[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JP5488582B2 - Manufacturing method of organic EL display device - Google Patents

Manufacturing method of organic EL display device Download PDF

Info

Publication number
JP5488582B2
JP5488582B2 JP2011285381A JP2011285381A JP5488582B2 JP 5488582 B2 JP5488582 B2 JP 5488582B2 JP 2011285381 A JP2011285381 A JP 2011285381A JP 2011285381 A JP2011285381 A JP 2011285381A JP 5488582 B2 JP5488582 B2 JP 5488582B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
organic
suction
substrates
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2011285381A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012089522A (en
Inventor
吉田  孝
達也 相馬
一行 江嶋
功 紙山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2011285381A priority Critical patent/JP5488582B2/en
Publication of JP2012089522A publication Critical patent/JP2012089522A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5488582B2 publication Critical patent/JP5488582B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

本発明は、有機EL表示装置の製造装置及び製造方法に関し、特に、レーザー熱転写法を用いて転写層を基板に転写する場合に適用される有機EL表示装置の製造装置及び製造方法に関する。   The present invention relates to a manufacturing apparatus and a manufacturing method of an organic EL display device, and more particularly to a manufacturing apparatus and a manufacturing method of an organic EL display device applied when a transfer layer is transferred to a substrate using a laser thermal transfer method.

近年、薄型表示装置の一つとして、有機電界発光素子である有機EL(Electro Luminescence)素子を用いた有機EL表示装置が注目されている。有機EL表示装置は、バックライトが不要な自発光型の表示装置であるため、視野角が広い、消費電力が少ないなどの利点を有している。   In recent years, an organic EL display device using an organic EL (Electro Luminescence) element which is an organic electroluminescence element has attracted attention as one of thin display devices. Since the organic EL display device is a self-luminous display device that does not require a backlight, it has advantages such as a wide viewing angle and low power consumption.

一般に、有機EL表示装置に用いられる有機EL素子は、有機材料からなる有機層を上下から電極(陽極及び陰極)で挟み込んだ構造になっている。そして、陽極に正の電圧、陰極に負の電圧をそれぞれ印加することにより、有機層に対して、陽極から正孔を注入するとともに、陰極から電子を注入することにより、有機層で正孔と電子が再結合して発光する仕組みになっている。   In general, an organic EL element used in an organic EL display device has a structure in which an organic layer made of an organic material is sandwiched between electrodes (anode and cathode) from above and below. Then, by applying a positive voltage to the anode and a negative voltage to the cathode, respectively, holes are injected into the organic layer from the anode, and electrons are injected from the cathode, so that holes are generated in the organic layer. The mechanism is such that electrons recombine and emit light.

一般に、有機EL素子の有機層は、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層などを含む複数の機能層によって構成されている。各々の機能層を形成する有機材料は、耐水性が低くてウェットプロセスを利用できない。このため、有機層の形成プロセスには真空蒸着法が採用されている。また、カラー化への対応として、R(赤),G(緑),B(青)の発光色に対応する3種類の有機材料を用いて、RGBの発光層を形成している。   Generally, the organic layer of the organic EL element is composed of a plurality of functional layers including, for example, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and the like. The organic material forming each functional layer has low water resistance and cannot use a wet process. For this reason, the vacuum deposition method is employed in the process of forming the organic layer. Further, as a measure for colorization, an RGB light emitting layer is formed by using three kinds of organic materials corresponding to R (red), G (green), and B (blue) emission colors.

上記RGBの発光層は、有機EL素子の形成に用いられる基板(以下、「素子形成用基板」と記す)上に所定の色配列で形成される。このため、素子形成用基板に対しては、RGBの発光層を画素ごとに塗り分けるようにパターニングする必要があり、このパターニング方法の一つとしてレーザー熱転写法が知られている(例えば、特許文献1参照)。   The RGB light emitting layers are formed in a predetermined color arrangement on a substrate (hereinafter referred to as “element forming substrate”) used for forming an organic EL element. For this reason, it is necessary to perform patterning on the element formation substrate so that the RGB light-emitting layer is applied separately for each pixel, and laser thermal transfer is known as one of the patterning methods (for example, Patent Documents). 1).

レーザー熱転写法は、転写層を備えた転写ドナーと被転写基板とを貼り合わせた状態で、転写ドナーの裏面側からレーザー光を照射することにより、光熱変換層でレーザー光を吸収して熱エネルギーに変換し、この熱エネルギーを利用して転写層の一部(レーザー光が照射された部分)を選択的に被転写基板に転写する方法である。   In the laser thermal transfer method, the transfer donor provided with the transfer layer and the substrate to be transferred are bonded to each other, and the laser light is absorbed by the photothermal conversion layer by irradiating the laser beam from the back side of the transfer donor. In this method, a part of the transfer layer (a part irradiated with laser light) is selectively transferred to the transfer substrate using this thermal energy.

上記レーザー熱転写法によって素子形成用基板に発光層を形成する場合は、レーザー光の照射によって発光層を素子形成用基板に転写した後に、転写ドナーと素子形成用基板を分離する必要がある。   When the light emitting layer is formed on the element forming substrate by the laser thermal transfer method, it is necessary to separate the transfer donor and the element forming substrate after transferring the light emitting layer to the element forming substrate by irradiation with laser light.

特開2002−110350号公報JP 2002-110350 A

しかしながら、転写ドナーと素子形成用基板とは、例えば、両者の間を真空に保持した状態で貼り合わせられているため、剥離帯電などの影響もあって分離が困難であった。特に、転写ドナーの基材としてガラス基板を用いた場合は、基板自身の撓みが生じるため、ますます困難なものとなっていた。こうした課題は、基板が大型になるほど、顕著になる。   However, since the transfer donor and the element forming substrate are bonded together, for example, in a state in which the transfer donor is held in a vacuum, separation is difficult due to the influence of peeling charging and the like. In particular, when a glass substrate is used as the base material for the transfer donor, the substrate itself is bent, which is increasingly difficult. Such a problem becomes more prominent as the substrate becomes larger.

本発明に係る有機EL表示装置の製造装置は、転写用基板に形成された転写層を有機EL素子の素子形成用基板にレーザー熱転写法によって転写した後、前記転写用基板と前記素子形成用基板とを分離する場合に用いられる有機EL表示装置の製造装置であって、前記転写用基板および前記素子形成用基板を保持した基板保持部と、前記転写用基板または前記素子形成用基板に吸着すべく列状に配置された吸着パッド列を所定の方向に複数並べて設けるとともに、基板保持部に対して複数の吸着パッド列を独立に接離移動可能に支持する複数の駆動手段を有する基板吸着ユニットとを備え、前記転写用基板または前記素子形成用基板に複数の吸着パッド列を吸着させた状態で、複数の駆動手段により複数の吸着パッド列を基板保持部から離間する方向に順に移動させることにより、転写用基板と素子形成用基板とを分離するものである。   The apparatus for manufacturing an organic EL display device according to the present invention transfers a transfer layer formed on a transfer substrate to an element formation substrate of an organic EL element by a laser thermal transfer method, and then transfers the transfer substrate and the element formation substrate. And a substrate holding unit holding the transfer substrate and the element forming substrate, and adsorbing to the transfer substrate or the element forming substrate. A plurality of suction pad rows arranged in a row in a predetermined direction, and a plurality of drive means for supporting the plurality of suction pad rows so as to be movable toward and away from the substrate holding portion independently. The plurality of suction pad rows are separated from the substrate holding portion by a plurality of driving means in a state where the plurality of suction pad rows are sucked to the transfer substrate or the element forming substrate. That by moving in the forward direction, it is to separate the transfer substrate and the element forming substrate.

この有機EL表示装置の製造装置においては、一方の基板に複数の吸着パッド列を吸着させた状態で、複数の駆動手段により複数の吸着パッド列を基板保持部から離間する方向に順に移動させる。基板分離の誘因となる動作と、基板分離を伝播する動作の組み合わせによって、2枚の基板が分離される。   In this organic EL display device manufacturing apparatus, a plurality of suction pad rows are sequentially moved in a direction away from the substrate holding portion by a plurality of driving means while a plurality of suction pad rows are sucked onto one substrate. The two substrates are separated by a combination of an operation that causes the substrate separation and an operation that propagates the substrate separation.

また、本発明に係る有機EL表示装置の製造方法は、転写用基板に形成された転写層を有機EL素子の素子形成用基板にレーザー熱転写法によって転写した後、前記転写用基板と前記素子形成用基板とを分離するために用いられる有機EL表示装置の製造方法であって、前記転写用基板と前記素子形成用基板とを貼り合わせる場合に、少なくとも一方の一部が他方の端部からはみ出すように貼り合わせるものである。   In addition, in the method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention, the transfer layer formed on the transfer substrate is transferred to the element formation substrate of the organic EL element by a laser thermal transfer method, and then the transfer substrate and the element formation are performed. A method of manufacturing an organic EL display device used for separating a substrate for use, wherein when the transfer substrate and the element formation substrate are bonded together, at least one part protrudes from the other end. Are pasted together.

この有機EL表示装置の製造方法においては、2枚の基板を貼り合わせる場合に、少なくとも一方の基板の一部が他方の基板の端部からはみ出すように貼り合わせることで、一方の基板にはみ出し部が確保される。このため、2枚の基板を分離する場合は、一方の基板のはみ出し部を利用して、2枚の基板を剥離させることが可能となる。   In this method of manufacturing an organic EL display device, when two substrates are bonded together, at least a part of one substrate is bonded so as to protrude from the end of the other substrate, so that the protruding portion is formed on one substrate. Is secured. For this reason, when separating the two substrates, the two substrates can be separated by using the protruding portion of one of the substrates.

本発明によれば、有機EL表示装置の製造工程に含まれる転写工程で、レーザー熱転写法により転写用基板から素子形成用基板に転写層を転写した後に、2枚の基板(素子形成用基板、転写用基板)を容易に分離することができる。   According to the present invention, in the transfer step included in the manufacturing process of the organic EL display device, the transfer layer is transferred from the transfer substrate to the element formation substrate by a laser thermal transfer method, and then the two substrates (element formation substrate, Transfer substrate) can be easily separated.

本発明で製造対象とする有機EL表示装置の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structural example of the organic electroluminescent display apparatus made into manufacture object by this invention. 有機EL素子の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structural example of an organic EL element. 有機EL素子の画素の色配列を示す図である。It is a figure which shows the color arrangement | sequence of the pixel of an organic EL element. 有機EL表示装置の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of an organic electroluminescence display. 転写用基板の構成と作製手順を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the structure and preparation procedure of a transfer substrate. 有機EL表示装置の製造装置の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of the manufacturing apparatus of an organic electroluminescence display. 図6の一部を拡大した図である。It is the figure which expanded a part of FIG. 製造装置の動作を説明する図(その1)である。It is FIG. (1) explaining operation | movement of a manufacturing apparatus. 製造装置の動作を説明する図(その2)である。It is FIG. (2) explaining operation | movement of a manufacturing apparatus. 製造装置の動作を説明する図(その3)である。It is FIG. (3) explaining operation | movement of a manufacturing apparatus. 製造装置の動作を説明する図(その4)である。It is FIG. (4) explaining operation | movement of a manufacturing apparatus. 製造装置の動作を説明する図(その5)である。It is FIG. (5) explaining operation | movement of a manufacturing apparatus. 基板突き上げ機構を備えた製造装置の構成と動作を説明する図である。It is a figure explaining the structure and operation | movement of a manufacturing apparatus provided with the board | substrate pushing-up mechanism. 基板の分離を誘因する動作例を示す図(その1)である。It is FIG. (1) which shows the operation example which induces separation of a board | substrate. 基板の分離を誘因する動作例を示す図(その2)である。It is FIG. (2) which shows the operation example which induces separation of a board | substrate. 基板貼り合わせ装置の構成例を示す平面図である。It is a top view which shows the structural example of a board | substrate bonding apparatus. 同一サイズの基板同士の貼り合わせ状態を示す図である。It is a figure which shows the bonding state of the board | substrates of the same size. 異なるサイズの基板同士の貼り合わせ状態を示す図(その1)である。It is a figure (the 1) which shows the bonding state of the board | substrates of different sizes. 異なるサイズの基板同士の貼り合わせ状態を示す図(その2)である。It is a figure (the 2) which shows the bonding state of the board | substrates of different sizes. 基板の分離を誘因する動作例を示す図(その3)である。FIG. 11 is a diagram (part 3) illustrating an operation example that causes separation of a substrate; 基板の分離を伝播する動作例を示す図である。It is a figure which shows the operation example which propagates isolation | separation of a board | substrate.

以下、本発明の具体的な実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。   Hereinafter, specific embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

<有機EL表示装置の構成>
図1は本発明で製造対象とする有機EL表示装置の構成例を示す断面図である。図示した有機EL表示装置1は複数の有機EL素子2を用いて構成されるものである。有機EL素子2は、R(赤),G(緑),B(青)の発光色の違いで単位画素ごとに区分されている。ただし、図1では、そのうちの1つだけを示している。
<Configuration of organic EL display device>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a configuration example of an organic EL display device to be manufactured in the present invention. The illustrated organic EL display device 1 is configured using a plurality of organic EL elements 2. The organic EL element 2 is divided for each unit pixel by the difference in emission colors of R (red), G (green), and B (blue). However, FIG. 1 shows only one of them.

有機EL素子2は、素子形成用基板3上に形成される。素子形成用基板3上には、図示しないスイッチング素子(例えば、薄膜トランジスタ)とともに、下部電極4、絶縁層5、有機層6及び上部電極7が順に積層されている。さらに、上部電極7は保護層8によって覆われ、この保護層8の上に接着層9を介して対向基板10が配置されている。   The organic EL element 2 is formed on the element forming substrate 3. On the element formation substrate 3, a lower electrode 4, an insulating layer 5, an organic layer 6, and an upper electrode 7 are sequentially laminated together with a switching element (not shown) such as a thin film transistor. Further, the upper electrode 7 is covered with a protective layer 8, and a counter substrate 10 is disposed on the protective layer 8 via an adhesive layer 9.

素子形成用基板3と対向基板10は、例えば、ガラス基板によって構成されるものである。素子形成用基板3と対向基板10は、それらの間に、下部電極4、絶縁層5、有機層6、上部電極7、保護層8、接着層9を挟み込むかたちで、互いに対向する状態に配置されている。   The element forming substrate 3 and the counter substrate 10 are constituted by, for example, glass substrates. The element forming substrate 3 and the counter substrate 10 are arranged so as to face each other with the lower electrode 4, the insulating layer 5, the organic layer 6, the upper electrode 7, the protective layer 8, and the adhesive layer 9 interposed therebetween. Has been.

下部電極4及び上部電極7は、一方がアノード電極となり、他方がカソード電極となる。下部電極4は、有機EL表示装置1が上面発光型である場合には高反射性材料で構成され、有機EL表示装置1が透過型である場合は透明材料で構成される。   One of the lower electrode 4 and the upper electrode 7 serves as an anode electrode, and the other serves as a cathode electrode. The lower electrode 4 is made of a highly reflective material when the organic EL display device 1 is a top emission type, and is made of a transparent material when the organic EL display device 1 is a transmissive type.

ここでは、一例として、有機EL表示装置1が上面発光型で、下部電極4がアノード電極である場合を想定している。この場合、下部電極4は、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、プラチナ(Pt)さらには金(Au)のように、反射率の高い導電性材料、又はその合金で構成される。   Here, as an example, it is assumed that the organic EL display device 1 is a top emission type and the lower electrode 4 is an anode electrode. In this case, the lower electrode 4 includes silver (Ag), aluminum (Al), chromium (Cr), iron (Fe), cobalt (Co), nickel (Ni), copper (Cu), tantalum (Ta), tungsten ( W), platinum (Pt), and gold (Au), such as a highly reflective conductive material or an alloy thereof.

なお、有機EL表示装置1が上面発光型で、下部電極4がカソード電極である場合は、下部電極4は、アルミニウム(Al),インジウム(In),マグネシウム(Mg)−銀(Ag)合金,リチウム(Li)−フッ素(F)化合物、リチウム-酸素(O)化合物のように、仕事関数が小さく、かつ、光反射率の高い導電性材料で構成される。   When the organic EL display device 1 is a top emission type and the lower electrode 4 is a cathode electrode, the lower electrode 4 is made of an aluminum (Al), indium (In), magnesium (Mg) -silver (Ag) alloy, Like a lithium (Li) -fluorine (F) compound and a lithium-oxygen (O) compound, it is composed of a conductive material having a small work function and high light reflectance.

また、有機EL表示装置1が透過型で、下部電極4がアノード電極である場合は、ITO(Indium−Tin−Oxide)やIZO(Inidium−Zinc−Oxide)のように、透過率の高い導電性材料で下部電極4を構成する。また、有機EL表示装置1が透過型で、下部電極4がカソード電極である場合は、仕事関数が小さく、かつ、光透過率の高い導電性材料で下部電極4を構成する。   Further, when the organic EL display device 1 is a transmissive type and the lower electrode 4 is an anode electrode, the conductivity is high such as ITO (Indium-Tin-Oxide) or IZO (Indium-Zinc-Oxide). The lower electrode 4 is made of a material. Further, when the organic EL display device 1 is a transmissive type and the lower electrode 4 is a cathode electrode, the lower electrode 4 is made of a conductive material having a small work function and high light transmittance.

絶縁層5は、下部電極4の周辺部を覆う状態で素子形成用基板3の上面に形成されている。絶縁層5には単位画素ごとに窓が形成されており、この窓の開口部分で下部電極4が露出している。絶縁層5は、例えばポリイミドやフォトレジスト等の有機絶縁材料や、酸化シリコンのような無機絶縁材料を用いて形成されるものである。   The insulating layer 5 is formed on the upper surface of the element forming substrate 3 so as to cover the periphery of the lower electrode 4. A window is formed in the insulating layer 5 for each unit pixel, and the lower electrode 4 is exposed at the opening of the window. The insulating layer 5 is formed using an organic insulating material such as polyimide or photoresist, or an inorganic insulating material such as silicon oxide.

有機層6は、例えば図2に示すように、素子形成用基板3側から順に、正孔注入層61、正孔輸送層62、発光層63及び電子輸送層64を積層した4層の積層構造を有するものである。   For example, as shown in FIG. 2, the organic layer 6 has a four-layer structure in which a hole injection layer 61, a hole transport layer 62, a light emitting layer 63, and an electron transport layer 64 are stacked in this order from the element forming substrate 3 side. It is what has.

正孔注入層61は、例えば、m−MTDATA〔4,4,4 -tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine〕によって形成されるものである。正孔輸送層62は、例えば、α−NPD[4,4-bis(N-1-naphthyl-N-phenylamino)biphenyl]によって形成されるものである。なお、材料はこれに限定されず、例えばベンジジン誘導体、スチリルアミン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、ヒドラゾン誘導体などの正孔輸送材料を用いることができる。また、正孔注入層61及び正孔輸送層62は、それぞれ複数層からなる積層構造であってもよい。   The hole injection layer 61 is formed of, for example, m-MTDATA [4,4,4-tris (3-methylphenylphenylamino) triphenylamine]. The hole transport layer 62 is formed of, for example, α-NPD [4,4-bis (N-1-naphthyl-N-phenylamino) biphenyl]. Note that the material is not limited to this, and hole transport materials such as a benzidine derivative, a styrylamine derivative, a triphenylmethane derivative, and a hydrazone derivative can be used. Moreover, the hole injection layer 61 and the hole transport layer 62 may each have a laminated structure including a plurality of layers.

発光層63は、RGBの色成分ごとに異なる有機発光材料によって形成されるものである。具体的には、赤色発光層63rは、例えば、ホスト材料となるADNに、ドーパント材料として2,6≡ビス[(4’≡メトキシジフェニルアミノ)スチリル]≡1,5≡ジシアノナフタレン(BSN)を30重量%混合したものにより構成される。緑色発光層63gは、例えば、ホスト材料となるADNに、ドーパント材料としてクマリン6を5重量%混合したものにより構成される。青色発光層63bは、例えば、ゲスト材料となるADNに、ドーパント材料として4,4’≡ビス[2≡{4≡(N,N≡ジフェニルアミノ)フェニル}ビニル]ビフェニル(DPAVBi)を2.5重量%混合したものにより構成される。各色の発光層63r,63g,63bは、例えば図3に示す画素の色配列に応じてマトリクス状に配置される。   The light emitting layer 63 is formed of a different organic light emitting material for each RGB color component. Specifically, the red light emitting layer 63r includes, for example, 2,6≡bis [(4′≡methoxydiphenylamino) styryl] ≡1,5≡dicyanonaphthalene (BSN) as a dopant material to ADN as a host material. It is composed of a mixture of 30% by weight. The green light emitting layer 63g is composed of, for example, 5% by weight of coumarin 6 as a dopant material mixed with ADN as a host material. For example, the blue light emitting layer 63b is formed by adding 4,4′≡bis [2≡ {4≡ (N, N≡diphenylamino) phenyl} vinyl] biphenyl (DPAVBi) as a dopant material to ADN as a guest material. Consists of a mixture by weight%. The light emitting layers 63r, 63g, and 63b for each color are arranged in a matrix according to the color arrangement of the pixels shown in FIG. 3, for example.

電子輸送層64は、例えば、8≡ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq3 )によって形成されるものである。   The electron transport layer 64 is made of, for example, 8≡hydroxyquinoline aluminum (Alq3).

上部電極7は、有機EL表示装置1が上面発光型である場合は、透明又は半透明の導電性材料で構成され、有機EL表示装置1が透過型である場合は、高反射性材料で構成される。   The upper electrode 7 is made of a transparent or translucent conductive material when the organic EL display device 1 is a top emission type, and is made of a highly reflective material when the organic EL display device 1 is a transmission type. Is done.

以上の素子形成用基板3、下部電極4、絶縁層5、有機層6、上部電極7により、有機EL素子2(赤色有機EL素子2r、緑色有機EL素子2g、青色有機EL素子2b)が構成されている。   The element forming substrate 3, the lower electrode 4, the insulating layer 5, the organic layer 6, and the upper electrode 7 constitute the organic EL element 2 (red organic EL element 2r, green organic EL element 2g, blue organic EL element 2b). Has been.

保護層8は、有機層6への水分の到達を防止するなどの目的で形成されるものである。このため、保護層8は、透水性及び吸水性の低い材料を用いて十分な膜厚で形成される。また、保護層8は、有機EL表示装置1が上面発光型である場合には、有機層6で発光させた光を透過させる必要があるため、例えば80%程度の光透過率を有する材料で構成される。   The protective layer 8 is formed for the purpose of preventing moisture from reaching the organic layer 6. For this reason, the protective layer 8 is formed with sufficient film thickness using a material with low water permeability and water absorption. Further, since the protective layer 8 needs to transmit light emitted from the organic layer 6 when the organic EL display device 1 is a top emission type, it is made of a material having a light transmittance of about 80%, for example. Composed.

また、上部電極7を金属薄膜で形成し、この金属薄膜を直接、絶縁性の保護層8を形成するものとすると、保護層8の形成材料として、無機アモルファス性の絶縁性材料、例えばアモルファスシリコン(α−Si)、アモルファス炭化シリコン(α−SiC)、アモルファス窒化シリコン(α−Si1-x Nx )、さらにはアモルファスカーボン(α−C)等を好適に用いることができる。このような無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないため透水性が低く、良好な保護層8となる。   Further, when the upper electrode 7 is formed of a metal thin film, and this metal thin film directly forms the insulating protective layer 8, an inorganic amorphous insulating material such as amorphous silicon is used as a material for forming the protective layer 8. (Α-Si), amorphous silicon carbide (α-SiC), amorphous silicon nitride (α-Si1-xNx), amorphous carbon (α-C), and the like can be suitably used. Such an inorganic amorphous insulating material does not constitute grains, and therefore has a low water permeability and becomes a good protective layer 8.

接着層9は、例えばUV(紫外線)硬化型樹脂によって形成されるものである。接着層9は、対向基板10を固着させるためのものである。   The adhesive layer 9 is formed of, for example, a UV (ultraviolet) curable resin. The adhesive layer 9 is for fixing the counter substrate 10.

なお、ここでの図示は省略したが、このような構成の有機EL表示装置1にカラーフィルタを組み合わせて設ける場合には、RGBの各色に対応する有機EL素子2r,2g,2bから発せられる発光のスペクトルのピーク波長近傍の光のみを透過するカラーフィルタを、各色の有機EL素子2r,2g,2bの光取り出し面側に設けることとする。   Although illustration is omitted here, when the organic EL display device 1 having such a configuration is provided with a combination of color filters, light emission emitted from the organic EL elements 2r, 2g, and 2b corresponding to each color of RGB. A color filter that transmits only light in the vicinity of the peak wavelength of the spectrum is provided on the light extraction surface side of each color organic EL element 2r, 2g, 2b.

<有機EL表示装置の製造フロー>
上記有機EL表示装置は、大きくは、図4に示すように、「転写用基板(転写ドナー)の作製工程:S1」と、「素子形成用基板の第1成膜工程:S2」と、「転写工程:S3」と、「素子形成用基板の第2成膜工程:S4」と、「封止工程:S5」とを経て製造されるものである。ここでは、各々の単位画素に共通の有機層となる正孔注入層61、正孔輸送層62及び電子輸送層64をそれぞれ素子形成用基板3にベタに成膜し、単位画素ごとに区分される発光層63(63r,63g,63b)をレーザー熱転写法で塗る分ける構成の有機EL表示装置1の製造フローについて説明する。
<Production flow of organic EL display device>
As shown in FIG. 4, the organic EL display device is roughly divided into a “transfer substrate (transfer donor) manufacturing step: S 1”, an “element forming substrate first film forming step: S 2”, and “ It is manufactured through “transfer process: S3”, “second film formation process of element forming substrate: S4”, and “sealing process: S5”. Here, a hole injection layer 61, a hole transport layer 62, and an electron transport layer 64, which are organic layers common to each unit pixel, are formed on the element forming substrate 3 in a solid manner, and are divided for each unit pixel. A manufacturing flow of the organic EL display device 1 having a structure in which the light emitting layer 63 (63r, 63g, 63b) is separately applied by a laser thermal transfer method will be described.

(転写用基板の作製工程:S1)
まず、図5に示すように、転写用基板13の表面に、光吸収性の金属層からなる光吸収層14を形成する。転写用基板13は、例えば、透明なガラス基板からなり、可撓性のシートであっても良い。ここでは、後述する「転写工程」で素子形成用基板3に貼り合わせられる面を転写用基板13の表面とし、その反対側(裏側)の面を転写用基板13の裏面と定義する。光吸収層14は、転写用基板13上に形成された転写層をレーザー転写方式で素子形成用基板3に転写するにあたって、光源から照射されるレーザー光を吸収して熱エネルギーに変換する光熱変換層となる。光吸収層14は、例えば、スパッタリング法によってクロムを200nm(ナノメートル)の膜厚で形成する。光吸収層14はモリブデンで形成してもよい。
(Transfer substrate manufacturing process: S1)
First, as shown in FIG. 5, a light absorbing layer 14 made of a light absorbing metal layer is formed on the surface of the transfer substrate 13. The transfer substrate 13 is made of, for example, a transparent glass substrate, and may be a flexible sheet. Here, the surface bonded to the element forming substrate 3 in the “transfer step” described later is defined as the front surface of the transfer substrate 13, and the opposite surface (back side) is defined as the back surface of the transfer substrate 13. When the transfer layer formed on the transfer substrate 13 is transferred to the element formation substrate 3 by the laser transfer method, the light absorption layer 14 absorbs laser light emitted from the light source and converts it into thermal energy. Become a layer. The light absorption layer 14 is formed of chromium with a film thickness of 200 nm (nanometers) by sputtering, for example. The light absorption layer 14 may be formed of molybdenum.

次に、光吸収層14を形成済みの転写用基板13を真空蒸着装置に導入し、この真空蒸着装置を用いて転写用基板13に、転写層となる発光層15を形成する。発光層15は、光吸収層14を覆うようにベタ(広い板状)に成膜する。この発光層15は、最終的に素子形成用基板3上に形成される発光層63の元になる薄膜層である。発光層15の厚さは、例えば30nmとする。このようにして、転写用基板13に少なくとも光熱変換層および転写層を形成することで、転写ドナーを作製する。   Next, the transfer substrate 13 on which the light absorption layer 14 has been formed is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus, and the light emitting layer 15 serving as the transfer layer is formed on the transfer substrate 13 using this vacuum vapor deposition apparatus. The light emitting layer 15 is formed in a solid (wide plate shape) so as to cover the light absorption layer 14. The light emitting layer 15 is a thin film layer that is the basis of the light emitting layer 63 that is finally formed on the element forming substrate 3. The thickness of the light emitting layer 15 is 30 nm, for example. In this manner, at least the photothermal conversion layer and the transfer layer are formed on the transfer substrate 13, thereby producing a transfer donor.

素子形成用基板3上に赤色発光層63r、緑色発光層63g及び青色発光層63bを形成する場合は、少なくとも3枚の転写用基板13を用いて、各色の発光層63r,63g,63bを別々に形成する。   When the red light emitting layer 63r, the green light emitting layer 63g, and the blue light emitting layer 63b are formed on the element forming substrate 3, the light emitting layers 63r, 63g, and 63b for each color are separately formed using at least three transfer substrates 13. To form.

(素子形成用基板の第1成膜工程:S2)
ガラス基板などからなる素子形成用基板3上に導電性材料の成膜により下部電極4を形成するとともに、単位画素の配列に合わせて下部電極4をパターニングする。下部電極4の厚さは、例えば100〜200nmとする。
(First film forming step of element forming substrate: S2)
The lower electrode 4 is formed on the element forming substrate 3 such as a glass substrate by forming a conductive material, and the lower electrode 4 is patterned in accordance with the arrangement of unit pixels. The thickness of the lower electrode 4 is, for example, 100 to 200 nm.

次に、上記の下部電極4を覆う状態で素子形成用基板3上に例えば酸化シリコンをスパッタリング法により成膜することにより絶縁層5を形成するとともに、この絶縁層5をリスグラフィ法によって開口させることにより、単位画素領域で下部電極4の表面を露出させる。絶縁層5の厚みは、例えば2μmとする。   Next, an insulating layer 5 is formed by depositing, for example, silicon oxide by sputtering on the element forming substrate 3 so as to cover the lower electrode 4, and the insulating layer 5 is opened by lithography. As a result, the surface of the lower electrode 4 is exposed in the unit pixel region. The thickness of the insulating layer 5 is 2 μm, for example.

次に、上記の絶縁層5とその開口部分で露出する下部電極4を覆う状態で素子形成用基板3上に例えばm−MTDATAを蒸着することにより正孔注入層61を形成する。正孔注入層61の厚さは、例えば25nmとする。   Next, a hole injection layer 61 is formed by evaporating, for example, m-MTDATA on the element formation substrate 3 so as to cover the insulating layer 5 and the lower electrode 4 exposed at the opening. The thickness of the hole injection layer 61 is, for example, 25 nm.

次に、上記の正孔注入層61を覆う状態で素子形成用基板3上に例えばα−NPDを蒸着することにより正孔輸送層62を形成する。正孔輸送層62の厚さは、例えば30nmとする。なお、ここでは図示を省略するが、正孔輸送層62の上に発光層63と同じ組成の材料を蒸着することにより発光補助層を形成してもよい。   Next, the hole transport layer 62 is formed by evaporating, for example, α-NPD on the element formation substrate 3 so as to cover the hole injection layer 61. The thickness of the hole transport layer 62 is, for example, 30 nm. Although not shown here, the light emission auxiliary layer may be formed by evaporating a material having the same composition as that of the light emitting layer 63 on the hole transport layer 62.

(転写工程:S3)
「転写用基板の作製工程:S1」で得られた転写用基板13と、「素子形成用基板の第1成膜工程:S2」で得られた素子形成用基板3とを、有機層同士(発光層15と正孔輸送層62)が向かい合うかたちで密着状態に配置することにより、素子形成用基板3と転写用基板13を貼り合わせる。こうした基板の貼り合わせは、真空雰囲気又は不活性ガス雰囲気で行なうことが好ましい。
(Transfer process: S3)
The transfer substrate 13 obtained in “Transfer Substrate Fabrication Step: S1” and the element formation substrate 3 obtained in “Element Formation Substrate First Film Formation Step: S2” are organic layers ( The light emitting layer 15 and the hole transport layer 62) are arranged in close contact with each other, whereby the element forming substrate 3 and the transfer substrate 13 are bonded together. Such substrate bonding is preferably performed in a vacuum atmosphere or an inert gas atmosphere.

また、素子形成用基板3と転写用基板13を貼り合わせた後、それらの基板間を真空引きすることにより、基板同士を確実に密着させることができる。ただし、素子形成用基板3上においては、絶縁層5が正孔注入層61や正孔輸送層62よりも十分に厚く形成されているため、各々の単位画素部分には、絶縁層5の厚さ相当(約2μm)の隙間が確保される。   Further, after the element forming substrate 3 and the transfer substrate 13 are bonded together, the substrates can be reliably brought into close contact with each other by evacuating the substrates. However, since the insulating layer 5 is formed to be sufficiently thicker than the hole injection layer 61 and the hole transport layer 62 on the element forming substrate 3, the thickness of the insulating layer 5 is included in each unit pixel portion. A gap equivalent to about 2 μm is secured.

次に、転写用基板13の裏面側から例えば波長800nmの赤外レーザー光を照射して光吸収層14に吸収させ、そこで変換された熱エネルギーを利用して、発光層15の一部を転写用基板13から素子形成用基板3に選択的に転写する。このとき、素子形成用基板3に転写される発光層15の転写パターンは、転写用基板13の基板面内におけるレーザー光の照射位置に依存したものとなる。これにより、素子形成用基板3上の単位画素部分に発光層63が形成される。こうして発光層15を転写した後は、素子形成用基板3と転写用基板13を分離する。基板の分離方法については後段で詳しく説明する。   Next, an infrared laser beam having a wavelength of, for example, 800 nm is irradiated from the back side of the transfer substrate 13 to be absorbed by the light absorption layer 14, and a part of the light emitting layer 15 is transferred using the converted heat energy. The substrate 13 is selectively transferred from the substrate 13 to the element forming substrate 3. At this time, the transfer pattern of the light emitting layer 15 transferred to the element forming substrate 3 depends on the irradiation position of the laser beam in the substrate surface of the transfer substrate 13. Thereby, the light emitting layer 63 is formed in the unit pixel portion on the element forming substrate 3. After the light emitting layer 15 is transferred in this way, the element forming substrate 3 and the transfer substrate 13 are separated. The substrate separation method will be described in detail later.

通常、1枚の転写用基板には1色分の発光層15しか形成されていないため、素子形成用基板3上にRGBの発光層63r,63g,63bを形成する場合は、それらの3色について上記同様の作業を繰り返すことになる。   Usually, only one light-emitting layer 15 is formed on one transfer substrate. Therefore, when forming the RGB light-emitting layers 63r, 63g, and 63b on the element forming substrate 3, those three colors are used. The same operation as described above will be repeated.

(素子形成用基板の第2成膜工程:S4)
まず、上記の「転写工程:S3」で得られた素子形成用基板3を用いて、正孔輸送層62及び発光層63を覆う状態で素子形成用基板3上に電子輸送層64を形成する。電子輸送層64は、例えば、8≡ヒドロキシキノリンアルミニウム(Alq3 )を真空蒸着法により表示領域の全域にベタで成膜することにより形成する。ここで記述する表示領域とは、複数の単位画素がマトリクス状に配列される矩形の領域をいう。電子輸送層64の厚さは、例えば20nmとする。
(Second film formation step of element forming substrate: S4)
First, the electron transport layer 64 is formed on the device formation substrate 3 so as to cover the hole transport layer 62 and the light emitting layer 63 using the device formation substrate 3 obtained in the above-mentioned “transfer process: S3”. . The electron transport layer 64 is formed, for example, by depositing 8≡hydroxyquinoline aluminum (Alq3) on the entire display area by a vacuum deposition method. The display area described here refers to a rectangular area in which a plurality of unit pixels are arranged in a matrix. The electron transport layer 64 has a thickness of 20 nm, for example.

次に、上記の電子輸送層64を覆う状態で素子形成用基板3上に上部電極7を形成する。上部電極7は、例えば、LiFを真空蒸着法により約0.3nm(蒸着速度〜0.01nm/sec)の膜厚で形成し、次いで、Mg-Ag合金を真空蒸着法により10nmの膜厚で形成することにより、2層の導電層として形成する。   Next, the upper electrode 7 is formed on the element forming substrate 3 so as to cover the electron transport layer 64. For the upper electrode 7, for example, LiF is formed with a film thickness of about 0.3 nm (deposition rate˜0.01 nm / sec) by a vacuum evaporation method, and then an Mg—Ag alloy is formed with a film thickness of 10 nm by a vacuum evaporation method. By forming, it forms as two conductive layers.

(封止工程:S5)
まず、上記の「素子形成用基板の第2成膜工程:S4」で得られた素子形成用基板3を用いて、上部電極7を覆う状態で素子形成用基板3上に保護層8を形成する。保護層8は、上部電極7の上に絶縁性材料又は導電性材料を成膜することにより形成する。その際、下地に対して影響を及ぼすことのない程度に、成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法、例えば蒸着法やCVD法によって保護層8を形成するとよい。
(Sealing process: S5)
First, the protective layer 8 is formed on the element forming substrate 3 so as to cover the upper electrode 7 using the element forming substrate 3 obtained in the above “second film forming step of element forming substrate: S4”. To do. The protective layer 8 is formed by depositing an insulating material or a conductive material on the upper electrode 7. At that time, the protective layer 8 may be formed by a film forming method with a small energy of film forming particles, for example, a vapor deposition method or a CVD method so as not to affect the base.

保護層8を導電性材料で形成する場合には、ITOやIXOのような透明導電性材料を用いる。また、例えば、アモルファス窒化シリコンで保護層8を形成する場合は、CVD法によって2〜3μmの膜厚に形成する。ただし、その場合は有機層6の劣化による輝度の低下を防止するため成膜温度を常温に設定し、さらに、保護層8の剥がれを防止するために膜のストレスが最小になる条件で成膜することが望ましい。また、保護層8の形成は、上部電極7を大気に暴露することなく、上部電極7の形成と同一の薄膜形成装置内で連続して行なうことが望ましい。これにより、大気による有機層6の劣化を防止することができる。   When the protective layer 8 is formed of a conductive material, a transparent conductive material such as ITO or IXO is used. For example, when the protective layer 8 is formed of amorphous silicon nitride, it is formed to a thickness of 2 to 3 μm by the CVD method. However, in that case, the film formation temperature is set to room temperature in order to prevent a decrease in luminance due to deterioration of the organic layer 6, and further, film formation is performed under the condition that the film stress is minimized in order to prevent the protective layer 8 from peeling off. It is desirable to do. The protective layer 8 is preferably formed continuously in the same thin film forming apparatus as that for forming the upper electrode 7 without exposing the upper electrode 7 to the atmosphere. Thereby, deterioration of the organic layer 6 by air | atmosphere can be prevented.

次に、上記の保護層8を覆う状態で素子形成用基板3上に接着層9を形成する。接着層9は、例えば、保護層8の上にスピンコート法によってUV硬化型樹脂を塗布することにより、絶縁層5の開口による段差を平坦化するかたちで形成する。   Next, the adhesive layer 9 is formed on the element forming substrate 3 so as to cover the protective layer 8. The adhesive layer 9 is formed, for example, by applying a UV curable resin on the protective layer 8 by spin coating to flatten the step due to the opening of the insulating layer 5.

次に、素子形成用基板3上に接着層9を介して対向基板10を固着し、有機EL表示装置1を完成させる。有機EL表示装置1が上面発光型で、これにカラーフィルタを組み合わせる場合は、予め対向基板10にカラーフィルタを形成しておく。   Next, the counter substrate 10 is fixed on the element forming substrate 3 through the adhesive layer 9 to complete the organic EL display device 1. When the organic EL display device 1 is a top emission type and is combined with a color filter, the color filter is formed on the counter substrate 10 in advance.

図6は上記転写工程S3で素子形成用基板3と転写用基板13を分離する際に用いられる有機EL表示装置の製造装置(基板分離装置)の構成例を示す斜視図である。図示した有機EL表示装置の製造装置21は、一方を転写用基板13としかつ他方を素子形成用基板3とする2枚の基板を大気圧中で分離する場合に用いられるものである。有機EL表示装置の製造装置21は、大きくは、全体的に長方形に形成された本体フレーム22と、この本体フレーム22に固定された基板保持部23と、本体フレーム22に沿って移動する基板吸着ユニット24と、基板収納カセット25とを備えた構成となっている。   FIG. 6 is a perspective view showing a configuration example of a manufacturing apparatus (substrate separation apparatus) for an organic EL display device used when separating the element formation substrate 3 and the transfer substrate 13 in the transfer step S3. The illustrated organic EL display device manufacturing apparatus 21 is used when two substrates, one of which is a transfer substrate 13 and the other of which is an element forming substrate 3, are separated at atmospheric pressure. The manufacturing apparatus 21 of the organic EL display device is roughly divided into a main body frame 22 formed in a generally rectangular shape, a substrate holding part 23 fixed to the main body frame 22, and a substrate suction that moves along the main body frame 22. The unit 24 and the substrate storage cassette 25 are provided.

本体フレーム22の外枠部分は平面視長方形に形成されている。基板保持部23は本体フレーム22の長手方向の一方側に設けられ、基板収納カセット25は本体フレーム22の長手方向の他方側に設けられている。また、本体フレーム22の長手方向では、所定の距離を隔てて基板保持部23と基板収納カセット25が配置されている。   The outer frame portion of the main body frame 22 is formed in a rectangular shape in plan view. The substrate holding part 23 is provided on one side in the longitudinal direction of the main body frame 22, and the substrate storage cassette 25 is provided on the other side in the longitudinal direction of the main body frame 22. Further, in the longitudinal direction of the main body frame 22, the substrate holding part 23 and the substrate storage cassette 25 are arranged at a predetermined distance.

基板保持部23は、本体フレーム22の枠内に長方形に区画されている。基板保持部23の長手方向は本体フレーム22の短手方向に一致し、基板保持部23の短手方向は本体フレーム22の長手方向に一致している。基板保持部23は、複数の吸着パッド26を用いて構成されている。   The substrate holding unit 23 is partitioned into a rectangle within the frame of the main body frame 22. The longitudinal direction of the substrate holding part 23 coincides with the short direction of the main body frame 22, and the short direction of the substrate holding part 23 coincides with the longitudinal direction of the main body frame 22. The substrate holding unit 23 is configured using a plurality of suction pads 26.

吸着パッド26はパッド支持部材27の上面に2つずつ取り付けられている。パッド支持部材27は平面視長方形の板状に形成されている。吸着パッド26は、パッド支持部材27の長手方向の両端部に配置されている。パッド支持部材27は、当該パッド支持部材27の長手方向が本体フレーム22の短手方向に一致する向きで配置されている。また、パッド支持部材27は、基板保持部23を区画する長方形の枠内に複数設けられている。具体的には、パッド支持部材27は、本体フレーム22の短手方向に4つと、本体フレーム22の長手方向に3つの、4×3の配列で合計12個設けられている。   Two suction pads 26 are attached to the upper surface of the pad support member 27. The pad support member 27 is formed in a rectangular plate shape in plan view. The suction pads 26 are arranged at both ends of the pad support member 27 in the longitudinal direction. The pad support member 27 is disposed so that the longitudinal direction of the pad support member 27 coincides with the short direction of the main body frame 22. A plurality of pad support members 27 are provided in a rectangular frame that partitions the substrate holding portion 23. Specifically, a total of twelve pad support members 27 are provided in a 4 × 3 array, four in the lateral direction of the main body frame 22 and three in the longitudinal direction of the main body frame 22.

基板吸着ユニット24は、本体フレーム22の長手方向において、基板保持部23と基板収納カセット25との間を往復移動可能に設けられている。基板吸着ユニット24は複数(図例では5つ)の吸着ヘッド30を有している。各々の吸着ヘッド30は共通の架台31に取り付けられている。架台31は平面視長方形に形成されている。また、架台31は本体フレーム22の長手方向から見て門型に形成されている。架台31の下端部には4つの車輪32が設けられ、各々の車輪32が回転することで架台31が本体フレーム22の長手方向に移動する構成となっている。   The substrate suction unit 24 is provided so as to be capable of reciprocating between the substrate holding portion 23 and the substrate storage cassette 25 in the longitudinal direction of the main body frame 22. The substrate suction unit 24 has a plurality (five in the illustrated example) of suction heads 30. Each suction head 30 is attached to a common base 31. The gantry 31 is formed in a rectangular shape in plan view. The gantry 31 is formed in a gate shape when viewed from the longitudinal direction of the main body frame 22. Four wheels 32 are provided at the lower end of the gantry 31, and the gantry 31 is configured to move in the longitudinal direction of the main body frame 22 as each wheel 32 rotates.

吸着ヘッド30は、支持板33、昇降用シリンダ34、一対のガイドブッシュ35、パッド取り付けベース36及び複数の吸着パッド37を用いて構成されている。支持板33は、架台31の短手方向に掛け渡すかたちで、架台31の上部に固定されている。支持板33は平面視長方形の板状に形成されている。支持板33には昇降用シリンダ34と一対のガイドブッシュ35が取り付けられている。昇降用シリンダ34は、支持板33の長手方向の中央部に配置されている。一対のガイドブッシュ35は、支持板33の長手方向で昇降用シリンダ34を挟み込むように昇降用シリンダ34の両側に配置されている。   The suction head 30 is configured using a support plate 33, a lifting cylinder 34, a pair of guide bushes 35, a pad mounting base 36, and a plurality of suction pads 37. The support plate 33 is fixed to the upper portion of the gantry 31 so as to extend in the short direction of the gantry 31. The support plate 33 is formed in a rectangular plate shape in plan view. An elevating cylinder 34 and a pair of guide bushes 35 are attached to the support plate 33. The raising / lowering cylinder 34 is disposed at the center in the longitudinal direction of the support plate 33. The pair of guide bushes 35 are arranged on both sides of the lifting cylinder 34 so as to sandwich the lifting cylinder 34 in the longitudinal direction of the support plate 33.

パッド取り付けベース36は、支持板33と対向する向きで、支持板33の下方に配置されている。パッド取り付けベース36は、平面視長方形の板状に形成されるとともに、本体フレーム22の短手方向(基板吸着ユニット24の長手方向)に所定の間隔で並べて配置されている。パッド取り付けベース36は、上述した昇降用シリンダ34と一対のガイドブッシュ35によって昇降可能に支持されている。昇降用シリンダ34は、パッド取り付けベース36を昇降動作させるアクチュエータ(駆動手段)となり、一対のガイドブッシュ35は、パッド取り付けベース36の昇降移動を案内する部材となる。昇降用シリンダ34は一つの吸着ヘッド30に一つずつ設けられている。このため、複数の吸着ヘッド30は互いに独立して駆動可能となっている。   The pad mounting base 36 is disposed below the support plate 33 so as to face the support plate 33. The pad attachment base 36 is formed in a rectangular plate shape in plan view, and is arranged side by side at a predetermined interval in the short side direction of the main body frame 22 (longitudinal direction of the substrate suction unit 24). The pad mounting base 36 is supported by the above-described lifting cylinder 34 and a pair of guide bushes 35 so as to be lifted and lowered. The lifting cylinder 34 serves as an actuator (driving means) that moves the pad mounting base 36 up and down, and the pair of guide bushes 35 serve as members that guide the lifting movement of the pad mounting base 36. One lifting / lowering cylinder 34 is provided for each suction head 30. For this reason, the plurality of suction heads 30 can be driven independently of each other.

複数の吸着パッド37は、パッド取り付けベース36の長手方向に沿って当該パッド取り付けベース36の下面に列状(一列)に配置され、これら複数の吸着パッド37によって吸着パッド列が構成されている。この吸着パッド列は、一つのパッド取り付けベース36につき1つ(1列)ずつ設けられている。このため、吸着パッド列は、パッド取り付けベース36と同様に、本体フレーム22の短手方向に複数並べて設けられている。この場合、1つの吸着ヘッド30(パッド取り付けベース36)に設けられる複数の吸着パッド37の配列方向と、基板吸着ユニット24に設けられる複数の吸着パッド列の並び方向は、互いに約90度異なる方向となる。すなわち、吸着パッド37の配列方向は、本体フレーム22の長手方向に一致し、吸着パッド列の並び方向は、本体フレーム22の短手方向に一致している。また、吸着パッド列を構成する各々の吸着パッド37は、分離時の基板の傾斜角に追従できるように、例えば首振り可能なパッド又はベロウ状のパッドを用いて構成されている。   The plurality of suction pads 37 are arranged in a row (one row) on the lower surface of the pad mounting base 36 along the longitudinal direction of the pad mounting base 36, and the plurality of suction pads 37 constitute a suction pad row. One suction pad row is provided for each pad mounting base 36 (one row). For this reason, a plurality of suction pad rows are arranged in the lateral direction of the main body frame 22 in the same manner as the pad mounting base 36. In this case, the direction of arrangement of the plurality of suction pads 37 provided on one suction head 30 (pad mounting base 36) and the direction of arrangement of the plurality of suction pad rows provided on the substrate suction unit 24 differ from each other by about 90 degrees. It becomes. That is, the arrangement direction of the suction pads 37 coincides with the longitudinal direction of the main body frame 22, and the arrangement direction of the suction pad rows coincides with the short direction of the main body frame 22. Further, each suction pad 37 constituting the suction pad row is configured using, for example, a pad that can be swung or a bellows-like pad so as to follow the inclination angle of the substrate at the time of separation.

ここで、上記複数の吸着ヘッド30に設けられた吸着パッド列のうち、本体フレーム22の短手方向において、一方端に配置された吸着パッド列の吸着力は、他の吸着パッド列の吸着力よりも大きく設定されている。具体的には、例えば図6及び図7に示すように、本体フレーム22の短手方向の一端から他端に向かって各々の吸着ヘッド30に識別番号No.1〜No.5(図7ではNo.4及びNo.5の吸着ヘッド30の表示を省略)を付し、最も端に配置されたNo.1の吸着ヘッド30が基板短辺部の近傍を複数の吸着パッド37で吸着するものとすると、No.1の吸着ヘッド30には第1の間隔で8個の吸着パッド37を配列し、それ以外のNo.2〜No.5の吸着ヘッド30には、それぞれ上記第1の間隔よりも広い第2の間隔で6個の吸着パッド37を配列する。   Here, among the suction pad rows provided in the plurality of suction heads 30, the suction force of the suction pad row disposed at one end in the short direction of the main body frame 22 is the suction force of the other suction pad rows. Is set larger than. Specifically, for example, as shown in FIGS. 6 and 7, the identification number No. is assigned to each suction head 30 from one end to the other end of the main body frame 22 in the short direction. 1-No. 5 (the display of the suction heads 30 of No. 4 and No. 5 is omitted in FIG. 7). If the suction head 30 of the first suction head sucks the vicinity of the short side of the substrate with a plurality of suction pads 37, No. 1 is used. No. 1 suction head 30 is arranged with eight suction pads 37 at a first interval. 2-No. In each of the five suction heads 30, six suction pads 37 are arranged at a second interval wider than the first interval.

また、No.1の吸着ヘッド30には、第1のパッド径(例えば、φ=20mm)を有する吸着パッド37を用い、それ以外のNo.2〜No.5の吸着ヘッド30には、それぞれ上記第1のパッド径よりも小さい第2のパッド径(例えば、φ=16mm)を有する吸着パッド37を用いる。これにより、No.1の吸着ヘッド30に設けられた吸着パッド列の吸着力は、それ以外のNo.2〜No.5の吸着ヘッド30に設けられた吸着パッド列の吸着力よりも大きくなる。   No. For the first suction head 30, a suction pad 37 having a first pad diameter (for example, φ = 20 mm) is used. 2-No. As the suction heads 30, the suction pads 37 having a second pad diameter (for example, φ = 16 mm) smaller than the first pad diameter are used. As a result, no. The suction force of the suction pad row provided in the suction head 30 of No. 2-No. It becomes larger than the suction force of the suction pad row provided in the fifth suction head 30.

また、上記複数の吸着ヘッド30のうち、本体フレーム22の短手方向において、一方端に配置された吸着パッド列を昇降させる昇降用シリンダ34の駆動力は、他の吸着パッド列を昇降させる昇降用シリンダ34の駆動力よりも大きく設定されている。具体的には、No.1の吸着ヘッド30には第1のシリンダボア径(例えば、φ=30mm)を有する昇降用シリンダ34を用い、それ以外のNo.2〜No.5の吸着ヘッド30には、それぞれ上記第1のシリンダボア径よりも小さい第2のシリンダボア径(例えば、φ=25mm)を有する昇降用シリンダ34を用いる。これにより、同圧のエアー供給を行った場合、No.1の吸着ヘッド30に設けられた昇降用シリンダ34の駆動力は、それ以外のNo.2〜No.5の吸着ヘッド30に設けられた昇降用シリンダ34の駆動力よりも大きくなる。   In addition, among the plurality of suction heads 30, in the short direction of the main body frame 22, the driving force of the lifting cylinder 34 that lifts and lowers the suction pad row disposed at one end is the lift that lifts and lowers the other suction pad rows. It is set to be larger than the driving force of the cylinder 34 for use. Specifically, no. As the suction head 30, a lifting cylinder 34 having a first cylinder bore diameter (for example, φ = 30 mm) is used. 2-No. For the suction heads 30 of 5, elevating cylinders 34 each having a second cylinder bore diameter (for example, φ = 25 mm) smaller than the first cylinder bore diameter are used. Thereby, when air supply of the same pressure was performed, No. The driving force of the elevating cylinder 34 provided in the suction head 30 of No. 1 2-No. It becomes larger than the driving force of the raising / lowering cylinder 34 provided in the 5 suction heads 30.

上記構成からなる有機EL表示装置の製造装置21を用いて2枚の基板を分離する場合は、当該基板の分離を以下の手順にしたがって行なう。まず、図8に示すように、基板吸着ユニット24を基板収納カセット25側に待避させた状態で、貼り合わせ済みの2枚の基板(以下、「貼り合わせ基板」とも記す)41,42を基板保持部23にセットする。2枚の基板41,42は、例えば、一方(上側)の基板41が素子形成用基板3であれば、他方(下側)の基板42は転写用基板13に相当するものとなり、一方(上側)の基板41が転写用基板13であれば、他方(下側)の基板42が素子形成用基板3に相当するものとなる。各々の基板41,42は長方形に形成されている。また、2枚の基板41,42は、基板長手方向が本体フレーム22の短手方向に一致し、基板短手方向が本体フレーム22の長手方向に一致する向きでセットされる。   When two substrates are separated using the organic EL display device manufacturing apparatus 21 having the above-described configuration, the substrates are separated according to the following procedure. First, as shown in FIG. 8, in the state where the substrate suction unit 24 is retracted to the substrate storage cassette 25 side, the two bonded substrates (hereinafter also referred to as “bonded substrates”) 41 and 42 are substrates. Set in the holding unit 23. For example, if one (upper) substrate 41 is the element forming substrate 3, the other (lower) substrate 42 corresponds to the transfer substrate 13, and one (upper) substrate 41, 42. If the substrate 41 is a transfer substrate 13, the other (lower) substrate 42 corresponds to the element forming substrate 3. Each board | substrate 41 and 42 is formed in the rectangle. The two substrates 41 and 42 are set in such a direction that the longitudinal direction of the substrate coincides with the short direction of the main body frame 22 and the short direction of the substrate coincides with the long direction of the main body frame 22.

基板保持部23においては、2枚の貼り合わせ基板41,42のうち、下側の基板42を各々の吸着パッド26に接触させて、各々の吸着パッド26を真空引きによって吸引することにより、下側の基板42を複数の吸着パッド26に吸着させる。これにより、2枚の基板41,42が基板保持部23に水平な姿勢で固定状態に保持される。   In the substrate holding part 23, the lower substrate 42 of the two bonded substrates 41, 42 is brought into contact with each suction pad 26, and each suction pad 26 is sucked by evacuation, thereby lowering the lower substrate 42. The substrate 42 on the side is sucked by the plurality of suction pads 26. Accordingly, the two substrates 41 and 42 are held in a fixed state in a horizontal posture by the substrate holding unit 23.

次に、基板吸着ユニット24を基板保持部23側に移動させることにより、各々の吸着ヘッド30に列状に設けられたすべての吸着パッド37を上側の基板41に対向させる。この場合、基板吸着ユニット24が備える複数(図例では5つ)の吸着パッド列は、基板長手方向に所定の間隔で並んだ状態となる。また、基板長手方向で一方端に配置された吸着パッド列は、基板41の一方の短辺部に沿ってライン状に配置され、基板長手方向で他方端に配置された吸着パッド列は、基板41の他方の短辺部に沿ってライン状に配置される。吸着パッド列の並び方向は、基板長手方向に限らず、基板短手方向であってもよいが、基板分離の容易性からすると、基板長手方向とするのが好ましい。   Next, by moving the substrate suction unit 24 to the substrate holding unit 23 side, all the suction pads 37 provided in a row in each suction head 30 are made to face the upper substrate 41. In this case, a plurality of (five in the illustrated example) suction pad rows included in the substrate suction unit 24 are arranged at a predetermined interval in the longitudinal direction of the substrate. Further, the suction pad row arranged at one end in the substrate longitudinal direction is arranged in a line along one short side portion of the substrate 41, and the suction pad row arranged at the other end in the substrate longitudinal direction is a substrate 41 is arranged in a line along the other short side portion. The arrangement direction of the suction pad rows is not limited to the longitudinal direction of the substrate, but may be the lateral direction of the substrate. However, from the standpoint of ease of substrate separation, the longitudinal direction of the substrate is preferable.

次に、複数の昇降用シリンダ34を同時に又は順に駆動することにより、図9に示すように、各々の吸着ヘッド30に設けられた吸着パッド37をパッド取り付けベース36とともに下降させる。これにより、昇降用シリンダ34の駆動にしたがって各々の吸着パッド列が基板保持部23に接近する方向で移動する。このため、すべての吸着パッド37が上側の基板41の上面に接触した状態となる。この状態で各々の吸着パッド37を真空引きによって吸引することにより、上側の基板41を複数の吸着パッド37に吸着させる。これにより、2枚の貼り合わせ基板41,42が基板保持部23と基板吸着ユニット24によって同時に吸着保持された状態となる。これまでの動作を本体フレーム22の長手方向から見ると、図10(A),(B)のようになる。   Next, by driving the plurality of lifting cylinders 34 simultaneously or sequentially, the suction pads 37 provided on each suction head 30 are lowered together with the pad mounting base 36 as shown in FIG. As a result, each suction pad row moves in a direction approaching the substrate holding portion 23 in accordance with the driving of the elevating cylinder 34. For this reason, all the suction pads 37 are in contact with the upper surface of the upper substrate 41. In this state, each suction pad 37 is sucked by evacuation, whereby the upper substrate 41 is sucked by the plurality of suction pads 37. As a result, the two bonded substrates 41 and 42 are sucked and held simultaneously by the substrate holding unit 23 and the substrate sucking unit 24. When the operation so far is viewed from the longitudinal direction of the main body frame 22, it is as shown in FIGS.

次に、図10(C)に示すように、複数の昇降用シリンダ34のうち、上記No.1の吸着ヘッド30に設けられた昇降用シリンダ34を駆動することにより、当該No.1の吸着ヘッド30に設けられた複数の吸着パッド37をパッド取り付けベース36とともに上昇させる。これにより、No.1の吸着ヘッド30では、昇降用シリンダ34の駆動にしたがって吸着パッド列が基板保持部23から離間する方向に移動する。このため、2枚の貼り合わせ基板41,42の一方の短辺部分には、上側の基板41を下側の基板42から引き剥がそうとする剥離力(引き上げ力)が作用し、この剥離力に屈して上側の基板41が下側の基板42から剥離する。   Next, as shown in FIG. 1 is driven to drive the lifting / lowering cylinder 34 provided in the suction head 30. The plurality of suction pads 37 provided on one suction head 30 are raised together with the pad mounting base 36. As a result, no. In one suction head 30, the suction pad row moves in a direction away from the substrate holding unit 23 in accordance with the driving of the elevating cylinder 34. For this reason, a peeling force (pulling force) for peeling the upper substrate 41 from the lower substrate 42 acts on one short side portion of the two bonded substrates 41 and 42, and this peeling force. Therefore, the upper substrate 41 is peeled off from the lower substrate 42.

特に、2枚の貼り合わせ基板41,42を分離するにあたっては、基板の分離を誘因するきっかけとなる動作が必要となる。この動作には剥離帯電などの影響もあって非常に大きな力が必要になる。これに対して、No.1の吸着ヘッド30では、他の吸着ヘッド30に比較して、吸着パッド37のパッド径を大きくしたり吸着パッド列の配置間隔を密にしたりすることで、吸着パッド列の吸着力を大きく確保し、かつ昇降用シリンダ34のボア径を大きくすることで、昇降の駆動力を大きく確保している。このため、No.1の吸着ヘッド30の駆動により、基板の分離を誘因するために必要な力を基板41に作用させて、2枚の基板41,42を剥離させることができる。ただし、この段階では2枚の基板41,42の一部が剥離するだけで、2枚の基板41,42が完全に分離するわけではない。   In particular, when separating the two bonded substrates 41 and 42, an operation that triggers the separation of the substrates is required. This operation requires a very large force due to the influence of peeling charging and the like. In contrast, no. In one suction head 30, the suction force of the suction pad rows is ensured to be large by increasing the pad diameter of the suction pads 37 or by increasing the spacing between the suction pad rows as compared to the other suction heads 30. In addition, by increasing the bore diameter of the lifting cylinder 34, a large driving force for lifting is secured. For this reason, no. By driving one suction head 30, it is possible to cause the substrate 41 to peel off the two substrates 41 and 42 by applying a force necessary to induce the separation of the substrates. However, at this stage, only a part of the two substrates 41 and 42 is peeled off, and the two substrates 41 and 42 are not completely separated.

次に、図10(D)に示すように、No.2の吸着ヘッド30に設けられた昇降用シリンダ34を駆動することにより、当該No.2の吸着ヘッド30に設けられた複数の吸着パッド37をパッド取り付けベース36とともに上昇させる。これにより、No.2の吸着ヘッド30では、昇降用シリンダ34の駆動にしたがって吸着パッド列が基板保持部23から離間する方向に移動する。   Next, as shown in FIG. 2 is driven to drive the elevating cylinder 34 provided in the suction head 30 of No. 2. The plurality of suction pads 37 provided on the second suction head 30 are raised together with the pad mounting base 36. As a result, no. In the second suction head 30, the suction pad row moves away from the substrate holder 23 in accordance with the driving of the lifting cylinder 34.

次に、図11(A)に示すように、No.3の吸着ヘッド30に設けられた昇降用シリンダ34を駆動することにより、当該No.3の吸着ヘッド30に設けられた複数の吸着パッド37をパッド取り付けベース36とともに上昇させる。これにより、No.3の吸着ヘッド30では、昇降用シリンダ34の駆動にしたがって吸着パッド列が基板保持部23から離間する方向に移動する。   Next, as shown in FIG. 3 by driving the lifting / lowering cylinder 34 provided in the suction head 30 of No. 3. The plurality of suction pads 37 provided on the three suction heads 30 are raised together with the pad mounting base 36. As a result, no. In the third suction head 30, the suction pad row moves away from the substrate holder 23 in accordance with the driving of the lifting cylinder 34.

次に、図11(B)に示すように、No.4の吸着ヘッド30に設けられた昇降用シリンダ34を駆動することにより、当該No.4の吸着ヘッド30に設けられた複数の吸着パッド37をパッド取り付けベース36とともに上昇させる。これにより、No.4の吸着ヘッド30では、昇降用シリンダ34の駆動にしたがって吸着パッド列が基板保持部23から離間する方向に移動する。   Next, as shown in FIG. 4 by driving the lifting / lowering cylinder 34 provided in the suction head 30 of No. 4. The plurality of suction pads 37 provided on the four suction heads 30 are raised together with the pad mounting base 36. As a result, no. In the fourth suction head 30, the suction pad row moves away from the substrate holder 23 in accordance with the driving of the lifting cylinder 34.

次に、図11(C)に示すように、No.5の吸着ヘッド30に設けられた昇降用シリンダ34を駆動することにより、当該No.5の吸着ヘッド30に設けられた複数の吸着パッド37をパッド取り付けベース36とともに上昇させる。これにより、No.5の吸着ヘッド30では、昇降用シリンダ34の駆動にしたがって吸着パッド列が基板保持部23から離間する方向に移動する。この段階で2枚の基板41,42は完全に分離した状態になる。   Next, as shown in FIG. No. 5 by driving the lifting / lowering cylinder 34 provided in the suction head 30. The plurality of suction pads 37 provided on the five suction heads 30 are raised together with the pad mounting base 36. As a result, no. In the suction head 30 of No. 5, the suction pad row moves in a direction away from the substrate holder 23 in accordance with the driving of the lifting cylinder 34. At this stage, the two substrates 41 and 42 are completely separated.

その後、図12に示すように、基板吸着ユニット24で基板41を吸着保持したまま、基板吸着ユニット24を基板収納カセット25側に移動することにより、基板収納カセット25の直上に基板41を配置し、この状態で複数の昇降用シリンダ34を同時に駆動することにより、各々の吸着ヘッド30に設けられた吸着パッド37をパッド取り付けベース36とともに下降させる。そして、すべての吸着パッド37による吸引を解除することにより、基板収納カセット25に基板41を収納する。これにより、基板吸着ユニット24から基板収納カセット25に基板41が移載される。   Thereafter, as shown in FIG. 12, the substrate 41 is placed immediately above the substrate storage cassette 25 by moving the substrate suction unit 24 toward the substrate storage cassette 25 while holding the substrate 41 by the substrate suction unit 24. In this state, by simultaneously driving the plurality of lifting cylinders 34, the suction pads 37 provided on each suction head 30 are lowered together with the pad mounting base 36. Then, the substrate 41 is stored in the substrate storage cassette 25 by releasing the suction by all the suction pads 37. As a result, the substrate 41 is transferred from the substrate suction unit 24 to the substrate storage cassette 25.

このように上記の有機EL表示装置の製造装置21を用いて2枚の基板41,42を分離する場合は、基板長手方向に並ぶNo.1〜No.5の吸着ヘッド30に対応する複数の吸着パッド列をNo.1からNo.5に向かって順に上昇させるように複数の昇降用シリンダ34を駆動することにより、最初にNo.1の吸着ヘッド30の吸着パッド列で基板の分離を誘因させる動作を行ない、次いで、No.2〜No.5の吸着ヘッド30の吸着パッド列で基板の分離を伝播させる動作を行なうことができる。このため、2枚の基板41,42を大きく変形させずに分離することができる。また、2枚の基板41,42が強く密着していても、No.1の吸着ヘッド30による引き上げ力を利用して、2枚の基板41,42の端部を剥離させることができる。   When the two substrates 41 and 42 are separated using the organic EL display device manufacturing apparatus 21 as described above, No. 1-No. A plurality of suction pad rows corresponding to the suction heads 30 of No. 1 to No. By driving a plurality of lifting cylinders 34 so as to be raised in order toward No. 5, first, The suction pad row of the first suction head 30 performs an operation for inducing separation of the substrate. 2-No. The operation of propagating the separation of the substrate can be performed by the suction pad row of the five suction heads 30. Therefore, the two substrates 41 and 42 can be separated without greatly deforming. Even if the two substrates 41 and 42 are in close contact with each other, no. The end portions of the two substrates 41 and 42 can be peeled using the pulling force by the single suction head 30.

また、上記の有機EL表示装置の製造装置21を使用すれば、例えばG6〜G8世代等の大型ガラス基板を取り扱う場合でも、基板の分離が可能となる。特に、G6〜G8世代等の大型ガラス基板を分離する場合は、基板の端部をメカチャック等で機械的に把持して持ち上げる場合などに比較して、分離のためのスペースを小さく抑えることができる。また、それに伴って、装置の高さ寸法や容積を小さく抑えることができる。さらに、基板の撓み等の変形量を小さく抑えて、割れ等の発生を防止することができる。   Moreover, if the manufacturing apparatus 21 of said organic EL display apparatus is used, even when handling large glass substrates, such as G6-G8 generation, for example, it will become possible to isolate | separate a board | substrate. In particular, when separating large glass substrates such as G6 to G8 generation, it is possible to keep the space for separation small compared to the case where the edge of the substrate is mechanically held and lifted by a mechanical chuck or the like. it can. Accordingly, the height dimension and volume of the apparatus can be kept small. Furthermore, the amount of deformation such as bending of the substrate can be suppressed to a small value, and the occurrence of cracks and the like can be prevented.

なお、上記実施形態においては、基板吸着ユニット24の長手方向で最端に配置されたNo.1の吸着ヘッド30を利用して、基板の分離を誘因する動作を行なうものとしたが、これに限らず、吸着ヘッド30とは別の機構を用いて基板の分離誘因を促すようにしてもよい。   In the above-described embodiment, No. 1 disposed at the extreme end in the longitudinal direction of the substrate suction unit 24. Although the operation of inducing the separation of the substrate is performed using the single suction head 30, the present invention is not limited to this, and the mechanism for inducing the separation of the substrate may be promoted using a mechanism different from the suction head 30. Good.

具体的には、例えば図13に示すような基板突き上げ機構43を用いることができる。基板突き上げ機構43は、突き上げ用シリンダ44と突き上げ部材45とを用いて構成されている。突き上げ用シリンダ44は、例えばエアーシリンダ等を用いて構成されるものである。突き上げ用シリンダ44は下向きに配置されている。   Specifically, for example, a substrate push-up mechanism 43 as shown in FIG. 13 can be used. The substrate push-up mechanism 43 is configured using a push-up cylinder 44 and a push-up member 45. The push-up cylinder 44 is configured using, for example, an air cylinder. The push-up cylinder 44 is disposed downward.

突き上げ部材45は、突き上げ用シリンダ44のピストンロッド先端部に取り付けられている。突き上げ部材45は、基板保持部23にセットされる2枚の貼り合わせ基板41,42のうち、上側の基板41のはみ出し部41Aを利用して当該基板41の端部を突き上げるものである。ここで記述する基板の「はみ出し部」とは、貼り合わせ状態の2枚の基板を、基板面に垂直な方向から見たときに、基板の外周部分で2枚の基板が重なり合わない部分(単板の状態で外側にはみ出した部分)をいう。   The push-up member 45 is attached to the tip end of the piston rod of the push-up cylinder 44. The push-up member 45 pushes up the end portion of the substrate 41 using the protruding portion 41 </ b> A of the upper substrate 41 out of the two bonded substrates 41 and 42 set on the substrate holding portion 23. The “protruding portion” of the substrate described here is a portion where the two substrates do not overlap each other at the outer peripheral portion of the substrate when the two bonded substrates are viewed from a direction perpendicular to the substrate surface ( The part that protrudes outside in the state of a single plate.

上記構成からなる基板突き上げ機構43においては、突き上げ用シリンダ44を駆動すると、これに伴うピストンロッドの進退動作にしたがって突き上げ部材45が昇降する。そこで、実際の基板分離動作では、まず、図13(A)に示すように、基板保持部23に貼り合わせ基板41,42をセットして、下側の基板42を各々の吸着パッド26に吸着させ、この状態のもとで、各々の吸着ヘッド30に設けられた吸着パッド列を上側の基板41に対向させるとともに、上側の基板41のはみ出し部41Aに基板突き上げ機構43の突き上げ部材45の一部を対向させる。   In the substrate push-up mechanism 43 having the above-described configuration, when the push-up cylinder 44 is driven, the push-up member 45 moves up and down according to the advance / retreat operation of the piston rod. Therefore, in the actual substrate separation operation, first, as shown in FIG. 13A, the bonded substrates 41 and 42 are set on the substrate holding portion 23, and the lower substrate 42 is sucked to each suction pad 26. In this state, the suction pad row provided in each suction head 30 is made to oppose the upper substrate 41, and one of the push-up members 45 of the substrate push-up mechanism 43 is placed on the protruding portion 41 A of the upper substrate 41. Opposite parts.

次に、図13(B)に示すように、複数の昇降用シリンダ34を同時に又は順に駆動することにより、各々の吸着ヘッド30に設けられた吸着パッド列をパッド取り付けベース36とともに下降させて、すべての吸着パッド37を上側の基板41に接触させ、この状態で各々の吸着パッド37を真空引きによって吸引することにより、上側の基板41を複数の吸着パッド37に吸着させる。   Next, as shown in FIG. 13B, the plurality of lifting cylinders 34 are driven simultaneously or sequentially to lower the suction pad row provided in each suction head 30 together with the pad mounting base 36, All the suction pads 37 are brought into contact with the upper substrate 41, and in this state, each of the suction pads 37 is sucked by evacuation, whereby the upper substrate 41 is sucked onto the plurality of suction pads 37.

次に、図13(C)に示すように、突き上げ用シリンダ44の駆動により突き上げ部材45を上昇させることにより、基板41のはみ出し部41Aを突き上げ部材45で突き上げて上方(基板42から離間する方向)に加圧するとともに、その突き上げ動作に連動して基板突き上げ機構43に最も近いNo.1の吸着ヘッド30の昇降用シリンダ34を駆動することにより、当該No.1の吸着ヘッド30に設けられた吸着パッド列をパッド取り付けベース36とともに上昇させる。これにより、2枚の貼り合わせ基板41,42の一方の短辺部分には、上側の基板41を下側の基板42から引き剥がそうとする剥離力(突き上げ力)が作用し、この剥離力に屈して上側の基板41が下側の基板42から剥離する。こうして基板分離の誘因となる動作が基板突き上げ機構43によって行なわれる。   Next, as shown in FIG. 13C, the push-up member 45 is raised by driving the push-up cylinder 44, so that the protruding portion 41 </ b> A of the board 41 is pushed up by the push-up member 45 and upward (in a direction away from the board 42). No. 2 closest to the substrate push-up mechanism 43 in conjunction with the push-up operation. 1 is driven to drive the lifting / lowering cylinder 34 of the suction head 30. The suction pad row provided in one suction head 30 is raised together with the pad mounting base 36. Thereby, a peeling force (push-up force) for peeling the upper substrate 41 from the lower substrate 42 acts on one short side portion of the two bonded substrates 41 and 42, and this peeling force. Therefore, the upper substrate 41 is peeled off from the lower substrate 42. In this way, the operation that causes the substrate separation is performed by the substrate push-up mechanism 43.

また、上述した基板分離の誘因動作とあわせて、基板41の短辺部分にはNo.1の吸着ヘッド30による引き上げ力が作用し、この引き上げ力によって基板41の短辺部分が引き上げられる。この場合、基板分離の誘因動作は基板突き上げ機構43によって行なわれるため、No.1の吸着ヘッド30のパッド吸着力やシリンダ駆動力は、他の吸着ヘッド30のそれと同等又はそれ以下であってもかまわない。   In addition to the above-described incentive action for substrate separation, the short side portion of the substrate 41 has No. A pulling force by one suction head 30 acts, and the short side portion of the substrate 41 is pulled up by this pulling force. In this case, the substrate separation inducing operation is performed by the substrate push-up mechanism 43. The pad suction force and cylinder driving force of one suction head 30 may be equal to or less than those of the other suction heads 30.

以降は、上記同様にNo.2〜No.5の吸着ヘッド30の突き上げ用シリンダ44を順に駆動し、これにしたがって各々の吸着パッド列を順に上昇させることにより、No.2〜No.5の吸着ヘッド30で基板の分離を伝播させる引き上げ動作を行なう。これにより、2枚の基板41,42が完全に分離した状態になる。   Thereafter, in the same manner as above, no. 2-No. No. 5 suction cylinder 30 is driven in order, and each suction pad row is raised in order according to this. 2-No. The pulling operation for propagating the separation of the substrate is performed by the five suction heads 30. As a result, the two substrates 41 and 42 are completely separated.

なお、基板分離の誘因動作としては、上述した突き上げ動作に限らず、例えば、図14(A)に示すように、上側の基板41のはみ出し部41Aを開閉式のクランプ部材53でクランプした後、図14(B)に示すように、クランプ部材53を垂直に又は円弧状に上昇させて基板41の端部を持ち上げる動作を利用してもよい。また、これ以外にも、例えば図15(A)に示すように、基板41の下方から押し上げシリンダ54のピストンロッドを上方に進出させることにより、図15(B)に示すように、基板41のはみ出し部41Aを押し上げシリンダ54で押し上げる動作を利用してもよい。   In addition, the triggering operation of the substrate separation is not limited to the above-described push-up operation, for example, after clamping the protruding portion 41A of the upper substrate 41 with an openable clamp member 53, as shown in FIG. As shown in FIG. 14B, an operation of lifting the end of the substrate 41 by raising the clamp member 53 vertically or in an arc shape may be used. In addition to this, for example, as shown in FIG. 15A, the piston rod of the push-up cylinder 54 is advanced from the lower side of the substrate 41 to move upward, as shown in FIG. You may utilize the operation | movement which pushes up the protrusion part 41A and pushes up with the cylinder 54. FIG.

また、基板41及び/又は基板42にはみ出し部を確保するにあたっては、図16に示すような基板貼り合わせ装置を用いて2枚の基板41,42を貼り合わせることが望ましい。図示した基板貼り合わせ装置は、基板41の四隅を保持する4つの突き当て式の位置決めブロック51,…と、基板42の四隅を保持する4つの突き上げ式の位置決めブロック52,…とを備えるものである。ここでは、2枚の基板41,42が同じサイズで長方形に形成されているものとする。   In order to secure the protruding portion on the substrate 41 and / or the substrate 42, it is desirable to bond the two substrates 41 and 42 using a substrate bonding apparatus as shown in FIG. The illustrated substrate bonding apparatus includes four abutting positioning blocks 51 that hold the four corners of the substrate 41 and four push-up positioning blocks 52 that hold the four corners of the substrate 42. is there. Here, it is assumed that the two substrates 41 and 42 are formed in a rectangular shape with the same size.

上記構成の基板貼り合わせ装置を用いて2枚の基板41,42を貼り合わせる場合は、一方の基板41をこれに対応する4つの位置決めブロック51に突き当てて保持するとともに、他方の基板42をこれに対応する4つの位置決めブロック52に突き当てて保持する。   When the two substrates 41 and 42 are bonded using the substrate bonding apparatus having the above-described configuration, one substrate 41 is held against the four positioning blocks 51 corresponding thereto, and the other substrate 42 is held. The four positioning blocks 52 corresponding to this are abutted and held.

その際、4つの位置決めブロック51と4つの位置決めブロック52は、予め基板41,42の長手方向及び短手方向に所定の寸法ずつ位置をずらして配置しておく。これにより、2枚の基板41,42は、基板面方向で基板長手方向及び基板短手方向に相対的に位置をずらした状態で配置されるため、この状態で2枚の基板41,42を真空引き等により貼り合わせる。これにより、図17(A),(B)に示すように、一方の基板41にはL字形のはみ出し部41Aが設けられ、他方の基板42にもL字形のはみ出し部42Aが設けられる。   At that time, the four positioning blocks 51 and the four positioning blocks 52 are arranged in advance by shifting their positions by predetermined dimensions in the longitudinal direction and the short direction of the substrates 41 and 42. As a result, the two substrates 41 and 42 are arranged with their positions relatively shifted in the substrate longitudinal direction and the substrate lateral direction in the substrate surface direction, and thus the two substrates 41 and 42 are placed in this state. Bond together by vacuuming. Thus, as shown in FIGS. 17A and 17B, one substrate 41 is provided with an L-shaped protruding portion 41A, and the other substrate 42 is also provided with an L-shaped protruding portion 42A.

なお、4つの位置決めブロック51と4つの位置決めブロック52は、予め位置をずらして配置しておく以外にも、例えば、2枚の基板41,42をそれぞれに対応する4つの位置決めブロック51,52で保持した後、4つの位置決めブロック51又は4つの位置決めブロック52を一体に移動させることにより、2枚の基板41,42の位置を相対的にずらすようにしてもよい。   In addition, the four positioning blocks 51 and the four positioning blocks 52 are arranged in advance by shifting the positions. For example, the two positioning blocks 51 and 52 correspond to the two substrates 41 and 42, respectively. After the holding, the positions of the two substrates 41 and 42 may be relatively shifted by moving the four positioning blocks 51 or the four positioning blocks 52 together.

また、2枚の基板41,42の外周サイズを大小異なるサイズとすれば、それらの基板41,42を貼り合わせた場合に、少なくともいずれかの基板の外周部にはみ出し部を確保することができる。例えば、図18(A),(B)に示すように、一方の基板41の外周サイズを他方の基板42の外周サイズよりも大きいサイズとした場合は、一方の基板41の外周部に長方形の環状にはみ出し部41Aを確保することができる。また、図19(A),(B)に示すように、一方の基板41の外周サイズを他方の基板42の外周サイズよりも小さいサイズとした場合は、他方の基板42の外周部に長方形の環状にはみ出し部42Aを確保することができる。   Further, if the outer peripheral sizes of the two substrates 41 and 42 are different in size, when the substrates 41 and 42 are bonded together, a protruding portion can be secured at least on the outer peripheral portion of the substrate. . For example, as shown in FIGS. 18A and 18B, when the outer peripheral size of one substrate 41 is larger than the outer peripheral size of the other substrate 42, a rectangular shape is formed on the outer peripheral portion of the one substrate 41. An annular protrusion 41A can be secured. Further, as shown in FIGS. 19A and 19B, when the outer peripheral size of one substrate 41 is smaller than the outer peripheral size of the other substrate 42, a rectangular shape is formed on the outer peripheral portion of the other substrate 42. An annular protrusion 42A can be secured.

このように2枚の基板41,42を基板貼り合わせ装置で貼り合わせる場合に、少なくとも一方の基板にはみ出し部を確保することにより、上記の転写工程S3で有機EL表示装置の製造装置21を用いて2枚の基板を分離する場合に、予め基板貼り合わせ時に確保したはみ出し部を利用して、素子形成用基板3と転写用基板13を分離することが可能となる。   As described above, when the two substrates 41 and 42 are bonded together by the substrate bonding apparatus, by using the organic EL display device manufacturing apparatus 21 in the above-described transfer step S3 by securing a protruding portion on at least one of the substrates. When the two substrates are separated, it is possible to separate the element forming substrate 3 and the transfer substrate 13 by using the protruding portion previously secured at the time of bonding the substrates.

また、2枚の貼り合わせ基板のうち、少なくとも一方の基板に、基板の短辺部と当該短辺部と直角をなす長辺部に沿うL字形のはみ出し部を確保することにより、当該L字形のはみ出し部を利用して、基板分離を誘因する動作と、基板分離を伝播する動作を行なうことが可能となる。基板分離を誘因する動作は、L字形のはみ出し部の一辺部を加圧することで行ない、基板分離を伝播する動作は、L字形のはみ出し部の他辺部を加圧することで行なう。そして、基板分離を誘因する動作によって2枚の基板を剥離させた後、基板分離を伝播する動作によって2枚の基板を完全に分離させる。   In addition, by securing an L-shaped protruding portion along the long side portion perpendicular to the short side portion of the substrate and the short side portion of the substrate to at least one of the two bonded substrates, It is possible to perform an operation for inducing substrate separation and an operation for propagating the substrate separation by using the protruding portion. The operation for inducing the substrate separation is performed by pressurizing one side portion of the L-shaped protruding portion, and the operation for propagating the substrate separation is performed by pressing the other side portion of the L-shaped protruding portion. Then, after the two substrates are separated by an operation that induces the substrate separation, the two substrates are completely separated by an operation that propagates the substrate separation.

基板分離を誘因する動作としては、例えば、上記図14(A),(B)に示したクランプ部材53による持ち上げ動作や、上記図15(A),(B)に示した押し上げシリンダ54による押し上げ動作、あるいは図20(A),(B)に示すように押し下げシリンダ55による押し下げ動作により、基板42のはみ出し部42Aを基板41から剥離するように加圧することでも実施可能である。   As an operation for inducing the separation of the substrate, for example, a lifting operation by the clamp member 53 shown in FIGS. 14A and 14B, or a lifting operation by the lifting cylinder 54 shown in FIGS. 15A and 15B. It is also possible to press the protruding portion 42A of the substrate 42 so as to peel from the substrate 41 by the operation or the pressing operation by the pressing cylinder 55 as shown in FIGS.

また、基板分離を伝播する動作としては、例えば、図21に示すように、基板41の長辺部に沿うはみ出し部41Aの長手方向に所定の間隔で複数(図例では5つ)の押し出し部材56a〜56eを配置し、これら複数の押し出し部材56a〜56eを基板分離開始側(突き出し機構等によって基板が剥離する側)から順(56a→56b→56c→56d→56e)に動作させて、各々の押し出し部材56a〜56eにより基板41のはみ出し部41Aを一方向(基板42から離間する方向)に押し出すように加圧することでも実施可能である。   As an operation for propagating the substrate separation, for example, as shown in FIG. 21, a plurality (five in the illustrated example) of pushing members at predetermined intervals in the longitudinal direction of the protruding portion 41A along the long side portion of the substrate 41. 56a to 56e are arranged, and the plurality of pushing members 56a to 56e are operated in order (56a → 56b → 56c → 56d → 56e) from the substrate separation start side (side from which the substrate is peeled off by the protruding mechanism or the like), respectively. It can also be implemented by pressing the protruding portion 41A of the substrate 41 in one direction (a direction away from the substrate 42) by the pushing members 56a to 56e.

1…有機EL表示装置、2…有機EL素子、3…素子形成用基板、13…転写用基板、15…発光層(転写層)、23…基板保持部、24…基板吸着ユニット、41,42…基板、41A,42A…はみ出し部、43…基板突き上げ機構   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display device, 2 ... Organic EL element, 3 ... Element formation substrate, 13 ... Transfer substrate, 15 ... Light emitting layer (transfer layer), 23 ... Substrate holding part, 24 ... Substrate adsorption unit, 41, 42 ... Substrate, 41A, 42A ... Projecting part, 43 ... Substrate push-up mechanism

Claims (3)

有機EL表示装置を構成するための有機EL素子を形成する工程において、転写層を備えた基板と有機EL素子の素子形成用基板とを貼り合わせ、レーザー熱転写法によって前記基板上の転写層を前記素子形成基板上に転写した後、前記基板と前記素子形成用基板とを分離するために用いられる有機EL表示装置の製造方法であって、
前記基板と前記素子形成用基板とを貼り合わせる場合に、少なくとも一方の一部が他方の端部からはみ出すように貼り合わせて少なくとも一方にL字形のはみ出し部を確保しておき、
前記基板と前記素子形成用基板とを分離する場合は、前記L字形のはみ出し部の一辺部を前記他方の基板から離間する方向に加圧して前記基板と前記素子形成用基板とを剥離させた後、前記L字形のはみ出し部の他辺部の長手方向に所定の間隔で複数配置された押し出し部材を前記L字形のはみ出し部の一辺部側から順次動作させることによって、前記L字形のはみ出し部の他辺部における複数の部分を前記L字形のはみ出し部の一辺部側から前記他方の基板から離間する方向に順次加圧して前記2枚の基板を完全に分離させる、
有機EL表示装置の製造方法。
In the step of forming the organic EL element for constituting the organic EL display device, the substrate provided with the transfer layer and the element forming substrate of the organic EL element are bonded together, and the transfer layer on the substrate is bonded by the laser thermal transfer method. A method for producing an organic EL display device used for separating the substrate and the element formation substrate after being transferred onto the element formation substrate,
When the substrate and the element forming substrate are bonded together, at least one of the substrates is bonded so that it protrudes from the other end, and at least one of the L-shaped protruding portions is secured.
When the substrate and the element formation substrate are separated, one side of the L-shaped protruding portion is pressed in a direction away from the other substrate to separate the substrate and the element formation substrate. Thereafter, the L-shaped protruding portion is operated by sequentially operating a plurality of pushing members arranged at predetermined intervals in the longitudinal direction of the other side portion of the L-shaped protruding portion from one side of the L-shaped protruding portion. Sequentially pressing a plurality of portions in the other side portion in a direction away from the other substrate from one side of the L-shaped protruding portion to completely separate the two substrates,
A method for manufacturing an organic EL display device.
前記基板と前記素子形成用基板とを貼り合わせる場合に、各々を基板面方向で相対的に位置をずらして貼り合わせる請求項1記載の有機EL表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an organic EL display device according to claim 1, wherein when the substrate and the element forming substrate are bonded together, the substrates are bonded to each other while being relatively displaced in the substrate surface direction. 前記基板と前記素子形成用基板とを貼り合わせる場合に、外周サイズの異なる基板同士を貼り合わせる請求項1記載の有機EL表示装置の製造方法。   The method for manufacturing an organic EL display device according to claim 1, wherein when the substrate and the element forming substrate are bonded together, the substrates having different outer peripheral sizes are bonded together.
JP2011285381A 2011-12-27 2011-12-27 Manufacturing method of organic EL display device Expired - Fee Related JP5488582B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011285381A JP5488582B2 (en) 2011-12-27 2011-12-27 Manufacturing method of organic EL display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011285381A JP5488582B2 (en) 2011-12-27 2011-12-27 Manufacturing method of organic EL display device

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007130012A Division JP4957375B2 (en) 2007-05-16 2007-05-16 Organic EL display device manufacturing equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012089522A JP2012089522A (en) 2012-05-10
JP5488582B2 true JP5488582B2 (en) 2014-05-14

Family

ID=46260875

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011285381A Expired - Fee Related JP5488582B2 (en) 2011-12-27 2011-12-27 Manufacturing method of organic EL display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5488582B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140140416A (en) 2013-05-29 2014-12-09 삼성디스플레이 주식회사 Method for manufacturing organic light emitting display apparatus and organic light emitting display apparatus manufactured by the same
CN106710442B (en) * 2015-10-21 2021-01-22 京东方科技集团股份有限公司 Backlight source separation equipment
KR102720884B1 (en) * 2019-01-28 2024-10-24 주성엔지니어링(주) Apparatus and method for delaminating substrate

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4974452B2 (en) * 2003-10-28 2012-07-11 株式会社半導体エネルギー研究所 Method for manufacturing semiconductor device
KR100600881B1 (en) * 2004-10-20 2006-07-18 삼성에스디아이 주식회사 laser induced thermal imaging apparatus, laminater and laser induced thermal imaging method using the apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012089522A (en) 2012-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4957375B2 (en) Organic EL display device manufacturing equipment
US7691783B2 (en) Transfer substrate, method for fabricating display device, and display device
JP5035295B2 (en) Organic electroluminescence display device
JP4793071B2 (en) Display device and manufacturing method of display device
TWI361018B (en) Display device and a method of manufacturing the s
WO2011001596A1 (en) Method for forming organic layer, method for producing organic electroluminescence element, organic electroluminescence element, and organic electroluminescence display device
WO2010113357A1 (en) Donor substrate, process for production of transfer film, and process for production of organic electroluminescent element
US7632714B2 (en) Method for manufacturing a display device
KR20070068283A (en) Transfer substrate, transfer method, and organic electroluminescent device manufacturing method
US20080233827A1 (en) Method for manufacturing display device
JP4450006B2 (en) Substrate for transfer and method for producing organic electroluminescent device
JP4396864B2 (en) Display device and manufacturing method thereof
JP5488582B2 (en) Manufacturing method of organic EL display device
JP4398358B2 (en) Laser thermal transfer device
JP4489682B2 (en) Laser thermal transfer apparatus, organic electroluminescence device manufacturing method, and organic electroluminescence device
JP2010123474A (en) Method of manufacturing organic el element, and transcription device of organic el layer
JP2010177034A (en) Method and apparatus for manufacturing display device
JP2011023119A (en) Method of manufacturing display device, method of manufacturing organic light-emitting element and transfer method
JP2008288017A (en) Manufacturing method of organic electroluminescent display device
JP2006309955A (en) Manufacturing method for organic electroluminescent element, and organic electroluminescent element
KR102050029B1 (en) Donor substrate, method of manufacturing a donor substrate, organic light emitting display device and method of manufacturing an organic light emitting display device
JP2007005107A (en) Light-emitting panel and method for manufacturing the same
JP2010192826A (en) Donor substrate and method of manufacturing display device
JP5093392B2 (en) Donor substrate, transfer method using the same, display device manufacturing method, and display device manufacturing system
JP2006085957A (en) Method of manufacturing self-luminous panel

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20121012

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121023

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121213

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20130215

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130903

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131015

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140128

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140210

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees