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JP5417750B2 - Charge transport material for wet film formation, charge transport material composition for wet film formation method, organic electroluminescence device, and organic EL display - Google Patents

Charge transport material for wet film formation, charge transport material composition for wet film formation method, organic electroluminescence device, and organic EL display Download PDF

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JP5417750B2
JP5417750B2 JP2008168958A JP2008168958A JP5417750B2 JP 5417750 B2 JP5417750 B2 JP 5417750B2 JP 2008168958 A JP2008168958 A JP 2008168958A JP 2008168958 A JP2008168958 A JP 2008168958A JP 5417750 B2 JP5417750 B2 JP 5417750B2
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敦史 高橋
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潤二 水上
英貴 五郎丸
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Description

本発明は、湿式成膜用電荷輸送材料、有機電界発光素子用組成物、有機電界発光素子、および有機ELディスプレイに関するものであり、詳しくは溶剤に対する溶解性が優れており、成膜性、湿式プロセス適性に優れたアントラセン化合物を用いた有機電界発光素子用組成物、さらには、それを用いた高効率、長寿命な有機電界発光素子、および有機ELディスプレイに関するものである。   The present invention relates to a charge transport material for wet film formation, a composition for an organic electroluminescent element, an organic electroluminescent element, and an organic EL display, and more particularly has excellent solubility in a solvent. The present invention relates to a composition for an organic electroluminescence device using an anthracene compound excellent in process suitability, and further relates to a high-efficiency, long-life organic electroluminescence device using the composition and an organic EL display.

近年、薄膜型の電界発光素子としては、無機材料を使用したものに代わり、有機薄膜を用いた有機電界発光素子の開発が行われるようになっている。有機電界発光素子は、通常、陽極と陰極との間に、正孔注入層、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層などを有し、この各層に適した赤、緑、青などの発光素子の開発が進んでいる。しかしながら、中でも青色の発光素子は、効率、寿命、耐熱性の観点で満足できるものではなく、フルカラーディスプレイ用途への適用は限定的であるという課題があった。   In recent years, as a thin film type electroluminescent element, an organic electroluminescent element using an organic thin film has been developed instead of using an inorganic material. The organic electroluminescent device usually has a hole injection layer, a hole transport layer, an organic light emitting layer, an electron transport layer, etc. between the anode and the cathode, and suitable for each layer such as red, green, blue, etc. Development of light emitting devices is progressing. However, blue light-emitting elements are not satisfactory in terms of efficiency, life, and heat resistance, and there is a problem that application to full-color displays is limited.

また、有機電界発光素子の各層の形成方法としては、蒸着成膜法や湿式成膜法がある。蒸着成膜法では、テレビやモニタ用の中・大型フルカラーパネルなどを製作する場合、歩留まりの観点で課題を有する。そのため、中でもこれら大面積の用途には湿式成膜法が好適である。   In addition, as a method for forming each layer of the organic electroluminescent element, there are a vapor deposition method and a wet film formation method. The vapor deposition method has a problem in terms of yield when manufacturing a medium or large full color panel for a television or a monitor. Therefore, the wet film-forming method is suitable for these large area applications.

しかしながら、湿式成膜法で有機電界発光素子の各層を形成するためには、各層を形成する材料が溶媒に溶解し、かつ湿式成膜後にも素子として高い性能を有することが望まれていた。しかし、従来開発されている蒸着成膜法に使用されてきた材料であっても、湿式成膜法には適さないものが多かった。   However, in order to form each layer of the organic electroluminescent element by the wet film forming method, it has been desired that the material for forming each layer is dissolved in a solvent and has high performance as an element even after the wet film formation. However, many materials that have been used in the conventionally developed vapor deposition method have not been suitable for the wet film formation method.

例えば、特許文献1では、下記式で示される材料を用いて、湿式成膜法によって作製した素子が開示されている。
For example, Patent Document 1 discloses an element manufactured by a wet film formation method using a material represented by the following formula.

また、特許文献2には、下記式で示される材料を用い、湿式成膜法によって作製した素子が開示されている。
Patent Document 2 discloses an element manufactured by a wet film forming method using a material represented by the following formula.

しかしながら、これらの材料は、溶剤に対する溶解性や耐熱性といった湿式成膜のプロセス上の要求物性を満足していない上、ホストの正孔注入・輸送性が乏しいため、湿式成膜用途に実用的ではなかった。
国際公開2006/070712号パンフレット 特開2004−224766号公報
However, these materials do not satisfy the required physical properties of the wet film formation process such as solubility in solvents and heat resistance, and the host hole injection / transport properties are poor, so they are practical for wet film formation applications. It wasn't.
International Publication No. 2006/070712 Pamphlet JP 2004-224766 A

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものである。即ち、有機電界発光素子の湿式成膜法で形成される有機層に有用な化合物であって、溶解性に優れ、湿式成膜法で形成しても、高効率、長寿命な有機電界発光素子を提供できる湿式成膜用電荷輸送材料を提供することである。   The present invention has been made in view of the above problems. That is, it is a compound useful for an organic layer formed by a wet film-forming method of an organic electroluminescent element, has excellent solubility, and has a high efficiency and a long life even when formed by a wet film-forming method. It is an object to provide a charge transport material for wet film formation that can provide the above.

本発明者らが鋭意検討した結果、発光層と正孔輸送層に含有させる化合物を、下記式(I)に表現で表わされる化合物にすることにより、長寿命、高輝度かつ高効率な有機電界発光素子を提供できることがわかり、本発明に到達した。   As a result of intensive studies by the present inventors, the compound contained in the light-emitting layer and the hole transport layer is a compound represented by the following formula (I), whereby a long-life, high-brightness, and high-efficiency organic electric field is obtained. It was found that a light-emitting element can be provided, and the present invention has been achieved.

すなわち、本発明の要旨は、下記式(I)で表わされるアントラセン化合物からなることを特徴とする、湿式成膜用電荷輸送材料に存する(請求項1)。
(式(I)中、Ar11〜Ar15は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。該置換基どうしが結合して環を形成していてもよい。但し、分子内に存在するAr11およびAr15の内、少なくとも1つは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
aは2であり、bは0である。一分子内に複数個存在する、Ar11〜Ar15は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Zは、置換基を有していてもよい、1,3−ベンゼンジイル基、1,3−ナフタレンジイル基、及び2,7−ナフタレンジイル基からなる群より選ばれる芳香族炭化水素基を表わす。Zに連結するアントラセン環はさらに置換基を有していてもよく、一分子内にあるアントラセン環同士は、互いに非共役である。)
That is, the gist of the present invention resides in a charge transport material for wet film formation, which comprises an anthracene compound represented by the following formula (I).
(In the formula (I), Ar 11 to Ar 15 each independently represents a hydrogen atom or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. The substituents are bonded to form a ring. Provided that at least one of Ar 11 and Ar 15 present in the molecule is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
a is 2 and b is 0. Ar 11 to Ar 15 , which are present in plural in one molecule, may be the same or different.
Z represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group selected from the group consisting of a 1,3-benzenediyl group, a 1,3-naphthalenediyl group, and a 2,7-naphthalenediyl group. . The anthracene ring linked to Z may further have a substituent, and the anthracene rings in one molecule are non-conjugated with each other. )

このとき、ガラス転移点が120℃以上であり、且つ、トルエンに対する溶解度が1重量%以上であることが好ましい(請求項)。 At this time, the glass transition point is preferably 120 ° C. or higher, and the solubility in toluene is preferably 1% by weight or higher (Claim 2 ).

本発明の別の要旨は、上記の湿式成膜用電荷輸送材料を含有することを特徴とする、湿式成膜用電荷輸送材料組成物に存する(請求項)。 Another gist of the present invention resides in a charge transport material composition for wet film formation, characterized by containing the charge transport material for wet film formation (claim 3 ).

このとき、下記式(II)で表わされる電荷輸送性化合物を含有することが好ましい(請求項)。
(式中、Ar31は、置換基を有していてもよい炭素数6以上30以下の芳香族炭化水素基を表わす。また、Ar32およびAr33は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。但し、Ar32およびAr33の少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。Ar31が結合するアントラセン環は、更に置換基を有していてもよい。)
In this case, preferably contains a charge transporting compound represented by the following formula (II) (claim 4).
(In the formula, Ar 31 represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent. Ar 32 and Ar 33 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. An aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, provided that at least one of Ar 32 and Ar 33 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, anthracene to which Ar 31 is bonded; The ring may further have a substituent.)

このとき、上記の湿式成膜用電荷輸送材料10重量部以上90重量部以下と、上記式(II)で表わされる電荷輸送性化合物10重量部以上90重量部以下とを含有することが好ましい(請求項)。 At this time, it is preferable to contain 10 parts by weight or more and 90 parts by weight or less of the charge transport material for wet film formation and 10 parts by weight or more and 90 parts by weight or less of the charge transporting compound represented by the formula (II) ( Claim 5 ).

また、溶剤を含有することも好ましい(請求項)。 It is also preferable to contain a solvent (claim 6 ).

本発明の別の要旨は、陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた有機発光層を有する有機電界発光素子であって、上記の湿式成膜用電荷輸送材料を含有する層を有することを特徴とする、有機電界発光素子に存する(請求項)。 Another gist of the present invention is an organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and an organic light emitting layer provided between the two electrodes, and has a layer containing the charge transport material for wet film formation. It is an organic electroluminescent device characterized in that (claim 7 ).

本発明の別の要旨は、陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた有機発光層を有する有機電界発光素子であって、上記の湿式成膜用電荷輸送材料組成物を含有する層を有することを特徴とする、有機電界発光素子に存する(請求項)。 Another gist of the present invention is an organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and an organic light emitting layer provided between the two electrodes, and has a layer containing the above-described charge transport material composition for wet film formation. It exists in the organic electroluminescent element characterized by the above-mentioned (Claim 8 ).

本発明の別の要旨は、上記の有機電界発光素子を有すること特徴とする、有機ELディスプレイに存する(請求項)。 Another gist of the present invention resides in an organic EL display having the above-mentioned organic electroluminescent element (claim 9 ).

本発明によれば、湿式成膜用電荷輸送材料を提供できる。該湿式成膜用電荷輸送材料は、溶剤に対する溶解性が高く、また、湿式成膜法で形成される有機電界発光素子の有機層に好適である。該湿式成膜用電荷輸送材料を用いて製造された機電界発光素子用組成物を用いると、高効率、長寿命な有機電界発光素子を提供することができる。   According to the present invention, a charge transport material for wet film formation can be provided. The charge transport material for wet film formation has high solubility in a solvent, and is suitable for an organic layer of an organic electroluminescent element formed by a wet film formation method. When the composition for mechanical electroluminescence device produced using the charge transport material for wet film formation is used, an organic electroluminescence device having high efficiency and long life can be provided.

以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の説明に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々に変更して実施することができる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following description, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

本発明は、下記式(I)で表わされるアントラセン化合物を用いた湿式成膜用電荷輸送材料及び湿式成膜用電荷輸送材料組成物、並びに、それらを含有する有機電界発光素子、及び有機ELディスプレイに関する。
以下、上記の順に説明する。
The present invention relates to a charge transport material for wet film formation and a charge transport material composition for wet film formation using an anthracene compound represented by the following formula (I), an organic electroluminescent device containing them, and an organic EL display About.
Hereinafter, the description will be made in the order described above.

[1.アントラセン化合物]
本発明は、下記式(I)で表わされるアントラセン化合物(以下、「本発明のアントラセン化合物」と言うことがある。)からなる湿式成膜用電荷輸送材料に関する。
ここで、湿式成膜用電荷輸送材料とは、溶剤に分散又は溶解させた状態で成膜し、その後、溶剤の一部あるいは全部を除去することで、電荷輸送性を有する膜を形成することを目的とした材料をいう。
<1−1.アントラセン化合物の構造>
本発明のアントラセン化合物は、下記式(I)で表わされる構造を有していれば、他に制限はない。以下、その構造について説明する。
(式(I)中、Ar11〜Ar20は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。該置換基どうしが結合して環を形成していてもよい。但し、分子内に存在するAr11、Ar15、Ar16およびAr20の内、少なくとも1つは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
Ar21は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。
aおよびbは、それぞれ独立に、0以上6以下の整数を表わし、(a+b)は2以上6以下の整数である。aが2以上の場合、一分子内に複数個存在する、Ar11〜Ar15は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。bが2以上の場合、一分子内に複数個存在する、Ar16〜Ar21はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Zは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。Zに連結するアントラセン環はさらに置換基を有していてもよく、一分子内にあるアントラセン環同士は、互いに非共役である。)
[1. Anthracene compound]
The present invention relates to a charge transport material for wet film formation comprising an anthracene compound represented by the following formula (I) (hereinafter sometimes referred to as “the anthracene compound of the present invention”).
Here, the charge transport material for wet film formation refers to forming a film having charge transport properties by forming a film in a state of being dispersed or dissolved in a solvent and then removing part or all of the solvent. A material intended for
<1-1. Structure of anthracene compound>
The anthracene compound of the present invention is not limited as long as it has a structure represented by the following formula (I). The structure will be described below.
(In the formula (I), Ar 11 to Ar 20 each independently represents a hydrogen atom or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. The substituents are bonded to form a ring. Provided that at least one of Ar 11 , Ar 15 , Ar 16 and Ar 20 existing in the molecule is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
Ar 21 represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
a and b each independently represent an integer of 0 to 6, and (a + b) is an integer of 2 to 6. When a is 2 or more, a plurality of Ar 11 to Ar 15 existing in one molecule may be the same or different. When b is 2 or more, a plurality of Ar 16 to Ar 21 existing in one molecule may be the same or different.
Z represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. The anthracene ring linked to Z may further have a substituent, and the anthracene rings in one molecule are non-conjugated with each other. )

(Ar11〜Ar20について)
式(I)中、Ar11〜Ar20は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。但し、分子内に存在するAr11、Ar15、Ar16およびAr20の内、少なくとも1つは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
(About Ar 11 to Ar 20 )
In the formula (I), Ar 11 to Ar 20 each independently represents a hydrogen atom or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. However, at least one of Ar 11 , Ar 15 , Ar 16 and Ar 20 present in the molecule is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.

芳香族炭化水素基とは、芳香性を有する環状の炭化水素基である。ひとつの環を構成する骨格元素の数は、通常6以上、好ましくは10以上、さらに好ましくは12以上、また、通常36以下、好ましくは30以下、さらに好ましくは24以下である。また、通常2つ以上また通常5つ以下の環が縮合した環(例えば、ナフタレン環等。)であってもよい。これらの芳香族炭化水素基の中でも、6員環の単環、又は2〜5縮合環由来の芳香族炭化水素基が好ましい。
例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等の由来の基が挙げられる。
The aromatic hydrocarbon group is a cyclic hydrocarbon group having aromaticity. The number of skeleton elements constituting one ring is usually 6 or more, preferably 10 or more, more preferably 12 or more, and usually 36 or less, preferably 30 or less, more preferably 24 or less. Moreover, the ring (For example, naphthalene ring etc.) which 2 or more normally and 5 or less rings were condensed may be sufficient. Among these aromatic hydrocarbon groups, an aromatic hydrocarbon group derived from a 6-membered monocyclic ring or a 2-5 condensed ring is preferable.
Examples include groups derived from a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, fluorene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring, and the like.

また、上述の単環、又は2〜5縮合環が複数個連結されて形成された基も好ましい。例えば、ビフェニル基、ターフェニル基等が挙げられる。   A group formed by connecting a plurality of the above-described single rings or 2 to 5 condensed rings is also preferable. For example, a biphenyl group, a terphenyl group, etc. are mentioned.

これらの中でも好ましくは、ベンゼン環若しくはナフタレン環等の由来の基、又はこれらが複数個連結されて形成された(例えば、ビフェニレン基、ターフェニレン基等)が挙げられる。
本発明のアントラセン化合物は、これらの芳香族炭化水素基のうち、1種類のみで有していてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で有していてもよい。
Among these, a group derived from a benzene ring or a naphthalene ring, or a group formed by connecting a plurality of these groups (for example, a biphenylene group, a terphenylene group, etc.) is preferable.
The anthracene compound of the present invention may have only one kind of these aromatic hydrocarbon groups, or may have two or more kinds in any combination and ratio.

芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、下記置換基群Qに記載の置換基が挙げられる。これらの置換基は、芳香族炭化水素基1つあたり、1種の置換基が単独で置換していてもよいし、2種以上の置換基が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。また、該置換基どうしが結合して環を形成していてもよく、形成して得られる環としては、ベンゼン環などの芳香族環やシクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂肪族環が挙げられる。   Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group may have include the substituents described in the following substituent group Q. As for these substituents, one type of substituent may be substituted independently per aromatic hydrocarbon group, or two or more types of substituents may be substituted in any combination and ratio. . In addition, the substituents may be bonded to form a ring, and examples of the ring obtained by the formation include an aromatic ring such as a benzene ring and an aliphatic ring such as cyclopentane and cyclohexane.

<置換基群Q>
置換基群Qとしては、
置換基を有してもよいアルキル基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数1以上8以下の直鎖または分岐のアルキル基であって、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、2−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいアルケニル基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数2以上8以下のアルケニル基であって、例えば、ビニル基、アリル基、1−ブテニル基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいアルキニル基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数2以上8以下のアルキニル基であって、例えば、エチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいアラルキル基(好ましくは置換基を有していてもよい炭素数7以上15以下のアラルキル基であって、例えば、ベンジル基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいアミノ基(好ましくは、置換基に炭素数1以上8以下のアルキル基を1つ以上有し、さらに他の置換基を有していてもよいアミノ基であって、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいアリールアミノ基(例えば、フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいヘテロアリールアミノ基(例えば、ピリジルアミノ基、チエニルアミノ基、ジチエニルアミノ基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいアシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等が挙げられる。);
置換基を有していてもよいアルコキシ基(好ましくは、置換基を有してもよい炭素数1以上8以下のアルコキシ基であって、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいアリールオキシ基(好ましくは、置換基を有してもよい芳香族炭化水素基や複素環基を有するアリールオキシ基であって、例えば、フェニルオキシ基、1−ナフチルオキシ基、2−ナフチルオキシ基、ピリジルオキシ基、チエニルオキシ基等が挙げられる。);
置換基を有していてもよいアシル基(好ましくは、置換基を有してもよい炭素数1以上8以下のアシル基であって、例えば、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基(好ましくは、置換基を有してもよい炭素数2以上13以下のアルコキシカルボニル基であって、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられる。);
置換基を有していてもよいアリールオキシカルボニル基(好ましくは、置換基を有してもよい炭素数2以上13以下のアリールオキシカルボニル基であり、アセトキシ基などが挙げられる。);
置換基を有していてもよいシクロアルキル基(好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数5以上20以下のシクロアルキル基であって、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。);
カルボキシ基;
シアノ基;
水酸基;
チオール基;
置換基を有していてもよいアルキルチオ基(好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数1以上8以下までのアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等が挙げられる。);
置換基を有していてもよいアリールチオ基(好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数1以上8以下までのアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基、1−ナフチルチオ基等が挙げられる。);
置換基を有していてもよいスルホニル基(例えば、メシル基、トシル基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいシリル基(例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいボリル基(例えば、ジメシチルボリル基等が挙げられる。);
置換基を有してもよいホスフィノ基(例えば、ジフェニルホスフィノ基等が挙げられる。);
置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基(例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等が由来の基が挙げられる。);
置換基を有していてもよい芳香族複素環基(例えば、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、ベンゾイミダゾール環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環等が由来の基が挙げられる。);等が挙げられる。
<Substituent group Q>
As the substituent group Q,
An alkyl group which may have a substituent (preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, such as a methyl group, an ethyl group, n- Propyl group, 2-propyl group, n-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group and the like));
An alkenyl group that may have a substituent (preferably an alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms that may have a substituent, such as a vinyl group, an allyl group, and a 1-butenyl group). ;);
An alkynyl group which may have a substituent (preferably an alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms which may have a substituent, such as an ethynyl group and a propargyl group);
An aralkyl group which may have a substituent (preferably an aralkyl group having 7 to 15 carbon atoms which may have a substituent, such as a benzyl group);
An amino group which may have a substituent (preferably an amino group which has one or more alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms in the substituent and may have another substituent) For example, a methylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, a dibenzylamino group, etc.);
An arylamino group which may have a substituent (for example, a phenylamino group, a diphenylamino group, a ditolylamino group, etc.);
A heteroarylamino group which may have a substituent (for example, pyridylamino group, thienylamino group, dithienylamino group and the like);
An acylamino group which may have a substituent (for example, acetylamino group, benzoylamino group and the like);
An alkoxy group which may have a substituent (preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group and a butoxy group. .);
An aryloxy group which may have a substituent (preferably an aryloxy group having an aromatic hydrocarbon group or a heterocyclic group which may have a substituent, such as a phenyloxy group, 1-naphthyl An oxy group, a 2-naphthyloxy group, a pyridyloxy group, a thienyloxy group, etc.);
An acyl group which may have a substituent (preferably an acyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, and examples thereof include a formyl group, an acetyl group and a benzoyl group. .);
An alkoxycarbonyl group which may have a substituent (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms which may have a substituent, and examples thereof include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. .);
An aryloxycarbonyl group which may have a substituent (preferably an aryloxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms which may have a substituent, such as an acetoxy group);
A cycloalkyl group which may have a substituent (preferably a cycloalkyl group having 5 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and examples thereof include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. .);
A carboxy group;
A cyano group;
Hydroxyl group;
A thiol group;
An alkylthio group which may have a substituent (preferably an alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, such as a methylthio group and an ethylthio group). ;
An arylthio group which may have a substituent (preferably an arylthio group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, such as a phenylthio group and a 1-naphthylthio group. .);
A sulfonyl group which may have a substituent (for example, mesyl group, tosyl group and the like);
A silyl group which may have a substituent (for example, a trimethylsilyl group, a triphenylsilyl group, etc.);
An optionally substituted boryl group (for example, a dimesitylboryl group);
A phosphino group which may have a substituent (for example, a diphenylphosphino group and the like);
An aromatic hydrocarbon group which may have a substituent (for example, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring, etc. A group derived from
An aromatic heterocyclic group which may have a substituent (for example, furan ring, benzofuran ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyrrole ring, pyrazole ring, imidazole ring, oxadiazole ring, indole ring, carbazole ring, Pyrroloimidazole ring, pyrrolopyrazole ring, pyrrolopyrrole ring, thienopyrrole ring, thienothiophene ring, furopyrrole ring, furofuran ring, thienofuran ring, benzoisoxazole ring, benzoisothiazole ring, benzimidazole ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyridazine ring , Pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, isoquinoline ring, sinoline ring, quinoxaline ring, benzimidazole ring, perimidine ring, quinazoline ring, quinazolinone ring, azulene ring and the like.

なお、上記の置換基群Qが有していてもよい置換基としては、アルキル基、ジアリールアミノ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基等が挙げられる。これらの具体例は、上記置換基群Qに記載した例と同様である。   In addition, as a substituent which said substituent group Q may have, an alkyl group, a diarylamino group, an aromatic hydrocarbon group, an aromatic heterocyclic group, etc. are mentioned. Specific examples thereof are the same as the examples described in the substituent group Q.

(Ar21について)
Ar21は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
(About Ar 21 )
Ar 21 is an aromatic hydrocarbon group that may have a substituent.

芳香族炭化水素基としては、6員環の単環、又は2〜5縮合環由来の芳香族炭化水素基が好ましい。
例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等の由来の基が挙げられる。
As the aromatic hydrocarbon group, a 6-membered monocyclic ring or an aromatic hydrocarbon group derived from 2 to 5 condensed rings is preferable.
Examples thereof include groups derived from a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring, and the like.

また、上述の単環、又は2〜5縮合環が複数個連結されて形成された基も好ましい。例えば、ビフェニル基、ターフェニル基等が挙げられる。   A group formed by connecting a plurality of the above-described single rings or 2 to 5 condensed rings is also preferable. For example, a biphenyl group, a terphenyl group, etc. are mentioned.

これらの中でも好ましくは、ベンゼン環若しくはナフタレン環等の由来の基、又はこれらが複数個連結されて形成された基(例えば、ビフェニレン基、ターフェニレン基等)が挙げられる。   Among these, a group derived from a benzene ring or a naphthalene ring, or a group formed by connecting a plurality of these groups (for example, a biphenylene group, a terphenylene group, or the like) is preferable.

芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、上記置換基群Qに記載の置換基が挙げられる。これらの置換基は、芳香族炭化水素基1つあたり、1種の置換基が単独で置換していてもよいし、2種以上の置換基が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。   Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group may have include the substituents described in the above substituent group Q. As for these substituents, one type of substituent may be substituted independently per aromatic hydrocarbon group, or two or more types of substituents may be substituted in any combination and ratio. .

(a、bについて)
aおよびbは、それぞれ独立に、0以上6以下の整数を表わし、(a+b)は2以上6以下の整数である。
(About a and b)
a and b each independently represent an integer of 0 to 6, and (a + b) is an integer of 2 to 6.

ここで、aは、1以上が好ましく、また、4以下が好ましく、3以下がより好ましいが、中でも2又は1が好ましいが、特に2が好ましい。
bは、0以上が好ましく、また、3以下が好ましく、1又は0が好ましいが、中でも0が特に好ましい。
(a+b)は、2以上が好ましく、また、3以下が好ましいが、中でも2が特に好ましい。
上記のa、bの中でも、a=b=1またはa=2,b=0が好ましいが、a=2,b=0が特に好ましい。高い一重項励起順位に加えて、溶解性と電気的耐久性と非晶質性が良好になるためである。
Here, a is preferably 1 or more, more preferably 4 or less, and more preferably 3 or less. Among them, 2 or 1 is preferable, and 2 is particularly preferable.
b is preferably 0 or more, preferably 3 or less, and preferably 1 or 0, with 0 being particularly preferred.
(A + b) is preferably 2 or more, more preferably 3 or less, and 2 is particularly preferable.
Among the above a and b, a = b = 1 or a = 2, b = 0 is preferable, but a = 2, b = 0 is particularly preferable. This is because, in addition to a high singlet excitation order, solubility, electrical durability, and amorphousness are improved.

(Zについて)
Zは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
(About Z)
Z is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.

芳香族炭化水素基とは、芳香性を有する環状の炭化水素基である。ひとつの環を構成する骨格元素の数は、通常6以上、好ましくは10以上、さらに好ましくは12以上、また、通常36以下、好ましくは30以下、さらに好ましくは24以下である。また、通常2つ以上また通常5つ以下の環が縮合した環(例えば、ナフタレン環等。)であってもよい。これらの芳香族炭化水素基の中でも、6員環の単環、又は2〜5縮合環由来の芳香族炭化水素基が好ましい。   The aromatic hydrocarbon group is a cyclic hydrocarbon group having aromaticity. The number of skeleton elements constituting one ring is usually 6 or more, preferably 10 or more, more preferably 12 or more, and usually 36 or less, preferably 30 or less, more preferably 24 or less. Moreover, the ring (For example, naphthalene ring etc.) which 2 or more normally and 5 or less rings were condensed may be sufficient. Among these aromatic hydrocarbon groups, an aromatic hydrocarbon group derived from a 6-membered monocyclic ring or a 2-5 condensed ring is preferable.

例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等の由来の基、もしくはこれらの環が2環以上連結してなる基(例えば、ビフェニレン基、ターフェニレン基等。)が挙げられる。   For example, a group derived from a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring, or a combination of two or more of these rings. (For example, biphenylene group, terphenylene group, etc.).

これらの中でも好ましくは、1,3−ベンゼンジイル基、1,2−ベンゼンジイル基、1,3−ナフタレンジイル基、1,2−ナフタレンジイル基、2,7−ナフタレンジイル基等が挙げられる。   Among these, 1,3-benzenediyl group, 1,2-benzenediyl group, 1,3-naphthalenediyl group, 1,2-naphthalenediyl group, 2,7-naphthalenediyl group and the like are preferable.

芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、上記置換基群Qに記載の置換基が挙げられる。これらの置換基は、芳香族炭化水素基1つあたり、1種の置換基が単独で置換していてもよいし、2種以上の置換基が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。   Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group may have include the substituents described in the above substituent group Q. As for these substituents, one type of substituent may be substituted independently per aromatic hydrocarbon group, or two or more types of substituents may be substituted in any combination and ratio. .

(アントラセン環について)
一分子内にあるアントラセン環同士は、互いに非共役である。また、一分子内にあるアントラセン環は、それぞれ更に置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、上記置換基群Qに記載の基が挙げられる。
(About the anthracene ring)
Anthracene rings in one molecule are non-conjugated with each other. Each anthracene ring in one molecule may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups described in the above substituent group Q.

置換基群Qの中でも、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基が好ましい。特にベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環由来の基、あるいは、これらの基が任意の組合せで複数(通常2以上、また、通常8以下、好ましくは4以下)連結された置換基が好ましい。   Among the substituent group Q, an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent is preferable. In particular, a group derived from a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring, or a combination of these groups in any combination (usually) 2 or more, and usually 8 or less, preferably 4 or less) linked substituents are preferred.

これらの置換基は、1種の置換基が単独でアントラセン環に置換していてもよいし、2種以上の置換基が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。   As for these substituents, one kind of substituent may be substituted with an anthracene ring alone, or two or more kinds of substituents may be substituted with any combination and ratio.

上記の置換基の置換位置は、アントラセン環の2,3,6,7位が好ましい。分子の平面性を著しく損なうことに伴う、電気的耐久性の低下を避けるためである。   The substitution positions of the above substituents are preferably 2, 3, 6, 7 positions of the anthracene ring. This is in order to avoid a decrease in electrical durability that accompanies a significant loss of molecular planarity.

ここで、本発明で言う非共役とは、アントラセン環同士が共役しないことを言う。具体的に共役するとは、アントラセン環同士が、
(cis−,trans−のいずれでも可)またはこれらを組み合わせてなる部分構造で連結されていること(ただし、GないしGはそれぞれ独立に、水素原子または任意の置換基を表すか、あるいは、芳香族炭化水素や芳香族複素環の一部を構成する。)である。すなわち、本発明でいう非共役とは、上記のような連結がされていないことを言う。
Here, the term “non-conjugated” as used in the present invention means that the anthracene rings are not conjugated. Specifically conjugated means that anthracene rings are
(Either cis- or trans- can be used) or a partial structure formed by a combination thereof (wherein G 1 to G 3 each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent, or , Constituting a part of an aromatic hydrocarbon or aromatic heterocycle. That is, the term “non-conjugated” as used in the present invention means that the above connection is not made.

<1−2.アントラセン化合物の物性>
(分子量)
本発明のアントラセン化合物の分子量は、好ましくは300以上、更に好ましくは500以上、特に好ましくは600以上、また、好ましくは3000以下、更に好ましくは2000以下、特に好ましくは1500以下である。
この範囲を下回ると、湿式成膜時に、結晶化を起こしやすくなったり、加熱処理時、気化してしまったり、耐熱性が低下したりする可能性がある。また、この範囲を上回ると、有機溶剤に対する溶解性が低下したり、不純物の除去が困難になったりする傾向がある。
<1-2. Physical properties of anthracene compounds>
(Molecular weight)
The molecular weight of the anthracene compound of the present invention is preferably 300 or more, more preferably 500 or more, particularly preferably 600 or more, preferably 3000 or less, more preferably 2000 or less, and particularly preferably 1500 or less.
Below this range, crystallization is likely to occur during wet film formation, vaporization may occur during heat treatment, and heat resistance may decrease. On the other hand, if it exceeds this range, the solubility in organic solvents tends to be reduced, and the removal of impurities tends to be difficult.

(結晶化温度)
本発明のアントラセン化合物の結晶化温度は、200℃以上が好ましく、250℃以上が更に好ましく、観測されないことが特に好ましい。
本発明のアントラセン化合物は、湿式成膜の際、あるいはその後の加熱処理の際に、結晶化を起こさないことが特に好ましいためである。
(Crystallization temperature)
The crystallization temperature of the anthracene compound of the present invention is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher, and particularly preferably not observed.
This is because it is particularly preferable that the anthracene compound of the present invention does not cause crystallization during wet film formation or subsequent heat treatment.

(気化温度)
本発明のアントラセン化合物の気化温度は、0.001Pa条件下において、500℃以下が好ましく、450℃以下が更に好ましい。
高真空下における昇華精製が可能であると、化合物の高純度化を促進することができるためである。
(Vaporization temperature)
The vaporization temperature of the anthracene compound of the present invention is preferably 500 ° C. or less, more preferably 450 ° C. or less under the condition of 0.001 Pa.
This is because sublimation purification under high vacuum can promote high purity of the compound.

(ガラス転移点)
本発明のアントラセン化合物のガラス転移点は、通常120℃以上、好ましくは125℃以上、さらに好ましくは130℃以上、また、通常350℃以下、好ましくは300℃以下、さらに好ましくは250℃以下である。ガラス転移点がこの範囲を下回ると、湿式成膜用電荷輸送材料を用いて作成した薄膜が、加熱処理あるいは通電などによって、結晶化を起こす可能性がある。また、ガラス転移点がこの範囲を上回ると、溶剤に対する溶解性が低下する傾向がある。
(Glass transition point)
The glass transition point of the anthracene compound of the present invention is usually 120 ° C. or higher, preferably 125 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher, and usually 350 ° C. or lower, preferably 300 ° C. or lower, more preferably 250 ° C. or lower. . When the glass transition point is below this range, the thin film prepared using the charge transport material for wet film formation may be crystallized by heat treatment or energization. Moreover, when a glass transition point exceeds this range, there exists a tendency for the solubility with respect to a solvent to fall.

ガラス転移点の測定は、示差走査熱量分析法により測定できる。
反応装置としては、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製DSC6220を用いる。サンプル量2〜6mgをアルミ製液体用試料容器に入れ、窒素フロー(50mL/分)雰囲気下、室温〜400℃の間を昇温速度10℃/分で融点以上まで昇温する。なお、融点が検出されない場合には、300℃まで昇温する。
次に、一度昇温したサンプルを、−100℃/分以上の速度で室温以下に急冷してから、再び、昇温速度10℃/分で昇温した際に検出されたガラス転移点を、本発明におけるガラス転移点と定義する。
The glass transition point can be measured by differential scanning calorimetry.
As a reaction apparatus, DSC6220 manufactured by SII Nanotechnology Inc. is used. A sample amount of 2 to 6 mg is put in an aluminum liquid sample container, and the temperature is raised from the room temperature to 400 ° C. to the melting point or more at a heating rate of 10 ° C./min in a nitrogen flow (50 mL / min) atmosphere. In addition, when melting | fusing point is not detected, it heats up to 300 degreeC.
Next, after the sample that has been heated once is rapidly cooled to room temperature or lower at a rate of −100 ° C./min or higher, the glass transition point detected when the temperature is increased again at a temperature rising rate of 10 ° C./min, It is defined as the glass transition point in the present invention.

(溶媒への溶解度)
本発明のアントラセン化合物をトルエンに溶解する場合、その溶解度は、好ましくは1重量%以上、より好ましくは1.5重量%以上、特に好ましくは2重量%以上である。溶解度がこの範囲を下回ると、湿式成膜した際に形成される薄膜の膜質が低下し、不均一になる傾向がある。また、各種溶剤の選定が制限される可能性がある。
(Solubility in solvent)
When the anthracene compound of the present invention is dissolved in toluene, the solubility is preferably 1% by weight or more, more preferably 1.5% by weight or more, and particularly preferably 2% by weight or more. If the solubility is below this range, the film quality of the thin film formed when wet film formation is reduced tends to be non-uniform. In addition, the selection of various solvents may be limited.

溶解度の測定は、内容量2mL以上10mL以下のガラス製サンプル瓶に、溶質Xg(通常3mg以上10mg以下の範囲)、溶剤(例えばトルエン)Ygを投入し、該サンプル瓶の蓋を閉じた後、撹拌、超音波照射あるいは加熱処理し、極力溶解を促進する。
その後、室温(通常、10℃以上30℃以下)下、10時間以上静置するとき、目視あるいは顕微鏡観察により、析出物、懸濁あるいは層分離が確認されなかった場合、溶解度は(X/(X+Y)×100)%以上であり、析出物が確認された場合、溶解度は(X/
(X+Y)×100)%未満であると判定する。
For the measurement of solubility, a glass sample bottle having an internal volume of 2 mL or more and 10 mL or less was charged with solute Xg (usually in a range of 3 mg or more and 10 mg or less) and a solvent (for example, toluene) Yg, and the sample bottle was closed. Stirring, ultrasonic irradiation or heat treatment to promote dissolution as much as possible.
Thereafter, when the precipitate, suspension or layer separation is not confirmed by visual observation or microscopic observation when allowed to stand at room temperature (usually 10 ° C. or more and 30 ° C. or less) for 10 hours or more, the solubility is (X / ( X + Y) × 100)% or more, and when a precipitate is confirmed, the solubility is (X /
It is determined that it is less than (X + Y) × 100)%.

<1−3.アントラセン化合物の製造方法>
本発明のアントラセン化合物は、公知の合成方法を任意に組み合わせることによって製造することができる。
以下、その一例を説明するが、本発明のアントラセン化合物の製造方法は、以下の例に限定されない。
<1-3. Method for producing anthracene compound>
The anthracene compound of the present invention can be produced by arbitrarily combining known synthesis methods.
Hereinafter, although an example is demonstrated, the manufacturing method of the anthracene compound of this invention is not limited to the following examples.

本発明のアントラセン化合物は、例えば、後述する合成経路によって製造することが好ましい。後述の合成経路に示される化合物の置換基のうち、同様の種類の置換基については、同じ記号で示している(例えば、Z、X、X等)。また、式(I)等で説明した置換基と同じ置換基に関しても、同じ記号で示している(例えば、Ar11、Ar12、a、b等)。以下、合成経路の各反応について詳説する。 The anthracene compound of the present invention is preferably produced, for example, by the synthesis route described later. Among the substituents of the compounds shown in the synthetic route described later, the same types of substituents are indicated by the same symbols (for example, Z C , X C , XD, etc.). The same substituents as those described in formula (I) and the like are also indicated by the same symbols (for example, Ar 11 , Ar 12 , a, b, etc.). Hereinafter, each reaction in the synthesis route will be described in detail.

<1−3−1.中間体A、B、E、Fから最終物Aまでの合成経路>
下記の図は、中間体Aから、中間体Bから、並びに、中間体E及び中間体Fから、最終物A(本発明のアントラセン化合物)を得るための合成経路を表わしている。以下、各反応段階について詳説する。
<1-3-1. Synthesis route from intermediate A, B, E, F to final product A>
The following figure shows a synthetic route for obtaining final product A (anthracene compound of the present invention) from intermediate A, from intermediate B, and from intermediate E and intermediate F. Hereinafter, each reaction step will be described in detail.

<反応1>
反応1は、中間体Aと、(X−Z−(Xとを反応させて、中間体Cを合成する反応である。該反応によって中間体Cには脱離基Xが導入される。
<Reaction 1>
Reaction 1 is a reaction in which intermediate A is reacted with (X C ) a -Z C- (X D ) b to synthesize intermediate C. Leaving group X D is introduced into the intermediate C by the reaction.

中間体Aは、後述する合成経路(<反応6>〜<反応12>)によって得られる。中間体Aにおいて、Zは、直接結合、又は2価の芳香族炭化水素基を表わす。該芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよく、具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等の由来の基が好適に適用できる。
また、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基を表わす。
Intermediate A is obtained by a synthetic route (<Reaction 6> to <Reaction 12>) described later. In the intermediate A, Z A represents a direct bond or a divalent aromatic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group may have a substituent, and specific examples include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, Groups derived from a triphenylene ring, a fluoranthene ring or the like can be suitably applied.
Further, X A represents boron residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residue, a leaving group such as a magnesium halide residue.

(X−Z−(Xにおいて、Zは、芳香族炭化水素基を表わす。該芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよく、具体例としては、<1−1.アントラセン化合物の構造>で詳述したZと同様の例を好適に適用できる。
また、X、Xは、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等の脱離基を表わす。但し、このときの脱離基Xは、脱離基Xよりも、本反応条件下において脱離能に優れていることが望ましい。具体的な組合せを例示すると、Xとしてヨウ素原子を用いる共にXとして臭素原子を用いたり、Xとして臭素原子を用いると共にXとして塩素原子を用いたりすることが好適である。
(X C) a -Z C - In (X D) b, Z C represents an aromatic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group may have a substituent, and specific examples include <1-1. Examples similar to Z described in detail in Structure of Anthracene Compound> can be suitably applied.
X C and X D represent a leaving group such as a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, or a CF 3 SO 3 — group. However, the leaving group X C at this time, than the leaving group X D, it is desirable to have excellent desorption ability in the present reaction conditions. To illustrate specific combinations, or using bromine atom as both X D using iodine atom as X C, it is preferable to or using chlorine atom as X D with use of bromine as X C.

中間体Cにおいて、Z及びXは、(X−Z−(XのZ及びXと同様である。 In Intermediate C, Z C and X D is, (X C) a -Z C - is the same as the (X D) b Z C and X D.

中間体Aと(X−Z−(Xとを用いて反応させる場合、パラジウム触媒及び塩基性物質の存在下で、反応させることが好ましい。該反応は、不活性ガス雰囲気下の溶媒中で行なうことが好ましい。 When the intermediate A and (X C ) a -Z C- (X D ) b are reacted with each other, the reaction is preferably performed in the presence of a palladium catalyst and a basic substance. The reaction is preferably performed in a solvent under an inert gas atmosphere.

中間体Aを用いる量は、脱離基Xの1当量に対して、通常0.8当量以上、また、通常3当量以下である。 The amount of use of intermediate A, relative to 1 equivalent of the leaving group X C, usually 0.8 equivalents or more, usually not more than 3 equivalents.

パラジウム触媒としては、例えば、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム等の0価のパラジウム触媒が挙げられる。   Examples of the palladium catalyst include zero-valent palladium catalysts such as tetrakis (triphenylphosphine) palladium.

また、パラジウム触媒を用いる量は、脱離基Xの1当量に対して、通常0.0001当量以上、また、通常0.2当量以下である。 The amount of using a palladium catalyst, relative to 1 equivalent of the leaving group X C, usually 0.0001 equivalents or more, usually not more than 0.2 equivalents.

塩基性物質としては、例えば、tert−ブトキシナトリウム、tert−ブトキシカリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸三カリウム、トリエチルアミン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、フッ化カリウム等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the basic substance include tert-butoxy sodium, tert-butoxy potassium, cesium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, tripotassium phosphate, triethylamine, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium fluoride and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、塩基性物質を用いる量は、脱離基Xの1当量に対して、通常2当量以上、また、通常10当量以下である。 The amount of using the basic substance, per equivalent of leaving group X C, typically 2 equivalents or more, and usually 10 equivalents or less.

不活性ガスとしては、例えば、窒素;He、Ne、Ar等の希ガス類;等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the inert gas include nitrogen; rare gases such as He, Ne, Ar, and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、ノルマルヘキサノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、N,N−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、エチルベンゾエート、酢酸エチル等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the solvent include water, methanol, ethanol, normal hexanol, ethylene glycol, ethylene glycol monoethyl ether, diethyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, benzene, toluene, xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and dichloromethane. , N, N-dimethylformamide, cyclohexane, cyclohexanone, ethyl benzoate, ethyl acetate and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、溶媒を用いる量は、脱離基Xの1molに対して、通常0.01L(リットル)以上、また、通常100L以下である。 The amount of a solvent is used, relative to 1mol of the leaving group X C, usually 0.01 L (liter) or more, usually not more than 100L.

反応は、撹拌混合で行なうことが好ましい。このときの反応温度は、通常−40℃以上、また、通常150℃以下である。   The reaction is preferably carried out by stirring and mixing. The reaction temperature at this time is usually −40 ° C. or higher and usually 150 ° C. or lower.

また、反応時間は、通常1時間以上、また、通常60時間以下である。   The reaction time is usually 1 hour or longer and usually 60 hours or shorter.

<反応2>
反応2は、中間体Bと、(X−Z−(Xとを反応させて、中間体Dを合成する反応である。この反応によって、中間体Dには脱離基Xが導入される。
<Reaction 2>
Reaction 2 is a reaction in which intermediate B is reacted with (X C ) a -Z C- (X D ) b to synthesize intermediate D. This reaction is the intermediate D leaving group X C is introduced.

中間体Bは、後述する合成経路(<反応6>、<反応13>〜<反応24>)によって得られる。中間体Bにおいて、Zは、直接結合あるいは2価の芳香族炭化水素基を表わす。該芳香族炭化水素基としては、置換基を有していてもよく、具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等の由来の基が好適に適用できる。
また、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基などの脱離基を表わす。
Intermediate B is obtained by a synthesis route described later (<Reaction 6>, <Reaction 13> to <Reaction 24>). In the intermediate B, Z B represents a direct bond or a divalent aromatic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group may have a substituent, and specific examples include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring. , A group derived from a triphenylene ring, a fluoranthene ring, or the like can be suitably applied.
Further, X B represents boron residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residue, a leaving group such as halide residues.

(X−Z−(Xは、<反応1>で用いた(X−Z−(Xと同様のものである。
中間体Dにおいて、Z及びXは、(X−Z−(XのZ及びXと同様である。
(X C) a -Z C - (X D) b were used at <Reaction 1> (X C) a -Z C - is similar to the (X D) b.
In Intermediate D, Z C and X C is, (X C) a -Z C - is the same as the (X D) b Z C and X C.

中間体Bと、(X−Z−(Xとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに、中間体Bを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。
The reaction of intermediate B and (X C ) a -Z C- (X D ) b can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is performed in the same manner as in <Reaction 1> except that Intermediate B is used instead of Intermediate A.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として中間体Dを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, intermediate D can be obtained as a product.

<反応3>
反応3は、中間体Bと、中間体Cとを反応させて、最終物A(式(I)で表わされる本発明のアントラセン化合物)を合成する反応である。
<Reaction 3>
Reaction 3 is a reaction in which intermediate B and intermediate C are reacted to synthesize final product A (anthracene compound of the present invention represented by formula (I)).

中間体Bは、<反応2>で用いたものと同様のものである。
最終物Aは、式(I)で表わされる本発明のアントラセン化合物のことである。
Intermediate B is the same as that used in <Reaction 2>.
The final product A is an anthracene compound of the present invention represented by the formula (I).

中間体Bと中間体Cとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに中間体Bを、(X−Z−(Xの代わりに中間体Cを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、中間体Cの脱離基Xを基準として規定される。
The reaction of intermediate B and intermediate C can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction was carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that Intermediate B was used instead of Intermediate A, and Intermediate C was used instead of (X C ) a -Z C- (X D ) b. Do. Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined leaving group X D of Intermediate C as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として最終物Aを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, the final product A can be obtained as a product.

<反応4>
反応4は、中間体Dと、中間体Aとを反応させて、最終物A(式(I)で表わされる本発明のアントラセン化合物)を合成する反応である。
<Reaction 4>
Reaction 4 is a reaction in which intermediate D and intermediate A are reacted to synthesize final product A (anthracene compound of the present invention represented by formula (I)).

中間体Aは、<反応1>で用いたものと同様のものである。
最終物Aは、式(I)で表わされる本発明のアントラセン化合物である。
Intermediate A is the same as that used in <Reaction 1>.
The final product A is an anthracene compound of the present invention represented by the formula (I).

中間体Aと中間体Dとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、(X−Z−(Xの代わりに中間体Dを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、中間体Dの脱離基Xを基準として規定される。
The reaction of intermediate A and intermediate D can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is performed in the same manner as in <Reaction 1> except that intermediate D is used instead of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined leaving group X D of Intermediate D as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として最終物Aを得ることができる。
Other conditions (for example, palladium catalyst, basic substance, solvent type; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, the final product A can be obtained as a product.

<反応5>
反応5は、中間体Eと、中間体Fとを反応させて、最終物A(式(I)で表わされる本発明のアントラセン化合物)を合成する反応である。
<Reaction 5>
Reaction 5 is a reaction in which intermediate E and intermediate F are reacted to synthesize final product A (anthracene compound of the present invention represented by formula (I)).

中間体Eは、後述する合成経路(<反応25>〜<反応26>)によって得られる。中間体Eにおいて、Zは、芳香族炭化水素基を表わす。該芳香族炭化水素基としては、置換基を有していてもよく、具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等の由来の基が好適に適用できる。 Intermediate E is obtained by a synthetic route (<Reaction 25> to <Reaction 26>) described later. In the intermediate E, Z E represents an aromatic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group may have a substituent, and specific examples include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring. , A group derived from a triphenylene ring, a fluoranthene ring, or the like can be suitably applied.

中間体Fは、後述する合成経路(<反応27>〜<反応28>)によって得られる。中間体Fにおいて、Zは、Zと同様の芳香族炭化水素基である。 Intermediate F is obtained by a synthetic route (<Reaction 27> to <Reaction 28>) described later. In the intermediate F, Z F is an aromatic hydrocarbon group similar to Z E.

なお、中間体EにおけるX及び中間体FにおけるXは、何れか一方が、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基であり、他方が、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等の脱離基である。 Incidentally, X F in X E and intermediate F in intermediate E is either one, boron acid residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residues, such as magnesium halide residue removal The other is a halogen atom such as chlorine, bromine and iodine, and a leaving group such as a CF 3 SO 3 — group.

最終物Aは、式(I)で表わされる本発明のアントラセン化合物である。   The final product A is an anthracene compound of the present invention represented by the formula (I).

中間体Eと、中間体Fとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、(X−Z−(X及び中間体Aの代わりに、中間体E及び中間体Fを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、中間体E、中間体F、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、X又はXのうち、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、又はCFSO−基等である方の脱離基を基準として規定される。
The reaction of intermediate E and intermediate F can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, (X C) a -Z C - instead of (X D) b and intermediate A, except for using Intermediate E and intermediate F is carrying out the reaction in the same manner as <Reaction 1>. Accordingly, the amounts of intermediate E, intermediate F, palladium complex catalyst, basic substance, solvent, etc. used are X E or X F halogen atoms such as chlorine, bromine, iodine, or CF 3 SO. It is defined based on the leaving group which is a 3 -group or the like.

なお、中間体Fを用いる量は、中間体Eの1当量に対して、通常0.5当量以上、また、通常2当量以下である。   The amount of intermediate F used is usually 0.5 equivalents or more and usually 2 equivalents or less with respect to 1 equivalent of intermediate E.

それ以外の条件(触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として最終物Aを得ることができる。
Other conditions (catalyst, basic substance, type of solvent and amount used thereof; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, the final product A can be obtained as a product.

<1−3−2.出発物質から中間体Aまでの合成経路>
下記の図は、化合物a(出発物質)から、中間体Aを得るまでの合成経路を表わしている。以下、各反応段階について詳説する。
<1-3-2. Synthesis route from starting material to intermediate A>
The following figure shows the synthetic route from compound a (starting material) to intermediate A. Hereinafter, each reaction step will be described in detail.

<反応6>
反応6は、化合物aから化合物bを合成する反応である。
<Reaction 6>
Reaction 6 is a reaction for synthesizing compound b from compound a.

化合物aにおいて、Xは、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;CFSO−基、−OH基等の脱離基;等を表わす。
化合物bにおいて、X及びXは、それぞれ独立に、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子;CFSO−基、−OH基等の脱離基;等を表わす。
反応6として、以下に2種類の反応を説明する。
In the compound a, X a is chlorine, bromine, halogen atom such as iodine; -; represent like CF 3 SO 3 group, the leaving group such as -OH group.
In the compound b, X a and X b are each independently chlorine, bromine, halogen atom such as iodine; -; represent like CF 3 SO 3 group, the leaving group such as -OH group.
As reaction 6, two kinds of reactions will be described below.

(反応6の第1の方法)
化合物aから、化合物bを合成する第1の方法について説明する。
がハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)である化合物bを得る場合、化合物aとハロゲン分子とを、ルイス酸触媒存在下、溶媒存在下で混合する。
(First method of reaction 6)
A first method for synthesizing compound b from compound a will be described.
When obtaining a compound b in which Xb is a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc.), the compound a and a halogen molecule are mixed in the presence of a Lewis acid catalyst in the presence of a solvent.

ハロゲン分子としては、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
ハロゲン分子を用いる量は、化合物aの1当量に対して、通常0.1当量以上、また、通常100当量以下である。
Examples of the halogen molecule include chlorine, bromine, iodine and the like.
The amount of the halogen molecule used is usually 0.1 equivalent or more and usually 100 equivalent or less with respect to 1 equivalent of compound a.

ルイス酸触媒としては、塩化鉄(III)等が挙げられる。ルイス酸触媒は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the Lewis acid catalyst include iron (III) chloride. A Lewis acid catalyst may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

また、ルイス酸触媒を用いる量は、化合物aの1当量に対して、通常0.001当量以上、また、通常100当量以下である。   The amount of the Lewis acid catalyst used is usually 0.001 equivalents or more and usually 100 equivalents or less with respect to 1 equivalent of compound a.

溶媒としては、ジクロロメタン等が挙げられる。溶媒は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the solvent include dichloromethane and the like. One type of solvent may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.

また、溶媒を用いる量は、化合物aの1molに対して、通常0.1L以上、また、通常100L以下である。   Moreover, the quantity using a solvent is 0.1 L or more normally with respect to 1 mol of compound a, and is 100 L or less normally.

また、反応時間は、通常0.1時間以上、また、通常60時間以下である。
この反応の結果、生成物として化合物bを得ることができる。
The reaction time is usually 0.1 hour or longer and usually 60 hours or shorter.
As a result of this reaction, compound b can be obtained as a product.

(反応6の第2の方法)
化合物aから、化合物bを合成する第2の方法について説明する。
該第2の方法としては、化合物aとN−ハロゲン化コハク酸イミドとを、溶媒存在下で混合することが好ましい。
(Second method of reaction 6)
A second method for synthesizing compound b from compound a will be described.
As the second method, compound a and N-halogenated succinimide are preferably mixed in the presence of a solvent.

N−ハロゲン化コハク酸イミドとしては、N−ブロモコハク酸イミド、N−ヨードコハク酸イミド、等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the N-halogenated succinimide include N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、N−ハロゲン化コハク酸イミドを用いる量は、化合物aの1当量に対して、通常0.1当量以上、また、通常100当量以下である。   The amount of N-halogenated succinimide used is usually 0.1 equivalents or more and usually 100 equivalents or less with respect to 1 equivalent of compound a.

溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the solvent include N, N-dimethylformamide, dichloromethane and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、溶媒を用いる量は、化合物aの1molに対して、通常0.1L以上、また、通常100L以下である。   Moreover, the quantity using a solvent is 0.1 L or more normally with respect to 1 mol of compound a, and is 100 L or less normally.

反応は、撹拌混合で行なうことが好ましい。このときの反応温度は、通常−50℃以上、また、通常200℃以下である。   The reaction is preferably carried out by stirring and mixing. The reaction temperature at this time is usually −50 ° C. or higher and usually 200 ° C. or lower.

また、反応時間は、通常0.1時間以上、また、通常60時間以下である。
この反応の結果、生成物として化合物bを得ることができる。
The reaction time is usually 0.1 hour or longer and usually 60 hours or shorter.
As a result of this reaction, compound b can be obtained as a product.

<反応7>
反応7は、化合物aと、化合物fとを反応させて、化合物cを合成する反応である。
<Reaction 7>
Reaction 7 is a reaction in which compound a is reacted with compound f to synthesize compound c.

化合物aは、<反応6>で用いたものと同様ものである。
化合物fにおいて、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基を表わす。また、Ar11〜Ar15は式(I)と同様である。
Compound a is the same as that used in <Reaction 6>.
In the compound f, X x represents a leaving group such as a boronic acid residue, a boronic acid ester residue, a tin halide residue, a zinc halide residue, or a magnesium halide residue. Ar 11 to Ar 15 are the same as in formula (I).

化合物aと化合物fとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに化合物fを、(X−Z−(Xの代わりに化合物aを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、化合物aの脱離基Xを基準として規定される。
The reaction of compound a and compound f can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that compound f is used instead of intermediate A and compound a is used instead of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined leaving group X a of the compound a as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物cを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, compound c can be obtained as a product.

<反応8>
反応8は、化合物bと、化合物fとを反応させて、化合物dを合成する反応である。
<Reaction 8>
Reaction 8 is a reaction for synthesizing compound d by reacting compound b with compound f.

化合物bは、<反応6>に記載の化合物bと同様である。ただし、XとXとは、反応性が異なる脱離基であることが好ましい。その様な化合物bとしては、例えば、9−ブロモ−10−ヨードアントラセン等が挙げられる。
化合物fは、<反応7>で用いたものと同様ものである。
化合物dにおいて、Xは、化合物aのXと同様である。
Compound b is the same as compound b described in <Reaction 6>. However, Xa and Xb are preferably leaving groups having different reactivities. Examples of such a compound b include 9-bromo-10-iodoanthracene.
Compound f is the same as that used in <Reaction 7>.
In the compound d, X a is the same as X a of the compound a.

化合物bと化合物fとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに化合物fを、(X−Z−(Xの代わりに化合物bを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、X又はXのうち脱離能が高い方の脱離基(同じ場合にはX)を基準として規定される。
The reaction between compound b and compound f can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that compound f is used in place of intermediate A and compound b is used in place of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined with reference to the (X b, if the same) X a or X desorption ability higher leaving group of b The

また、化合物bのXとXとが、例えば9,10−ジブロモアントラセン等のように同じ反応性を有する場合、化合物fを用いる量は、化合物bの1当量に対して、通常0.1当量以上、また、通常1.5当量以下である。 Further, when the X a and X b compounds b have the same reactivity as such for example 9,10-dibromo-anthracene, the amount of a compound f, relative to 1 equivalent of the compound b, usually 0. 1 equivalent or more, and usually 1.5 equivalent or less.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、反応1と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物dを得ることができる。
Other conditions (for example, palladium catalyst, basic substance, type of solvent and amount using them; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in Reaction 1.
As a result of this reaction, compound d can be obtained as a product.

なお、XよりもXの方が反応性が高い場合、化合物dはXの代わりにXを有することになる。XとXとは互いに同様な脱離基であり、化合物dが何れの脱離基を有する場合であっても、以降の反応において同様に取り扱うことができる。 In the case towards the X a than X b is a high reactivity, compound d will have a X b instead of X a. X a and X b are the same leaving groups as each other, and even when the compound d has any leaving group, it can be handled in the subsequent reaction in the same manner.

<反応9>
反応9は、化合物cから化合物dを合成する反応である。
<Reaction 9>
Reaction 9 is a reaction for synthesizing compound d from compound c.

化合物dは、<反応8>に記載の化合物dと同様である。   Compound d is the same as compound d described in <Reaction 8>.

化合物cの反応は、<反応6>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、化合物aの代わりに化合物cを用いる他は<反応6>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、ハロゲン分子、ルイス酸触媒、N−ハロゲン化コハク酸、溶媒等の用いる量は、化合物cを基準として規定される。
The reaction of compound c can be carried out in the same manner as in <Reaction 6>.
Specifically, the reaction is performed in the same manner as in <Reaction 6> except that compound c is used instead of compound a. Accordingly, the amount of the halogen molecule, Lewis acid catalyst, N-halogenated succinic acid, solvent and the like is defined based on the compound c.

それ以外の条件(例えば、ハロゲン分子、ルイス酸触媒、溶媒等の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応6>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物dを得ることができる。
Other conditions (for example, types of halogen molecule, Lewis acid catalyst, solvent, etc .; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 6>.
As a result of this reaction, compound d can be obtained as a product.

<反応10>
反応10は、化合物dから中間体A’を合成する反応である。なお、中間体Aにおける連結基Zが直接結合である場合、本反応で得られる中間体A’を、そのまま中間体Aとして用いることができる。
<Reaction 10>
Reaction 10 is a reaction for synthesizing intermediate A ′ from compound d. In addition, when the linking group ZA in the intermediate A is a direct bond, the intermediate A ′ obtained in this reaction can be used as the intermediate A as it is.

中間体A’において、X’は、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基などの脱離基を表わす。
<反応10>として、以下に3種類の反応を説明する。
In the intermediate A ′, X A ′ represents a leaving group such as a boronic acid residue, a boronic acid ester residue, a tin halide residue, a zinc halide residue, or a magnesium halide residue.
As <Reaction 10>, three types of reactions will be described below.

(反応10の第1の方法)
化合物dから、中間体A’を合成する第1の方法について説明する。
まず、化合物dとリチオ化剤とを、無水条件下、不活性ガス雰囲気下の溶媒存在中で混合し、化合物dの脱離基XをLiに変換する。次に、ホウ素化剤、ハロゲン化錫、ハロゲン化亜鉛、ハロゲン化マグネシウム等のハロゲン化金属等を作用させて、中間体A’を得る。
(First method of reaction 10)
A first method for synthesizing intermediate A ′ from compound d will be described.
First, the compound d and lithiation agent, were mixed under anhydrous conditions, in the presence of a solvent under an inert gas atmosphere, to convert the leaving group X a of the compound d to Li. Next, a metal halide such as a boronating agent, tin halide, zinc halide, or magnesium halide is allowed to act to obtain intermediate A ′.

リチオ化剤としては、例えば、n−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム等が好ましい。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   As the lithiating agent, for example, n-butyllithium, tert-butyllithium and the like are preferable. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、リチオ化剤を用いる量は、化合物dの1当量に対して、通常0.1当量以上、また、通常10当量以下である。   The amount of lithiating agent used is usually 0.1 equivalents or more and usually 10 equivalents or less with respect to 1 equivalent of compound d.

溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、n−ヘキサン、トルエン等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the solvent include tetrahydrofuran, diethyl ether, n-hexane, toluene and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、溶媒を用いる量は、化合物dの1molに対して、通常0.1L以上、また、通常100L以下である。   Moreover, the quantity using a solvent is 0.1 L or more normally with respect to 1 mol of compound d, and is 100 L or less normally.

化合物dの脱離基XをLiに変換する反応は、撹拌混合で行なうことが好ましい。このときの反応温度は、通常−90℃以上、また、通常20℃以下、である。 The reaction of converting the leaving group X a of the compound d to Li is preferably performed by stirring and mixing. The reaction temperature at this time is usually −90 ° C. or higher and usually 20 ° C. or lower.

また、反応時間は、通常0.1時間以上、また、通常24時間以下である。
これらの反応によって、化合物dの脱離基XがLiに変換される。
The reaction time is usually 0.1 hour or longer and usually 24 hours or shorter.
These reactions, the leaving group X a of the compound d is converted to Li.

不活性ガスとしては、<反応1>で例示した不活性ガスを用いることが出来る。   As the inert gas, the inert gas exemplified in <Reaction 1> can be used.

次に、脱離基XがLiに変換された化合物dに、ホウ素化剤及び/又はハロゲン化金属を作用させて、中間体A’を得る。 Next, the compound d which leaving group X a is converted to Li, boron agent and / or by the action of metal halide to give intermediate A '.

ヨウ素化剤としては、例えば、トリメトキシボラン、トリス(i−プロピルオキシ)ボラン、メトキシピナコラートボラン等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the iodinating agent include trimethoxyborane, tris (i-propyloxy) borane, methoxypinacolatoborane, and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、ヨウ素化剤を用いる量は、脱離基XがLiに変換された化合物dの1当量に対して、通常1当量以上、また、通常10当量以下である。 The amount of using the iodinating agent, relative to 1 equivalent of the compound d which leaving group X a is converted to Li, usually one equivalent or more, and usually 10 equivalents or less.

ハロゲン化金属としては、例えば、ハロゲン化錫、ハロゲン化亜鉛、ハロゲン化マグネシウム等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the metal halide include tin halide, zinc halide, magnesium halide and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、ハロゲン化金属を用いる量は、脱離基XがLiに変換された化合物dの1当量に対して、通常1当量以上、また、通常10当量以下である。 The amount of using the metal halide, relative to 1 equivalent of the compound d which leaving group X a is converted to Li, usually one equivalent or more, and usually 10 equivalents or less.

なお、ヨウ素化剤を用いた場合には、さらに酸性水溶液で処理を行なうことが好ましい。   In addition, when an iodinating agent is used, it is preferable to process with an acidic aqueous solution.

(反応10の第2の方法)
化合物dから、中間体A’を合成する第2の方法について説明する。
まず、化合物dと金属マグネシウムとを、無水条件下、不活性ガス雰囲気下の溶媒存在中で混合し、化合物dの脱離基Xをマグネシウムハライド残基に変換する。次に、ホウ素化剤を作用させて、中間体A’を得る。
(Second method of reaction 10)
A second method for synthesizing intermediate A ′ from compound d will be described.
First, a compound d and metallic magnesium, under anhydrous conditions, were mixed in the presence of a solvent under an inert gas atmosphere, to convert the leaving group X a of the compound d to magnesium halide residue. Next, a boronating agent is allowed to act to obtain intermediate A ′.

金属マグネシウムを用いる量は、化合物dの1当量に対して、通常1当量以上、また、通常5当量以下である。   The amount of metal magnesium used is usually 1 equivalent or more and usually 5 equivalents or less with respect to 1 equivalent of compound d.

溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the solvent include tetrahydrofuran, diethyl ether and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、溶媒を用いる量は、化合物dの1molに対して、通常0.1L以上、また、通常10L以下である。   The amount of the solvent used is usually 0.1 L or more and usually 10 L or less with respect to 1 mol of compound d.

不活性ガスとしては、<反応1>で例示した不活性ガスを用いることが出来る。   As the inert gas, the inert gas exemplified in <Reaction 1> can be used.

化合物dの脱離基Xをマグネシウムハライド残基に変換する反応は、撹拌混合で行なうことが好ましい。このときの反応温度は、通常−90℃以上、また、通常100℃以下である。 The reaction of converting the leaving group X a of the compound d to magnesium halide residue is preferably carried out in a stirred mixed. The reaction temperature at this time is usually −90 ° C. or higher and usually 100 ° C. or lower.

また、反応時間は、通常0.1時間以上、また、通常24時間以下である。
これらの反応によって、化合物dの脱離基Xがマグネシウムハライド残基に変換される。
The reaction time is usually 0.1 hour or longer and usually 24 hours or shorter.
These reactions, the leaving group X a of the compound d is converted into magnesium halide residue.

次に、脱離基Xがマグネシウムハライド残基に変換された化合物dに、ホウ素化剤を作用させ、その後で酸性水溶液で処理を行なうことで、ボロン酸残基が導入された中間体A’を得が得られる。
なお、ホウ素化剤を作用させる方法や、酸性水溶液で処理する方法は、前述の(反応5の第1の方法)で説明した方法と同様である。
Next, a compound d in which the leaving group Xa is converted to a magnesium halide residue is allowed to act on a boronating agent, followed by treatment with an acidic aqueous solution, whereby an intermediate A into which a boronic acid residue has been introduced. 'Get you get.
In addition, the method of making a boron agent act and the method of processing with acidic aqueous solution are the same as the method demonstrated by the above-mentioned (1st method of reaction 5).

(反応10の第3の方法)
化合物dから、中間体A’を合成する第3の方法について説明する。
まず、化合物dとジボランとPd触媒と塩基性物質とを、無水条件下、不活性ガス雰囲気下の溶媒存在中で混合し、化合物dの脱離基Xをボロン酸エステル残基に変換した中間体A’を得る。
(Third method of reaction 10)
A third method for synthesizing intermediate A ′ from compound d will be described.
First, the compound d and diborane and Pd catalyst and a basic substance, under anhydrous conditions, were mixed in the presence of a solvent under an inert gas atmosphere to convert the leaving group X a of the compound d boronic acid ester residue Intermediate A ′ is obtained.

ジボランとしては、例えば、ビス(ピナコラート)ジボラン等が挙げられる。ジボランは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of diborane include bis (pinacolato) diborane. One type of diborane may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.

また、ジボランを用いる量は、化合物dの1当量に対して、通常1当量以上、また、通常10当量以下である。   The amount of diborane used is usually 1 equivalent or more and usually 10 equivalents or less with respect to 1 equivalent of compound d.

Pd触媒としては、例えば、[1,1’−ビス(ジフェニルフォスフィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)、ジクロロメタン錯体(1:1)等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the Pd catalyst include [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] dichloropalladium (II), dichloromethane complex (1: 1), and the like. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、Pd触媒を用いる量は、化合物dの1当量に対して、通常0.001当量以上、また、通常0.5当量以下である。   The amount of the Pd catalyst used is usually 0.001 equivalent or more and usually 0.5 equivalent or less with respect to 1 equivalent of the compound d.

塩基性物質としては、例えば、塩化カリウム等が挙げられる。塩基性物質は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   As a basic substance, potassium chloride etc. are mentioned, for example. One basic substance may be used alone, or two or more basic substances may be used in any combination and ratio.

溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、1,4−ジオキサン等が挙げられる。溶媒は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of the solvent include dimethyl sulfoxide, 1,4-dioxane and the like. One type of solvent may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.

また、溶媒を用いる量は、化合物aの1molに対して、通常0.1L以上、また、通常100L以下である。   Moreover, the quantity using a solvent is 0.1 L or more normally with respect to 1 mol of compound a, and is 100 L or less normally.

不活性ガスとしては、<反応1>で例示した不活性ガスを用いることが出来る。   As the inert gas, the inert gas exemplified in <Reaction 1> can be used.

化合物dの脱離基Xをボロン酸エステル残基に変換する反応は、撹拌混合で行なうことが好ましい。このときの反応温度は、通常20℃以上、また、通常120℃以下である。 The reaction of converting the leaving group X a of the compound d boronic acid ester residue, it is preferably carried out by stirring and mixing. The reaction temperature at this time is usually 20 ° C. or higher and usually 120 ° C. or lower.

また、反応時間は、通常1時間以上、また、通常60時間以下である。
これらの反応によって、化合物dの脱離基Xがボロン酸エステル残基に変換された中間体A’が得られる。
The reaction time is usually 1 hour or longer and usually 60 hours or shorter.
By these reactions, an intermediate A ′ in which the leaving group Xa of compound d is converted to a boronate ester residue is obtained.

<反応11>
反応11は、中間体A’と、X−Z−Xとを反応させて、化合物eを合成する反応である。
<Reaction 11>
Reaction 11 is a reaction for synthesizing compound e by reacting intermediate A ′ with X c -Z A -X d .

−Z−Xにおいて、Zは、2価の芳香族炭化水素基を表わす。該芳香族炭化水素基としては、置換基を有していてもよく、具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等の由来の基が好適に適用できる。
また、X、Xは、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等の脱離基を表わす。但し、このときの脱離基Xは、脱離基Xよりも、本反応条件下において脱離能に優れていることが望ましい。具体的な組合せを例示すると、Xとしてヨウ素原子をXとして臭素原子を用いたり、Xとして臭素原子をXとして塩素原子を用いたりすることが好適である。
In X c -Z A -X d, Z A represents a divalent aromatic hydrocarbon radical. The aromatic hydrocarbon group may have a substituent, and specific examples include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring. , A group derived from a triphenylene ring, a fluoranthene ring, or the like can be suitably applied.
X c and X d represent a leaving group such as a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, or a CF 3 SO 3 — group. However, it is desirable that the leaving group Xc at this time is more excellent in leaving ability under the present reaction conditions than the leaving group Xd . When a specific combination is exemplified, it is preferable to use an iodine atom as Xc and a bromine atom as Xd , or use a bromine atom as Xc and a chlorine atom as Xd .

化合物eにおいて、Z及びXは、X−Z−XのZ及びXと同様である。 In the compound e, Z A and X d are the same as Z A and X d in the X c -Z A -X d.

中間体A’とX−Z−Xとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに中間体A’を、(X−Z−(Xの代わりにX−Z−Xを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、X−Z−Xの脱離基Xを基準として規定される。
The reaction of intermediate A ′ and X c —Z A —X d can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, <Reaction 1> except that intermediate A ′ is used instead of intermediate A, and X c —Z A —X d is used instead of (X C ) a —Z C — (X D ) b The reaction is carried out in the same manner as above. Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined leaving group X c of X c -Z A -X d as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物eを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, compound e can be obtained as a product.

<反応12>
反応12は、化合物eから中間体Aを合成する反応である。なお、中間体Aにおける連結基Zが直接結合である場合、<反応10>で得られる中間体A’を、そのまま中間体Aとして用いることができる。
<Reaction 12>
Reaction 12 is a reaction for synthesizing intermediate A from compound e. When the linking group ZA in the intermediate A is a direct bond, the intermediate A ′ obtained in <Reaction 10> can be used as the intermediate A as it is.

中間体Aにおいて、Zは、X−Z−XのZと同様である。
また、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基を表わす。
In Intermediate A, Z A is the same as Z A of X c -Z A -X d.
Further, X A represents boron residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residue, a leaving group such as a magnesium halide residue.

化合物eの反応は、<反応10>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、化合物dの代わりに化合物eを用いる他は<反応10>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、リチオ化剤、マグネシウムハライド、ジボラン、溶媒、触媒等の用いる量は、化合物eを基準として規定される。
The reaction of compound e can be carried out in the same manner as in <Reaction 10>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 10> except that compound e is used instead of compound d. Accordingly, the amount of lithiating agent, magnesium halide, diborane, solvent, catalyst, etc. used is defined based on compound e.

それ以外の条件(例えば、溶媒等の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応10>と同様である。
この反応の結果、生成物として中間体Aを得ることができる。
Other conditions (for example, type of solvent, etc .; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 10>.
As a result of this reaction, intermediate A can be obtained as a product.

<1−3−3.出発物質から中間体Bまでの合成経路>
下記の図は、化合物a(出発物質)から、中間体Bを得るための合成経路を表わしている。以下、各反応段階について詳説する。
<1-3-3. Synthesis route from starting material to intermediate B>
The figure below represents a synthetic route for obtaining intermediate B from compound a (starting material). Hereinafter, each reaction step will be described in detail.

<反応13>
反応13は、化合物aと、化合物nとを反応させて、化合物gを合成する反応である。
<Reaction 13>
Reaction 13 is a reaction for synthesizing compound g by reacting compound a with compound n.

化合物aは、<反応6>で用いたものと同様のものである。
化合物nにおいて、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基を表わす。
Compound a is the same as that used in <Reaction 6>.
In the compounds n, X y represents boron residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residue, a leaving group such as a magnesium halide residue.

化合物aと化合物nとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに化合物nを、(X−Z−(Xの代わりに化合物aを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、化合物aの脱離基Xを基準として規定される。
The reaction of compound a and compound n can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that compound n is used instead of intermediate A, and compound a is used instead of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined leaving group X a of the compound a as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、反応1と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物gを得ることができる。
Other conditions (for example, palladium catalyst, basic substance, type of solvent and amount using them; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in Reaction 1.
As a result of this reaction, compound g can be obtained as a product.

<反応14>
反応14は、化合物aと、化合物oとを反応させて、化合物hを合成する反応である。
<Reaction 14>
Reaction 14 is a reaction in which compound h is synthesized by reacting compound a with compound o.

化合物aは、<反応6>で用いたものと同様のものである。
化合物oにおいて、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基を表わす。
Compound a is the same as that used in <Reaction 6>.
In the compounds o, X z represents boron residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residue, a leaving group such as a magnesium halide residue.

化合物aと化合物oとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに化合物oを、(X−Z−(Xの代わりに化合物aを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、化合物aの脱離基Xを基準として規定される。
The reaction of compound a and compound o can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that compound o is used in place of intermediate A and compound a is used in place of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined leaving group X a of the compound a as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物hを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, compound h can be obtained as a product.

<反応15>
反応15は、化合物gから化合物iを合成する反応である。
<Reaction 15>
Reaction 15 is a reaction for synthesizing compound i from compound g.

化合物iにおいて、Xは、化合物aのXと同様である。 In the compounds i, X a is the same as X a of the compound a.

化合物gの反応は、<反応6>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、化合物aの代わりに化合物gを用いる他は<反応6>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、ハロゲン分子、ルイス酸触媒、N−ハロゲン化コハク酸、溶媒等の用いる量は、化合物gを基準として規定される。
The reaction of compound g can be carried out in the same manner as in <Reaction 6>.
Specifically, the reaction is performed in the same manner as in <Reaction 6> except that compound g is used instead of compound a. Accordingly, the amount of halogen molecule, Lewis acid catalyst, N-halogenated succinic acid, solvent and the like is defined based on compound g.

それ以外の条件(例えば、ハロゲン分子、ルイス酸触媒、溶媒等の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応6>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物iを得ることができる。
Other conditions (for example, types of halogen molecule, Lewis acid catalyst, solvent, etc .; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 6>.
As a result of this reaction, compound i can be obtained as a product.

<反応16>
反応16は、化合物hから化合物jを合成する反応である。
<Reaction 16>
Reaction 16 is a reaction for synthesizing compound j from compound h.

化合物jにおいて、Xは、化合物aのXと同様である。 In the compound j, X a is the same as X a of the compound a.

化合物hの反応は、<反応6>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、化合物aの代わりに化合物hを用いる他は<反応6>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、ハロゲン分子、ルイス酸触媒、N−ハロゲン化コハク酸、溶媒等の用いる量は、化合物hを基準として規定される。
The reaction of compound h can be carried out in the same manner as in <Reaction 6>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 6> except that compound h is used instead of compound a. Accordingly, the amount of halogen molecule, Lewis acid catalyst, N-halogenated succinic acid, solvent and the like is defined based on the compound h.

それ以外の条件(例えば、ハロゲン分子、ルイス酸触媒、溶媒等の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応6>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物jを得ることができる。
Other conditions (for example, types of halogen molecule, Lewis acid catalyst, solvent, etc .; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 6>.
As a result of this reaction, compound j can be obtained as a product.

<反応17>
反応17は、化合物bと、化合物oとを反応させて、化合物jを合成する反応である。
<Reaction 17>
Reaction 17 is a reaction in which compound j is synthesized by reacting compound b with compound o.

化合物bは、<反応6>に記載の化合物bと同様である。ただし、XとXとは、反応性が異なる脱離基であることが好ましい。その様な化合物bとしては、例えば、9−ブロモ−10−ヨードアントラセン等が挙げられる。
化合物oは、<反応14>で用いたものと同様のものである。
化合物jは、<反応16>に記載の化合物jと同様である。
Compound b is the same as compound b described in <Reaction 6>. However, Xa and Xb are preferably leaving groups having different reactivities. Examples of such a compound b include 9-bromo-10-iodoanthracene.
Compound o is the same as that used in <Reaction 14>.
Compound j is the same as compound j described in <Reaction 16>.

化合物bと化合物oとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに化合物oを、(X−Z−(Xの代わりに化合物bを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、X又はXのうち脱離能が高い方の脱離基(同じ場合にはX)を基準として規定される。
The reaction between compound b and compound o can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that compound o is used in place of intermediate A and compound b is used in place of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined with reference to the (X b, if the same) X a or X desorption ability higher leaving group of b The

また、化合物bのXとXとが、例えば9,10−ジブロモアントラセン等のように同じ反応性を有する場合、化合物oを用いる量は、化合物bの1当量に対して、通常0.1当量以上、また、通常1.5当量以下である。 Further, when the X a and X b compounds b have the same reactivity as such for example 9,10-dibromo-anthracene, the amount of a compound o, relative to 1 equivalent of the compound b, usually 0. 1 equivalent or more, and usually 1.5 equivalent or less.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物jを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, compound j can be obtained as a product.

なお、XよりもXの方が反応性が高い場合、化合物jはXの代わりにXを有することになる。XとXとは互いに同様な脱離基であり、化合物jが何れの脱離基を有する場合であっても、以降の反応において同様に取り扱うことができる。 In the case towards the X a than X b is a high reactivity, compound j will have a X b instead of X a. X a and X b are the same leaving groups as each other, and even when the compound j has any leaving group, it can be handled in the subsequent reaction in the same manner.

<反応18>
反応18は、化合物bと、化合物nとを反応させて、化合物iを合成する反応である。
<Reaction 18>
Reaction 18 is a reaction in which compound i is synthesized by reacting compound b with compound n.

化合物bは、<反応6>に記載の化合物bと同様である。ただし、XとXとは、反応性が異なる脱離基であることが好ましい。その様な化合物bとしては、例えば、9−ブロモ−10−ヨードアントラセン等が挙げられる。
化合物nは、<反応13>で用いたものと同様のものである。
化合物iは、<反応15>に記載の化合物iと同様である。
Compound b is the same as compound b described in <Reaction 6>. However, Xa and Xb are preferably leaving groups having different reactivities. Examples of such a compound b include 9-bromo-10-iodoanthracene.
Compound n is the same as that used in <Reaction 13>.
Compound i is the same as compound i described in <Reaction 15>.

化合物bと化合物nとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに化合物nを、(X−Z−(Xの代わりに化合物bを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、X又はXのうち脱離能が高い方の脱離基(同じ場合にはX)を基準として規定される。
The reaction between compound b and compound n can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that compound n is used in place of intermediate A and compound b is used in place of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined with reference to the (X b, if the same) X a or X desorption ability higher leaving group of b The

また、化合物bのXとXとが、例えば9,10−ジブロモアントラセン等のように同じ反応性を有する場合、化合物nを用いる量は、化合物bの1当量に対して、通常0.1当量以上、また、通常1.5当量以下である。 Further, when the X a and X b compounds b have the same reactivity as such for example 9,10-dibromo-anthracene, the amount of using the compounds n, relative to 1 equivalent of the compound b, usually 0. 1 equivalent or more, and usually 1.5 equivalent or less.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物iを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, compound i can be obtained as a product.

なお、XよりもXの方が反応性が高い場合、化合物iはXの代わりにXを有することになる。XとXとは互いに同様な脱離基であり、化合物iが何れの脱離基を有する場合であっても、以降の反応において同様に取り扱うことができる。 In the case towards the X a than X b is a high reactivity, compound i will have a X b instead of X a. X a and X b are the same leaving groups as each other, and even when the compound i has any leaving group, it can be handled similarly in the subsequent reactions.

<反応19>
反応19は、化合物jと、化合物nとを反応させて、化合物kを合成する反応である。
<Reaction 19>
Reaction 19 is a reaction for synthesizing compound k by reacting compound j with compound n.

化合物nは、<反応13>で用いたものと同様のものである。   Compound n is the same as that used in <Reaction 13>.

化合物jと化合物nとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに化合物nを、(X−Z−(Xの代わりに化合物jを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、Xを基準として規定される。
The reaction of compound j and compound n can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that compound n is used instead of intermediate A and compound j is used instead of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalysts, a basic substance, a solvent, etc. is defined with X a as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物kを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, compound k can be obtained as a product.

<反応20>
反応20は、化合物iと、化合物oとを反応させて、化合物kを合成する反応である。
<Reaction 20>
Reaction 20 is a reaction for synthesizing compound k by reacting compound i with compound o.

化合物oは、<反応14>で用いたものと同様のものである。
化合物kは、<反応19>に記載の化合物kと同様である。
Compound o is the same as that used in <Reaction 14>.
Compound k is the same as compound k described in <Reaction 19>.

化合物iと化合物oとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに化合物oを、(X−Z−(Xの代わりに化合物iを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、Xを基準として規定される。
The reaction between compound i and compound o can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that compound o is used in place of intermediate A and compound i is used in place of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalysts, a basic substance, a solvent, etc. is defined with X a as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物kを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, compound k can be obtained as a product.

<反応21>
反応21は、化合物kから化合物lを合成する反応である。
<Reaction 21>
Reaction 21 is a reaction for synthesizing compound 1 from compound k.

化合物lにおいて、Xは、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等の脱離基を表わす。
なお、化合物lを得る反応は<反応21>以外の方法でもよい。以下、順に説明する。
In the compound l, X v is chlorine, bromine, halogen atom such as iodine, CF 3 SO 3 - represents a leaving group such as a group.
The reaction for obtaining compound 1 may be a method other than <Reaction 21>. Hereinafter, it demonstrates in order.

(<反応21>について)
化合物kの反応としては、<反応6>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、化合物aの代わりに化合物kを用いる他は<反応6>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、ハロゲン分子、ルイス酸触媒、N−ハロゲン化コハク酸、溶媒等の用いる量は、化合物kを基準として規定される。
(About <Reaction 21>)
The reaction of compound k can be carried out in the same manner as in <Reaction 6>.
Specifically, the reaction is performed in the same manner as in <Reaction 6> except that compound k is used instead of compound a. Accordingly, the amount of halogen molecule, Lewis acid catalyst, N-halogenated succinic acid, solvent and the like is defined based on the compound k.

それ以外の条件(例えば、ハロゲン分子、ルイス酸触媒、溶媒等の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応6>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物lを得ることができる。
Other conditions (for example, types of halogen molecule, Lewis acid catalyst, solvent, etc .; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 6>.
As a result of this reaction, compound l can be obtained as a product.

(化合物lを得る他の方法について)
化合物kから化合物lを合成する上記以外の方法について説明する。
(Other methods for obtaining compound l)
A method other than the above for synthesizing compound l from compound k will be described.

まず、9,10−アントラキノンの臭素化(又は、ヨウ素化)を行い、1当量分の2−ブロモ−9,10−アントラキノン(又は、2−ヨード−9,10−アントラキノン)を合成する。   First, bromination (or iodination) of 9,10-anthraquinone is performed to synthesize one equivalent of 2-bromo-9,10-anthraquinone (or 2-iodo-9,10-anthraquinone).

次に、2当量のアリールリチウム(又は、アリールマグネシウムハライド等)を作用させてから、加水処理し、2−ブロモ−9,10−ジアリール−アントラセン−9,10−ジオール(又は、2−ヨード−9,10−ジアリール−アントラセン−9,10−ジオール)を合成する。   Next, 2 equivalents of aryllithium (or arylmagnesium halide or the like) is allowed to act, and then hydrotreated to give 2-bromo-9,10-diaryl-anthracene-9,10-diol (or 2-iodo-). 9,10-diaryl-anthracene-9,10-diol).

その後、水酸基の脱離を行うことで、2−ブロモ−9,10−ジアリールアントラセン(又は、2−ヨード−9,10−ジアリールアントラセン)を得ることも可能である。
水酸基の脱離方法としては、例えば、塩化錫と塩酸水溶液を作用させる方法、鉄、酢酸で処理後、炭酸水素ナトリウム水溶液を作用させる方法、NaHPO、NaI、酢酸を用いる方法等が挙げられる。
Thereafter, 2-bromo-9,10-diarylanthracene (or 2-iodo-9,10-diarylanthracene) can be obtained by removing the hydroxyl group.
Examples of the hydroxyl group elimination method include a method in which tin chloride and an aqueous hydrochloric acid solution are allowed to act, a method in which an aqueous sodium hydrogencarbonate solution is allowed to act after treatment with iron and acetic acid, and a method in which Na 2 HPO 4 , NaI, and acetic acid are used. It is done.

<反応22>
反応22は、化合物lから中間体B’を合成する反応である。なお、中間体Bにおける連結基Zが直接結合である場合、本反応で得られる中間体B’を、そのまま中間体Bとして用いることができる。
<Reaction 22>
Reaction 22 is a reaction for synthesizing intermediate B ′ from compound l. In addition, when the linking group ZB in the intermediate B is a direct bond, the intermediate B ′ obtained in this reaction can be used as the intermediate B as it is.

中間体B’において、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基を表わす。 In Intermediate B ', X W represents boron residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residue, a leaving group such as a magnesium halide residue.

化合物lの反応は、<反応10>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、化合物dの代わりに化合物lを用いる他は<反応10>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、リチオ化剤、マグネシウムハライド、ジボラン、溶媒、触媒等の用いる量は、化合物lを基準として規定される。
The reaction of compound l can be carried out in the same manner as in <Reaction 10>.
Specifically, the reaction is performed in the same manner as in <Reaction 10> except that compound l is used instead of compound d. Accordingly, the amount of lithiating agent, magnesium halide, diborane, solvent, catalyst, etc. used is defined based on compound l.

それ以外の条件(例えば、溶媒等の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応10>と同様である。
この反応の結果、生成物として中間体B’を得ることができる。
Other conditions (for example, type of solvent, etc .; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 10>.
As a result of this reaction, intermediate B ′ can be obtained as a product.

<反応23>
反応23は、中間体B’と、化合物pとを反応させて、化合物mを合成する反応である。
<Reaction 23>
Reaction 23 is a reaction for synthesizing compound m by reacting intermediate B ′ with compound p.

化合物pにおいて、Zは、2価の芳香族炭化水素基を表わす。
また、X、Xは、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等の脱離基を表わす。但し、このときの脱離基Xは、脱離基Xよりも、本反応条件下において脱離能に優れていることが望ましい。具体的な組合せを例示すると、Xとしてヨウ素原子をXとして臭素原子を用いたり、Xとして臭素原子をXとして塩素原子を用いたりすることが好適である。
In the compound p, Z B represents a divalent aromatic hydrocarbon group.
X e and X f represent a leaving group such as a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, or a CF 3 SO 3 — group. However, the leaving group X e at this time, than the leaving group X f, it is desirable to have excellent desorption ability in the present reaction conditions. To illustrate specific combinations, or using bromine atom and iodine atom as X f as X e, they are preferable to or using chlorine atom bromine atom as X f as X e.

化合物mにおいて、Z及びXは、化合物pのZ及びXと同様である。 In the compound m, the Z B and X f, is the same as Z B and X f of the compound p.

中間体B’と化合物pとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに中間体B’を、(X−Z−(Xの代わりに化合物pを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、化合物pの脱離基Xを基準として規定される。
The reaction of intermediate B ′ and compound p can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction was carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that intermediate B ′ was used instead of intermediate A, and compound p was used instead of (X C ) a -Z C- (X D ) b. Do. Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined a leaving group X e compound p as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として化合物mを得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, compound m can be obtained as a product.

<反応24>
反応24は、化合物mから中間体Bを合成する反応である。なお、中間体Bにおける連結基Zが直接結合である場合、<反応22>で得られる中間体B’を、そのまま中間体Bとして用いることができる。
<Reaction 24>
Reaction 24 is a reaction for synthesizing intermediate B from compound m. When the linking group Z B in the intermediate B is a direct bond, the intermediate B ′ obtained in <Reaction 22> can be used as the intermediate B as it is.

中間体Bにおいて、Zは、2価の芳香族炭化水素基を表わす。該芳香族炭化水素基としては、置換基を有していてもよく、具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環等の由来の基が好適に適用できる。
また、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基を表わす。
In the intermediate B, Z B represents a divalent aromatic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group may have a substituent, and specific examples include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring. , A group derived from a triphenylene ring, a fluoranthene ring, or the like can be suitably applied.
Further, X B represents boron residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residue, a leaving group such as a magnesium halide residue.

化合物mの反応は、<反応10>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、化合物dの代わりに化合物mを用いる他は<反応10>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、リチオ化剤、マグネシウムハライド、ジボラン、溶媒、触媒等の用いる量は、化合物mを基準として規定される。
The reaction of compound m can be carried out in the same manner as in <Reaction 10>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 10> except that compound m is used in place of compound d. Accordingly, the amount of lithiating agent, magnesium halide, diborane, solvent, catalyst, etc. used is defined based on compound m.

それ以外の条件(例えば、溶媒等の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応10>と同様である。
この反応の結果、生成物として中間体Bを得ることができる。
Other conditions (for example, type of solvent, etc .; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 10>.
As a result of this reaction, intermediate B can be obtained as a product.

<1−3−4.中間体Aから中間体E、中間体Bから中間体Fまでの合成経路>
下記の図は、中間体Aから中間体E、及び中間体Bから中間体Fを得るための合成経路を表わしている。以下、各反応段階について詳説する。
<1-3-4. Synthesis Route from Intermediate A to Intermediate E, Intermediate B to Intermediate F>
The following figure represents a synthetic route for obtaining intermediate E from intermediate A and intermediate F from intermediate B. Hereinafter, each reaction step will be described in detail.

<反応25>
反応25は、中間体Aと、化合物qとを反応させて、中間体E’を合成する反応である。なお、中間体Eにおける脱離基Xが、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等である場合、本反応で得られる中間体E’を、そのまま中間体Eとして用いることができる。
<Reaction 25>
Reaction 25 is a reaction for synthesizing intermediate E ′ by reacting intermediate A with compound q. In addition, when the leaving group XE in the intermediate E is a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, or a CF 3 SO 3 — group, the intermediate E ′ obtained in this reaction is used as the intermediate E as it is. Can be used.

中間体Aは、<反応12>に記載の中間体Aと同様である。
化合物qにおいて、Zは、芳香族炭化水素基を表わす。該芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよく、具体例としては、<1−1.アントラセン化合物の構造>で詳述したZと同様の例を好適に適用できる。
また、X、X’は、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等の脱離基を表わす。
Intermediate A is the same as Intermediate A described in <Reaction 12>.
In the compound q, Z E represents an aromatic hydrocarbon group. The aromatic hydrocarbon group may have a substituent, and specific examples include <1-1. Examples similar to Z described in detail in Structure of Anthracene Compound> can be suitably applied.
X g and X E ′ each represent a leaving group such as a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, or a CF 3 SO 3 — group.

中間体Aと化合物qとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、(X−Z−(Xの代わりに化合物qを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、化合物qの脱離基Xを基準として規定される。
The reaction of intermediate A and compound q can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 1> except that compound q is used in place of (X C ) a -Z C- (X D ) b . Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined a leaving group X g of compound q basis.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として中間体E’を得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, intermediate E ′ can be obtained as a product.

<反応26>
反応26は、中間体E’から中間体Eを合成する反応である。なお、中間体Eにおける脱離基Xが、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等である場合、<反応25>で得られる中間体E’を、そのまま中間体Eとして用いることができる。
<Reaction 26>
Reaction 26 is a reaction for synthesizing intermediate E from intermediate E ′. When the leaving group XE in the intermediate E is a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, a CF 3 SO 3 — group or the like, the intermediate E ′ obtained in <Reaction 25> is directly used as the intermediate. E can be used.

中間体Eにおいて、Zは、中間体E’のZと同様である。また、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基を表わす。 In Intermediate E, Z E is the same as Z E of the intermediate E '. Further, X E represents boron residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residue, a leaving group such as a magnesium halide residue.

中間体E’の反応は、<反応10>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、化合物dの代わりに中間体E’を用いる他は<反応10>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、リチオ化剤、マグネシウムハライド、ジボラン、溶媒、触媒等の用いる量は、中間体E’を基準として規定される。
The reaction of intermediate E ′ can be carried out in the same manner as in <Reaction 10>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 10> except that intermediate E ′ is used in place of compound d. Accordingly, the amount of lithiating agent, magnesium halide, diborane, solvent, catalyst and the like used is defined based on the intermediate E ′.

それ以外の条件(例えば、溶媒等の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応10>と同様である。
この反応の結果、生成物として中間体Eを得ることができる。
Other conditions (for example, type of solvent, etc .; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 10>.
As a result of this reaction, intermediate E can be obtained as a product.

<反応27>
反応27は、中間体Bと、化合物rとを反応させて、中間体F’を合成する反応である。なお、中間体Fにおける脱離基Xが、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等である場合、本反応で得られる中間体F’を、そのまま中間体Fとして用いることができる。
<Reaction 27>
Reaction 27 is a reaction in which intermediate B ′ is reacted with compound r to synthesize intermediate F ′. When the leaving group XF in the intermediate F is a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, a CF 3 SO 3 — group or the like, the intermediate F ′ obtained in this reaction is used as the intermediate F as it is. Can be used.

中間体Bは、<反応24>に記載の中間体Bと同様である。
化合物rにおいて、Zは、芳香族炭化水素基を表わす。また、X、X’は、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等の脱離基を表わす。
Intermediate B is the same as Intermediate B described in <Reaction 24>.
In the compound r, Z F represents an aromatic hydrocarbon group. X h and X F ′ represent a leaving group such as a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, or a CF 3 SO 3 — group.

中間体Bと化合物rとの反応は、<反応1>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、中間体Aの代わりに中間体Bを、(X−Z−(Xの代わりに化合物rを用いる他は<反応1>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、パラジウム錯体触媒、塩基性物質、溶媒等の用いる量は、化合物rの脱離基Xを基準として規定される。
The reaction of intermediate B and compound r can be carried out in the same manner as in <Reaction 1>.
Specifically, the reaction is performed in the same manner as in <Reaction 1> except that intermediate B is used instead of intermediate A, and compound r is used instead of (X C ) a -Z C- (X D ) b. . Along with it, the amount used palladium complex catalyst, a basic substance, a solvent, etc. is defined leaving group X h of compound r as a reference.

それ以外の条件(例えば、パラジウム触媒、塩基性物質、溶媒の種類及びそれらを用いる量;反応温度、反応時間等)は、<反応1>と同様である。
この反応の結果、生成物として中間体F’を得ることができる。
Other conditions (for example, the types of palladium catalyst, basic substance, solvent and the amount of them used; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 1>.
As a result of this reaction, intermediate F ′ can be obtained as a product.

<反応28>
反応28は、中間体F’から中間体Fを合成する反応である。なお、中間体Fにおける脱離基Xが、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子、CFSO−基等である場合、<反応27>で得られる中間体F’を、そのまま中間体Fとして用いることができる。
<Reaction 28>
Reaction 28 is a reaction for synthesizing intermediate F from intermediate F ′. When the leaving group XF in the intermediate F is a halogen atom such as chlorine, bromine or iodine, a CF 3 SO 3 — group or the like, the intermediate F ′ obtained in <Reaction 27> is directly used as the intermediate. It can be used as F.

中間体Fにおいて、Zは、中間体F’のZと同様である。また、Xは、ボロン酸残基、ボロン酸エステル残基、錫ハライド残基、亜鉛ハライド残基、マグネシウムハライド残基等の脱離基を表わす。 In Intermediate F, Z F is the same as Z F of the intermediate F '. Further, X F represents boron residue, boronic acid ester residue, tin halide residues, zinc halide residue, a leaving group such as a magnesium halide residue.

中間体F’の反応は、<反応10>と同様の方法で行なうことが出来る。
具体的には、化合物dの代わりに中間体F’を用いる他は<反応10>と同様にして反応を行なう。また、それに伴い、リチオ化剤、マグネシウムハライド、ジボラン、溶媒、触媒等の用いる量は、中間体F’を基準として規定される。
The reaction of intermediate F ′ can be carried out in the same manner as in <Reaction 10>.
Specifically, the reaction is carried out in the same manner as in <Reaction 10> except that intermediate F ′ is used in place of compound d. Accordingly, the amounts of lithiating agent, magnesium halide, diborane, solvent, catalyst and the like used are defined based on the intermediate F ′.

それ以外の条件(例えば、溶媒等の種類;反応温度、反応時間等)は、<反応10>と同様である。
この反応の結果、生成物として中間体Fを得ることができる。
Other conditions (for example, type of solvent, etc .; reaction temperature, reaction time, etc.) are the same as in <Reaction 10>.
As a result of this reaction, intermediate F can be obtained as a product.

<その他のアントラセン化合物の製造方法>
本発明に係るアントラセン化合物の製造方法は、上述した例に限定されず、本発明の効果を著しく損なわない限り、他の何れの公知の方法によって製造してもよい。また、アントラセン化合物の合成には、上述した例以外の、他の何れの公知の原材料を用いてもよい。
<Methods for producing other anthracene compounds>
The manufacturing method of the anthracene compound according to the present invention is not limited to the above-described example, and may be manufactured by any other known method as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. In addition, any other known raw material other than the examples described above may be used for the synthesis of the anthracene compound.

具体例としては、「Palladium in Heterocyclic Chemistry : A guide for the Synthetic Chemist」(第二版、2002、Jie Jack Li and Gordon W. Gribble、Pergamon社)、「遷移金属が拓く有機合成 その多彩な反応形式と最新の成果」(1997年、辻二郎、化学同人社)、「ボルハルト・ショアー現代有機化学 下」(2004年、K.P.C.Vollhardt、化学同人社))等に記載または引用されている、環同士の結合(カップリング)反応(例えば、ハロゲン化アリールとアリールボレートとのカップリング反応等)等を用いることもできる。   As a specific example, “Palladium in Heterocyclic Chemistry: A guide for the Synthetic Chemist” (2nd edition, 2002, Jie Jack Li and Gordon W. Gribble, Takumi Organic, “Takumi” And the latest achievements "(1997, Junjiro, Kagaku Doujinsha)," Under Borhard Shore Modern Organic Chemistry "(2004, K.P.C. In addition, a ring-to-ring coupling (coupling) reaction (for example, a coupling reaction between an aryl halide and an aryl borate) can be used.

<アントラセン化合物の精製方法>
合成して得られたアントラセン化合物の精製方法としては、本発明の効果を著しく損なわない限り、公知の何れの方法を用いることが出来る。
<Purification method of anthracene compound>
As a method for purifying the anthracene compound obtained by synthesis, any known method can be used as long as the effects of the present invention are not significantly impaired.

具体例としては、「分離精製技術ハンドブック」(1993年、(財)日本化学会編)、「化学変換法による微量成分および難精製物質の高度分離」(1988年、(株)アイ
ピー シー発行)、あるいは「実験化学講座(第4版)1」(1990年、(財)日本化学会編)の「分離と精製」の項に記載の方法等が挙げられる。
Specific examples include "Separation and Purification Technology Handbook" (1993, edited by The Chemical Society of Japan), "Advanced separation of trace components and difficult-to-purify substances by chemical conversion method" (1988, published by ICC Corporation). Or the method described in the section “Separation and purification” of “Experimental Chemistry Course (4th edition) 1” (1990, edited by The Chemical Society of Japan).

さらに具体的には、抽出(懸濁洗浄、煮沸洗浄、超音波洗浄、酸塩基洗浄を含む)、吸着、吸蔵、融解、晶析(溶媒からの再結晶、再沈殿を含む)、蒸留(常圧蒸留、減圧蒸留)、蒸発、昇華(常圧昇華、減圧昇華)、イオン交換、透析、濾過、限外濾過、逆浸透、圧浸透、帯域溶解、電気泳動、遠心分離、浮上分離、沈降分離、磁気分離、各種クロマトグラフィー(形状分類:カラム、ペーパー、薄層、キャピラリー。移動相分類:ガス、液体、ミセル、超臨界流体。分離機構:吸着、分配、イオン交換、分子ふるい、キレート、ゲル濾過、排除、アフィニティー)などが挙げられる。   More specifically, extraction (including suspension washing, boiling washing, ultrasonic washing, acid-base washing), adsorption, occlusion, melting, crystallization (including recrystallization from solvent, reprecipitation), distillation (ordinary) Pressure distillation, vacuum distillation), evaporation, sublimation (atmospheric pressure sublimation, vacuum sublimation), ion exchange, dialysis, filtration, ultrafiltration, reverse osmosis, pressure osmosis, zone dissolution, electrophoresis, centrifugation, flotation separation, sedimentation separation , Magnetic separation, various chromatography (shape classification: column, paper, thin layer, capillary. Mobile phase classification: gas, liquid, micelle, supercritical fluid. Separation mechanism: adsorption, distribution, ion exchange, molecular sieve, chelate, gel Filtration, exclusion, affinity) and the like.

生成物の確認や純度の分析方法としては、ガスクロマトグラフ(GC)、高速液体クロマトグラフ(HPLC)、高速アミノ酸分析計(AAA)、キャピラリー電気泳動測定(CE)、サイズ排除クロマトグラフ(SEC)、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)、交差分別クロマトグラフ(CFC)質量分析(MS、LC/MS、GC/MS、MS/MS)、核磁気共鳴装置(NMR(H−NMR、13C−NMR))、フーリエ変換赤外分光高度計(FT−IR)、紫外可視近赤外分光高度計(UV.VIS,NIR)、電子スピン共鳴装置(ESR)、透過型電子顕微鏡(TEM−EDX)電子線マイクロアナライザー(EPMA)、金属元素分析(イオンクロマトグラフ、誘導結合プラズマ−発光分光(ICP−AES)原子吸光分析(AAS)蛍光X線分析装置(XRF))、非金属元素分析、微量成分分析(ICP−MS、GF−AAS、GD−MS)等を必要に応じ、適用可能である。 The product confirmation and purity analysis methods include gas chromatograph (GC), high performance liquid chromatograph (HPLC), high speed amino acid analyzer (AAA), capillary electrophoresis measurement (CE), size exclusion chromatograph (SEC), Gel permeation chromatograph (GPC), cross-fractionation chromatograph (CFC) mass spectrometry (MS, LC / MS, GC / MS, MS / MS), nuclear magnetic resonance apparatus (NMR ( 1 H-NMR, 13 C-NMR) ), Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR), ultraviolet visible near infrared spectrophotometer (UV.VIS, NIR), electron spin resonance apparatus (ESR), transmission electron microscope (TEM-EDX), electron beam microanalyzer (EPMA), metal element analysis (ion chromatograph, inductively coupled plasma-emission spectroscopy (ICP-AES) atomic absorption Analysis (AAS) X-ray fluorescence analyzer (XRF)), non-metallic element analysis, trace component analysis (ICP-MS, GF-AAS, GD-MS) and the like can be applied as necessary.

<1−4.アントラセン化合物の好ましい例>
以下、本発明のアントラセン化合物の好ましい例について例示する。以下は例示であって、本発明のアントラセン化合物は、式(I)を満たしていれば制限されない。
<1-4. Preferred examples of anthracene compounds>
Hereinafter, preferred examples of the anthracene compound of the present invention will be illustrated. The following is an example, and the anthracene compound of the present invention is not limited as long as it satisfies the formula (I).

<1−5.アントラセン化合物の用途>
本発明のアントラセン化合物は、高耐熱性、有機溶剤に対する優れた溶解性、あるいは高い電荷輸送性を有するため、電荷輸送性材料あるいは発光材料として、電子写真感光体、有機電界発光素子、光電変換素子、有機太陽電池、有機整流素子等に好適に使用できる。
また、高い一重項励起準位、優れた蛍光量子収率、優れた電気的耐久性、あるいは優れた非晶質性を有することから、本発明のアントラセン化合物からなる電荷輸送材料を用いることにより、耐熱性に優れ、長期間安定に駆動(発光)する有機電界発光素子が得られる。そのため、本発明のアントラセン化合物および電荷輸送材料は有機電界発光素子材料として、とりわけ好適である。
<1-5. Applications of anthracene compounds>
Since the anthracene compound of the present invention has high heat resistance, excellent solubility in an organic solvent, or high charge transportability, an electrophotographic photoreceptor, an organic electroluminescent element, a photoelectric conversion element can be used as a charge transporting material or a light emitting material. It can be suitably used for organic solar cells, organic rectifying elements and the like.
In addition, since it has a high singlet excitation level, an excellent fluorescence quantum yield, an excellent electrical durability, or an excellent amorphous property, by using a charge transport material comprising the anthracene compound of the present invention, An organic electroluminescent element that has excellent heat resistance and can be stably driven (emitted) for a long period of time can be obtained. Therefore, the anthracene compound and the charge transport material of the present invention are particularly suitable as an organic electroluminescent element material.

[2.湿式成膜用電荷輸送材料の物性]
湿式成膜用電荷輸送材料は、ガラス転移点が120℃以上であり、且つ、トルエンに対する溶解度が1重量%以上であることが、湿式成膜法を利用した有機電界発光素子の用途の上で好ましい。
以下、本発明の湿式成膜用電荷輸送材料のガラス転移点及び溶媒に対する溶解度について詳述する。
[2. Physical properties of charge transport materials for wet film formation]
The charge transport material for wet film formation has a glass transition point of 120 ° C. or higher and a solubility in toluene of 1% by weight or more in view of the use of the organic electroluminescence device utilizing the wet film formation method. preferable.
Hereinafter, the glass transition point and the solubility in a solvent of the charge transport material for wet film formation of the present invention will be described in detail.

(ガラス転移点)
湿式成膜用電荷輸送材料のガラス転移点は、通常120℃以上、好ましくは125℃以上、さらに好ましくは130℃以上、また、通常350℃以下、好ましくは300℃以下、さらに好ましくは250℃以下である。ガラス転移点がこの範囲を下回ると、湿式成膜用電荷輸送材料を用いて作成した薄膜が、加熱処理あるいは通電などによって、結晶化を起こす可能性がある。また、ガラス転移点がこの範囲を上回ると、溶剤に対する溶解性が低下する傾向がある。
なお、ガラス転移点の測定は、<1−2.アントラセン化合物の物性>で説明した方法と同様にして測定できる。
(Glass transition point)
The glass transition point of the charge transport material for wet film formation is usually 120 ° C. or higher, preferably 125 ° C. or higher, more preferably 130 ° C. or higher, and usually 350 ° C. or lower, preferably 300 ° C. or lower, more preferably 250 ° C. or lower. It is. When the glass transition point is below this range, the thin film prepared using the charge transport material for wet film formation may be crystallized by heat treatment or energization. Moreover, when a glass transition point exceeds this range, there exists a tendency for the solubility with respect to a solvent to fall.
In addition, the measurement of a glass transition point is <1-2. It can be measured in the same manner as the method described in “Physical Properties of Anthracene Compound>.

(溶媒への溶解度)
湿式成膜用電荷輸送材料をトルエンに溶解する場合、その溶解度は、好ましくは1重量%以上、より好ましくは1.5重量%以上、特に好ましくは2重量%以上である。溶解度がこの範囲を下回ると、湿式成膜した際に形成される薄膜の膜質が低下し、不均一になる傾向がある。また、各種溶剤の選定が制限される可能性がある。
なお、溶媒への溶解度の測定は、<1−2.アントラセン化合物の物性>で説明した方法と同様にして測定できる。
(Solubility in solvent)
When the charge transport material for wet film formation is dissolved in toluene, the solubility is preferably 1% by weight or more, more preferably 1.5% by weight or more, and particularly preferably 2% by weight or more. If the solubility is below this range, the film quality of the thin film formed when wet film formation is reduced tends to be non-uniform. In addition, the selection of various solvents may be limited.
In addition, the measurement of the solubility in a solvent is <1-2. It can be measured in the same manner as the method described in “Physical Properties of Anthracene Compound>.

[3.湿式成膜用電荷輸送材料組成物]
本発明はまた、上記式(I)で表わされるアントラセン化合物を含有する湿式成膜用電荷輸送材料組成物に関する。
ここで、湿式成膜用電荷輸送材料組成物とは、湿式成膜用電荷輸送材料と、湿式成膜用電荷輸送材料以外の化合物や溶媒との混合物をいう。本発明のアントラセン化合物以外の化合物としては、例えば、電荷輸送性化合物を含有することが好ましい。
[3. Charge transport material composition for wet film formation]
The present invention also relates to a charge transport material composition for wet film formation containing an anthracene compound represented by the above formula (I).
Here, the charge transport material composition for wet film formation refers to a mixture of a charge transport material for wet film formation and a compound or solvent other than the charge transport material for wet film formation. As a compound other than the anthracene compound of the present invention, for example, a charge transporting compound is preferably contained.

<電荷輸送性化合物>
電荷輸送性化合物としては、下記式(II)で表わされる化合物が好ましい。
(式(II)中、Ar31は、置換基を有していてもよい炭素数6以上30以下の芳香族炭化水素基を表わす。また、Ar32およびAr33は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。但し、Ar32およびAr33の少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。Ar31が結合するアントラセン環は、更に置換基を有していてもよい。)
<Charge transporting compound>
As the charge transporting compound, a compound represented by the following formula (II) is preferable.
(In formula (II), Ar 31 represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms. Ar 32 and Ar 33 are each independently a hydrogen atom. or it represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. However, .Ar 31 at least one is an optionally substituted aromatic hydrocarbon group Ar 32 and Ar 33 are (The anthracene ring to be bonded may further have a substituent.)

(Ar31について)
式(II)中、Ar31は、置換基を有していてもよい炭素数6以上30以下の芳香族炭化水素基を表わす。
該芳香族炭化水素基としては、<1−1.アントラセン化合物の構造>で説明した、式(I)の化合物のArとして例示した置換基が挙げられる。その中でも好ましくは、ベンゼン環、ナフタレン環、またはこれらが複数個連結されて形成された基(例えば、ビフェニル基、ターフェニル基等)が挙げられる。
(About Ar 31 )
In the formula (II), Ar 31 represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include <1-1. Described in the structure of the anthracene compounds>, it includes the substituents exemplified as Ar 1 in compounds of formula (I). Among them, a benzene ring, a naphthalene ring, or a group formed by connecting a plurality of these (for example, a biphenyl group, a terphenyl group, etc.) is preferable.

芳香族炭化水素基が有していてもよい置換基としては、上記置換基群Qに記載の置換基が挙げられる。これらの置換基は、芳香族炭化水素基1つあたり、1種の置換基が単独で置換していてもよいし、2種以上の置換基が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。   Examples of the substituent that the aromatic hydrocarbon group may have include the substituents described in the above substituent group Q. As for these substituents, one type of substituent may be substituted independently per aromatic hydrocarbon group, or two or more types of substituents may be substituted in any combination and ratio. .

(Ar32およびAr33について)
式(II)中、Ar32およびAr33は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。但し、Ar32およびAr33の少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
芳香族炭化水素基の好ましい種類などは、Ar31と同様である。
(About Ar 32 and Ar 33 )
In the formula (II), Ar 32 and Ar 33 each independently represent a hydrogen atom or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. However, at least one of Ar 32 and Ar 33 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
Preferred types of aromatic hydrocarbon groups are the same as those for Ar 31 .

(アントラセン環が有する、更なる置換基)
Ar31が結合するアントラセン環は、更に置換基を有していてもよい。該置換基としては、上記置換基群Qに記載の基が挙げられる。
(Additional substituent of anthracene ring)
The anthracene ring to which Ar 31 is bonded may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups described in the substituent group Q.

置換基群Qの中でも、好ましくは、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基が好ましい。特にベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオランテン環、あるいは、これら置換基から任意の組合せで複数(通常2以上、また、通常8以下、好ましくは4以下)連なった置換基が好ましい。   Among the substituent group Q, an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent is preferable. In particular, a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, perylene ring, tetracene ring, pyrene ring, benzpyrene ring, chrysene ring, triphenylene ring, fluoranthene ring, or any combination of these substituents (usually 2 or more, In addition, a continuous substituent is usually 8 or less, preferably 4 or less.

Ar31が結合するアントラセン環は、1種の置換基が単独で置換していてもよいし、2種以上の置換基が任意の組み合わせ及び比率で置換していてもよい。 In the anthracene ring to which Ar 31 is bonded, one type of substituent may be substituted alone, or two or more types of substituents may be substituted in any combination and ratio.

上記の置換基の好ましい置換位置は、2,3,6,7位が好ましい。分子の平面性を著しく損なうことに伴う、電気的耐久性の低下を避けるためである。   The preferred substitution positions of the above substituents are preferably 2, 3, 6, and 7 positions. This is in order to avoid a decrease in electrical durability that accompanies a significant loss of molecular planarity.

(分子量)
式(II)で表わされる化合物の分子量は、好ましくは300以上、更に好ましくは500以上、特に好ましくは600以上、また、好ましくは3000以下、より好ましくは2000以下、特に好ましくは1500以下である。分子量がこの範囲を下回ると、湿式成膜時に、結晶化を起こしやすくなったり、加熱処理時、気化してしまったり、耐熱性が低下したりする可能性がある。また、この範囲を上回ると、有機溶剤に対する溶解性が低下したり、不純物の除去が困難になる傾向がある。
(Molecular weight)
The molecular weight of the compound represented by the formula (II) is preferably 300 or more, more preferably 500 or more, particularly preferably 600 or more, preferably 3000 or less, more preferably 2000 or less, particularly preferably 1500 or less. If the molecular weight is less than this range, crystallization is likely to occur during wet film formation, vaporization may occur during heat treatment, and heat resistance may be reduced. On the other hand, if it exceeds this range, the solubility in organic solvents tends to be reduced, and the removal of impurities tends to be difficult.

(結晶化温度)
式(II)で表わされる化合物の結晶化温度は、200℃以上が好ましく、250℃以上が更に好ましく、観測されないことが特に好ましい。
式(II)で表わされる化合物は、湿式成膜の際、あるいはその後の加熱処理の際に、結晶化を起こさないことが特に好ましいためである。
(Crystallization temperature)
The crystallization temperature of the compound represented by the formula (II) is preferably 200 ° C. or higher, more preferably 250 ° C. or higher, and particularly preferably not observed.
This is because it is particularly preferable that the compound represented by the formula (II) does not cause crystallization during wet film formation or subsequent heat treatment.

(気化温度)
式(II)で表わされる化合物の気化温度は、0.001Pa条件下において、500℃以下が好ましく、450℃以下が更に好ましい。高真空下における昇華精製が可能であると、化合物の高純度化を促進することができるためである。
(Vaporization temperature)
The vaporization temperature of the compound represented by the formula (II) is preferably 500 ° C. or less, more preferably 450 ° C. or less under the condition of 0.001 Pa. This is because sublimation purification under high vacuum can promote high purity of the compound.

(混合割合)
湿式成膜用電荷輸送材料組成物において、本発明のアントラセン化合物と式(II)で表わされる電荷輸送性化合物とを混合する場合、その混合割合に制限はない。
ただし、湿式成膜用電荷輸送材料組成物を100重量部としたときに、本発明のアントラセン化合物を通常10重量部以上、好ましくは20重量部以上、また、通常90重量部以下、好ましくは80重量部以下と、式(II)で表わされる電荷輸送性化合物を通常10重量部以上、好ましくは20重量部以上、また、通常90重量部以下、好ましくは80重量部以下を含有することが望ましい。
(Mixing ratio)
In the charge transport material composition for wet film formation, when the anthracene compound of the present invention and the charge transport compound represented by the formula (II) are mixed, the mixing ratio is not limited.
However, when the charge transport material composition for wet film formation is 100 parts by weight, the anthracene compound of the present invention is usually 10 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight or more, and usually 90 parts by weight or less, preferably 80 parts by weight. It is desirable to contain 10 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight or more, and usually 90 parts by weight or less, preferably 80 parts by weight or less of the charge transporting compound represented by the formula (II). .

<発光材料>
湿式成膜用電荷輸送材料組成物は、さらに発光材料を含有することが好ましい。
ここで、発光材料とは、不活性ガス雰囲気下、室温で、希薄溶液中における、蛍光量子収率が30%以上である材料であって、希薄溶液中における蛍光スペクトルとの対比から、それを用いて作製された有機電界発光素子に通電した際に得られるELスペクトルの一部または全部が、該材料の発光に帰属される材料、と定義される。
<Light emitting material>
The charge transport material composition for wet film formation preferably further contains a light emitting material.
Here, the light emitting material is a material having a fluorescence quantum yield of 30% or more in a dilute solution at room temperature in an inert gas atmosphere, and it is determined based on the comparison with the fluorescence spectrum in the dilute solution. A part or all of an EL spectrum obtained when an organic electroluminescent element manufactured by using an electric current is energized is defined as a material attributed to light emission of the material.

発光材料としては、任意の公知の材料を適用可能である。例えば、蛍光発光材料であってもよく、燐光発光材料であってもよいが、内部量子効率の観点から、好ましくは燐光発光材料である。また、青色は蛍光発光材料を用い、緑色や赤色は燐光発光材料を用いるなど、組み合わせて用いてもよい。
なお、溶剤への溶解性を向上させる目的で、発光材料の分子の対称性や剛性を低下させたり、あるいはアルキル基などの親油性置換基を導入したりすることが好ましい。
Any known material can be applied as the light emitting material. For example, a fluorescent material or a phosphorescent material may be used, but a phosphorescent material is preferable from the viewpoint of internal quantum efficiency. Alternatively, blue may be used in combination, such as using a fluorescent material, and green and red using a phosphorescent material.
In order to improve the solubility in a solvent, it is preferable to reduce the symmetry and rigidity of the molecules of the luminescent material or introduce a lipophilic substituent such as an alkyl group.

以下、発光材料のうち蛍光色素の例を挙げるが、蛍光色素は以下の例示物に限定されるものではない。
青色発光を与える蛍光色素(青色蛍光色素)としては、例えば、ナフタレン、クリセン、ペリレン、ピレン、アントラセン、クマリン、p−ビス(2−フェニルエテニル)ベンゼンおよびそれらの誘導体等が挙げられる。
緑色発光を与える蛍光色素(緑色蛍光色素)としては、例えば、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、Al(CNO)などのアルミニウム錯体等が挙げられる。
黄色発光を与える蛍光色素(黄色蛍光色素)としては、例えば、ルブレン、ペリミドン誘導体等が挙げられる。
赤色発光を与える蛍光色素(赤色蛍光色素)としては、例えば、DCM(4−(dicyanomethylene)−2−methyl−6−(p−dimethylaminostyryl)−4H−pyran)系化合物、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサンテン等が挙げられる。
Hereinafter, although the example of a fluorescent dye is mentioned among light emitting materials, a fluorescent dye is not limited to the following illustrations.
Examples of fluorescent dyes that give blue light emission (blue fluorescent dyes) include naphthalene, chrysene, perylene, pyrene, anthracene, coumarin, p-bis (2-phenylethenyl) benzene, and derivatives thereof.
Examples of fluorescent dyes that give green light emission (green fluorescent dyes) include quinacridone derivatives, coumarin derivatives, and aluminum complexes such as Al (C 9 H 6 NO) 3 .
Examples of fluorescent dyes that give yellow light (yellow fluorescent dyes) include rubrene and perimidone derivatives.
Examples of fluorescent dyes that give red luminescence (red fluorescent dyes) include DCM (4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran) compounds, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzoates. Examples thereof include thioxanthene derivatives and azabenzothioxanthene.

燐光発光材料としては、例えば、長周期型周期表(以下、特に断り書きの無い限り「周期表」という場合には、長周期型周期表を指すものとする。)第7〜11族から選ばれる金属を含む有機金属錯体が挙げられる。
周期表第7〜11族から選ばれる金属として、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスミウム、イリジウム、白金、金等が挙げられる。
錯体の配位子としては、(ヘテロ)アリールピリジン配位子、(ヘテロ)アリールピラゾール配位子などの(ヘテロ)アリール基とピリジン、ピラゾール、フェナントロリンなどが連結した配位子が好ましく、特にフェニルピリジン配位子、フェニルピラゾール配位子が好ましい。ここで、(ヘテロ)アリールとは、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
As the phosphorescent material, for example, a long-period type periodic table (hereinafter referred to as a long-period type periodic table when referred to as “periodic table” unless otherwise specified) is selected from the seventh to eleventh groups. And an organometallic complex containing a metal.
Preferred examples of the metal selected from Groups 7 to 11 of the periodic table include ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osmium, iridium, platinum, and gold.
As the ligand of the complex, a ligand in which a (hetero) aryl group such as a (hetero) arylpyridine ligand or a (hetero) arylpyrazole ligand and a pyridine, pyrazole, phenanthroline, or the like is connected is preferable. A pyridine ligand and a phenylpyrazole ligand are preferable. Here, (hetero) aryl represents an aryl group or a heteroaryl group.

燐光発光材料として、具体的には、トリス(2−フェニルピリジン)イリジウム、トリス(2−フェニルピリジン)ルテニウム、トリス(2−フェニルピリジン)パラジウム、ビス(2−フェニルピリジン)白金、トリス(2−フェニルピリジン)オスミウム、トリス(2−フェニルピリジン)レニウム、オクタエチル白金ポルフィリン、オクタフェニル白金ポルフィリン、オクタエチルパラジウムポルフィリン、オクタフェニルパラジウムポルフィリン等が挙げられる。   Specific examples of the phosphorescent material include tris (2-phenylpyridine) iridium, tris (2-phenylpyridine) ruthenium, tris (2-phenylpyridine) palladium, bis (2-phenylpyridine) platinum, tris (2- Phenylpyridine) osmium, tris (2-phenylpyridine) rhenium, octaethyl platinum porphyrin, octaphenyl platinum porphyrin, octaethyl palladium porphyrin, octaphenyl palladium porphyrin, and the like.

発光材料として用いる化合物の分子量は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常10000以下、好ましくは5000以下、より好ましくは4000以下、更に好ましくは3000以下、また、通常100以上、好ましくは200以上、より好ましくは300以上、更に好ましくは400以上の範囲である。発光材料の分子量が小さ過ぎると、耐熱性が著しく低下したり、ガス発生の原因となったり、膜を形成した際の膜質の低下を招いたり、あるいはマイグレーションなどによる有機電界発光素子のモルフォロジー変化を来したりする場合がある。一方、発光材料の分子量が大き過ぎると、有機化合物の精製が困難となってしまったり、溶剤に溶解させる際に時間を要したりする傾向がある。   The molecular weight of the compound used as the light emitting material is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 10,000 or less, preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less, still more preferably 3000 or less, and usually 100 or more, Preferably it is 200 or more, More preferably, it is 300 or more, More preferably, it is the range of 400 or more. If the molecular weight of the luminescent material is too small, the heat resistance will be significantly reduced, gas will be generated, the film quality will deteriorate when the film is formed, or the morphology of the organic electroluminescent element will change due to migration, etc. Sometimes come. On the other hand, if the molecular weight of the luminescent material is too large, it tends to be difficult to purify the organic compound, or it may take time to dissolve in the solvent.

なお、上述した発光材料は、いずれか1種のみを用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせおよび比率で併用してもよい。   In addition, only 1 type may be used for the luminescent material mentioned above, and 2 or more types may be used together by arbitrary combinations and a ratio.

発光層5における発光材料の割合は、本発明の効果を著しく損なわない限り任意であるが、通常0.05重量%以上、通常35重量%以下である。発光材料が少なすぎると発光ムラを生じる可能性があり、多すぎると発光効率が低下する可能性がある。なお、2種以上の発光材料を併用する場合には、これらの合計の含有量が上記範囲に含まれるようにする。   The ratio of the light emitting material in the light emitting layer 5 is arbitrary as long as the effect of the present invention is not significantly impaired, but is usually 0.05 wt% or more and usually 35 wt% or less. If the amount of the light emitting material is too small, uneven light emission may occur. If the amount is too large, the light emission efficiency may be reduced. In addition, when using together 2 or more types of luminescent material, it is made for the total content of these to be contained in the said range.

また、発光材料のその他の具体例としては、アリールアミノ基が置換された縮合芳香族環化合物および/又はアリールアミノ基が置換されたスチリル誘導体、後述する式(III)で表わされる縮合芳香族環化合物等があげられる。   Other specific examples of the light-emitting material include a condensed aromatic ring compound substituted with an arylamino group and / or a styryl derivative substituted with an arylamino group, and a condensed aromatic ring represented by the formula (III) described later. Compounds and the like.

アリールアミノ基が置換された縮合芳香族環化合物としては、国際公開第2006/070712号パンフレットにおいて式(6)〜式(11)で表わされる化合物が好ましい。なお、式(11)における核炭素数が5〜40のアリール基として、国際公開第2006/070712号パンフレットに記載されている例示の他に、ベンゾフェナンスリルも好ましい。   As the condensed aromatic ring compound substituted with an arylamino group, compounds represented by the formulas (6) to (11) in International Publication No. 2006/070712 are preferable. In addition, as an aryl group having 5 to 40 nuclear carbon atoms in the formula (11), benzophenanthryl is also preferable in addition to the examples described in International Publication No. 2006/070712 pamphlet.

発光材料として、下記式(III)で表わされる縮合芳香族環化合物も好ましい。

式(III)中、Ar10は置換もしくは無置換の核炭素数5以上40以下のアリール基である。該アリール基は、好ましくは3以上、更に好ましくは4以上、また、好ましくは7以下、さらに好ましくは6以下の芳香環核が縮合した構造を有する。
As the luminescent material, a condensed aromatic ring compound represented by the following formula (III) is also preferable.

In formula (III), Ar 10 is a substituted or unsubstituted aryl group having 5 to 40 nuclear carbon atoms. The aryl group preferably has a structure in which 3 or more, more preferably 4 or more, and preferably 7 or less, more preferably 6 or less aromatic ring nuclei are condensed.

式(III)中、Ar10としては、クリセニル基、ナフタセニル基、アントラニル基、フェナンスリル基、ピレニル基、コロニル基、フルオランテニル基、ベンゾフェナンスリル基、アセナフトフルオランテニル基、フルオレニル基などがあげられる。 In the formula (III), Ar 10 includes a chrycenyl group, a naphthacenyl group, an anthranyl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, a coronyl group, a fluoranthenyl group, a benzophenanthryl group, an acenaphthofluoranthenyl group, a fluorenyl group, and the like. Can be given.

式(III)中、Rは水素原子、脂環炭化水素基、又は国際公開第2006/070712号パンフレットにおける式(11)のアリール基の置換基として例示された基から選択される。   In the formula (III), R is selected from a hydrogen atom, an alicyclic hydrocarbon group, or a group exemplified as a substituent for the aryl group of the formula (11) in WO 2006/070712 pamphlet.

脂環炭化水素基としては、炭素数5以上炭素数8以下の脂環式炭化水素基が好ましく、具体例としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基等が挙げられる。
また、国際公開第2006/070712号パンフレットにおける式(11)のアリール基の置換基として例示された基の中でも、アルキル基が好ましく、特に3級炭素原子または4級炭素原子を基内に有するアルキル基が好ましく、中でも炭素数4以上炭素数15以下のアルキル基が好ましい。
The alicyclic hydrocarbon group is preferably an alicyclic hydrocarbon group having 5 or more and 8 or less carbon atoms, and specific examples thereof include a cyclohexyl group and a cyclopentyl group.
Of the groups exemplified as the substituent of the aryl group of the formula (11) in the pamphlet of International Publication No. 2006/070712, an alkyl group is preferable, and an alkyl having a tertiary carbon atom or a quaternary carbon atom is particularly preferable. Group is preferable, and an alkyl group having 4 to 15 carbon atoms is particularly preferable.

その他、青色用の発光材料として以下の化合物を使用することもできる。
In addition, the following compounds can also be used as a blue light-emitting material.

なお、青色用の発光材料としては好ましい化合物としては、中心骨格に好ましくは3以上、更に好ましくは4以上、また、好ましくは7以下、更に好ましくは6以下の芳香環核が縮合したアリール基である。その中心骨格としては、クリセニル基、ナフタセニル基、アントラニル基、フェナンスリル基、ピレニル基、コロニル基、フルオランテニル基、ベンゾフェナンスリル基、アセナフトフルオランテニル基、フルオレニル基等が挙げられる。   A preferable compound as a light emitting material for blue is an aryl group in which a central skeleton is preferably 3 or more, more preferably 4 or more, and preferably 7 or less, more preferably 6 or less, condensed with an aromatic ring nucleus. is there. Examples of the central skeleton include a chrycenyl group, a naphthacenyl group, an anthranyl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, a coronyl group, a fluoranthenyl group, a benzophenanthryl group, an acenaphthofluoranthenyl group, and a fluorenyl group.

湿式成膜用電荷輸送材料組成物の発光材料は、1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
また、湿式成膜用電荷輸送材料組成物に対する発光材料は、該組成物を100重量部とすると、通常1重量部以上、また、通常50重量部以下、好ましくは30重量部以下である。この範囲を上回ると、発光効率の低下、駆動寿命の低下、発光スペクトルのブロード化等が生じる可能性がある。また、この範囲を下回ると、発光寿命の低下、駆動寿命の低下、駆動電圧の上昇が生じる可能性がある。
As the light-emitting material of the charge transport material composition for wet film formation, one type may be used alone, or two or more types may be used in any combination and ratio.
The light emitting material for the charge transport material composition for wet film formation is usually 1 part by weight or more, usually 50 parts by weight or less, preferably 30 parts by weight or less, assuming that the composition is 100 parts by weight. If it exceeds this range, there is a possibility that the light emission efficiency, the drive life, the emission spectrum becomes broad, and the like. On the other hand, if it falls below this range, there is a possibility that the light emission life, drive life, and drive voltage increase.

<溶剤>
湿式成膜用電荷輸送材料組成物は、さらに溶剤を含有することが好ましい。
ここで溶剤とは、湿式成膜により本発明のアントラセン化合物を含む層を形成するために用いる、揮発性を有する液体成分である。
<Solvent>
The charge transport material composition for wet film formation preferably further contains a solvent.
Here, the solvent is a volatile liquid component used for forming a layer containing the anthracene compound of the present invention by wet film formation.

溶剤は、溶質が良好に溶解する溶剤であれば特に限定されないが、以下の例が好ましい。
例えば、n−デカン、シクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、デカリン、ビシクロヘキサン等のアルカン類;トルエン、キシレン、メチシレン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン等の芳香族炭化水素類;クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素類;1,2−ジメトキシベンゼン、1,3−ジメトキシベンゼン、アニソール、フェネトール、2−メトキシトルエン、3−メトキシトルエン、4−メトキシトルエン、2,3−ジメチルアニソール、2,4−ジメチルアニソール、ジフェニルエーテル等の芳香族エーテル類;酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸n−ブチル等の芳香族エステル類、シクロヘキサノン、シクロオクタノン、フェンコン等の脂環族ケトン類;シクロヘキサノール、シクロオクタノール等の脂環族アルコール類;メチルエチルケトン、ジブチルケトン等の脂肪族ケトン類;ブタノール、ヘキサノール等の脂肪族アルコール類;エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテルアセタート(PGMEA)等の脂肪族エーテル類;等が挙げられる。
中でも好ましくは、アルカン類や芳香族炭化水素類である。これらの溶剤は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
The solvent is not particularly limited as long as the solute dissolves well, but the following examples are preferable.
For example, alkanes such as n-decane, cyclohexane, ethylcyclohexane, decalin, and bicyclohexane; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, methicylene, cyclohexylbenzene, and tetralin; halogenated fragrances such as chlorobenzene, dichlorobenzene, and trichlorobenzene Group hydrocarbons: 1,2-dimethoxybenzene, 1,3-dimethoxybenzene, anisole, phenetole, 2-methoxytoluene, 3-methoxytoluene, 4-methoxytoluene, 2,3-dimethylanisole, 2,4-dimethyl Aromatic ethers such as anisole and diphenyl ether; aromatic esters such as phenyl acetate, phenyl propionate, methyl benzoate, ethyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, and n-butyl benzoate; Alicyclic ketones such as Sanone, Cyclooctanone and Fencon; Alicyclic alcohols such as cyclohexanol and cyclooctanol; Aliphatic ketones such as methyl ethyl ketone and dibutyl ketone; Aliphatic alcohols such as butanol and hexanol; Ethylene And aliphatic ethers such as glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, and propylene glycol-1-monomethyl ether acetate (PGMEA).
Of these, alkanes and aromatic hydrocarbons are preferable. One of these solvents may be used alone, or two or more thereof may be used in any combination and ratio.

(沸点)
溶剤の沸点は、通常100℃以上、好ましくは150℃以上、より好ましくは200℃以上である。この範囲を下回ると、湿式成膜時において、湿式成膜用電荷輸送材料組成物からの溶剤蒸発による、成膜安定性の低下する可能性がある。
また、より均一な膜を得るためには、成膜直後の液膜から溶剤が適当な速度で蒸発することが好ましい。このため、溶剤の沸点は通常80℃以上、好ましくは100℃以上、より好ましくは120℃以上、また、通常270℃以下、好ましくは250℃以下、より好ましくは沸点230℃以下である。
(boiling point)
The boiling point of the solvent is usually 100 ° C. or higher, preferably 150 ° C. or higher, more preferably 200 ° C. or higher. Below this range, during wet film formation, film formation stability may decrease due to solvent evaporation from the wet film formation charge transport material composition.
In order to obtain a more uniform film, it is preferable that the solvent evaporates from the liquid film immediately after the film formation at an appropriate rate. For this reason, the boiling point of the solvent is usually 80 ° C. or higher, preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 ° C. or higher, and usually 270 ° C. or lower, preferably 250 ° C. or lower, more preferably 230 ° C. or lower.

(使用量)
溶剤の使用量は、湿式成膜用電荷輸送材料組成物100重量部に対して、好ましくは10重量部以上、より好ましくは50重量部以上、特に好ましくは80重量部以上、また、好ましくは99.95重量部以下、より好ましくは99.9重量部以下、特に好ましくは99.8重量部以下である。含有量が10重量部を下回ると、粘性が高くなりすぎ、成膜作業性が低下する可能性がある。一方、99.95重量部を上回ると、成膜後、溶媒を除去して得られる膜の厚みが稼げなくなるため、成膜が困難となる傾向がある。
(amount to use)
The amount of the solvent used is preferably 10 parts by weight or more, more preferably 50 parts by weight or more, particularly preferably 80 parts by weight or more, and preferably 99 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the charge transport material composition for wet film formation. .95 parts by weight or less, more preferably 99.9 parts by weight or less, and particularly preferably 99.8 parts by weight or less. When the content is less than 10 parts by weight, the viscosity becomes too high, and the film forming workability may be lowered. On the other hand, if the amount exceeds 99.95 parts by weight, the thickness of the film obtained by removing the solvent after film formation cannot be obtained, so that film formation tends to be difficult.

<その他、湿式成膜用電荷輸送材料組成物に含有してよいもの>
湿式成膜用電荷輸送材料組成物には、必要に応じて、上記の化合物等の他に、更に他の化合物を含有していてもよい。
<Others that may be included in the charge transport material composition for wet film formation>
The charge transport material composition for wet film formation may further contain other compounds in addition to the above-described compounds as necessary.

例えば、上記の溶剤の他に、別の溶剤を含有していてもよい。そのような溶剤としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   For example, in addition to the above solvent, another solvent may be contained. Examples of such a solvent include amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

また、成膜性の向上を目的として、レベリング剤や消泡剤等の各種添加剤を含有してもよい。   Moreover, you may contain various additives, such as a leveling agent and an antifoamer, for the purpose of the improvement of film formability.

[4.有機電界発光素子]
本発明はまた、基板上に、陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた有機発光層を有する有機電界発光素子であって、上記の湿式成膜用電荷輸送材料または湿式成膜用電荷輸送材料組成物を含有する層を有することを特徴とする有機電界発光素子に関する。
[4. Organic electroluminescent device]
The present invention also provides an organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and an organic light emitting layer provided between the two electrodes on a substrate, the above-described wet film forming charge transport material or wet film forming charge transport. The present invention relates to an organic electroluminescence device having a layer containing a material composition.

<構成>
図1は、本発明の有機電界発光素子の一例を示す断面模式図である。
図1において、有機電界発光素子10は、基板1上に陽極2、正孔注入層3、正孔輸送層4、発光層(有機発光層)5、正孔阻止層6、電子輸送層7、陰極バッファ層8、陰極9をこの順に積層され形成されている。これらの層のうち、正孔注入層3から陰極バッファ層8(ただし、発光層5を除く)までの層は、必要に応じて全ての層が積層されていても、何れかの層が積層されていなくてもよい。
<Configuration>
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the organic electroluminescent element of the present invention.
In FIG. 1, an organic electroluminescent device 10 includes an anode 2, a hole injection layer 3, a hole transport layer 4, a light emitting layer (organic light emitting layer) 5, a hole blocking layer 6, an electron transport layer 7 on a substrate 1. A cathode buffer layer 8 and a cathode 9 are laminated in this order. Among these layers, the layers from the hole injection layer 3 to the cathode buffer layer 8 (excluding the light emitting layer 5) are laminated as required even if all the layers are laminated. It does not have to be.

また、本発明の有機電界発光素子は、本発明の効果を著しく損なわない限り、図1の構成に限定されず、任意の形状、配置等をとることができる。例えば、基板上に上記の有機発光素子10とは逆順に積層(即ち、陰極側から積層)してもよい。   Moreover, the organic electroluminescent element of this invention is not limited to the structure of FIG. 1 unless the effect of this invention is impaired remarkably, It can take arbitrary shapes, arrangement | positioning, etc. For example, the organic light emitting element 10 may be stacked on the substrate in the reverse order (that is, stacked from the cathode side).

なお、上記湿式成膜用電荷輸送材料または湿式成膜用電荷輸送材料組成物を含有する層は、発光層5であることが好ましい。
以下、図1を例として、上記の層について詳説する。
The layer containing the wet film forming charge transport material or the wet film forming charge transport material composition is preferably the light emitting layer 5.
Hereinafter, the above layers will be described in detail with reference to FIG.

<基板1>
基板1は、有機電界発光素子10の支持体となるものである。
基板1の材料は、本発明の効果を著しく損なわない制限はないが、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラスチックフィルムやシート等が好ましい。特に、ガラス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスルホンなどの透明な合成樹脂の板が好ましい。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
<Substrate 1>
The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescent element 10.
The material of the substrate 1 is not limited so as not to significantly impair the effects of the present invention, but is preferably a quartz or glass plate, a metal plate or metal foil, a plastic film or a sheet. In particular, a glass plate or a transparent synthetic resin plate such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, or polysulfone is preferable. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

なお、基板1として、合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性に留意することが望ましい。基板1のガスバリア性が低すぎると、基板1を通過した外気により、有機電界発光素子10が劣化する場合がある。このため、合成樹脂基板の少なくとも片面に、緻密なシリコン酸化膜等を設けてガスバリア性を確保する方法等を講じることが好ましい。   In addition, when using a synthetic resin board | substrate as the board | substrate 1, it is desirable to pay attention to gas barrier property. If the gas barrier property of the substrate 1 is too low, the organic electroluminescent element 10 may be deteriorated by the outside air that has passed through the substrate 1. For this reason, it is preferable to take a method for providing a gas barrier property by providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate.

基板1の厚さは制限されないが、通常0.01mm以上、好ましくは0.1mm以上、さらに好ましくは0.2mm以上、また、通常5cm以下、好ましくは2cm以下、さらに好ましくは1cm以下である。   The thickness of the substrate 1 is not limited, but is usually 0.01 mm or more, preferably 0.1 mm or more, more preferably 0.2 mm or more, and usually 5 cm or less, preferably 2 cm or less, more preferably 1 cm or less.

なお、基板1は単一の層からなる構成であってもよいし、複数の層が積層された構成を有していてもよい。後者の場合、複数の層は同一の材料からなる層であってもよいし、異なる材料からなる層であってもよい。   In addition, the board | substrate 1 may be the structure which consists of a single layer, and may have the structure by which the several layer was laminated | stacked. In the latter case, the plurality of layers may be layers made of the same material or layers made of different materials.

<陽極2>
基板1の上には、陽極2が形成される。
陽極2は、基板1と反対方向の隣接する層への正孔注入の役割を果たすものである。
<Anode 2>
An anode 2 is formed on the substrate 1.
The anode 2 serves to inject holes into an adjacent layer in the direction opposite to the substrate 1.

陽極2の材料は、導電性を有していれば制限はないが、例えば、アルミニウム、金、銀、ニッケル、パラジウム、白金等の金属、インジウムおよび/またはスズの酸化物などの金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲン化金属、カーボンブラック、あるいは、ポリ(3−メチルチオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子等が好ましい。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   The material of the anode 2 is not limited as long as it has conductivity. For example, a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, or platinum, a metal oxide such as indium and / or tin oxide, Metal halides such as copper iodide, carbon black, or conductive polymers such as poly (3-methylthiophene), polypyrrole, and polyaniline are preferable. One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

陽極2を形成する手法は制限されないが、通常はスパッタリング法、真空蒸着法等が用いられる。また、銀等の金属微粒子、ヨウ化銅などの微粒子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導電性高分子微粉末等を用いて陽極2を形成する場合には、これらを適当なバインダー樹脂溶液に分散させ、基板1上に塗布することにより、陽極2を形成することもできる。   Although the method for forming the anode 2 is not limited, a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like is usually used. When the anode 2 is formed using fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, conductive polymer fine powder, etc., these are used as an appropriate binder. The anode 2 can also be formed by dispersing it in a resin solution and applying it onto the substrate 1.

更に、導電性高分子を材料として用いる場合は、電解重合により基板1上に薄膜を直接形成したり、基板1上に導電性高分子を塗布して陽極2を形成したりすることもできる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992年)。   Furthermore, when a conductive polymer is used as a material, a thin film can be directly formed on the substrate 1 by electrolytic polymerization, or the anode 2 can be formed by applying a conductive polymer on the substrate 1 ( Appl.Phys.Lett., 60, 2711, 1992).

なお、図1において、陽極2は単層構造であるが、所望により複数の層が積層された積層構造としてもよい。後者の場合、複数の層は同一の材料からなる層であってもよいし、異なる材料からなる層であってもよい。
更には、陽極2を上述の基板1と一体に形成し、陽極2が基板1を兼ねる構成としてもよい。
In FIG. 1, the anode 2 has a single-layer structure, but may have a stacked structure in which a plurality of layers are stacked as desired. In the latter case, the plurality of layers may be layers made of the same material or layers made of different materials.
Furthermore, the anode 2 may be formed integrally with the substrate 1 described above, and the anode 2 may also serve as the substrate 1.

陽極2の厚みは、陽極2に求められる透明性により適宜選定される。
陽極2に透明性が求められる場合には、可視光の透過率を通常60%以上、好ましくは80%以上とすることが望ましい。この場合、陽極2の厚みは、通常5nm以上、好ましくは10nm以上、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下である。陽極2が薄すぎると、電気抵抗が大きくなる場合がある。また、厚すぎると透明性が低下する。
The thickness of the anode 2 is appropriately selected depending on the transparency required for the anode 2.
When the anode 2 is required to be transparent, the visible light transmittance is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode 2 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less. If the anode 2 is too thin, the electrical resistance may increase. Moreover, when too thick, transparency will fall.

一方、陽極2が不透明でよい場合、陽極2の厚みは任意である。   On the other hand, when the anode 2 may be opaque, the thickness of the anode 2 is arbitrary.

なお、陽極2に付着した不純物を除去し、イオン化ポテンシャルを調整して正孔注入性を向上させることを目的として、陽極2の表面に対して、紫外線(UV)処理、オゾン処理をしたり、酸素プラズマ、アルゴンプラズマ等のプラズマ処理をしたりすることが好ましい。   For the purpose of removing impurities adhering to the anode 2 and adjusting the ionization potential to improve the hole injection property, the surface of the anode 2 is subjected to ultraviolet (UV) treatment, ozone treatment, It is preferable to perform plasma treatment such as oxygen plasma or argon plasma.

<正孔注入層3>
陽極2の上には、正孔注入層3が形成することができる。
正孔注入層3は、陽極2の陰極側に隣接する層へ正孔を輸送する層である。
なお、本発明の有機電界発光素子10は、正孔注入層3を省いた構成であってもよい。
<Hole injection layer 3>
A hole injection layer 3 can be formed on the anode 2.
The hole injection layer 3 is a layer that transports holes to a layer adjacent to the cathode side of the anode 2.
The organic electroluminescent element 10 of the present invention may have a configuration in which the hole injection layer 3 is omitted.

正孔注入層3は、正孔輸送性化合物を含むことが好ましく、正孔輸送性化合物と電子受容性化合物とを含むことがより好ましい。更には、正孔注入層3中にカチオンラジカル化合物を含むことが好ましく、カチオンラジカル化合物と正孔輸送性化合物とを含むことが特に好ましい。   The hole injection layer 3 preferably contains a hole transporting compound, and more preferably contains a hole transporting compound and an electron accepting compound. Further, the hole injection layer 3 preferably contains a cation radical compound, and particularly preferably contains a cation radical compound and a hole transporting compound.

正孔注入層3は、必要に応じて、バインダー樹脂や塗布性改良剤を含んでもよい。なお、バインダー樹脂は、電荷のトラップとして作用し難いものが好ましい。   The hole injection layer 3 may contain a binder resin and a coating property improving agent as necessary. The binder resin is preferably one that hardly acts as a charge trap.

また、正孔注入層3は、電子受容性化合物のみを湿式成膜法によって陽極2上に成膜し、その上から直接、電荷輸送材料組成物を塗布、積層することも可能である。この場合、電荷輸送材料組成物の一部が電子受容性化合物と相互作用することによって、正孔注入性に優れた層が形成される。   The hole injection layer 3 can be formed by depositing only the electron-accepting compound on the anode 2 by a wet film-forming method, and directly applying and laminating the charge transport material composition thereon. In this case, a part of the charge transport material composition interacts with the electron-accepting compound, so that a layer excellent in hole injecting property is formed.

(正孔輸送性化合物)
上記の正孔輸送性化合物としては、4.5eV〜6.0eVのイオン化ポテンシャルを有する化合物が好ましい。ただし、湿式成膜法に用いる場合には、湿式成膜法に用いる溶媒への溶解性が高い方が好ましい。
(Hole transporting compound)
As said hole transportable compound, the compound which has the ionization potential of 4.5 eV-6.0 eV is preferable. However, when used in the wet film forming method, it is preferable that the solubility in the solvent used in the wet film forming method is high.

正孔輸送性化合物の例としては、芳香族アミン化合物、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、ポリチオフェン誘導体等が挙げられる。中でも非晶質性、可視光の透過率の点から、芳香族アミン化合物が好ましい。   Examples of the hole transporting compound include aromatic amine compounds, phthalocyanine derivatives, porphyrin derivatives, oligothiophene derivatives, polythiophene derivatives, and the like. Of these, aromatic amine compounds are preferred from the viewpoints of amorphousness and visible light transmittance.

芳香族アミン化合物の種類は特に制限されず、低分子化合物であっても高分子化合物であってもよいが、表面平滑化効果の点から、重量平均分子量が1000以上、1000000以下の高分子化合物(繰り返し単位が連なる重合型炭化水素化合物)が好ましい。   The type of the aromatic amine compound is not particularly limited, and may be a low molecular compound or a high molecular compound. From the viewpoint of the surface smoothing effect, the high molecular compound having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 1,000,000 or less. (Polymerized hydrocarbon compound in which repeating units are continuous) is preferred.

また、芳香族アミン化合物の中でも、特に、芳香族三級アミン化合物が好ましい。ここで、芳香族三級アミン化合物とは、芳香族三級アミン構造を有する化合物であって、芳香族三級アミン由来の基を有する化合物も含む。   Of the aromatic amine compounds, an aromatic tertiary amine compound is particularly preferable. Here, the aromatic tertiary amine compound is a compound having an aromatic tertiary amine structure, and includes a compound having a group derived from an aromatic tertiary amine.

芳香族三級アミン高分子化合物の好ましい例としては、下記式(i)で表わされる繰り返し単位を有する高分子化合物が挙げられる。
(上記式(i)中、Ara1、Ara2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、または置換基を有していてもよい芳香族複素環基を表わす。Ara3〜Ara5は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい2価の芳香族炭化水素基、または置換基を有していてもよい2価の芳香族複素環基を表わす。Zは、下記の連結基群の中から選ばれる連結基を表わす。また、Ara1〜Ara5のうち、同一のN原子に結合する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい。)
(上記各式中、Ara6〜Ara16は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、または置換基を有していてもよい芳香族複素環由来の1価または2価の基を表わす。Ra1およびRa2は、それぞれ独立して、水素原子または任意の置換基を表わす。)
Preferable examples of the aromatic tertiary amine polymer compound include a polymer compound having a repeating unit represented by the following formula (i).
(In the above formula (i), Ar a1 and Ar a2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Each of Ar a3 to Ar a5 independently represents a divalent aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, or a divalent aromatic heterocyclic group which may have a substituent. Z a represents a linking group selected from the following group of linking groups, and two groups bonded to the same N atom among Ar a1 to Ar a5 are bonded to each other to form a ring. You may do it.)
(In each of the above formulas, Ar a6 to Ar a16 are each independently an aromatic hydrocarbon ring optionally having a substituent or an aromatic heterocyclic ring optionally having a substituent. R a1 and R a2 each independently represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent.

Ara1〜Ara16としては、任意の芳香族炭化水素環または芳香族複素環由来の1価または2価の基が適用可能である。これらの基は各々同一であっても、互いに異なっていてもよい。また、これらの基は、更に任意の置換基を有していてもよい。置換基の分子量としては、通常400以下、中でも250以下程度が好ましい。 As Ar a1 to Ar a16 , any monovalent or divalent group derived from any aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocyclic ring is applicable. These groups may be the same or different from each other. Further, these groups may further have an arbitrary substituent. The molecular weight of the substituent is usually 400 or less, preferably about 250 or less.

Ara1、Ara2としては、高分子化合物の溶解性、耐熱性、正孔注入・輸送性の観点から、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、チオフェン環、ピリジン環由来の1価の基が好ましく、フェニル基、ナフチル基がさらに好ましい。 Ar a1 and Ar a2 are preferably monovalent groups derived from a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring, a thiophene ring, or a pyridine ring from the viewpoints of solubility, heat resistance, and hole injection / transport properties of the polymer compound. More preferred are a phenyl group and a naphthyl group.

また、Ara3〜Ara5としては、耐熱性、酸化還元電位を含めた正孔注入・輸送性の点から、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環由来の2価の基が好ましく、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基がさらに好ましい。 Ar a3 to Ar a5 are preferably divalent groups derived from a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, or a phenanthrene ring from the viewpoint of heat resistance and hole injection / transport properties including redox potential. A group, a biphenylene group, and a naphthylene group are more preferable.

一般式(i)で表される繰り返し単位を有する芳香族三級アミン高分子化合物の具体例としては、国際公開第2005/089024号パンフレットに記載の化合物が挙げられる。
正孔注入層の材料として用いられる正孔輸送性化合物は、このような化合物のうち何れか1種を単独で含有していてもよく、2種以上を含有していてもよい。
2種以上の正孔輸送性化合物を含有する場合、その組み合わせは任意であるが、芳香族三級アミン高分子化合物1種または2種以上と、その他の正孔輸送性化合物1種または2種以上とを併用するのが好ましい。
Specific examples of the aromatic tertiary amine polymer compound having a repeating unit represented by the general formula (i) include compounds described in International Publication No. 2005/089024 pamphlet.
The hole transporting compound used as the material for the hole injection layer may contain any one of these compounds alone, or may contain two or more.
When two or more hole transporting compounds are contained, the combination thereof is arbitrary, but one or more aromatic tertiary amine polymer compounds and one or two other hole transporting compounds are used. It is preferable to use the above together.

(電子受容性化合物)
電子受容性化合物としては、酸化力を有し、上述の正孔輸送性化合物から一電子受容する能力を有する化合物が好ましい。具体的には、電子親和力が4eV以上である化合物が好ましく、5eV以上の化合物である化合物がさらに好ましい。
(Electron-accepting compound)
As the electron-accepting compound, a compound having an oxidizing power and an ability to accept one electron from the above-described hole-transporting compound is preferable. Specifically, a compound with an electron affinity of 4 eV or more is preferable, and a compound with a compound of 5 eV or more is more preferable.

電子受容性化合物の例としては、例えば、4−イソプロピル−4’−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート等の有機基の置換したオニウム塩、塩化鉄(III)(特開平11−251067号公報)、ペルオキソ二硫酸アンモニウム等の高原子価の無機化合物、テトラシアノエチレン等のシアノ化合物、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン(特開2003−31365号公報)等の芳香族ホウ素化合物、フラーレン誘導体、ヨウ素等が挙げられる。   Examples of the electron-accepting compound include onium salts substituted with an organic group such as 4-isopropyl-4′-methyldiphenyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, iron (III) chloride (Japanese Patent Laid-Open No. 11-251067). Publication), high valence inorganic compounds such as ammonium peroxodisulfate, cyano compounds such as tetracyanoethylene, aromatic boron compounds such as tris (pentafluorophenyl) borane (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-31365), fullerene derivatives, iodine Etc.

上記の化合物のうち、強い酸化力を有する点で、有機基の置換したオニウム塩、高原子価の無機化合物等が好ましい。また、種々の溶剤に可溶で湿式塗布に適用可能である点で、有機基の置換したオニウム塩、シアノ化合物、芳香族ホウ素化合物等が好ましい。   Of the above-mentioned compounds, an onium salt substituted with an organic group, a high-valence inorganic compound, and the like are preferable because they have strong oxidizing power. In addition, an onium salt substituted with an organic group, a cyano compound, an aromatic boron compound, or the like is preferable because it is soluble in various solvents and can be applied to wet coating.

電子受容性化合物として好適な有機基の置換したオニウム塩、シアノ化合物、芳香族ホウ素化合物の具体例としては、国際公開第2005/089024号パンフレットに記載のものが挙げられ、その好適例も同様である。例えば、下記構造式で表わされる化合物が挙げられるが、何らそれらに限定されるものではない。
なお、電子受容性化合物は1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
Specific examples of onium salts, cyano compounds and aromatic boron compounds substituted with an organic group suitable as an electron-accepting compound include those described in International Publication No. 2005/089024, and the preferred examples thereof are also the same. is there. Examples thereof include compounds represented by the following structural formulas, but are not limited thereto.
In addition, an electron-accepting compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

(カチオンラジカル化合物)
カチオンラジカル化合物としては、正孔輸送性化合物から一電子取り除いた化学種であるカチオンラジカルと、対アニオンとからなるイオン化合物が好ましい。但し、カチオンラジカルが正孔輸送性の高分子化合物由来である場合、カチオンラジカルは高分子化合物の繰り返し単位から一電子取り除いた構造となる。
(Cation radical compound)
As the cation radical compound, an ionic compound composed of a cation radical which is a chemical species obtained by removing one electron from a hole transporting compound and a counter anion is preferable. However, when the cation radical is derived from a hole transporting polymer compound, the cation radical has a structure in which one electron is removed from the repeating unit of the polymer compound.

カチオンラジカルとしては、正孔輸送性化合物として前述した化合物から一電子取り除いた化学種であることが好ましい。正孔輸送性化合物として好ましい化合物から一電子取り除いた化学種であることが、非晶質性、可視光の透過率、耐熱性、溶解性などの点から好適である。   The cation radical is preferably a chemical species obtained by removing one electron from the compound described above as the hole transporting compound. A chemical species obtained by removing one electron from a compound preferable as a hole transporting compound is preferable in terms of amorphousness, visible light transmittance, heat resistance, solubility, and the like.

ここで、カチオンラジカル化合物は、前述の正孔輸送性化合物と電子受容性化合物を混合することにより生成させることができる。即ち、前述の正孔輸送性化合物と電子受容性化合物とを混合することにより、正孔輸送性化合物から電子受容性化合物へと電子移動が起こり、正孔輸送性化合物のカチオンラジカルと対アニオンとからなるカチオンイオン化合物が生成する。   Here, the cation radical compound can be generated by mixing the hole transporting compound and the electron accepting compound. That is, by mixing the hole transporting compound and the electron accepting compound, electron transfer occurs from the hole transporting compound to the electron accepting compound, and the cation radical and the counter anion of the hole transporting compound A cation ion compound consisting of

PEDOT/PSS(Adv.Mater.,2000年,12巻,481頁)やエメラルジン塩酸塩(J.Phys.Chem.,1990年,94巻,7716頁)等の高分子化合物由来のカチオンラジカル化合物は、酸化重合(脱水素重合)することによっても生成する。   Cationic radical compounds derived from polymer compounds such as PEDOT / PSS (Adv. Mater., 2000, 12, 481) and emeraldine hydrochloride (J. Phys. Chem., 1990, 94, 7716) It is also produced by oxidative polymerization (dehydrogenation polymerization).

ここでいう酸化重合は、モノマーを酸性溶液中で、ペルオキソ二硫酸塩等を用いて化学的に、または、電気化学的に酸化するものである。この酸化重合(脱水素重合)の場合、モノマーが酸化されることにより高分子化されるとともに、酸性溶液由来のアニオンを対アニオンとする、高分子の繰り返し単位から一電子取り除かれたカチオンラジカルが生成する。   The oxidative polymerization referred to here is a method in which a monomer is chemically or electrochemically oxidized using peroxodisulfate or the like in an acidic solution. In the case of this oxidative polymerization (dehydrogenation polymerization), the monomer is polymerized by oxidation, and a cation radical that is removed from the polymer repeating unit by using an anion derived from an acidic solution as a counter anion is removed. Generate.

(正孔注入層3の製造方法)
正孔注入層3は、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の方法で形成することができるが、例えば、湿式成膜法または真空蒸着法により陽極2上に形成される。
(Method for producing hole injection layer 3)
The hole injection layer 3 can be formed by any method as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, the hole injection layer 3 is formed on the anode 2 by a wet film formation method or a vacuum evaporation method.

湿式成膜法による層形成の場合、前述した各材料(正孔輸送性化合物、電子受容性化合物、カチオンラジカル化合物)の1種または2種以上の所定量を、必要により電荷のトラップとして作用し難いバインダー樹脂や塗布性改良剤と共に溶剤に溶解させて、まず塗布溶液を調製する。次いで、スピンコート、スプレーコート、ディップコート、ダイコート、フレキソ印刷、スクリーン印刷、インクジェット法等の湿式成膜法により陽極上に塗布し、乾燥して、正孔注入層3を形成させることができる。   In the case of layer formation by a wet film formation method, one or more predetermined amounts of each of the above-described materials (hole transporting compound, electron accepting compound, cation radical compound) act as a charge trap if necessary. First, a coating solution is prepared by dissolving it in a solvent together with a difficult binder resin and coating property improver. Subsequently, the positive hole injection layer 3 can be formed by applying on the anode by a wet film forming method such as spin coating, spray coating, dip coating, die coating, flexographic printing, screen printing, and ink jet method, and drying.

湿式成膜法による層形成のために用いられる溶剤としては、前述の各材料(正孔輸送性化合物、電子受容性化合物、カチオンラジカル化合物)を溶解することが可能な溶剤であれば、その種類は特に限定されない。なお、正孔注入層に用いられる各材料(正孔輸送性化合物、電子受容性化合物、カチオンラジカル化合物)を失活させる可能性のある失活物質または失活物質を発生させる物質を含まないことが好ましい。
好ましい溶剤の具体例としては、前記本発明の湿式成膜用電荷輸送材料組成物に含有される溶剤として例示したものが挙げられ、中でも、芳香族エーテル類、芳香族エステル類、脂肪族エーテル類などのエーテル系溶剤またはエステル系溶剤が好ましい。
As the solvent used for the layer formation by the wet film forming method, any solvent can be used as long as it can dissolve the above-mentioned materials (hole transporting compound, electron accepting compound, cation radical compound). Is not particularly limited. In addition, the material used for the hole injection layer (a hole transporting compound, an electron accepting compound, a cation radical compound) does not contain a deactivating substance or a substance that generates a deactivating substance that may deactivate the material. Is preferred.
Specific examples of the preferable solvent include those exemplified as the solvent contained in the charge transport material composition for wet film formation according to the present invention, and among them, aromatic ethers, aromatic esters, aliphatic ethers. Ether solvents or ester solvents such as are preferred.

上記塗布溶液中における溶剤の濃度は、通常10重量%以上、好ましくは30重量%以上、より好ましくは50%重量以上、また、通常、99.999重量%以下、好ましくは99.99重量%以下、さらに好ましくは99.9重量%以下である。なお、2種以上の溶剤を混合して用いる場合には、これらの溶剤の合計がこの範囲を満たすようにすればよい。   The concentration of the solvent in the coating solution is usually 10% by weight or more, preferably 30% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, and usually 99.999% by weight or less, preferably 99.99% by weight or less. More preferably, it is 99.9% by weight or less. In addition, when using 2 or more types of solvents in mixture, the total of these solvents should just satisfy this range.

真空蒸着法による層形成の場合には、まず、前述した各材料(正孔輸送性化合物、電子受容性化合物、カチオンラジカル化合物)の1種または2種以上を真空容器内に設置されたるつぼに入れ(2種以上材料を用いる場合は各々のるつぼに入れ)、次いで、真空容器内を適当な真空ポンプで10−4Pa程度まで排気する。その後、るつぼを加熱し(2種以上材料を用いる場合は各々のるつぼを加熱し)、蒸発量を制御して蒸発させて(2種以上材料を用いる場合はそれぞれ独立に蒸発量を制御して蒸発させ)、るつぼと向き合って置かれた基板の陽極上に正孔注入層を形成させることができる。なお、2種以上の材料を用いる場合は、それらの混合物をるつぼに入れ、加熱し蒸発させて正孔注入層形成に用いることもできる。 In the case of layer formation by vacuum deposition, first, one or more of the above-mentioned materials (hole transporting compound, electron accepting compound, cation radical compound) are placed in a crucible placed in a vacuum vessel. Put (into each crucible when two or more materials are used), and then evacuate the inside of the vacuum vessel to about 10 −4 Pa with a suitable vacuum pump. After that, the crucible is heated (each crucible is heated when two or more materials are used), and the amount of evaporation is controlled and evaporated (when two or more materials are used, the amount of evaporation is controlled independently). Evaporation) and a hole injection layer can be formed on the anode of the substrate placed facing the crucible. In addition, when using 2 or more types of materials, they can also be put into a crucible, can be heated and evaporated, and can be used for hole injection layer formation.

上述のようにして形成される正孔注入層3の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上、また、通常1000nm以下、好ましくは500nm以下の範囲である。正孔注入層3が薄すぎると、正孔注入性が不十分になる可能性がある。また、厚すぎると、抵抗が高くなる場合がある。   The film thickness of the hole injection layer 3 formed as described above is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and usually 1000 nm or less, preferably 500 nm or less. If the hole injection layer 3 is too thin, the hole injection property may be insufficient. Moreover, when it is too thick, resistance may become high.

なお、正孔注入層3は単一の層からなる構成としてもよいが、複数の層が積層された構成としてもよい。後者の場合、複数の層は同一の材料からなる層であってもよいし、異なる材料からなる層であってもよい。   The hole injection layer 3 may have a single layer structure, or may have a structure in which a plurality of layers are stacked. In the latter case, the plurality of layers may be layers made of the same material or layers made of different materials.

<正孔輸送層4>
正孔輸送層4は、正孔注入層3が有る場合には正孔注入層3の上に、正孔注入層3が無い場合には陽極2の上に形成することができる。
正孔輸送層4によって、発光層5へ正孔を輸送し効率良く注入することができる。
なお、本発明の有機電界発光素子10は、正孔輸送層4を省いた構成であってもよい。
<Hole transport layer 4>
The hole transport layer 4 can be formed on the hole injection layer 3 when the hole injection layer 3 is provided, and on the anode 2 when the hole injection layer 3 is not provided.
Holes can be transported and efficiently injected into the light-emitting layer 5 by the hole transport layer 4.
The organic electroluminescent element 10 of the present invention may have a configuration in which the hole transport layer 4 is omitted.

正孔輸送層4に利用できる材料としては、正孔輸送性が高く、かつ、注入された正孔を効率よく輸送することができる材料であることが好ましい。そのために、イオン化ポテンシャルが小さく、可視光の光に対して透明性が高く、正孔移動度が大きく、安定性に優れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しにくいことが好ましい。
また、多くの場合発光層5に接するため、発光層5からの発光を消光したり、発光層5との間でエキサイプレックスを形成して効率を低下させないことが好ましい。
The material that can be used for the hole transport layer 4 is preferably a material that has high hole transportability and can efficiently transport injected holes. Therefore, it is preferable that the ionization potential is small, the transparency to visible light is high, the hole mobility is large, the stability is high, and impurities that become traps are not easily generated during manufacturing or use.
Further, in many cases, it is in contact with the light emitting layer 5, so it is preferable not to quench the light emitted from the light emitting layer 5 or form an exciplex with the light emitting layer 5 to reduce the efficiency.

このような正孔輸送材料としては、例えば、前述の正孔注入層3に使用される正孔輸送性化合物に加えて、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニルで代表わされる2個以上の3級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置換した芳香族ジアミン(特開平5−234681号公報)、4,4’,4’’−トリス(1−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のスターバースト構造を有する芳香族アミン化合物(J. Lumin., 72−74巻、985頁、1997年)、トリフェニルアミンの四量体から成る芳香族アミン化合物(Chem. Commun.,2175頁、1996年)、2,2’,7,7’−テトラキス−(ジフェニルアミノ)−9,9’−スピロビフルオレン等のスピロ化合物(Synth. Metals, 91巻、209頁、1997年)、4,4’−N,N’−ジカルバゾールビフェニルなどのカルバゾール誘導体等が挙げられる。   Examples of such a hole transport material include 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenyl in addition to the hole transport compound used for the hole injection layer 3 described above. Aromatic diamines containing two or more tertiary amines typified by amino] biphenyl and having two or more condensed aromatic rings substituted with nitrogen atoms (Japanese Patent Laid-Open No. 5-234681), 4, 4 ′, 4 '' -Tris (1-naphthylphenylamino) triphenylamine and other aromatic amine compounds having a starburst structure (J. Lumin., 72-74, 985, 1997), tetraphenylamine tetramer Aromatic amine compounds consisting of (Chem. Commun., 2175, 1996), 2,2 ′, 7,7′-tetrakis- (diphenylamino) -9,9′-spirobifluorene, etc. Spiro compounds (Synth. Metals, 91, pp. 209 pp., 1997), 4,4'-N, such as a carbazole derivative such as N'- dicarbazole biphenyl.

更には、後述する成膜法により薄膜を形成した後、加熱や光や磁気等の電磁波照射などによって重合する化合物や、任意の複数化合物が予め重合した高分子を利用することも可能である。   Furthermore, after forming a thin film by a film forming method to be described later, it is also possible to use a compound that is polymerized by heating, irradiation with electromagnetic waves such as light or magnetism, or a polymer in which any plural compounds are polymerized in advance.

このような高分子としては、例えばポリビニルカルバゾール、ポリビニルトリフェニルアミン(特開平7−53953号公報)、テトラフェニルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホン(Polym. Adv. Tech., 7巻、33頁、1996年)等が挙げられる。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。   Examples of such a polymer include polyvinyl carbazole, polyvinyl triphenylamine (JP-A-7-53953), and polyarylene ether sulfone (Polym. Adv. Tech., Vol. 7, p. 33) containing tetraphenylbenzidine. 1996). One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

正孔輸送層4は、例えば、スプレー法、印刷法、スピンコート法、ディップコート法、ダイコート法などの通常の塗布法や、インクジェット法、スクリーン印刷法など各種印刷法等の湿式成膜法や、真空蒸着法などの乾式成膜法で形成することができる。   The hole transport layer 4 is formed by, for example, a normal coating method such as a spray method, a printing method, a spin coating method, a dip coating method, or a die coating method, or a wet film forming method such as various printing methods such as an ink jet method or a screen printing method. It can be formed by a dry film formation method such as a vacuum evaporation method.

塗布法の場合は、正孔輸送材料の1種又は2種以上に、必要により正孔のトラップにならないバインダー樹脂や塗布性改良剤などの添加剤を混合し、適当な溶剤に溶解して塗布溶液を調製し、スピンコート法などの方法により陽極2あるいは正孔注入層3上に塗布し、乾燥して正孔輸送層4を形成する。   In the case of the coating method, one or more of the hole transport materials are mixed with additives such as binder resin and coating property improving agent that do not trap holes if necessary and dissolved in a suitable solvent. A solution is prepared, applied onto the anode 2 or the hole injection layer 3 by a method such as spin coating, and dried to form the hole transport layer 4.

バインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル等が挙げられる。バインダー樹脂は添加量が多いと正孔移動度を低下させるので、少ない方が望ましく、通常、正孔輸送層中の含有量で50重量%以下が好ましい。   Examples of the binder resin include polycarbonate, polyarylate, and polyester. When the amount of the binder resin added is large, the hole mobility is lowered. Therefore, the smaller amount is desirable, and the content in the hole transport layer is usually preferably 50% by weight or less.

また、真空蒸着法の場合には、例えば正孔輸送材料を真空容器内に設置されたルツボに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで減圧した後、ルツボを加熱して、正孔輸送材料を蒸発させ、ルツボと向かい合って置かれた、陽極2あるいは正孔注入層3上に正孔輸送層4を形成させることができる。   In the case of the vacuum deposition method, for example, the hole transport material is put in a crucible installed in a vacuum vessel, the pressure inside the vacuum vessel is reduced with an appropriate vacuum pump, and then the crucible is heated to form a hole transport material. The hole transport layer 4 can be formed on the anode 2 or the hole injection layer 3 placed opposite to the crucible.

正孔輸送層4の膜厚は、通常5nm以上、好ましくは10nm以上であり、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。この様に薄い膜を一様に形成するためには、一般にスピンコート法や真空蒸着法が多く用いられる。   The thickness of the hole transport layer 4 is usually 5 nm or more, preferably 10 nm or more, and is usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less. In order to form such a thin film uniformly, spin coating or vacuum deposition is generally used in many cases.

<発光層5>
発光層5は、正孔輸送層4が有る場合には正孔輸送層4の上に、正孔輸送層4が無くて正孔注入層3が有る場合には正孔注入層3の上に、正孔輸送層4と正孔注入層3が無い場合には陽極2の上に形成される。
発光層5は前述の正孔注入層3や正孔輸送層4、及び後述する正孔阻止層6や電子輸送層7等とは独立した層であってもよいが、独立した発光層5を形成せず、正孔輸送層4や電子輸送層7など他の有機層が発光層の役割を担ってもよい。
<Light emitting layer 5>
The light emitting layer 5 is formed on the hole transport layer 4 when the hole transport layer 4 is provided, and on the hole injection layer 3 when the hole transport layer 4 is not provided and the hole injection layer 3 is provided. In the case where the hole transport layer 4 and the hole injection layer 3 are not provided, they are formed on the anode 2.
The light emitting layer 5 may be an independent layer from the hole injection layer 3 and the hole transport layer 4 described above, and the hole blocking layer 6 and the electron transport layer 7 described later. Other organic layers such as the hole transport layer 4 and the electron transport layer 7 may serve as the light emitting layer without being formed.

発光層5は、電界を与えられた電極間において、陽極2から直接に、又は正孔注入層3や正孔輸送層4等を通じて注入された正孔と、陰極9から直接に、又は陰極バッファ層8や電子輸送層7や正孔阻止層6等を通じて注入された電子との再結合により励起されて、主たる発光源となる層である。
なお、発光層5は、本発明の湿式成膜用電荷輸送材料、又は本発明の湿式成膜用電荷輸送材料組成物を用いて形成されることが好ましい。
The light-emitting layer 5 includes holes injected directly from the anode 2 or through the hole injection layer 3 or the hole transport layer 4 between the electrodes to which an electric field is applied, and directly from the cathode 9 or a cathode buffer. It is a layer which is excited by recombination with electrons injected through the layer 8, the electron transport layer 7, the hole blocking layer 6 and the like and becomes a main light emitting source.
In addition, it is preferable that the light emitting layer 5 is formed using the charge transport material for wet film-forming of this invention, or the charge transport material composition for wet film-forming of this invention.

発光層5は、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の方法で形成することができるが、例えば、湿式成膜法または真空蒸着法により陽極2上に形成される。ただし、大面積の発光素子10を製造する場合には、湿式成膜法の方が好ましい。湿式成膜法、及び真空蒸着法の方法は、正孔注入層3と同様の方法を用いて行なうことができる。   The light emitting layer 5 can be formed by any method as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. For example, the light emitting layer 5 is formed on the anode 2 by a wet film forming method or a vacuum deposition method. However, when manufacturing the light emitting element 10 with a large area, the wet film forming method is preferable. The wet film forming method and the vacuum deposition method can be performed using the same method as that for the hole injection layer 3.

一般に有機電界発光素子においては、同じ材料で比較した場合、電極間の膜厚の薄い方が、実効電界が大きくなって注入される電流が多くなるので、駆動電圧が低下する。その為、電極間の総膜厚は薄い方がよいが、あまりに薄いとITO等の電極に起因する突起により短絡や、隣接する層界面近傍への励起子拡散に起因する消光などが発生する。従って、ある程度の膜厚が必要となる。
したがって、発光層5以外に正孔注入層3や正孔輸送層4、後述する正孔阻止層6や電子輸送層7等の有機層を有する場合、発光層5と他の有機層とを合わせた総膜厚としては、通常30nm以上、好ましくは50nm以上であり、さらに好ましくは100nm以上、また、1000nm以下、好ましくは500nm以下であり、さらに好ましくは300nm以下である。
In general, in an organic electroluminescent device, when compared with the same material, the thinner the film thickness between the electrodes, the larger the effective electric field and the larger the injected current, so the driving voltage decreases. For this reason, the total film thickness between the electrodes is preferably thin. However, if the film thickness is too thin, shorting due to protrusions due to electrodes such as ITO, quenching due to exciton diffusion near adjacent layer interfaces, and the like occur. Therefore, a certain film thickness is required.
Therefore, when it has organic layers, such as the positive hole injection layer 3 and the positive hole transport layer 4, and the positive hole blocking layer 6 and the electron carrying layer 7 mentioned later other than the light emitting layer 5, the light emitting layer 5 and other organic layers are match | combined. The total film thickness is usually 30 nm or more, preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, 1000 nm or less, preferably 500 nm or less, and more preferably 300 nm or less.

また、発光層5以外の有機層の導電性が高い場合、発光層5に注入される電荷量が増加する。例えば正孔注入層3の膜厚を厚くして発光層4の膜厚を薄くする等により、総膜厚としてある程度の膜厚を維持しながら駆動電圧を下げることも可能である。斯かる場合、発光層5の膜厚としては、通常10nm以上、好ましくは20nm以上で、通常300nm以下、好ましくは200nm以下である。
なお、本実施の形態の有機電界発光素子10が、陽極2および陰極9の両極間に、発光層5のみを有する場合の発光層5の膜厚としては、通常30nm以上、好ましくは50nm以上、また、通常500nm以下、好ましくは300nm以下である。
Further, when the organic layers other than the light emitting layer 5 have high conductivity, the amount of charge injected into the light emitting layer 5 increases. For example, by increasing the thickness of the hole injection layer 3 and decreasing the thickness of the light emitting layer 4, it is possible to reduce the driving voltage while maintaining a certain thickness as the total thickness. In such a case, the thickness of the light emitting layer 5 is usually 10 nm or more, preferably 20 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 200 nm or less.
In addition, as the film thickness of the light emitting layer 5 when the organic electroluminescent element 10 of this Embodiment has only the light emitting layer 5 between both electrodes of the anode 2 and the cathode 9, it is 30 nm or more normally, Preferably it is 50 nm or more, Moreover, it is 500 nm or less normally, Preferably it is 300 nm or less.

<正孔阻止層6>
正孔阻止層6は、発光層5の上に形成することができる。
正孔阻止層6は、陽極2から注入され移動してくる正孔が陰極9に到達するのを阻止することができ、且つ陰極9から注入された電子を効率よく発光層5に輸送、注入することができる化合物によって形成されることが望ましい。
なお、本発明の有機電界発光素子10は、正孔阻止層6を省いた構成であってもよい。
<Hole blocking layer 6>
The hole blocking layer 6 can be formed on the light emitting layer 5.
The hole blocking layer 6 can block the holes injected from the anode 2 and moving from reaching the cathode 9, and efficiently transport and inject electrons injected from the cathode 9 to the light emitting layer 5. It is desirable to be formed by a compound that can.
The organic electroluminescent element 10 of the present invention may have a configuration in which the hole blocking layer 6 is omitted.

正孔阻止層6に利用できる材料としては、電子移動度が高く、かつ、正孔移動度が低いことが好ましい。また、エネルギーギャップ(HOMO(最高被占軌道;Highest Occupied Molecular Orbital)とLUMO(最低空軌道;Lowest Unoccupied Molecular Orbital)との差)が大きいことや、発光層5中で生成した励起子のエネルギーが正孔阻止層6を形成する材料へ移動しないことや、発光層5との間でエキサイプレックスを形成して効率を低下させないこと等がさらに好ましい。   A material that can be used for the hole blocking layer 6 preferably has a high electron mobility and a low hole mobility. In addition, the energy gap (difference between HOMO (highest occupied molecular orbital) and LUMO (lowest unoccupied molecular orbital)) and the energy of excitons generated in the light emitting layer 5 are large. It is more preferable not to move to the material for forming the hole blocking layer 6, or to form an exciplex with the light emitting layer 5 so as not to lower the efficiency.

このような条件を満たす正孔阻止層用の材料としては、例えば、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(トリフェニルシラノラト)アルミニウム等の混合配位子錯体、ビス(2−メチル−8−キノラト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−8−キノリラト)アルミニウム二核金属錯体等の金属錯体、ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開平11−242996号公報)、3−(4−ビフェニルイル)−4−フェニル−5(4−tert−ブチルフェニル)−1,2,4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7−41759号公報);バソクプロイン等のフェナントロリン誘導体(特開平10−79297号公報);2,4,6位が置換されたピリジン環を少なくとも1個有する化合物(国際公開第2005/022962号パンフレット);等が挙げられる。
これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
Examples of the material for the hole blocking layer satisfying such conditions include bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolate) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) aluminum. Mixed ligand complexes such as, metal complexes such as bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolato) aluminum binuclear metal complexes, distyrylbiphenyl derivatives, etc. Of styryl compounds (JP-A-11-242996), triazole derivatives such as 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5 (4-tert-butylphenyl) -1,2,4-triazole 7-41759); phenanthroline derivatives such as bathocuproine (Japanese Patent Laid-Open No. 10-79297); Position is a compound having at least one pyridine ring substituted (WO 2005/022962 pamphlet); and the like.
One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

正孔阻止層6の膜厚は、通常0.3nm以上、好ましくは0.5nm以上、また、通常100nm以下、好ましくは50nm以下である。正孔阻止層6は、正孔注入層3から発光層5までの各層と同様の方法で形成することができ、湿式成膜法、真空蒸着法等を用いることができる。   The thickness of the hole blocking layer 6 is usually 0.3 nm or more, preferably 0.5 nm or more, and usually 100 nm or less, preferably 50 nm or less. The hole blocking layer 6 can be formed by the same method as each layer from the hole injection layer 3 to the light emitting layer 5, and a wet film-forming method, a vacuum evaporation method, etc. can be used.

<電子輸送層7>
電子輸送層7は、正孔阻止層6が有る場合には正孔阻止層6の上に、正孔阻止層が無い場合には発光層5の上に形成することができる。
電子輸送層7は、電界を与えられた電極間において陰極6から注入された電子を効率よく発光層4の方向に輸送することができる化合物によって形成されることが望ましい。
なお、本発明の有機電界発光素子10は、電子輸送層7を省いた構成であってもよい。
<Electron transport layer 7>
The electron transport layer 7 can be formed on the hole blocking layer 6 when the hole blocking layer 6 is provided, and on the light emitting layer 5 when there is no hole blocking layer.
The electron transport layer 7 is preferably formed of a compound that can efficiently transport electrons injected from the cathode 6 between the electrodes to which an electric field is applied in the direction of the light emitting layer 4.
The organic electroluminescent element 10 of the present invention may have a configuration in which the electron transport layer 7 is omitted.

電子輸送層7に利用できる電子輸送性化合物としては、陰極9または陰極バッファ層8からの電子注入効率が高く、かつ、高い電子移動度を有し注入された電子を効率よく輸送することができる化合物であることが好ましい。   As an electron transporting compound that can be used for the electron transport layer 7, the electron injection efficiency from the cathode 9 or the cathode buffer layer 8 is high, and the injected electrons having high electron mobility can be efficiently transported. A compound is preferred.

このような条件を満たす電子輸送性化合物としては、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体等の金属錯体(特開昭59−194393号公報)、10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジスチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3−または5−ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダゾリルベンゼン(米国特許第5,645,948号)、キノキサリン化合物(特開平6−207169号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−331459号公報)、2−t−ブチル−9,10−N,N’−ジシアノアントラセンジイミン、n型水素化非晶質炭化シリコン、n型硫化亜鉛、n型セレン化亜鉛等が挙げられる。
これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
As an electron transporting compound satisfying such conditions, a metal complex such as an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline (JP 59-194393 A), a metal complex of 10-hydroxybenzo [h] quinoline, oxadiazole Derivatives, distyrylbiphenyl derivatives, silole derivatives, 3- or 5-hydroxyflavone metal complexes, benzoxazole metal complexes, benzothiazole metal complexes, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948), quinoxaline compounds (special (Kaihei 6-207169), phenanthroline derivatives (JP-A-5-331459), 2-t-butyl-9,10-N, N′-dicyanoanthracenediimine, n-type hydrogenated amorphous silicon carbide, Examples include n-type zinc sulfide and n-type zinc selenide.
One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

電子輸送層7の膜厚は、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、また、通常300nm以下、好ましくは100nm以下である。電子輸送層7は、正孔注入層3から正孔阻止層6までの各層と同様の方法で形成することができ、例えば、湿式成膜法、又は真空蒸着法により形成することができる。中でも真空蒸着法が好ましい。   The film thickness of the electron transport layer 7 is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, and usually 300 nm or less, preferably 100 nm or less. The electron transport layer 7 can be formed by the same method as each layer from the hole injection layer 3 to the hole blocking layer 6, and can be formed by, for example, a wet film forming method or a vacuum evaporation method. Of these, vacuum deposition is preferred.

<陰極バッファ層8>
陰極バッファ層8は、電子輸送層7が有る場合には電子輸送層7の上に、電子輸送層7が無くて正孔阻止層6が有る場合には正孔阻止層6の上に、電子輸送層7と正孔阻止層6が無い場合には発光層5の上に形成することができる。
陰極バッファ層8は、陰極9から注入された電子を効率よく隣接する有機層へ注入する層である。
なお、本発明の有機電界発光素子10は、陰極バッファ層8を省いた構成であってもよい。
<Cathode buffer layer 8>
The cathode buffer layer 8 is formed on the electron transport layer 7 when the electron transport layer 7 is provided, and on the hole block layer 6 when the electron transport layer 7 is not provided and the hole block layer 6 is provided. When there is no transport layer 7 and hole blocking layer 6, it can be formed on the light emitting layer 5.
The cathode buffer layer 8 is a layer that efficiently injects electrons injected from the cathode 9 into an adjacent organic layer.
The organic electroluminescent element 10 of the present invention may have a configuration in which the cathode buffer layer 8 is omitted.

陰極バッファ層8に利用できる材料としては、仕事関数の低い金属を使用することが好ましい。有機層へ電子注入を効率よく行うためである。
具体的には、例えば、ナトリウムやセシウム等のアルカリ金属、バリウムやカルシウムなどのアルカリ土類金属が用いられる。また、LiF、MgF、LiO、CsCO等の金属塩を利用することもできる(Appl.Phys.Lett.,70巻,152頁,1997年;特開平10−74586号公報;IEEETrans.Electron.Devices,44巻,1245頁,1997年;SID 04 Digest,154頁)。これらは1種類を単独で用いてもよく、また2種類以上を任意の組み合わせ、及び比率で用いてもよい。
As a material that can be used for the cathode buffer layer 8, it is preferable to use a metal having a low work function. This is because electrons are efficiently injected into the organic layer.
Specifically, for example, alkali metals such as sodium and cesium, and alkaline earth metals such as barium and calcium are used. Further, LiF, MgF 2, Li 2 O, may also be used a metal salt such as Cs 2 CO 3 (Appl.Phys.Lett, 70 vol, 152 pp., 1997;. Hei 10-74586 JP; IEEE Trans. Electron. Devices, 44, 1245, 1997; SID 04 Digest, 154). One of these may be used alone, or two or more may be used in any combination and ratio.

陰極バッファ層8の膜厚としては、通常0.01nm以上、好ましくは0.1nm以上で、通常は10nm以下、より好ましくは5nm以下である。   The thickness of the cathode buffer layer 8 is usually 0.01 nm or more, preferably 0.1 nm or more, usually 10 nm or less, more preferably 5 nm or less.

陰極バッファ層8は、前述の正孔注入層3から電子輸送層7までの各層と同様の方法で形成することができ、例えば、湿式成膜法、又は真空蒸着法により形成することができる。
真空蒸着法の場合には、例えば、真空容器内に設置されたるつぼ又は金属ボートに蒸着源を入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで減圧する。その後、るつぼ又は金属ボートを加熱して蒸発させ、るつぼまたは金属ボートと向き合って置かれた基板上に陰極バッファ層8を形成することができる。
The cathode buffer layer 8 can be formed by the same method as each of the layers from the hole injection layer 3 to the electron transport layer 7 described above, and can be formed by, for example, a wet film formation method or a vacuum evaporation method.
In the case of the vacuum deposition method, for example, a deposition source is put in a crucible or a metal boat installed in the vacuum vessel, and the inside of the vacuum vessel is depressurized by a suitable vacuum pump. Thereafter, the crucible or metal boat is heated and evaporated to form the cathode buffer layer 8 on the substrate placed facing the crucible or metal boat.

アルカリ金属の蒸着は、例えばクロム酸アルカリ金属と還元剤をニクロムに充填したアルカリ金属ディスペンサーを用いて行うことができる。このディスペンサーを真空容器内で加熱することにより、クロム酸アルカリ金属が還元されてアルカリ金属が蒸発される。有機電子輸送材料とアルカリ金属とを共蒸着する場合は、有機電子輸送材料を真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで減圧する。その後、各々のるつぼ及びディスペンサーを同時に加熱して蒸発させ、るつぼおよびディスペンサーと向き合って置かれた基板上に陰極バッファ層8を形成することができる。このとき、陰極バッファ層8の膜厚方向において均一に共蒸着されるが、膜厚方向において濃度分布があってもよい。   The alkali metal can be deposited using, for example, an alkali metal dispenser in which nichrome is filled with an alkali metal chromate and a reducing agent. By heating the dispenser in a vacuum container, the alkali metal chromate is reduced and the alkali metal is evaporated. When the organic electron transport material and the alkali metal are co-evaporated, the organic electron transport material is put in a crucible installed in a vacuum vessel, and the inside of the vacuum vessel is depressurized with a suitable vacuum pump. Thereafter, each crucible and dispenser can be simultaneously heated and evaporated to form a cathode buffer layer 8 on the substrate placed facing the crucible and dispenser. At this time, co-evaporation is uniformly performed in the film thickness direction of the cathode buffer layer 8, but there may be a concentration distribution in the film thickness direction.

<陰極9>
陰極9は、陰極バッファ層8が有る場合には陰極バッファ層8の上に、陰極バッファ層8が無くて電子輸送層7が有る場合には電子輸送層7の上に、陰極バッファ層8と電子輸送層7が無くて正孔阻止層6が有る場合には正孔阻止層6の上に、陰極バッファ層8と電子輸送層7と正孔阻止層6とが無い場合には発光層5の上に形成される。
陰極9は、隣接する陽極側の層(陰極バッファ層8、電子輸送層7等)に電子を注入する役割を果たす。
<Cathode 9>
The cathode 9 is formed on the cathode buffer layer 8 when the cathode buffer layer 8 is provided, and on the electron transport layer 7 when the cathode buffer layer 8 is not provided and the electron transport layer 7 is provided. When there is no electron transport layer 7 and there is a hole blocking layer 6, when there is no cathode buffer layer 8, electron transport layer 7 and hole blocking layer 6 on the hole blocking layer 6, the light emitting layer 5. Formed on.
The cathode 9 serves to inject electrons into adjacent anode-side layers (cathode buffer layer 8, electron transport layer 7 and the like).

陰極9の形成には、前記陽極2に使用される材料を用いることが可能である。効率よく電子注入を行うには、仕事関数の低い金属を用いることが好ましく、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウム、アルミニウム、銀等の金属又はそれらの合金が用いられる。
低仕事関数合金電極を形成する素材の具体例としては、アルミニウム、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リチウム合金等が挙げられる。
The material used for the anode 2 can be used for forming the cathode 9. In order to perform electron injection efficiently, it is preferable to use a metal having a low work function, and metals such as tin, magnesium, indium, calcium, aluminum, silver, or alloys thereof are used.
Specific examples of the material for forming the low work function alloy electrode include aluminum, magnesium-silver alloy, magnesium-indium alloy, and aluminum-lithium alloy.

陰極9の膜厚は、通常は陽極2と同様であるが、低仕事関数金属からなる陰極を保護する目的で、陰極9の上に更に、仕事関数が高く大気に対して安定な金属層を積層することができる。この目的に適した金属としては、例えば、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロム、金、白金等の金属が挙げられる。   The thickness of the cathode 9 is usually the same as that of the anode 2, but for the purpose of protecting the cathode made of a low work function metal, a metal layer having a higher work function and being stable to the atmosphere is further formed on the cathode 9. Can be stacked. Examples of metals suitable for this purpose include metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold, and platinum.

<その他の構成層>
以上、図1に示す層構成の素子を中心に説明してきたが、本発明の有機電界発光素子は、陽極2及び陰極9と、発光層5との間には、その性能を損なわない限り、上記説明にある層の他に任意の層を有していてもよい。また、発光層の役割を担う最低一層の有機層以外の任意の層を省略してもよい。
<Other constituent layers>
As mentioned above, although it demonstrated centering on the element of the layer structure shown in FIG. 1, the organic electroluminescent element of this invention is between the anode 2 and the cathode 9, and the light emitting layer 5, unless the performance is impaired, You may have arbitrary layers other than the layer in the said description. Moreover, you may abbreviate | omit arbitrary layers other than the lowest layer organic layer which plays the role of a light emitting layer.

また、正孔阻止層6と同様の目的で、発光層5の陽極側に隣接する形で電子阻止層を設けることも可能である。電子阻止層は、発光層5から移動してくる電子が正孔注入層3あるいは正孔輸送層4に到達するのを阻止することで、発光層5内で正孔との再結合確率を増やし、生成した励起子を発光層5内に閉じこめる役割と、陽極側の層から注入された正孔を効率よく発光層5に注入する役割とがある。   Further, for the same purpose as the hole blocking layer 6, it is possible to provide an electron blocking layer adjacent to the anode side of the light emitting layer 5. The electron blocking layer increases the probability of recombination with holes in the light emitting layer 5 by preventing electrons moving from the light emitting layer 5 from reaching the hole injection layer 3 or the hole transport layer 4. There are a role of confining the generated excitons in the light emitting layer 5 and a role of efficiently injecting holes injected from the layer on the anode side into the light emitting layer 5.

更には、図1に示す層構成を複数段重ねた構造(発光ユニットを複数積層させた構造)とすることも可能である。この場合、段間(発光ユニット間)の界面層(陽極がITO、陰極がAlの場合はその2層)の代わりに、例えばV等を電荷発生層(CGL)として用いると、段間の障壁が少なくなり、発光効率・駆動電圧の観点からより好ましい。 Furthermore, it is possible to adopt a structure in which a plurality of layers shown in FIG. 1 are stacked (a structure in which a plurality of light emitting units are stacked). In this case, if V 2 O 5 or the like is used as the charge generation layer (CGL) instead of the interfacial layer (between the light emitting units) (two layers when the anode is ITO and the cathode is Al), the step This is more preferable from the viewpoint of luminous efficiency and driving voltage.

本発明の有機電界発光素子は、単一の素子、アレイ状に配置された構造からなる素子、陽極と陰極がX−Yマトリックス状に配置された構造のいずれにおいても適用することができる。
また、本発明の有機電界発光素子において、透明陰極を用いることにより、上方より(基板1とは反対側の面より)発光を取り出す、トップエミッション型の素子として形成することも可能である。
The organic electroluminescent element of the present invention can be applied to any of a single element, an element having a structure arranged in an array, and a structure in which an anode and a cathode are arranged in an XY matrix.
Moreover, in the organic electroluminescent element of the present invention, by using a transparent cathode, it is possible to form a top emission type element that takes out light emission from above (from the surface opposite to the substrate 1).

<本発明の有機電界発光素子の利点>
本発明有機電界発光素子は、高効率な発光素子であり、耐久性が高く、長寿命な有機電界発光素子が得られる。
<Advantages of the organic electroluminescence device of the present invention>
The organic electroluminescent element of the present invention is a highly efficient light emitting element, and an organic electroluminescent element having high durability and a long lifetime can be obtained.

[5.有機ELディスプレイ]
本発明の有機ELディスプレイは、上述した本発明の有機電界発光素子を表示にかかる構成に有するディスプレイである。
本発明の有機ELディスプレイは、少なくとも基板上に積層された有機電界発光素子を有し、有機電界発光素子として、上述した本発明の有機電界発光素子を使用することにより、例えば「有機ELディスプレイ」(オーム社、平成16年8月20日発行、時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載されているような有機ELディスプレイを形成することができる。
[5. Organic EL display]
The organic EL display of the present invention is a display having the above-described organic electroluminescent element of the present invention in a configuration for display.
The organic EL display of the present invention has at least an organic electroluminescent element laminated on a substrate. By using the above-described organic electroluminescent element of the present invention as the organic electroluminescent element, for example, “organic EL display” An organic EL display as described in (Ohm company, August 20, 2004 issue, Shizushi Tokito, Chiba Adachi, Hideyuki Murata) can be formed.

[6.本発明の利点]
本発明によれば、新規の湿式成膜用電荷輸送材料を提供できる。該湿式成膜用電荷輸送材料は、溶剤に対する溶解性が高く、また、耐熱性、溶剤に対する溶解性、電気化学的安定性、大気中における安定性の全てにおいて優れている。そのため、湿式成膜法で形成される有機電界発光素子の有機層に好適である。
また、該湿式成膜用電荷輸送材料を用いて湿式成膜法有機層を製造すると、有機電界発光素子は高効率、長寿命な有機電界発光素子が得られ、該有機電界発光素子は有機ELディスプレイに好適に用いることができる。
[6. Advantages of the present invention]
According to the present invention, a novel charge transport material for wet film formation can be provided. The charge transport material for wet film formation has high solubility in a solvent, and is excellent in all of heat resistance, solubility in a solvent, electrochemical stability, and stability in the atmosphere. Therefore, it is suitable for the organic layer of the organic electroluminescent element formed by a wet film forming method.
In addition, when an organic layer is formed by a wet film formation method using the charge transport material for wet film formation, an organic electroluminescence element having a high efficiency and a long lifetime is obtained. The organic electroluminescence element is an organic EL element. It can be suitably used for a display.

以下、本発明について、実施例を用いてさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りがない限り、以下の記載において部とは重量部のことを指す。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless it deviates from the summary. In addition, unless otherwise indicated, in the following description, a part refers to a weight part.

[測定・評価方法]
(溶剤に対する溶解度の評価方法)
内容量2mL〜10mLのガラス製サンプル瓶に、溶質Xg(通常3〜10mgの範囲)、溶剤(例えばトルエン)Ygを投入し、該サンプル瓶の蓋を閉じた後、撹拌、超音波照射あるいは加熱処理し、極力溶解を促進する。その後、室温(通常、10〜30℃)下、10時間以上静置したとき、目視あるいは顕微鏡観察により、析出物、懸濁あるいは層分離が確認されなかった場合、溶解度は(X/(X+Y)×100)%以上であり、析出物が確認された場合、溶解度は(X/(X+Y)×100)%未満であると判定した。
[Measurement and evaluation method]
(Method for evaluating solubility in solvents)
Into a glass sample bottle having an internal volume of 2 mL to 10 mL, solute Xg (usually in the range of 3 to 10 mg) and solvent (for example, toluene) Yg are charged, and the lid of the sample bottle is closed, followed by stirring, ultrasonic irradiation or heating. Treat and promote dissolution as much as possible. Thereafter, when the precipitate, suspension or layer separation was not confirmed by visual observation or microscopic observation when allowed to stand at room temperature (usually 10 to 30 ° C.) for 10 hours or more, the solubility was (X / (X + Y) When the precipitate was confirmed, the solubility was determined to be less than (X / (X + Y) × 100)%.

[実施例1]
式(I)で表わされるアントラセン化合物の一種を合成した。以下の式は、目的物1までの合成経路を表わしたものである。以下、各反応段階での実施内容について説明する。
[Example 1]
A kind of anthracene compound represented by the formula (I) was synthesized. The following formula represents the synthesis route to the target product 1. Hereinafter, the implementation content in each reaction stage is demonstrated.

中間体1(3.786g)、1,3−ジヨードベンゼン(1.348g)、トルエン(7ml:上記の合成経路では「Toluene」と表わす。)、1,2−ジメトキシエタン(35ml:上記の合成経路では「DME」と表わす。)の混合溶液を調製した。そこに、テトラキス(トリフェニルフォスフィン)パラジウム(0)(0.588g:上記の合成経路では「Pd(PPh」と表わす。)を混合し、次いで、リン酸三カリウム(5.21g:上記の合成経路では「KPO」と表わす。)と水(13ml)の混合溶液を混合し、加熱還流下、11時間撹拌した。 Intermediate 1 (3.786 g), 1,3-diiodobenzene (1.348 g), toluene (7 ml: represented as “Toluene” in the above synthesis route), 1,2-dimethoxyethane (35 ml: the above In the synthesis route, it is expressed as “DME”). Tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (0.588 g: represented as “Pd (PPh 3 ) 4 ” in the above synthesis route) was mixed therewith, and then tripotassium phosphate (5.21 g : In the above synthesis route, it is expressed as “K 3 PO 4 ”) and a mixed solution of water (13 ml), and the mixture was stirred for 11 hours while heating under reflux.

撹拌後、得られた溶液を、食塩水および1規定の塩酸水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥、ろ過、濃縮した。次に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(n−ヘキサン/塩化メチレン=3/1混合溶媒)で精製し、さらに塩化メチレン/エタノール/メタノールを用いて再結晶、高真空下における昇華精製(最高加熱温度330℃)により精製し、目的物1(1.0g)を得た。   After stirring, the resulting solution was washed with brine and 1N aqueous hydrochloric acid solution, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered and concentrated. Next, it is purified by silica gel column chromatography (n-hexane / methylene chloride = 3/1 mixed solvent), recrystallized using methylene chloride / ethanol / methanol, and sublimation purified under high vacuum (maximum heating temperature 330 ° C. The target product 1 (1.0 g) was obtained.

(目的物1の物性)
得られた目的物1に、DEI−MS(Desorption electron ionization mass spectrum:脱離電子イオン化法マススペクトル法)を行なった結果、m/z=734(M+)が得られた。
(Physical properties of target 1)
As a result of performing DEI-MS (Desorption electron ionization mass spectrum) on the obtained target product 1, m / z = 734 (M +) was obtained.

また、目的物1のガラス転移点は148℃、結晶化温度は観測されず、融点は307℃、重量減少開始温度は460℃であった。
室温下、トルエンに対する溶解度は1重量%以上であった。
Further, the glass transition point of the target product 1 was 148 ° C., the crystallization temperature was not observed, the melting point was 307 ° C., and the weight reduction starting temperature was 460 ° C.
At room temperature, the solubility in toluene was 1% by weight or more.

[実施例2]
式(I)で表わされるアントラセン化合物の一種を合成した。以下の式は、目的物2までの合成経路の一部(最初の部分)を表わしたものである。以下、各反応段階での実施内容について説明する。
[Example 2]
A kind of anthracene compound represented by the formula (I) was synthesized. The following formula represents a part (first part) of the synthesis route to the target product 2. Hereinafter, the implementation content in each reaction stage is demonstrated.

窒素雰囲気下、9−(2−ビフェニル)−10−ブロモアントラセン(10.0g、24.5mmol)のテトラハイドロフラン(100mL:上記合成経路では「THF」と表わす。)溶液を−78℃まで冷却し、1.6mol/Lのn−ブチルリチウム溶液(17.7mL,29.4mmol:上記合成経路では「n−CLi」と表わす。)をゆっくりと滴下し、−78℃で1時間攪拌した。トリメチルボレート(7.63g,73.4mmol:上記合成経路では「B(OMe)」と表わす。)をゆっくりと滴下し、−78℃で3時間、室温で3時間攪拌した。反応混合物を水にあけ、1N−塩酸(50mL:上記合成経路では「HClaq.」と表わす。)を加え、更に1時間攪拌した。
有機層を酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、無機物を濾過後、溶媒を減圧下に留去した。残渣に塩化メチレンを加えて懸濁洗浄し、9−(2−ビフェニル)−10−アントラセンボロン酸(4.70g,収率51.4%)を得た。
Under a nitrogen atmosphere, a solution of 9- (2-biphenyl) -10-bromoanthracene (10.0 g, 24.5 mmol) in tetrahydrofuran (100 mL: represented as “THF” in the above synthesis route) was cooled to −78 ° C. Then, a 1.6 mol / L n-butyllithium solution (17.7 mL, 29.4 mmol: represented by “n-C 4 H 9 Li” in the above synthesis route) was slowly added dropwise, and the solution was added at −78 ° C. Stir for hours. Trimethyl borate (7.63 g, 73.4 mmol: represented by “B (OMe) 3 ” in the above synthesis route) was slowly added dropwise and stirred at −78 ° C. for 3 hours and at room temperature for 3 hours. The reaction mixture was poured into water, 1N hydrochloric acid (50 mL: represented as “HClaq.” In the above synthesis route) was added, and the mixture was further stirred for 1 hour.
The organic layer was extracted with ethyl acetate, dried over magnesium sulfate, the inorganic substance was filtered, and the solvent was evaporated under reduced pressure. Methylene chloride was added to the residue for suspension washing, and 9- (2-biphenyl) -10-anthraceneboronic acid (4.70 g, yield 51.4%) was obtained.

得られた9−(2−ビフェニル)−10−アントラセンボロン酸から、9−(2−ビフェニル)−10−(3−ブロモフェニル)アントラセンを得る。
9- (2-biphenyl) -10- (3-bromophenyl) anthracene is obtained from the obtained 9- (2-biphenyl) -10-anthraceneboronic acid.

9−(2−ビフェニル)−10−アントラセンボロン酸(4.0g,10.7mmol)、3−ブロモヨードベンゼン(3.93g,13.9mmol:上記合成経路では「3−Bromoiodobenzene」と表わす。)のトルエン(50mL:上記合成経路では「Toluene」と表わす。)−エタノール(25mL:上記合成経路では「Ethanol」と表わす。)−2M炭酸カリウム(13mL:上記合成経路では「2M−NaCo」と表わす。)水溶液の混合溶媒を減圧脱気した後、窒素置換を行い、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(617mg,0.534mmol:上記合成経路では「Pd(PPh」と表わす。)を添加し、10時間加熱還流した。
反応混合物を室温まで急冷し、蒸留水を加えて5分間攪拌後、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾過した。減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに処し、9−(2−ビフェニル)−10−(3−ブロモフェニル)アントラセン(1.55g,収率30%)を得た。
9- (2-biphenyl) -10-anthraceneboronic acid (4.0 g, 10.7 mmol), 3-bromoiodobenzene (3.93 g, 13.9 mmol: represented by “3-Bromoiobenzone” in the above synthesis route) Toluene (50 mL: represented as “Toluene” in the above synthesis route) -ethanol (25 mL: represented as “Ethanol” in the above synthesis route) -2M potassium carbonate (13 mL: “2M-Na 2 Co 3 in the above synthesis route) After degassing the mixed solvent of the aqueous solution under reduced pressure, nitrogen substitution was performed, and tetrakistriphenylphosphine palladium (0) (617 mg, 0.534 mmol: represented as “Pd (PPh 3 ) 4 ” in the above synthesis route. .) Was added and heated to reflux for 10 hours.
The reaction mixture was quenched to room temperature, distilled water was added and stirred for 5 minutes, and then extracted with methylene chloride. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution and dried over magnesium sulfate, and the inorganic matter was filtered off. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 9- (2-biphenyl) -10- (3-bromophenyl) anthracene (1.55 g, yield 30%).

得られた9−(2−ビフェニル)−10−(3−ブロモフェニル)アントラセンから、ボロン酸エステル中間体を得る。
A boronate ester intermediate is obtained from the obtained 9- (2-biphenyl) -10- (3-bromophenyl) anthracene.

9−(2−ビフェニル)−10−(3−ブロモフェニル)アントラセン(1.2g,2.47mmol)、ビスピナコラートジボロン(0.75g,2.97mmol:上記合成経路では「B(Pin)」と表わす。)、酢酸カリウム(0.73g,7.41mmol:上記合成経路では「CHCOOK」と表わす。)、ジクロロジフェニルホスフィノフェロセンパラジウム(100mg,0.12mmol:上記合成経路では「PdCl(dppf)」と表わす。)のジオキサン(25mL:上記合成経路では「Dioxane」と表わす。)の混合溶液を調整し、6時間加熱還流した。
反応混合液を室温まで冷却し、減圧下に溶媒を留去し、塩化メチレン及び蒸留水を添加して固体を溶解させ、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、無機物を濾取後、濾液を減圧下に濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに処し、ボロン酸エステル中間体(1.02g,収率77%)を得た。
9- (2-biphenyl) -10- (3-bromophenyl) anthracene (1.2 g, 2.47 mmol), bispinacolatodiboron (0.75 g, 2.97 mmol): In the above synthesis route, “B (Pin) 2 ”), potassium acetate (0.73 g, 7.41 mmol: represented as“ CH 3 COOK ”in the above synthesis route), dichlorodiphenylphosphinoferrocenepalladium (100 mg, 0.12 mmol:“ in the above synthesis route, “ A mixed solution of dioxane (25 mL: represented as “Dioxane” in the above synthesis route) of PdCl 2 (dppf) ”) was prepared and heated to reflux for 6 hours.
The reaction mixture was cooled to room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure, methylene chloride and distilled water were added to dissolve the solid, and the organic layer was separated. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over magnesium sulfate, the inorganic matter was collected by filtration, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain a boronic acid ester intermediate (1.02 g, yield 77%).

得られたボロン酸エステル中間体から、ビスアントラセン中間体を得る。
A bisanthracene intermediate is obtained from the obtained boronic acid ester intermediate.

ボロン酸エステル中間体(1.0g,1.88mmol)、9−ブロモアントラセン(0.58g,2.25mmol:上記合成経路では「9−Bromoanthracene」と表わす。)のトルエン(24mL:上記合成経路では「Toluene」と表わす。)−エタノール(12mL:上記合成経路では「Ethanol」と表わす。)−2M炭酸ナトリウム(6mL:上記合成経路では「2M−NaCO」と表わす。)水溶液の混合溶媒を減圧脱気した後、窒素置換を行い、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(108mg,0.094mmol:上記合成経路では「Pd(PPh」と表わす。)を添加し、10時間加熱還流した。
反応混合物を室温まで急冷し、蒸留水を加えて5分間攪拌後、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾過した。減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに処し、ビスアントラセン中間体(1.03g,収率94%)を得た。
Boronate ester intermediate (1.0 g, 1.88 mmol), 9-bromoanthracene (0.58 g, 2.25 mmol: represented by “9-Bromoanthracene” in the above synthesis route) (24 mL: in the above synthesis route) “Toluene”.)-Ethanol (12 mL: represented as “Ethanol” in the above synthesis route) —2M sodium carbonate (6 mL: represented as “2M-Na 2 CO 3 ” in the above synthesis route) aqueous solvent After degassing under reduced pressure, nitrogen substitution was performed, tetrakistriphenylphosphine palladium (0) (108 mg, 0.094 mmol: represented by “Pd (PPh 3 ) 4 ” in the above synthesis route) was added, and the mixture was heated for 10 hours. Refluxed.
The reaction mixture was quenched to room temperature, distilled water was added and stirred for 5 minutes, and then extracted with methylene chloride. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution and dried over magnesium sulfate, and the inorganic matter was filtered off. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain a bisanthracene intermediate (1.03 g, yield 94%).

得られたビスアントラセン中間体から、ビスアントラセンモノブロモ中間体を得る。
A bisanthracene monobromo intermediate is obtained from the obtained bisanthracene intermediate.

ビスアントラセン中間体(1.01g,1.72mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(150mL:上記合成経路では「N,N−Dimethylformamide」と表わす。)溶液に、0℃でN−ブロモスクシンイミド(0.305g,1.72mmol:上記合成経路では「N−Bromosuccinimide」と表わす。)のN,N−ジメチルホルムアミド(25mL)溶液をゆっくりと滴下した。反応混合物を50℃で8時間攪拌した後、室温まで冷却し、水にあけた。析出した結晶を濾過し、塩化メチレンに溶解させた。
飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、有機層を濃縮し、残渣にエタノールを加えて結晶を析出させた。結晶を濾別後、エタノール洗浄し、ビスアントラセンモノブロモ中間体(1.13g,収率99%(LC(液体クロマトグラフィー)95.5%,残りは原料))を得た。
In a solution of bisanthracene intermediate (1.01 g, 1.72 mmol) in N, N-dimethylformamide (150 mL: represented as “N, N-dimethylformamide” in the above synthesis route) at 0 ° C., N-bromosuccinimide (0 .305 g, 1.72 mmol: N, N-dimethylformamide (25 mL) solution of “N-bromosuccinimide” in the above synthetic route) was slowly added dropwise. The reaction mixture was stirred at 50 ° C. for 8 hours, then cooled to room temperature and poured into water. The precipitated crystals were filtered and dissolved in methylene chloride.
After washing with a saturated aqueous sodium chloride solution, the organic layer was concentrated, and ethanol was added to the residue to precipitate crystals. The crystals were separated by filtration and washed with ethanol to obtain a bisanthracene monobromo intermediate (1.13 g, yield 99% (LC (liquid chromatography) 95.5%, the rest is the raw material)).

得られたビスアントラセンモノブロモ中間体から、目的物2を得る。
The target product 2 is obtained from the obtained bisanthracene monobromo intermediate.

ビスアントラセンモノブロモ中間体(1.1g,1.66mmol)、3−(1−ピレニル)フェニルボロン酸(0.64g,2.0mmol:上記合成経路では「3−(1−pyrenyl)phenylboronic acid」と表わす。)のトルエン(48mL:上記合成経路では「Toluene」と表わす。)−エタノール(24mL:上記合成経路では「Ethanol」と表わす。)−2M炭酸ナトリウム(12mL:上記合成経路では「2M−NaCO」と表わす。)水溶液の混合溶媒を減圧脱気した後、窒素置換を行い、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0)(96mg,0.083mmol:上記合成経路では「Pd(PPh」と表わす。)を添加し、14時間加熱還流した。
反応混合物を室温まで急冷し、蒸留水を加えて5分間攪拌後、塩化メチレンで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、無機物を濾過した。減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに処し、目的物2(900mg,収率63%)を得た。
Bisanthracene monobromo intermediate (1.1 g, 1.66 mmol), 3- (1-pyrenyl) phenylboronic acid (0.64 g, 2.0 mmol: “3- (1-pyrenyl) phenylboronic acid” in the above synthesis route Toluene (48 mL: expressed as “Toluene” in the above synthesis route) -ethanol (24 mL: expressed as “Ethanol” in the above synthesis route) -2M sodium carbonate (12 mL: “2M− in the above synthesis route) This is expressed as “Na 2 CO 3 ”.) After degassing the mixed solvent of the aqueous solution under reduced pressure, nitrogen substitution was performed, and tetrakistriphenylphosphine palladium (0) (96 mg, 0.083 mmol: “Pd (PPh 3 ) in the above synthesis route” 4 ") was added and heated to reflux for 14 hours.
The reaction mixture was quenched to room temperature, distilled water was added and stirred for 5 minutes, and then extracted with methylene chloride. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution and dried over magnesium sulfate, and the inorganic matter was filtered off. The solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain the desired product 2 (900 mg, yield 63%).

(目的物2の物性)
得られた目的物2に、DEI−MS(Desorption electron ionization mass spectrum:脱離電子イオン化法マススペクトル法)を行なった結果、m/z=858(M+)が得られた。
(Physical properties of target 2)
As a result of performing DEI-MS (Desorption electron ionization mass spectrum) on the obtained target product 2, m / z = 858 (M +) was obtained.

また、目的物2のガラス転移点は142℃、結晶化温度は観測されず、融点は観測されず、重量減少開始温度は477℃であった。
室温下、トルエンに対する溶解度は1重量%以上であった。
Moreover, the glass transition point of the target product 2 was 142 ° C., the crystallization temperature was not observed, the melting point was not observed, and the weight reduction starting temperature was 477 ° C.
At room temperature, the solubility in toluene was 1% by weight or more.

[比較例1]
比較例として、以下の化合物のトルエンに対する溶解度を測定したところ、1重量%未満であった。
[Comparative Example 1]
As a comparative example, the solubility of the following compounds in toluene was measured and found to be less than 1% by weight.

[比較例2]
比較例として、以下の化合物のトルエンに対する溶解度を測定したところ、1重量%未満であった。
[Comparative Example 2]
As a comparative example, the solubility of the following compounds in toluene was measured and found to be less than 1% by weight.

[比較例3]
比較例として、以下の化合物のトルエンに対する溶解度を測定したところ、1重量%未満であった。
[Comparative Example 3]
As a comparative example, the solubility of the following compounds in toluene was measured and found to be less than 1% by weight.

[比較例4]
比較例として、以下の化合物のトルエンに対する溶解度を測定したところ、1重量%未満であった。
[Comparative Example 4]
As a comparative example, the solubility of the following compounds in toluene was measured and found to be less than 1% by weight.

[比較例5]
比較例として、以下の化合物のトルエンに対する溶解度を測定したところ、1重量%未満であった。
[比較例6]
比較例として、以下の化合物のトルエンに対する溶解度を測定したところ、1重量%未満であった。
[Comparative Example 5]
As a comparative example, the solubility of the following compounds in toluene was measured and found to be less than 1% by weight.
[Comparative Example 6]
As a comparative example, the solubility of the following compounds in toluene was measured and found to be less than 1% by weight.

[実施例3]
以下の製造法で有機電界発光素子を作成した。
[Example 3]
An organic electroluminescent element was prepared by the following manufacturing method.

(陽極の形成)
ガラス基板の上にインジウム・スズ酸化物(ITO)透明導電膜を150nmの厚さで成膜した(スパッタ成膜品、シート抵抗15Ω)。これに、通常のフォトリソグラフィ技術により2mm幅のストライプにパターニングして陽極を形成した。
パターン形成したITO基板を、アセトンによる超音波洗浄、純水による水洗、イソプロピルアルコールによる超音波洗浄の順で洗浄後、窒素ブローで乾燥させ、紫外線オゾン洗浄を行った。
(Formation of anode)
An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film was formed on a glass substrate with a thickness of 150 nm (sputtered film product, sheet resistance 15Ω). An anode was formed by patterning into a stripe having a width of 2 mm by a normal photolithography technique.
The patterned ITO substrate was cleaned in the order of ultrasonic cleaning with acetone, water with pure water, and ultrasonic cleaning with isopropyl alcohol, followed by drying with nitrogen blow and ultraviolet ozone cleaning.

(正孔注入層の形成)
陽極の上に正孔注入層を形成した。正孔注入層の材料として、下記に示す構造式の芳香族三級アミン高分子化合物(PB−1:重量平均分子量が29400、数平均分子量が12600)を用いて、電子受容性化合物(A−1)と共にスピンコートした。
(Formation of hole injection layer)
A hole injection layer was formed on the anode. As a material for the hole injection layer, an aromatic tertiary amine polymer compound (PB-1 having a weight average molecular weight of 29,400 and a number average molecular weight of 12,600) having the structural formula shown below is used. Spin-coated with 1).

スピンコートは、[表1]の条件で行なった。また、PB−1とA−1との使用比率は、PB−1:A−1=10:4(重量比)とした。
スピンコートを行なった後、260℃で180分の乾燥を行ない、膜厚30nmの均一な正孔注入層の薄膜を形成した。
The spin coating was performed under the conditions shown in [Table 1]. The use ratio of PB-1 and A-1 was PB-1: A-1 = 10: 4 (weight ratio).
After spin coating, drying was performed at 260 ° C. for 180 minutes to form a uniform hole injection layer thin film having a thickness of 30 nm.

(正孔輸送層)
正孔注入層の上に正孔輸送層を形成した。正孔輸送層の材料として、以下に示す化合物(HT−1)を用いて、スピンコートにより、正孔輸送層を形成した。
(Hole transport layer)
A hole transport layer was formed on the hole injection layer. A hole transport layer was formed by spin coating using the following compound (HT-1) as a material for the hole transport layer.

スピンコートは、[表2]の条件で行なった。スピンコートを行なった後、230℃で60分の乾燥を行ない、膜厚20nmの均一な正孔輸送層の薄膜を形成した。
The spin coating was performed under the conditions shown in [Table 2]. After spin coating, drying was performed at 230 ° C. for 60 minutes to form a uniform hole transport layer thin film having a thickness of 20 nm.

(発光層)
正孔輸送層の上に発光層を形成した。発光層の材料として、以下に示した化合物1(本発明のアントラセン化合物)、及び蛍光発光性のドーパント(D−1)を用いて、スピンコートにより発光層を形成した。
(Light emitting layer)
A light emitting layer was formed on the hole transport layer. A light emitting layer was formed by spin coating using the following compound 1 (anthracene compound of the present invention) and a fluorescent light emitting dopant (D-1) as materials for the light emitting layer.

スピンコートは、[表3]の条件で行なった。また、化合物1とD−1との使用比率は、化合物1:D−1=10:1(重量比)とした。
スピンコートを行なった後、100℃で60分の乾燥を行ない、膜厚50nmの均一な発光層の薄膜を形成した。
The spin coating was performed under the conditions shown in [Table 3]. Moreover, the use ratio of the compound 1 and D-1 was made into the compound 1: D-1 = 10: 1 (weight ratio).
After spin coating, drying was performed at 100 ° C. for 60 minutes to form a uniform light emitting layer thin film having a thickness of 50 nm.

(正孔阻止層・電子輸送層)
発光層の上に正孔阻止層、正孔阻止層の上に電子輸送層を形成した。
正孔阻止層の材料として、下記に示すHB−1を用いて、真空蒸着法により膜厚10nmの正孔阻止層を形成した。
次に、電子輸送層の材料として、下記に示すET−1を用いて、真空蒸着法により膜厚30nmの電子輸送層を形成した。
(Hole blocking layer / electron transport layer)
A hole blocking layer was formed on the light emitting layer, and an electron transporting layer was formed on the hole blocking layer.
A hole blocking layer having a thickness of 10 nm was formed by vacuum deposition using HB-1 shown below as a material for the hole blocking layer.
Next, an electron transport layer having a film thickness of 30 nm was formed by vacuum deposition using ET-1 shown below as a material for the electron transport layer.

(陰極バッファ層・陰極)
電子輸送層の上に陰極バッファ層を、陰極バッファ層の上に陰極を形成した。
有機層と同様の真空蒸着法により、陰極バッファ層の材料としてフッ化リチウム(LiF)を用いて膜厚0.5nmの陰極バッファ層を、陰極の材料としてアルミニウムを用いて膜厚80nmの陰極を、それぞれ陽極であるITOストライプと直交する形状の2mm幅のストライプ状に積層した。
(Cathode buffer layer / cathode)
A cathode buffer layer was formed on the electron transport layer, and a cathode was formed on the cathode buffer layer.
Using a vacuum deposition method similar to that for the organic layer, a cathode buffer layer having a thickness of 0.5 nm using lithium fluoride (LiF) as a material for the cathode buffer layer, and a cathode having a thickness of 80 nm using aluminum as the cathode material. These were laminated in a 2 mm wide stripe shape orthogonal to the ITO stripe as the anode.

以上の様にして、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子が得られた。この素子からは、ELピーク波長462nmの青色発光が得られた。なお、[実施例3]〜[実施例6]で得られた有機EL素子の特性及び駆動寿命をまとめて[表5]に示す。   As described above, an organic electroluminescent element having a light emitting area portion having a size of 2 mm × 2 mm was obtained. Blue light emission having an EL peak wavelength of 462 nm was obtained from this device. The characteristics and drive life of the organic EL elements obtained in [Example 3] to [Example 6] are summarized in [Table 5].

[実施例4]
発光層を形成する組成物として、本発明の化合物1及びD−1に加えて、電荷輸送性助剤として化合物E−1を用いて、スピンコートして発光層を形成した。
[Example 4]
As a composition for forming the light emitting layer, in addition to the compounds 1 and D-1 of the present invention, the light emitting layer was formed by spin coating using the compound E-1 as a charge transporting auxiliary agent.

具体的には、スピンコートを[表4]の条件で行なった。また、化合物1とD−1とE−1との使用比率は、化合物1:E−1:D−1=7.5:2.5:1(重量比)とした。
スピンコートを行なった後、100℃で60分の乾燥を行ない、膜厚50nmの均一な発光層の薄膜を形成した。
Specifically, spin coating was performed under the conditions of [Table 4]. Moreover, the use ratio of the compound 1, D-1, and E-1 was made into the compound 1: E-1: D-1 = 7.5: 2.5: 1 (weight ratio).
After spin coating, drying was performed at 100 ° C. for 60 minutes to form a uniform light emitting layer thin film having a thickness of 50 nm.

発光層を上記の方法で成膜した以外は、実施例3と同様にして、有機電界発光素子を得た。この素子からは、ELピーク波長467nmの青色発光が得られた。
An organic electroluminescent element was obtained in the same manner as in Example 3 except that the light emitting layer was formed by the above method. Blue light emission having an EL peak wavelength of 467 nm was obtained from this device.

[実施例5]
実施例4における化合物1:E−1:D−1の混合比を5:5:1としたこと以外は、実施例4と同様にして、有機電界発光素子を得た。この素子からは、ELピーク波長467nmの青色発光が得られた。
[Example 5]
An organic electroluminescent element was obtained in the same manner as in Example 4 except that the mixing ratio of Compound 1: E-1: D-1 in Example 4 was 5: 5: 1. Blue light emission having an EL peak wavelength of 467 nm was obtained from this device.

[実施例6]
実施例4における化合物1:E−1:D−1の混合比を2.5:7.5:1としたこと以外は、実施例4と同様にして、有機電界発光素子を得た。この素子からは、ELピーク波長467nmの青色発光が得られた。
[Example 6]
An organic electroluminescent element was obtained in the same manner as in Example 4 except that the mixing ratio of Compound 1: E-1: D-1 in Example 4 was 2.5: 7.5: 1. Blue light emission having an EL peak wavelength of 467 nm was obtained from this device.

[実施例7]
実施例3と同様の操作により得られた正孔注入層の薄膜上に、正孔輸送層として化合物HT−1を用いて、[表6]の条件でスピンコートして正孔輸送層を形成した。
スピンコートを行なった後、230℃で60分の乾燥を行ない、膜厚20nmの均一な正孔輸送層の薄膜を形成した。
[Example 7]
On the thin film of the hole injection layer obtained by the same operation as in Example 3, the hole transport layer was formed by spin coating under the conditions of [Table 6] using Compound HT-1 as the hole transport layer. did.
After spin coating, drying was performed at 230 ° C. for 60 minutes to form a uniform hole transport layer thin film having a thickness of 20 nm.

次いで、正孔輸送層の上に発光層を形成した。発光層の材料として、発光層として化合物1、及び蛍光発光性のドーパントD−1を用いて、スピンコートにより発光層を形成した。   Next, a light emitting layer was formed on the hole transport layer. As a material for the light emitting layer, a light emitting layer was formed by spin coating using Compound 1 as a light emitting layer and a fluorescent light emitting dopant D-1.

スピンコートは、[表7]の条件で行なった。また、化合物1とD−1との使用比率は、化合物1:D−1=10:1(重量比)とした。
スピンコートを行なった後、100℃で60分の乾燥を行ない、膜厚40nmの均一な発光層の薄膜を形成した。
The spin coating was performed under the conditions of [Table 7]. Moreover, the use ratio of the compound 1 and D-1 was made into the compound 1: D-1 = 10: 1 (weight ratio).
After spin coating, drying was performed at 100 ° C. for 60 minutes to form a uniform light-emitting layer thin film having a thickness of 40 nm.

得られた発光層の上に、実施例3と同様の条件により、正孔阻止層、電子輸送層、陰極バッファ層および陰極を積層し、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子を得た。この素子からは、ELピーク波長461nmの青色発光が得られた。
なお、[実施例7]および[比較例7]で得られた有機電界発光素子の特性及び駆動寿命をまとめて[表9]に示す。
On the obtained light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, a cathode buffer layer, and a cathode are laminated under the same conditions as in Example 3, and organic electroluminescence having a light emitting area portion of 2 mm × 2 mm in size An element was obtained. Blue light emission having an EL peak wavelength of 461 nm was obtained from this device.
The characteristics and drive life of the organic electroluminescent elements obtained in [Example 7] and [Comparative Example 7] are summarized in [Table 9].

[比較例7]
実施例7と同様にして正孔輸送層までを形成した。次いで、正孔輸送層の上に発光層を形成した。発光層の材料として、発光層として化合物E−1、及び蛍光発光性のドーパントD−1を用いて、スピンコートにより発光層を形成した。
[Comparative Example 7]
In the same manner as in Example 7, the layers up to the hole transport layer were formed. Next, a light emitting layer was formed on the hole transport layer. As the material for the light emitting layer, the light emitting layer was formed by spin coating using Compound E-1 and the fluorescent light emitting dopant D-1 as the light emitting layer.

スピンコートは、[表8]の条件で行なった。また、化合物1とD−1との使用比率は、化合物1:D−1=10:1(重量比)とした。
スピンコートを行なった後、100℃で60分の乾燥を行ない、膜厚20nmの均一な発光層の薄膜を形成した。
The spin coating was performed under the conditions of [Table 8]. Moreover, the use ratio of the compound 1 and D-1 was made into the compound 1: D-1 = 10: 1 (weight ratio).
After spin coating, drying was performed at 100 ° C. for 60 minutes to form a uniform light-emitting layer thin film having a thickness of 20 nm.

得られた発光層の上に、実施例3と同様の条件により、正孔阻止層、電子輸送層、陰極バッファ層および陰極を積層し、2mm×2mmのサイズの発光面積部分を有する有機電界発光素子を得た。
この有機電界発光素子は、ELピーク波長こそ459nmの青色領域であったが、スペクトルの半値幅が77nmと広い青緑色発光であり、発光効率も低かった。
On the obtained light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, a cathode buffer layer, and a cathode are laminated under the same conditions as in Example 3, and organic electroluminescence having a light emitting area portion of 2 mm × 2 mm in size An element was obtained.
In this organic electroluminescent element, although the EL peak wavelength was a blue region of 459 nm, the emission half-width of the spectrum was as wide as 77 nm and the emission efficiency was low.

以上のように、本発明の化合物を用いることにより、高輝度かつ長寿命な有機電界発光素子を構築することが可能であった。   As described above, by using the compound of the present invention, it was possible to construct an organic electroluminescent device having high luminance and long life.

本発明の湿式成膜用電荷輸送材料は、溶剤に対する溶解性が優れている。そのため、成膜性、湿式プロセス適性に優れた有機電界発光素子用組成物に好適に用いることができ、さらには、それを用いた高効率、長寿命な有機電界発光素子に好適に用いることができる。また、このような有機電界発光素子は、有機ELディスプレイとして好適に用いることができる。   The charge transport material for wet film formation of the present invention is excellent in solubility in a solvent. Therefore, it can be suitably used for a composition for an organic electroluminescence device excellent in film formability and wet process suitability, and further suitable for use in a high-efficiency, long-life organic electroluminescence device using the composition. it can. Moreover, such an organic electroluminescent element can be used suitably as an organic EL display.

本発明の有機電界発光素子の構造の一例を、模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the structure of the organic electroluminescent element of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板
2 陽極
3 正孔注入層
4 正孔輸送層
5 発光層
6 正孔阻止層
7 電子輸送層
8 陰極バッファ層
9 陰極
10 有機電界発光素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode 3 Hole injection layer 4 Hole transport layer 5 Light emitting layer 6 Hole blocking layer 7 Electron transport layer 8 Cathode buffer layer 9 Cathode 10 Organic electroluminescent device

Claims (9)

下記式(I)で表わされるアントラセン化合物からなる
ことを特徴とする、湿式成膜用電荷輸送材料。
(式(I)中、Ar11〜Ar15は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。該置換基どうしが結合して環を形成していてもよい。但し、分子内に存在するAr11およびAr15の内、少なくとも1つは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。
aは2であり、bは0である。一分子内に複数個存在する、Ar11〜Ar15は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
Zは、置換基を有していてもよい、1,3−ベンゼンジイル基、1,3−ナフタレンジイル基、及び2,7−ナフタレンジイル基からなる群より選ばれる芳香族炭化水素基を表わす。Zに連結するアントラセン環はさらに置換基を有していてもよく、一分子内にあるアントラセン環同士は、互いに非共役である。)
A charge transport material for wet film formation, comprising an anthracene compound represented by the following formula (I):
(In the formula (I), Ar 11 to Ar 15 each independently represents a hydrogen atom or an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. The substituents are bonded to form a ring. Provided that at least one of Ar 11 and Ar 15 present in the molecule is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent.
a is 2 and b is 0. Ar 11 to Ar 15 , which are present in plural in one molecule, may be the same or different.
Z represents an optionally substituted aromatic hydrocarbon group selected from the group consisting of a 1,3-benzenediyl group, a 1,3-naphthalenediyl group, and a 2,7-naphthalenediyl group. . The anthracene ring linked to Z may further have a substituent, and the anthracene rings in one molecule are non-conjugated with each other. )
ガラス転移点が120℃以上であり、且つ、トルエンに対する溶解度が1重量%以上である
ことを特徴とする、請求項1に記載の湿式成膜用電荷輸送材料。
The charge transport material for wet film formation according to claim 1, wherein the glass transition point is 120 ° C or higher and the solubility in toluene is 1% by weight or higher.
請求項1又は請求項2に記載の湿式成膜用電荷輸送材料を含有する
ことを特徴とする、湿式成膜用電荷輸送材料組成物。
A charge transport material composition for wet film formation, comprising the charge transport material for wet film formation according to claim 1 or 2.
下記式(II)で表わされる電荷輸送性化合物を含有する
ことを特徴とする、請求項3に記載の湿式成膜用電荷輸送材料組成物。
(式中、Ar31は、置換基を有していてもよい炭素数6以上30以下の芳香族炭化水素基を表わす。また、Ar32およびAr33は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。但し、Ar32およびAr33の少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。Ar31が結合するアントラセン環は、更に置換基を有していてもよい。)
The charge transport material composition for wet film formation according to claim 3, comprising a charge transport compound represented by the following formula (II).
(In the formula, Ar 31 represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent. Ar 32 and Ar 33 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. An aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, provided that at least one of Ar 32 and Ar 33 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, anthracene to which Ar 31 is bonded; The ring may further have a substituent.)
請求項1又は請求項2に記載の湿式成膜用電荷輸送材料10重量部以上90重量部以下と、下記式(II)で表わされる電荷輸送性化合物10重量部以上90重量部以下とを含有することを特徴とする、請求項4に記載の湿式成膜用電荷輸送材料組成物。
(式中、Ar31は、置換基を有していてもよい炭素数6以上30以下の芳香族炭化水素基を表わす。また、Ar32およびAr33は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表わす。但し、Ar32およびAr33の少なくとも一方は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基である。Ar31が結合するアントラセン環は、更に置換基を有していてもよい。)
10 parts by weight or more and 90 parts by weight or less of the charge transport material for wet film formation according to claim 1 or 2 and 10 parts by weight or more and 90 parts by weight or less of the charge transporting compound represented by the following formula (II) The charge transport material composition for wet film formation according to claim 4, wherein:
(In the formula, Ar 31 represents an aromatic hydrocarbon group having 6 to 30 carbon atoms which may have a substituent. Ar 32 and Ar 33 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. An aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, provided that at least one of Ar 32 and Ar 33 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, anthracene to which Ar 31 is bonded; The ring may further have a substituent.)
溶剤を含有する
ことを特徴とする、請求項3〜5の何れか一項に記載の湿式成膜法用電荷輸送材料組成物。
The charge transport material composition for a wet film-forming method according to any one of claims 3 to 5, further comprising a solvent.
陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた有機発光層を有する有機電界発光素子であって、
請求項1又は請求項2に記載の湿式成膜用電荷輸送材料を含有する層を有する
ことを特徴とする、有機電界発光素子。
An organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and an organic light emitting layer provided between the two electrodes,
An organic electroluminescent device comprising a layer containing the charge transport material for wet film formation according to claim 1.
陽極、陰極、およびこれら両極間に設けられた有機発光層を有する有機電界発光素子であって、
請求項3〜6の何れか一項に記載の湿式成膜用電荷輸送材料組成物を含有する層を有する
ことを特徴とする、有機電界発光素子。
An organic electroluminescent device having an anode, a cathode, and an organic light emitting layer provided between the two electrodes,
It has a layer containing the charge transport material composition for wet film-forming as described in any one of Claims 3-6, The organic electroluminescent element characterized by the above-mentioned.
請求項7又は請求項8記載の有機電界発光素子を有する
ことを特徴とする、有機ELディスプレイ。
An organic EL display comprising the organic electroluminescent element according to claim 7.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010192474A (en) * 2009-02-13 2010-09-02 Mitsubishi Chemicals Corp Organic electroluminescent element, organic el display, and organic el lighting
JP5304301B2 (en) * 2009-02-13 2013-10-02 三菱化学株式会社 Organic electroluminescence device, organic EL display and organic EL lighting
JP2010192122A (en) * 2009-02-13 2010-09-02 Mitsubishi Chemicals Corp Organic electroluminescent element, organic el display, and organic el lighting
JP2010199295A (en) * 2009-02-25 2010-09-09 Mitsubishi Chemicals Corp Composition for organic electroluminescent element, organic electroluminescent element, organic el display and organic el lighting
JP5723127B2 (en) * 2009-09-28 2015-05-27 双葉電子工業株式会社 COMPOUND FOR ORGANIC EL ELEMENT AND ORGANIC EL ELEMENT
CN102666501B (en) 2009-12-14 2015-08-26 凸版印刷株式会社 Anthracene derivant and luminous element
WO2012102333A1 (en) * 2011-01-27 2012-08-02 Jnc株式会社 Novel anthracene compound and organic electroluminescence element using same
JP6328890B2 (en) * 2013-07-09 2018-05-23 出光興産株式会社 ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, MATERIAL FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT, AND ELECTRONIC DEVICE
JP6323774B2 (en) * 2014-01-20 2018-05-16 Tdk株式会社 Electroluminescent device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3838816B2 (en) * 1999-06-03 2006-10-25 Tdk株式会社 Compound for organic EL device and organic EL device
JP2003261472A (en) * 2002-03-07 2003-09-16 Mitsui Chemicals Inc Organic electroluminescent element and new hydrocarbon compound
JP3984190B2 (en) * 2003-05-30 2007-10-03 Tdk株式会社 Organic EL device
JP2005317450A (en) * 2004-04-30 2005-11-10 Tdk Corp Organic el element
CN101115702A (en) * 2005-02-10 2008-01-30 出光兴产株式会社 Bisanthracene derivative and organic electroluminescent element using same
DE102005058557A1 (en) * 2005-12-08 2007-06-14 Merck Patent Gmbh Organic electroluminescent device

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