2018070576A patent/JP2018112755A/ja active Pending
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---|---|
JP2017134408A (ja) | 2017-08-03 |
US9341956B2 (en) | 2016-05-17 |
JP2018112755A (ja) | 2018-07-19 |
JPWO2011078070A1 (ja) | 2013-05-09 |
US10768409B2 (en) | 2020-09-08 |
US10203496B2 (en) | 2019-02-12 |
JP5884871B2 (ja) | 2016-03-15 |
JP2016130859A (ja) | 2016-07-21 |
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US20160231558A1 (en) | 2016-08-11 |
US20180067302A1 (en) | 2018-03-08 |
US20190155017A1 (en) | 2019-05-23 |
US20120178028A1 (en) | 2012-07-12 |
JP2015005764A (ja) | 2015-01-08 |
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A621 | Written request for application examination |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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