JP5418115B2 - Letterpress printing machine - Google Patents
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Description
本発明は、溶剤に溶解してなるインキを被印刷基板上に印刷することにより均一な膜厚の印刷パターンを形成するための印刷機に関する。 The present invention relates to a printing machine for forming a print pattern having a uniform film thickness by printing an ink dissolved in a solvent on a substrate to be printed.
有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、有機EL素子)は、二つの対向する電極基板間に有機発光材料を有する有機発光層が挟持された構造をもつ発光素子で、電圧の印加により陽極から正孔、陰極から電子が注入され、この正孔と電子の対が有機発光層表面あるいは内部で再結合することによって発生したエネルギーを光として取り出す素子である。有機発光層は一層から多層のものがあるが、効率よく発光させるためには、それぞれの層の膜厚コントロールが重要であり、例えば100nm程度の薄膜にする必要がある。さらに、ディスプレイ化するためには有機発光層を均一な膜厚で高精細にパターニングする必要がある。 An organic electroluminescence element (hereinafter referred to as an organic EL element) is a light-emitting element having a structure in which an organic light-emitting layer having an organic light-emitting material is sandwiched between two opposing electrode substrates. Is an element that takes out the energy generated by recombination of the hole-electron pair on the surface or inside of the organic light emitting layer as light. The organic light emitting layer has a multilayer structure from one layer to another. However, in order to emit light efficiently, it is important to control the film thickness of each layer, and it is necessary to form a thin film of about 100 nm, for example. Furthermore, in order to make a display, it is necessary to pattern the organic light emitting layer with a uniform film thickness and high definition.
有機EL素子をフルカラー化するために発光層をパターニングする手段としては、低分子系材料を用いる場合は、所望の画素形状に応じたパターンが形成されたマスクを用いて、異なる発光色の発光材料を所望の画素に対応した部分に蒸着し形成する方法が行われている。この方法は所望の形状に薄膜を均一に形成する優れた方法であるが、蒸着される基板が大型になると、マスク精度の点からパターンの形成が困難になるという問題点がある。 When using a low molecular weight material as a means for patterning the light emitting layer in order to make the organic EL element full color, a light emitting material having a different light emitting color using a mask in which a pattern corresponding to a desired pixel shape is formed. A method of depositing and forming a film on a portion corresponding to a desired pixel is performed. This method is an excellent method for uniformly forming a thin film in a desired shape, but there is a problem that it becomes difficult to form a pattern in terms of mask accuracy when the substrate to be deposited becomes large.
一方、高分子系材料を用いる場合は、溶媒に溶解または分散させることにより有機高分子発光材料をインキ化し、主にインクジェット法によるパターン形成と、印刷によるパターン形成方法が提案されている。例えば、特開平10−12377号公報(特許文献1)に開示されているインクジェット法は、インクジェットノズルから溶剤に溶かした発光材料を基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることで所望のパターンを得る方法である。しかしながら、ノズルから噴出されたインク液滴は球状であり、基板上に着弾する際にインクが円形状に広がることで、パターニング形状が悪い、着弾精度が低くパターンの直線性が得られないという問題点がある。これに対し、例えば、特開2002−305077号公報(特許文献2)に開示されている手法では、予め基板上にフォトリソグラフィーなどを用いて、撥インク性が発現する材料でバンクを形成し、そこにインク液滴を着弾させることで、バンク形状に応じてインクがはじかれて、直線性のあるパターンが得られる。しかし、はじいたインクが画素内に戻るときに画素内部でインクが盛り上がり、画素内の有機発光層の膜厚にばらつきができてしまうという問題が残る。 On the other hand, when a polymer material is used, an organic polymer light emitting material is converted into an ink by dissolving or dispersing in a solvent, and pattern formation mainly by an ink jet method and pattern formation by printing are proposed. For example, in the ink jet method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 10-12377 (Patent Document 1), a light emitting material dissolved in a solvent is ejected from an ink jet nozzle onto a substrate and dried on the substrate to form a desired pattern. How to get. However, the ink droplets ejected from the nozzle are spherical, and when the ink lands on the substrate, the ink spreads in a circular shape, so that the patterning shape is poor, the landing accuracy is low, and the linearity of the pattern cannot be obtained. There is a point. On the other hand, for example, in the technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-305077 (Patent Document 2), a bank is formed on a substrate with a material that exhibits ink repellency using photolithography or the like in advance. By causing ink droplets to land there, ink is repelled according to the bank shape, and a linear pattern is obtained. However, when the repelled ink returns to the inside of the pixel, the ink swells inside the pixel, and there remains a problem that the film thickness of the organic light emitting layer in the pixel varies.
印刷によるパターン形成方法としては、凹版印刷、平版印刷、スクリーン印刷、凸版印刷などが提案されている。しかしながら、被印刷基板としてガラス基板等を用いる有機EL素子やディスプレイでは、基板のキズやゆがみが好ましくないことから、グラビア印刷法のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きである。また、有機発光層形成材料を溶媒に溶解若しくは分散させたインキは一般に粘度が低いため、オフセット印刷やスクリーン印刷には適さない。これに対し、ゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法は、ガラス基板を傷つけることもなく、低粘度のインキにも適している。実際に、凸版印刷法による有機発光層の形成が提唱されている(特許文献3)。 As a pattern forming method by printing, intaglio printing, planographic printing, screen printing, letterpress printing, and the like have been proposed. However, in organic EL elements and displays that use a glass substrate or the like as a substrate to be printed, scratches or distortions of the substrate are not preferred, and thus a method using a hard plate such as a metal printing plate such as gravure printing is not suitable. is there. Further, inks obtained by dissolving or dispersing an organic light emitting layer forming material in a solvent generally have low viscosity, and are not suitable for offset printing or screen printing. On the other hand, the relief printing method using a photosensitive resin plate mainly composed of rubber or other resin does not damage the glass substrate and is suitable for low viscosity ink. Actually, formation of an organic light emitting layer by a relief printing method has been proposed (Patent Document 3).
凸版印刷法に用いられる印刷機のインキ供給ユニットでは、溶剤の揮発によるインキ粘度変化を抑制するために密閉系が多く採用されている。また、アニロックスロール表面の大気暴露を極力小さくしたユニットを使用することでアニロックスロール表面における溶剤揮発を抑制する装置も提案されている(特許文献4)。 In an ink supply unit of a printing press used for letterpress printing, a closed system is often employed to suppress a change in ink viscosity due to volatilization of a solvent. In addition, a device that suppresses solvent volatilization on the anilox roll surface by using a unit that minimizes the exposure of the anilox roll surface to the atmosphere has been proposed (Patent Document 4).
凸版印刷法では、アニロックスロール上のインキを凸版に転写させた後、被印刷基板にパターニングする。このとき、薄膜形成のため凸版上に転写されたインキは微量であるため、常に全面にインキが存在するアニロックスロールと比較して溶剤の揮発が進行しやすい。凸版上で過度に乾燥が進行したインキは被印刷基板へのパターニング不良が起きる。 In the relief printing method, the ink on the anilox roll is transferred to the relief plate and then patterned on the substrate to be printed. At this time, since the amount of ink transferred on the relief printing plate for forming a thin film is very small, volatilization of the solvent tends to proceed more easily than an anilox roll in which ink is always present on the entire surface. Ink that has dried excessively on the relief printing plate has a patterning defect on the substrate to be printed.
本発明は上記問題を解決するためになされたものであって、その目的は被印刷基板上に転写不良のない均一な膜厚の印刷パターンを転写可能な凸版印刷機を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a relief printing machine capable of transferring a print pattern having a uniform film thickness with no transfer failure onto a substrate to be printed.
上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷機であって、前記被印刷基板を搬送するための移動定盤と、前記定盤上に配置される回転式の版胴と、前記版胴の周囲に配置された凸版と、前記版胴の回転軸と同一方向の回転軸となるよう配置されたアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するインキ供給装置と、前記アニロックスロールと前記凸版とを接触させて前記インキを前記凸版上に転写する機構と、前記凸版の周囲を覆うように配置された版カバーと、を備え、前記凸版上に転写されたインキを前記被印刷基板に接触させて転写する凸版印刷機において、前記版カバーは、前記インキを前記アニロックスロールから前記凸版上への転写を介して前記被印刷基板に転写するまでの間の、前記凸版上に前記インキが転写されている領域に配置されており、かつ前記凸版印刷機から着脱可能であることを特徴とする印刷機である。 As means for solving the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is a printing machine for printing a fine pattern on a substrate to be printed, the moving surface plate for conveying the substrate to be printed, A rotary plate cylinder arranged on a surface plate, a relief plate arranged around the plate cylinder, an anilox roll arranged so as to have a rotation axis in the same direction as the rotation axis of the plate cylinder, and the anilox An ink supply device for supplying ink to the roll, a mechanism for bringing the anilox roll and the relief plate into contact with each other and transferring the ink onto the relief plate, and a plate cover arranged to cover the periphery of the relief plate, And a relief printing machine for transferring the ink transferred onto the relief printing plate in contact with the substrate to be printed, wherein the printing plate cover transfers the ink from the anilox roll onto the relief printing plate. Serial between until transferred to the printing substrate, a printing machine, wherein the said on letterpress ink is disposed in a region that is transcribed and is removable from the relief printing press.
また、請求項2に記載の発明は、被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷機であって、前記被印刷基板を搬送するための移動定盤と、前記定盤上に配置される回転式の版胴と、前記版胴の周囲に配置された凸版と、前記版胴の回転軸と同一方向の回転軸となるよう配置されたアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するインキ供給装置と、前記アニロックスロールと前記凸版とを接触させて前記インキを前記凸版上に転写する機構と、前記凸版の周囲を覆うように配置された版カバーと、を備え、前記凸版に転写されたインキを前記被印刷基板に接触させて転写する凸版印刷機において、前記版カバーは、前記インキを前記アニロックスロールから前記凸版上へ転写する領域と、前記凸版から前記被印刷基板へ転写する領域を除く全面に配置されており、かつ前記凸版印刷機から着脱可能であることを特徴とする印刷機である。 The invention according to claim 2 is a printing machine that prints a fine pattern on a substrate to be printed, and a moving surface plate for conveying the substrate to be printed, and a rotary type disposed on the surface plate. A plate cylinder, a relief plate arranged around the plate cylinder, an anilox roll arranged so as to have a rotation axis in the same direction as the rotation axis of the plate cylinder, and an ink supply device for supplying ink to the anilox roll An ink transferred to the relief plate, and a mechanism for transferring the ink onto the relief plate by bringing the anilox roll and the relief plate into contact with each other, and a plate cover arranged to cover the periphery of the relief plate In the letterpress printing machine for transferring the ink in contact with the substrate to be printed, the plate cover is configured to transfer the ink from the anilox roll onto the letterpress plate, and from the letterpress to the substrate to be printed. It is arranged on the entire surface except for that area, and a printing machine, characterized in that said detachable from a relief printing press.
また、請求項3に記載の発明は、前記版カバーの内面は、前記版胴の周囲に配置された前記凸版の曲率と同一の曲率をもつことを特徴とする請求項1または2に記載の印刷機である。 The invention according to claim 3 is characterized in that the inner surface of the plate cover has the same curvature as the curvature of the relief plate arranged around the plate cylinder. It is a printing machine.
また、請求項4に記載の発明は、前記版カバーの材料は金属であることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の印刷機である。 According to a fourth aspect of the present invention, in the printing machine according to any one of the first to third aspects, the material of the plate cover is a metal.
また、請求項5に記載の発明は、前記版カバーは、該版カバーが前記凸版を覆う領域を調整する機構を持つことを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の印刷機である。 The invention described in Claim 5, the plate cover is printed according to any one of claims 1 to 4, characterized by having a mechanism for adjusting the area where said plate cover covering the relief plate Machine.
以上より、本発明によれば、アニロックスロールから凸版へのインキの転写領域から凸版から被印刷基板へのインキの転写領域まで、または、アニロックスロールから凸版への転写領域と、凸版から被印刷基板への転写領域を除く凸版全面に、凸版の曲率と同一の曲率をもつ金属製の版カバーを設けることにより、インキを凸版上に転写した後、被印刷基板にパターニングするまでの間に、凸版上のインキの乾燥を抑制することで膜厚にムラの無い均一な印刷パターンが形成できる。 As described above, according to the present invention, from the transfer region of ink from the anilox roll to the relief plate to the transfer region of ink from the relief plate to the printing substrate, or the transfer region from the anilox roll to the relief plate, and from the relief plate to the printing substrate. By providing a metal plate cover with the same curvature as that of the relief plate on the entire relief plate area excluding the transfer area to the relief plate, the ink is transferred onto the relief plate and then patterned on the printing substrate. By suppressing the drying of the upper ink, a uniform print pattern with no unevenness in film thickness can be formed.
また、凸版を覆う版カバーに凸版を覆う領域を用いる溶剤の沸点に合わせて調整する機構を設けることで、アニロックスロールから凸版へのインキの転写に適した粘度と凸版から被印刷基板へのインキの転写に適した粘度が異なる場合でも、凸版上において凸版から被印刷基板への印刷に適した粘度に調整することができる。 In addition, by providing a mechanism that adjusts the boiling point of the solvent that uses the area covering the relief plate to the plate cover that covers the relief plate, viscosity suitable for transferring ink from the anilox roll to the relief plate and ink from the relief plate to the printing substrate Even when the viscosity suitable for the transfer of the toner is different, it can be adjusted to a viscosity suitable for printing from the relief plate onto the substrate to be printed on the relief plate.
以下、本発明にかかる印刷機の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、以下に説明する実施の形態に限定されるものではない。 Embodiments of a printing press according to the present invention will be described below with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the embodiment described below.
本発明の実施の形態に係る印刷機は、図1に示すように、回転式の版胴102、版胴102の周囲に形成される発光パターン形成用の凸版101と、被印刷基板106を搬送する移動定盤と、凸版101上にインキを供給するアニロックスロール104と、アニロックスロール104にインキを供給するインキ供給装置103と、凸版101上のインキの乾燥を防ぐ版カバー108を含んで構成されている。次に、本発明の各構成を詳細に説明する。
As shown in FIG. 1, the printing press according to the embodiment of the present invention conveys a
版胴102は移動定盤上に配置されるものであり、定位置に回転可能に支持されている。凸版101は、版胴102の周面に装着されている。アニロックスロール104は版胴102の回転軸線と平行にかつ凸版101の表面の版面と接触するように設置されている。インキ供給装置103はインキ供給装置103の種類に応じて、アニロックスロール104とインキ供給装置103の供給口とが接するよう設置されている。被印刷基板106は移動定盤上に載置されている。移動定盤は版胴102の回転軸と直交する方向に水平に移動するよう設置されている。版カバー108は被印刷基板106及びアニロックスロール104が凸版101と接する部分とその周囲以外の凸版101の周囲に、版カバー108内部表面と凸版101の版面が接触せずに凸版101の版面を覆って設置されている。
The
アニロックスロール104の回転に伴い、インキ供給装置103から供給されたインキはアニロックスロール104表面に均一に保持されたあと、版胴102に取り付けされた凸版101の版面に転移する。被印刷基板106は摺動可能な移動定盤上に固定され、凸版101のパターンと基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動する。印刷開始位置からは被印刷基板106は凸版101の凸部と接して版胴102の回転と同期しながら移動し、凸版101から被印刷基板106の所定位置にパターニングしてインキを転写し、有機機能層を形成する。被印刷基板106にインキパターンが設けられた後は、必要に応じてオーブンなどによる乾燥工程を設けることができる。
As the
本発明の実施の形態に係るアニロックスロール104は、版胴102の周速と同一の周速で回転しながらインキを凸版101に供給するものである。アニロックスロール104はクロム製やセラミックス製のものを用いることができ、アニロックスロール104の外周面には、インキを保持するための細かい孔や凹部、セル状などのパターンが形成されていることが望ましい。
The
アニロックスロール104と凸版101とが当接する位置は、インキ供給手段が移動定盤及び被印刷基板106と干渉しない限り、出来るだけ版胴102の直下、すなわち版胴102の回転に伴い凸版101と被印刷基板106とが接触する点に近い方が、凸版101へのインキ供給位置から凸版101と被印刷基板106との接触点までの間の距離を短くできると同時に凸版101の版面にインキが塗布されている時間が短くなり、インキの乾燥が防げるため望ましい。
The position where the
本発明の実施の形態に係るインキ供給装置103は、滴下型のインキ供給装置103、ファウンテンロール、ダイコーター、キャップコーターなどのコーターやそれらを組み合わせたものなどを用いることができる。また、アニロックスロール104上に均一にインキを供給する為にドクターブレードを併設することが望ましい。さらに、インキ供給装置103にインキを補充するインキ補充装置(図示せず)や、インキを保存するインキタンク(図示せず)が接続されていることが望ましい。
As the
本発明の実施の形態に係る凸版101に用いられる凸版101の基材となる材料は、印刷に対する機械的強度を有すれば良く、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂、鉄や銅、アルミニウムといった公知の金属、またはそれらの積層体を用いることができる。
The material used as the base material of the
さらに、凸版101を構成する基材としては、高い寸法安定性を保持するものが望ましく、基材として用いられる材料としては金属が好適に使用される。基材として用いられる金属としては鉄、アルミニウム、銅、亜鉛、ニッケル、チタン、クロム、金、銀やそれらの合金、積層体などが挙げられるが、特に、加工性、経済性から鉄を主成分とするスチール基材やアルミ基材を好適に用いることができる。
Furthermore, as a base material which comprises the
凸版101の版面を樹脂で形成する場合、その版面上の凸部の形成方法としてはポジ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法、ネガ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法、射出成型、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法、孔版印刷法、レーザーアブレーション法等の種々のパターン成型法を用いることができるが、パターンの高精細さの観点から、感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が望ましく、また、要求精度の凸版を形成可能なネガ型感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法が最も望ましい。
When the plate surface of the
感光光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー法を凸部パターン形成法として適用する場合、基材層、反射抑制層、感光性樹脂層が順次積層されている板状感光性樹脂積層体から凸版101の凸部を形成することが最も望ましい。感光性樹脂層の成型方法は、射出成型法、突出成型法、ラミネート法、バーコート法、スリットコート法、カンマコート法などの公知の方法を用いることができる。
When applying a photolithographic method using a photosensitive resin as a convex pattern forming method, the
凸版101の版面を樹脂で形成する場合、用いる樹脂としてはインキに対する耐溶剤性があればよく、ニトリルゴム、シリコーンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどのゴムの他に、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの合成樹脂やそれらの共重合体、セルロース誘導体などや、フッ素系エラストマーやポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ六フッ化ビニリデンやそれらの共重合体といったフッ素系樹脂から一種類以上を選択することができる。
When the plate surface of the
本発明の実施の形態に係る凸版101は、上記のように基材上に凸部パターンが形成された凸版101を版胴102に巻きつけて使用されるが、版胴102を基材として直接版胴102に凸部パターンを形成しても良い。
The
上記凸版101を用いた印刷において、アニロックスロール104から凸版101表面に転写されたインキは乾燥し易く、乾燥により凸版101上のインキの粘度分布に偏りが生じたりインキが固化すると、被印刷基板106に形成される有機発光層の厚みにムラが生じる。
そこで、凸版101の周面の大気と接触する部分を版カバー108で覆うことにより、凸版101表面に転写されたインキの乾燥を抑制してムラなく有機発光層を形成することができる。
In printing using the
Thus, by covering the portion of the peripheral surface of the
次に、本発明の実施の形態に係る版カバー108について説明する。
図1は、本発明に係る印刷機を用いてインキ供給装置103からアニロックスロール104上に供給されたインキが凸版101を経て被印刷基板106上に転写される印刷工程に於いて、アニロックスロール104から凸版101へのインキの転写から、凸版101から被印刷基板106へのインキの転写までの領域を閉空間とする版カバー108を説明する概略断面図である。
Next, the
FIG. 1 illustrates an
図1に示すように、インキの凸版101上での乾燥を抑制するために版カバー108を設置することで、大気暴露による凸版101上のインキの乾燥を抑制できる。版カバー108は、アニロックスロール104及び被印刷基板106やそれらに付随する装置、並びに移動定盤と移動定盤上の被印刷基板106の移動に支障が無いように、アニロックスロール104から凸版101上へインキを転写する領域から、凸版101から被印刷基板106にインキを転写する領域までの大気暴露しうる領域をできる限り覆うような形状であることが望ましい。
As shown in FIG. 1, the drying of the ink on the
また、凸版101の曲率と版カバー108の曲率を合わせ、凸版101の版面と版カバー108の内壁が触れないように凸版101と版カバー108を肉薄して設置することで、凸版101と版カバー108の間のインキの溶剤が蒸発しうる空間を狭め、アニロックスロール104から凸版101へ転写した後の溶剤の蒸発量を減らしてインキの乾燥をより抑えることができる。この様な形状としては、少なくとも凸版101の版面と対面する版カバー108の内面の曲率が凸版101の曲率と等しければよく、例えば凸版101と同じ曲率の円筒形の一部を切り取った曲板状などが挙げられる。その他の版カバー108の形状としては、インキの乾燥を防ぐ形状であればよく、凸版101の曲率に合わせて平面の板を組み合わせた形状や、凸版101の曲率とは異なる曲率の円筒の一部の形状であっても良い。
Further, the curvature of the
さらに、インキに用いられる溶剤の沸点に応じて、凸版101の乾燥状態を制御するための開閉可能な窓を版カバー108に設けたり、凸版101の一部を大気暴露にできるように版カバー108の一部を着脱可能又は伸縮可能な機構を設けることもでき、アニロックスロール104から凸版101へのインキの転写に適した粘度と凸版101から被印刷基板106へのインキの転写に適した粘度が異なる場合でも、凸版101上において凸版101から被印刷基板106への印刷に適した粘度に調整することができる。
Furthermore, an openable / closable window is provided on the
上記の様に版カバー108はインキ供給装置103側にのみ取り付け、被印刷基板106にインキを印刷した後の凸版101は大気中に露出されていても良いが、図2に示すようにアニロックスロール104から凸版101へのインキの転写領域及び凸版101から被印刷基板106へのインキの転写領域を除く凸版101全面を閉空間とするようにカバーを設置することもでき、この場合印刷中の凸版101に外部からの埃などの異物が付着することを防ぐこともできるため特に望ましい。さらに、印刷前のアニロックスロール104から被印刷基板106までの版カバー108と、印刷後の被印刷基板106からアニロックスロール104までの版カバー108とは一体となり、アニロックスロール104と凸版101が接触する領域及び凸版101と被印刷基板106が接触する領域にのみ開口部を有する円筒形であっても良い。なお、版カバー108の形状が上記のうちのいずれの場合でも、凸版101の洗浄のために版カバー108は印刷機から着脱可能な形状であることが望ましい。
As described above, the
版カバー108の材料としては、インキに用いられる溶剤の蒸気を透過又は吸収する、溶剤蒸気によって溶解する、溶剤分子と反応するといった問題が無く、インキの乾燥を防ぐことができるものであれば良い。上記のような溶媒による問題が生じないプラスチック板やフィルムを用いることができるが、用いられる溶剤は一般に有機溶媒であるため、金属が好適に用いることができ、特に、加工性や安定性、経済性に優れた鉄やアルミニウムを用いることが望ましい。
The material of the
使用するインキは、アニロックスロール104への塗工に用いるインキ供給装置103に及びアニロックスロール104から凸版101への転写を考慮し適した粘度に調整し、インキの粘度は2〜120mPa・sとすることが望ましい。本実施の形態で用いる凸版印刷法ではアニロックスから凸版101上へのインキの転写が最初に行われるが、120mPa・s以上の粘度ではアニロックスから凸版101上へインキが転写した後、凸版101上で十分インキがレベリングせず、ムラの原因になる。また、2mPa・s以下では、画素内ではじきムラが発生しやすく、ムラの原因になる。
The ink to be used is adjusted to a suitable viscosity in consideration of the transfer from the
アニロックスロール104から凸版101上に転写されるインキ量は、被印刷基板106に成膜する膜厚によって決定するが、インキ濃度とアニロックスロール104セル容積を調整してすることで凸版101上に転写されるインキ量を一定にすることが望ましい。
The amount of ink transferred from the
使用するインキに用いる溶剤は、印刷するパターン全域が被印刷基板106に良好な形状で転写されるように、パターン内におけるインキの乾燥の程度に差が生じにくいように、沸点が100〜250℃の溶剤を用いることが望ましく、この様な溶媒としては、例えば、キシレン、トルエンなどがある。沸点が100℃未満の溶剤を用いた場合には、版カバー108を設けてもインキの乾燥による有機発光層のムラを防ぐことができず、また、沸点が250℃より高いものを用いた場合には、有機発光層形成後の乾燥のための時間の増大や、乾燥のための加熱温度が高くなり有機発光層やその他の層を破損したり、有機発光層中に溶剤が残存する恐れがある。
The solvent used for the ink used has a boiling point of 100 to 250 ° C. so that the difference in the degree of drying of the ink in the pattern is unlikely to occur so that the entire pattern to be printed is transferred to the printed
本発明の実施の形態に係るインキに溶解して使用される有機発光材料としては、クマリン系、ペリレン系、ピレン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、N,N’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、N,N’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系、白金錯体系、ユーロピウム錯体系等の低分子発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に溶解若しくは高分子に共重合させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系等の高分子発光体を用いることができる。 Examples of the organic light emitting material used by being dissolved in the ink according to the embodiment of the present invention include a coumarin type, a perylene type, a pyrene type, an anthrone type, a porphyrene type, a quinacridone type, an N, N′-dialkyl-substituted quinacridone type, Dissolve low-molecular-weight luminescent dyes such as naphthalimide, N, N'-diaryl-substituted pyrrolopyrrole, iridium complex, platinum complex, and europium complex in polymers such as polystyrene, polymethyl methacrylate, and polyvinylcarbazole. Alternatively, a polymer light-emitting material such as a polymer copolymerized, a polyarylene-based polymer, a polyarylene vinylene-based polymer, or a polyfluorene-based polymer can be used.
また、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポリフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、N,N’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、N,N’−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光対等、Ir錯体等の燐光性発光体などの低分子系発光材料を、高分子中に分散させたものが使用できる。高分子としてはポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等が使用できる。また、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系、ポリフルオレン、ポリフェニレンビニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリスピロなどの高分子発光材料であってもよい。また、溶剤に溶解でき、本発明の印刷機で印刷できるものであれば、低分子発光性色素を溶剤に溶解させたものも用いることもできる。 Also, coumarin phosphors, perylene phosphors, pyran phosphors, anthrone phosphors, porphyrin phosphors, quinacridone phosphors, N, N′-dialkyl-substituted quinacridone phosphors, naphthalimide phosphors, A material obtained by dispersing a low molecular weight light emitting material such as an N, N′-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based fluorescent pair or a phosphorescent light emitter such as an Ir complex in a polymer can be used. As the polymer, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyvinyl carbazole and the like can be used. Further, it may be a polymer light emitting material such as polyarylene, polyarylene vinylene, polyfluorene, polyphenylene vinylene, polyparaphenylene vinylene, polythiophene or polyspiro. In addition, as long as it can be dissolved in a solvent and can be printed by the printing machine of the present invention, it is also possible to use a solution in which a low molecular weight light emitting dye is dissolved in a solvent.
以下に、実施例及び比較例を示す。
(被印刷基板106の作製)
被印刷基板106として、支持体上に設けられたスイッチング素子として機能する薄膜トランジスタと、その上方に形成された平坦化層と、平坦化層状にコンタクトホールによって前記薄膜トランジスタと導通が図られている画素電極とを備えたアクティブマトリクス基板を用いた。画素サイズの1辺は、150μm角であり、RGBのサブピクセルのサイズは50×150μmである。
Examples and comparative examples are shown below.
(Preparation of printed substrate 106)
As a substrate to be printed 106, a thin film transistor provided as a switching element provided on a support, a planarization layer formed thereabove, and a pixel electrode that is electrically connected to the thin film transistor through a contact hole in the form of a planarization layer An active matrix substrate provided with One side of the pixel size is 150 μm square, and the size of the RGB sub-pixel is 50 × 150 μm.
前記アクティブマトリクス基板上に設けられている画素電極の端部を被覆し画素を区画するような形状で隔壁を形成した。この隔壁の形成は、日本ゼオン社製ポジレジストZWD6216−6をスピンコータにてアクティブマトリクス基板の全面に乾燥後の膜厚が1μmであるように成膜した後、フォトリソグラフィーによって各サブピクセルの4辺に線幅20μmの隔壁を形成した。 A partition wall was formed in such a shape as to cover an end portion of the pixel electrode provided on the active matrix substrate and partition the pixel. The partition walls are formed by forming a positive resist ZWD6216-6 made by ZEON Corporation on the entire surface of the active matrix substrate with a spin coater so that the film thickness after drying is 1 μm, and then by photolithography, the four sides of each subpixel are formed. A partition wall having a line width of 20 μm was formed.
画素電極の上にスピンコート法により正孔輸送層として、ポリ−(3,4)−エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)1.5wt%水溶液が100nmの膜厚で成膜した。さらに、この成膜されたPEDOT/PSS薄膜は、減圧下100℃で1時間乾燥することで、被印刷基板106を作製した。 A 1.5 wt% aqueous solution of poly- (3,4) -ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) was formed to a thickness of 100 nm as a hole transport layer on the pixel electrode by spin coating. . Further, the PEDOT / PSS thin film thus formed was dried at 100 ° C. for 1 hour under reduced pressure to produce a substrate to be printed 106.
(インキの作製)
赤色、緑色、青色(R、G、B)の3色からなる以下のインキは、キシレンに溶解し調整した。赤色発光インキ(R)は、ポリフルオレン系誘導体のキシレン1wt%溶液(住友化学社製赤色発光材料、商品名Red1100)である。緑色発光インキ(G)は、ポリフルオレン系誘導体のキシレン1wt%溶液(住友化学社製緑色発光材料、商品名Green1300)である。青色発光インキ(B)は、ポリフルオレン系誘導体のキシレン1wt%溶液(住友化学社製青色発光材料、商品名Blue1100)である。
(Production of ink)
The following inks consisting of three colors of red, green and blue (R, G, B) were prepared by dissolving in xylene. The red light emitting ink (R) is a xylene 1 wt% solution of a polyfluorene derivative (red light emitting material manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Red 1100). The green light emitting ink (G) is a 1 wt% xylene solution of a polyfluorene derivative (green light emitting material, trade name Green 1300, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). The blue light-emitting ink (B) is a 1 wt% xylene solution of a polyfluorene derivative (blue light-emitting material manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name Blue 1100).
(凸版101の作製)
厚さ250μmのニッケル材を感光性凸版101の基材として、前記基材の上に黒色顔料を混錬したアクリルバインダー樹脂溶液を乾燥膜厚が10μmになるように塗布して乾燥し、反射防止層を形成した。
(Preparation of relief plate 101)
An anti-reflection coating is applied by using a nickel material having a thickness of 250 μm as a base material for the photosensitive
水溶性ポリアミドを主成分とし、ラジカル重合性モノマーとしてとしてジペンタエリスリトールヘキサキスアクリレート、光重合開始剤として2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)を混錬した感光性樹脂組成物が、前記基材の表面に版材の総厚が310μmとなるように溶融塗工したものを感光性樹脂層とし、ポリビニルアルコール溶液を乾燥膜厚1μmになるように塗布したポリエチレンテレフタレートフィルム(フィルム厚み125μm:帝人デュポンフィルム社製)をラミネートした。 Mainly water-soluble polyamide, dipentaerythritol hexakisacrylate as radical polymerizable monomer, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one as photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) A photosensitive resin composition obtained by kneading the resin is melt-coated on the surface of the substrate so that the total thickness of the plate material is 310 μm, and the photosensitive resin layer is used, and the polyvinyl alcohol solution has a dry film thickness of 1 μm. A polyethylene terephthalate film (film thickness 125 μm: manufactured by Teijin DuPont Films Ltd.) was laminated.
合成石英基材のクロムマスクを凸版パターンの原版とし、このマスクをプロキシミティ露光装置にセットしたものを用いて凸版を露光することで所望のパターンが形成された凸版101を作製した。
A
(印刷工程)
感光性凸版101を枚葉式の凸版印刷機の版胴102に固定した。次に、インキをインキ供給装置103に供給し、アニロックスロール104を回転させることで全面にインキングする。アニロックスロール104は600ライン/インチのアニロックスロールを使用した。その後、アニロックスロール104上の余剰インキをドクターブレード105でかき取り、感光性凸版101の凸部のラインパターンをインキングした。
(Printing process)
The
このとき、図1に示すように、アニロックスロールからインキを転写した後の凸版表面が被印刷基板106に転写するまでの領域が閉空間となるようにアルミ板から成る版カバー108で覆った。
At this time, as shown in FIG. 1, it was covered with a
前記のようにインキングされた感光性凸版101を被印刷基板106に押し当てることで、被印刷基板106の上にストライプパターンを印刷した。この工程を赤色有機発光層、緑色有機発光層、青色有機発光層それぞれに繰り返すことで有機発光層パターンを得た。各色について印刷をおこなった後、オーブン内にて130℃で1時間乾燥を行った。
A stripe pattern was printed on the
前記のように形成されたパターン各色の平均膜厚は80nm程度であり、一般的な統計的手法である3σ法を用い、σを標準偏差とした場合の膜厚のばらつきの値3σは10nmであった。 The average film thickness of each color of the pattern formed as described above is about 80 nm, and the 3σ method, which is a general statistical method, is used, and the value 3σ of the film thickness variation when σ is a standard deviation is 10 nm. there were.
また、印刷により形成した有機発光層上に真空蒸着法によってカルシウムを10nm、銀を300nm成膜し、その後ガラスキャップを用いて封止することで有機EL表示素子を作成した。 In addition, a 10 nm calcium film and 300 nm silver film were formed by vacuum deposition on the organic light emitting layer formed by printing, and then sealed with a glass cap to prepare an organic EL display element.
前記表示素子について点灯表示確認を行ったところ、パネル全面においてムラの無い良好な発光が得られた。 When the lighting display of the display element was confirmed, good light emission without unevenness was obtained on the entire panel surface.
<比較例>
比較例として、図3に示すように凸版上のインキ乾燥を抑制できない構造の印刷機を使用して印刷をした例を示す。
<Comparative example>
As a comparative example, an example is shown in which printing is performed using a printing machine having a structure that cannot suppress ink drying on a relief printing plate as shown in FIG.
図3に示すような印刷機を使用して実施例と同様に有機EL素子を作製した。 Using a printing machine as shown in FIG. 3, an organic EL device was produced in the same manner as in the example.
形成されたパターン各色の平均膜厚は80nm程度で実施例と同等であるが、3σの値は、20nmと大きく、転写パターンの中央部と外周部で顕著な膜厚差が確認された。 The average film thickness of each color of the formed pattern is about 80 nm, which is equivalent to the example, but the value of 3σ is as large as 20 nm, and a remarkable film thickness difference was confirmed between the central portion and the outer peripheral portion of the transfer pattern.
前記のように作成された表示素子について点灯表示確認を行ったところ、発光ムラが確認された。
表1に実施例と比較例のパネル点灯結果を以下に示す。
When the lighting display was confirmed about the display element produced as mentioned above, the light emission nonuniformity was confirmed.
Table 1 shows the panel lighting results of the example and the comparative example.
101・・・凸版
102・・・版胴
103・・・インキ供給装置
104・・・アニロックスロール
105・・・ドクターブレード
106・・・被印刷基板
107・・・移動定盤
108・・・版カバー
101 ...
Claims (5)
前記被印刷基板を搬送するための移動定盤と、
前記定盤上に配置される回転式の版胴と、
前記版胴の周囲に配置された凸版と、
前記版胴の回転軸と同一方向の回転軸となるよう配置されたアニロックスロールと、
前記アニロックスロールにインキを供給するインキ供給装置と、
前記アニロックスロールと前記凸版とを接触させて前記インキを前記凸版上に転写する機構と、
前記凸版の周囲を覆うように配置された版カバーと、
を備え、前記凸版上に転写されたインキを前記被印刷基板に接触させて転写する凸版印刷機において、
前記版カバーは、前記インキを前記アニロックスロールから前記凸版上への転写を介して前記被印刷基板に転写するまでの間の、前記凸版上に前記インキが転写されている領域に配置されており、かつ前記凸版印刷機から着脱可能であることを特徴とする印刷機。 A printing machine for printing a fine pattern on a substrate to be printed,
A moving surface plate for conveying the substrate to be printed;
A rotary plate cylinder disposed on the surface plate;
A relief plate arranged around the plate cylinder;
An anilox roll arranged to be a rotation axis in the same direction as the rotation axis of the plate cylinder,
An ink supply device for supplying ink to the anilox roll;
A mechanism for transferring the ink onto the relief plate by bringing the anilox roll and the relief plate into contact with each other;
A plate cover arranged to cover the periphery of the relief plate;
In a letterpress printing machine for transferring the ink transferred onto the letterpress in contact with the substrate to be printed,
The plate cover, the ink from the anilox roll until the transfer to the substrate to be printed through the transfer onto the relief plate, the ink is disposed in a region that is transferred onto the relief plate And a printing press detachable from the relief printing press.
前記被印刷基板を搬送するための移動定盤と、
前記定盤上に配置される回転式の版胴と、
前記版胴の周囲に配置された凸版と、
前記版胴の回転軸と同一方向の回転軸となるよう配置されたアニロックスロールと、
前記アニロックスロールにインキを供給するインキ供給装置と、
前記アニロックスロールと前記凸版とを接触させて前記インキを前記凸版上に転写する機構と、
前記凸版の周囲を覆うように配置された版カバーと、
を備え、前記凸版に転写されたインキを前記被印刷基板に接触させて転写する凸版印刷機において、
前記版カバーは、前記インキを前記アニロックスロールから前記凸版上へ転写する領域と、前記凸版から前記被印刷基板へ転写する領域を除く全面に配置されており、かつ前記凸版印刷機から着脱可能であることを特徴とする印刷機。 A printing machine for printing a fine pattern on a substrate to be printed,
A moving surface plate for conveying the substrate to be printed;
A rotary plate cylinder disposed on the surface plate;
A relief plate arranged around the plate cylinder;
An anilox roll arranged to be a rotation axis in the same direction as the rotation axis of the plate cylinder,
An ink supply device for supplying ink to the anilox roll;
A mechanism for transferring the ink onto the relief plate by bringing the anilox roll and the relief plate into contact with each other;
A plate cover arranged to cover the periphery of the relief plate;
In a letterpress printing machine for transferring the ink transferred to the letterpress in contact with the substrate to be printed,
The plate cover is disposed on the entire surface excluding a region where the ink is transferred from the anilox roll onto the relief plate and a region where the ink is transferred from the relief plate to the printing substrate , and is removable from the relief printing press. printing machine, characterized in that.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009226863A JP5418115B2 (en) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | Letterpress printing machine |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009226863A JP5418115B2 (en) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | Letterpress printing machine |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011073269A JP2011073269A (en) | 2011-04-14 |
JP5418115B2 true JP5418115B2 (en) | 2014-02-19 |
Family
ID=44017782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009226863A Expired - Fee Related JP5418115B2 (en) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | Letterpress printing machine |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5418115B2 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103796834B (en) * | 2011-09-16 | 2016-02-24 | 3M创新有限公司 | The pressing mold of micro-contact printing is applied to the method and apparatus of roller platen |
JP2013065505A (en) * | 2011-09-20 | 2013-04-11 | Toppan Printing Co Ltd | Letterpress printing device and method for manufacturing organic electroluminescent element using the same |
DE102012018583B4 (en) * | 2012-09-20 | 2018-10-31 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Method for printing a functional layer for electronic components |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63116851A (en) * | 1986-11-05 | 1988-05-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Flexographic press |
JPH0929929A (en) * | 1995-07-13 | 1997-02-04 | Dainippon Printing Co Ltd | Method and apparatus for preventing drying of surface of gravure plate |
JPH10288784A (en) * | 1997-04-16 | 1998-10-27 | Toshiba Electron Eng Corp | Device and method for manufacturing liquid crystal display device |
JP2000094634A (en) * | 1998-09-18 | 2000-04-04 | Dainippon Printing Co Ltd | Printer and doctor unit |
JP2008135326A (en) * | 2006-11-29 | 2008-06-12 | Toppan Printing Co Ltd | Manufacturing method of high definition display |
-
2009
- 2009-09-30 JP JP2009226863A patent/JP5418115B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011073269A (en) | 2011-04-14 |
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|
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