JP5309576B2 - ガス分解素子 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の参考例として挙げた、実施の形態1におけるガス分解素子10を示す図である。このガス分解素子10は、イオンとくにプロトン伝導性を有する固体電解質層11を挟んで、多孔質の導電材に触媒微粒子を担持させた触媒電極層6と、対向電極層7とが積層されたことを特徴とするものである。触媒電極層6は多孔質の導電性基体8により支持されている。また対向電極層7においても多孔質の導電材が触媒微粒子を担持しており、当該対向電極層7は、多孔質の導電性基体9によって支持されている。本実施の形態においては、図2に示すように、固体電解質層11が、絶縁粒子3と、無数の絶縁粒子3を含んで両電極6,7に、直接、接触するPFC系高分子層5とで構成される点にポイントがある。多孔質の触媒電極層6,7は、多孔質の導電性基体8,9と別に形成してもよいし、多孔質の導電性基体8,9の部分に触媒微粒子を担持した導電粒子を接触・保持させることによって形成してもよい。
図4は、本発明の実施の形態2のガス分解素子における固体電解質層11を示す平面図である。本実施の形態におけるガス分解素子の固体電解質層11では、PFC系高分子5の単相領域11pと、その周囲に広がる絶縁粒子3とPFC系高分子5との混合領域11mとが設けられる点に特徴を有する。単相領域11pの平面形状は問わない。そして、その単相領域11pおよび混合領域11mの上下(表裏)面に露出するようにPFC系高分子層5が配置されている。図4に示す固体電解質層11では、単相領域11pは数個〜十数個であり、その直径は、固体電解質層11の辺の数分の一〜十数分の一程度である。しかし、単相領域11pは、図5に示すように、数百個〜数千個あってもよい。図4および図5の場合、単相領域11pの面積率は、25%以上85%以下とするのが好ましい。本実施の形態におけるガス分解素子10において、MEA(Membrane Electrode Assembly)における固体電解質11の両側の構造(触媒電極層6,7等)は、図1に示すガス分解素子10の構造と同じである。
1.複合膜の作製
(A)(PFA/PFC系高分子)複合膜
PFAとPFC系高分子のナフィオンとの複合膜を次のようにして作製した。PFAには旭硝子株式会社製TW3507を、PFC系高分子にはナフィオン溶液(12wt%)を、また溶媒には3M株式会社製FC−95溶液(10wt%)を、用いた。PFAの粒径は0.2μmを標準としたが、粒径1μmのものも用いた(参考例3)。固体電解質の中でPFAの割合を標準の20重量%とする場合には、PFA:ナフィオン溶液:FC−95溶液を、重量比で5:125:1の割合で調製した。PFAの重量割合20重量%のほかに、50重量%のものも調製した(参考例4)。これら混合調整液を、1回塗布毎に、50℃に30分間保持して乾燥し、次いで常温で真空中に30分間保持して乾燥するという工程を、繰り返して約20μm厚みの固体電解質層を得た。ただし、参考例5のみは、繰り返し数を多くして約50μm厚みの固体電解質層を得た。PFAとナフィオンとの馴染みを良くする目的で、予熱250℃×10分間を行い、次いで本加熱350℃×3分間の処理を行った。本発明例6を除いて残りのすべての例に対して、上記予熱および本加熱からなる加熱処理を行って、融合層を形成した。
図3の構造を有する参考例2は、上記(A)の作製方法にて中心層を作製した後、さらにこの中心層に対し、20wt%ナフィオン溶液を両側に所定厚みとなるまで塗布し、120℃で30分の加熱処理を繰り返し行い作製した。
単層領域を設けた本発明例6および7の作製は、直系2mmφの突起が10コ×10コ配列されている型に混合調整液を塗布し、乾燥後に型から剥離させる方法以外は基本的に上記と同じ方法で作製した。
(B)(PVdF(登録商標)/PFC系高分子)複合膜
上記(A)におけるPFAに代えて、PVdF(登録商標)を用いた。PVdF(登録商標)はアルケマ株式会社製の粒径1μmのカイナー粉末とした。その他、FC−95溶液等は上記(A)と同じであり、同じ方法に従って複合膜を作製した。
(C)PVdF(登録商標)の均一分散性を向上した(PVdF(登録商標)/PFC系高分子)複合膜
溶液に特級ピロリドン溶剤を用い、PVdF(登録商標)の重量割合を20重量%とするために、重量比で、上記カイナー粉末:ナフィオン溶液(12wt%):特級ピロリドン溶剤=5:125:15で混合し調製した。この調製液から複合膜を得る方法は、(B)の方法に従った。特級ピロリドン溶剤に使用によりカイナー粉末の均一分散性を高めることができる。この処理方法に従って、参考例8の試験体を作製した。
2.MEAの作製
(D)(セラミックス粒子/PFC系高分子)複合膜
セラミックス粒子として、平均粒径2μmのアルミナ(参考例9)およびシリカゲル(参考例10)を用いて、PFC系高分子との複合膜を作製した。セラミックス粒子の重量割合を20重量%とするために、上記ナフィオン溶液(12wt%)に分散させて、繰り返し塗工と乾燥とを行うことにより、厚み20μmの固体電解質層を形成した。次いで、なじみを良くするために上記予熱および本加熱からなる加熱処理を行って、融合層を形成した。
2.MEAの作製
白金を40wt%でアセチレンブラックに担持した触媒に適量水を加えて混合後、5wt%ナフィオン溶液を加え、攪拌した。これをカーボンペーパーに塗工した後、60℃に10分間程度保持して乾燥した。次いで、上記1.で作製した複合膜の両側に、乾燥を終えたカーボンペーパーを配置して、温度130℃、加圧時間3分間、圧力20kgf/cm2の条件によって、ホットプレスでMEAを作製した。上記のMEAにガス拡散層として5mm厚みのカーボンフェルトを入れ、その陽極側および負極側に電極集電体を配置した。最後にアクリル製のガスホルダーを取り付け、0.5kgf/cm2の圧力でボルト締めした。なお、電極面積は4cm角サイズで実施した。
3.ガス分解性能の評価
100ppm濃度のアセトアルデヒドガスをテトラパックに5000cm3満たした中に、上記の試験体を装入し、シールした。外部電源で2Vの電圧を陰陽極間に印加し;テトラパック内部のアセトアルデヒド濃度を検知管で定期的に測定した。表1に示すアセトアルデヒド濃度は10分後のアセトアルデヒド濃度である。試験体の仕様および性能測定結果(10分後のアセトアルデヒド濃度)について、表1に示す。
(1)固体電解質層の厚みの影響
参考例1(固体電解質層厚み20μm)と参考例5(固体電解質層厚み50μm)とは、固体電解質層の厚み以外の要因は共通である。アセトアルデヒド濃度は、参考例5が40ppmであるのに対して、参考例1は10ppmであり、固体電解質層の厚みを薄くすることは、繰り返し強調してきたように、能率確保に非常に有効であることが分かる。
(2)絶縁粒子の重量比の影響
参考例1(絶縁粒子20wt%)と参考例4(絶縁粒子50wt%)とは、絶縁粒子の重量比以外の要因は共通である。アセトアルデヒド濃度は、参考例4が40ppmであるのに対して、参考例1は10ppmであり、絶縁粒子の割合を多くすることは、補強には良いが、能率確保には望ましくないことが確認された。
(3)PFA粒子の粒径
参考例1(粒径0.2μm)および参考例3(粒径1μm)は、PFA粒子の粒径以外の要因は共通である。参考例1のアセトアルデヒド濃度は10ppmであるのに対して、参考例3では8ppmである。実験誤差を考慮すると、大きな影響は認めがたい。
(4)(中心層/電極接触層)の構造(図3に示す構造)
参考例1と参考例2とを比較することによって、図3に示す構造の効果を確認することができる。固体電解質の全厚みにわたってPFA粒子で補強した参考例1のアセトアルデヒド濃度が10ppmであったのに対して、中心層の4μmのみをPFA粒子で補強して、残りの電極接触層をナフィオンのみで構成して厚み20μmとした参考例2(図3参照)では、5ppmと半減している。したがって、PFA粒子で補強する中心層の厚みを薄くして、残りの部分をナフィオンのみで構成する固体電解質層の構造は、能率向上に有効であることが確認された。
(5)単層領域
参考例1(単層領域なし)と本発明例7(単層領域あり)とは、単層領域の有無以外の要因は共通している。参考例1では、アセトアルデヒド濃度は10ppmであるのに比して、本発明例7では5ppmである。単層領域の能率への好影響が確認された。
(6)融合層
本発明例6(融合層なし)と本発明例7(融合層あり)とは融合層の有無以外の要因は共通している。本発明例6では、アセトアルデヒド濃度30ppmであるのに対して、本発明例7では5ppmである。これより融合層を設けないことによって、能率が大幅に低下することが分かる。逆に、融合層は、強度の確保だけでなく、能率の維持(低下防止)のために、非常に好ましいことが判明した。
(7)PFAとPVdF(登録商標)
参考例3(PFA)と参考例8(PVdF(登録商標))とは、絶縁粒子の材料以外の要因は共通にしている。参考例3のアセトアルデヒド濃度は8ppmであるのに対して、参考例8では10ppmである。両者は、能率に及ぼす影響については、ほとんど同等であるといえる。
(8)セラミックス粒子(アルミナおよびシリカゲル)
セラミックス粒子は粒径が2μmであるが、重量比20wt%、固体電解質層20μmの条件下で、アルミナの場合は25ppm、またシリカゲルの場合は20ppmであった。本結果からは、能率確保について、PFAやPVdF(登録商標)に比べて特別な優位性を認めることはできず、逆に、少し劣る印象を受けた。
1.上記の説明では、酸化反応(アノード反応)によるガス分解の例を示したが、還元反応(カソード反応)であってもよい。還元反応の場合は、固体電解質を伝導するイオンは陰イオンとなり、陰イオン伝導を示す固体電解質を用いることになる。
2.上記の実施の形態における各ポイント要素を組み合わせたものも本発明の範囲に含まれる。
Claims (6)
- 触媒機能をもつ触媒微粒子を保持する触媒電極層と、
前記触媒電極層と対をなす対向電極層と、
前記触媒電極層と前記対向電極層とに挟まれたイオン伝導性の固体電解質層とを備え、
前記固体電解質層は、無数の絶縁粒子を含んで前記触媒電極層および対向電極層へと連続するパーフルオロカーボン系イオン交換性高分子層を有し、
平面的に見て、前記触媒電極層から対向電極層にかけて前記絶縁粒子を含まないパーフルオロカーボン系イオン交換性高分子層の単相領域が、複数、設けられていて、
前記単相領域の平均径が1mm以上30mm以下であることを特徴とする、ガス分解素子。 - 前記絶縁粒子が樹脂を主構成材料とすることを特徴とする、請求項1に記載のガス分解素子。
- 前記パーフルオロカーボン系イオン交換性高分子と、前記絶縁粒子との界面に、融合層を有することを特徴とする、請求項1または2に記載のガス分解素子。
- 前記絶縁粒子の平均粒子径が0.2μm以上1μm以下であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1つに記載のガス分解素子。
- 前記固体電解質における前記絶縁粒子の割合が50重量%以下であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1つに記載のガス分解素子。
- 前記固体電解質層の厚みが、2μm以上50μm以下であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1つに記載のガス分解素子。
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