JP5309377B2 - ポリプロピレン樹脂組成物 - Google Patents

Description

本発明は、ポリプロピレン樹脂組成物に関し、特にヒート・シーリング用途に適したポリプロピレン樹脂組成物に関する。
（関連出願の相互参照）
本出願は、参照することにより本出願に組み込まれる２００３年５月８日に出願された米国仮出願の出願番号第６０／４６８，９１５号に対する優先権を主張する。

ポリプロピレン（「ＰＰ」）フィルムは、パッケージング材料として、特に食物用に、広く使用されている。ヒート・シール可能な樹脂から作成されたフィルムを用いて基体フィルムをコーティング、ラミネーティング、または共押出しすることによって、ヒート・シール可能フィルムが生成される。ヒート・シーリング用途に従来使用される材料は、チーグラー・ナッタ基（「ＺＮ」）触媒を用いて作成された、プロピレン以外の少なくとももう一つのＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンとのプロピレンのイソタクチックランダムコポリマーである。記載を簡単にするために、プロピレンおよびエチレンのランダムコポリマーは、Ｃ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーと呼ぶことにし、プロピレンおよび１−ブテンのランダムコポリマーは、Ｃ_３／Ｃ_４ランダムコポリマーと呼ぶことにし、プロピレン、エチレン、および１−ブテンのランダムコポリマーは、Ｃ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーと呼ぶことにする。

プロピレンおよびエチレン以外の一つの第二のより高いα−オレフィンのランダムコポリマーは、Ｃ_３／Ｃ_ｘ−Ｃ_ｙランダムコポリマーと呼ぶことにし、ここで、ｘは、この第二のより高いα−オレフィンを構成できる最小量の炭素原子を示し、ｙは、この第二のより高いα−オレフィンを構成できる最大量の炭素原子を示す。例えば、Ｃ_３／Ｃ_４−Ｃ_８ランダムコポリマーという用語は、Ｃ_３／Ｃ_４ランダムコポリマー、Ｃ_３／Ｃ_５ランダムコポリマー、Ｃ_３／Ｃ_６ランダムコポリマー、Ｃ_３／Ｃ_７ランダムコポリマー、およびＣ_３／Ｃ_８ランダムコポリマーを含む。プロピレン、エチレン、および一つの第三のより高いα−オレフィンのランダムコポリマーは、Ｃ_３／Ｃ_２／Ｃ_ｘ−Ｃ_ｙランダムコポリマーと呼ぶことにし、ここで、ｘは、この第三のより高いα−オレフィンを構成できる最小量の炭素原子を示し、ｙは、この第三のより高いα−オレフィンを構成できる最大量の炭素原子を示す。例えば、Ｃ _３／Ｃ_２／Ｃ_４−Ｃ_６ランダムコポリマーという用語は、Ｃ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマー、Ｃ_３／Ｃ_２／Ｃ_５ランダムコポリマー、およびＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_６ランダムコポリマーを含む。

良好なヒート・シーリング剤としてのその機能を実現するために、樹脂は、低いシール開始温度（ｓｅａｌ ｉｎｉｔｉａｔｉｏｎ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）（「ＳＩＴ」）を有する必要がある。また、できるだけ多量の材料が、処理の際に基体層上にシーリング層の寸法完全性を確実にするためにより高い温度で非融解のままである必要がある。さらに、キシレンおよびヘキサンなどの有機溶媒中にそれぞれ溶解可能またはこれらによって抽出可能な高レベルの低分子量アモルファス材料の存在が、食物の汚染を防止するためには、あまり高くてはいけない。さらに、シーリング層組成物のメルト・フロー・レート（ｍｅｌｔ ｆｌｏｗ ｒａｔｅ）（ＭＦＲ）が、臨界値を超えてはいけない。そうでなければ、それは、二層フィルムまたは三層フィルムとしてのフィルムまたは層に処理できない。最後に、通常Ｅ−モジュラスによって表されるシーリング層組成物の剛性は、フィルムに機械的強度を付与するためにできるだけ高い必要がある。

典型的なシーリング層の等級は、Ｃ_３／Ｃ_２、Ｃ_３／Ｃ_４、およびＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーである。低ＳＩＴは、室温を超えるができるだけ低い温度で融解する大量のシーリング層材料に関係する。Ｃ_３／Ｃ_２、Ｃ_３／Ｃ_４、およびＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーにおいて、低ＳＩＴは、ＰＰバックボーンにコモノマーを導入して融点を低下させることで達成される。典型的なフィルム処理温度における結晶性を保持するために、できるだけ大きな部分が、できるだけ高い温度で非融解のままである必要がある。当業技術で知られるように、低ＳＩＴと、高温における大量の非融解材料との相互排他的条件は、二つ以上のランダムコポリマーから成るブレンドを生成することで最適化できるだけである。通常、一つの成分が、相対的に高い融点と相対的に高い度合いの結晶性とを有しており、一方、残りの成分が、より低い融点と、より低い度合いの結晶性と、相対的に高いレベルの望ましくない溶解可能物／抽出可能物とを有する。これらの溶解可能物／抽出可能物は、アモルファスコンシステンシーでありかつ低分子量である。通常、より高い融点を有する成分は、Ｃ_３／Ｃ_２、Ｃ_３／Ｃ_４、またはＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーであり、また、Ｃ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーが、Ｃ_３／Ｃ_４またはＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーに比較してより高いレベルの溶解可能物／抽出可能物を含んでおりかつ相対的に高いレベルの溶解可能物／抽出可能物を有する二つの成分の使用が途方もなく高いレベルの溶解可能物／抽出可能物を有する組成物に繋がるので、二つの異なるＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーのブレンド、すなわち、第一のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーが、より高い融点を示し、第二のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーが、より低い融点を示す、ブレンドが、通常は使用されないということを除いて、より低い融点を有する成分は、Ｃ_３／Ｃ_２、Ｃ_３／Ｃ_４、またはＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーのいずれかである。

ＥＰ２６３７１８−Ｂ１は、Ｃ_３／Ｃ_２／Ｃ_４−Ｃ_２０およびＣ_３／Ｃ_４−Ｃ_２０コポリマーのブレンドから成る低結晶性プロピレンランダムコポリマー組成物に関する。これらの組成物のキシレン溶解可能物およびｎ−ヘキサン抽出可能物のレベルは、改善を必要とする。

ＥＰ４８３５２３−Ｂ１は、Ｃ_３／Ｃ_４−Ｃ_８およびＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４−Ｃ_８ランダムコポリマーのブレンドまたはＣ_３／Ｃ_４−Ｃ_８およびＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーのブレンドから成る結晶性プロピレンコポリマーに基づく組成物に関する。抽出可能物、特にヘキサン抽出可能物のレベルと、これらの組成物のＳＩＴとのバランスは、満足の行くものではない。さらに、低ＳＩＴを有する組成物は、≧３５％の量の低結晶性フラクションを必要とする。これは、このような組成物の大規模な製造を、ＥＰ４８３５２３−Ｂ１および［P. Giusti, L. Lazzeri, N. Barbani, L. Lelli, S. DePetris, M. G. Cascone, Macromol. Symp. 78, 285-297 (1994)］に記載されているような特殊なプロセスに限定する。

ＥＰ５６０３２６−Ｂ１は、Ｃ_３／Ｃ_４−Ｃ_１０およびＣ_３／Ｃ_４−Ｃ_１０ランダムコポリマーのブレンドから成る半晶質ポリオレフィン組成物に関する。ＳＩＴと、溶解可能物のレベルおよびこれらの組成物のヘーズ（ｈａｚｅ）とのバランスは、改善を必要とする。さらに、低ＳＩＴを有する組成物は、≧３５％の量の低結晶性フラクションを必要とする。これは、このような組成物の大規模な製造を、上述したような特殊なプロセスに限定する。

ＥＰ６７４９９１−Ｂ１は、Ｃ_３／Ｃ_２およびＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４−Ｃ_８ランダムコポリマーから成る結晶性プロピレンポリマーに関する。ヘキサン抽出可能物のレベルと、これらの組成物のＳＩＴとのバランスは、改善を必要とする。さらに、低ＳＩＴを有する組成物は、≧３５％の量の低結晶性フラクションを必要とする。これは、このような組成物の大規模な製造を、上述したような特殊なプロセスに限定する。

ＥＰ７８０４３２−Ｂ１は、Ｃ_３／Ｃ_２／Ｃ_４およびＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーのブレンドまたはＣ_３／Ｃ_４およびＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーのブレンドから成るプロピレンコポリマーに基づく組成物に関する。ＳＩＴと、これらの組成物のヘキサン抽出可能物のレベルとのバランスは、改善を必要とする。

ＥＰ８８１２３９−Ｂ１は、Ｃ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーに関する。これらの等級は、ＳＩＴの改善を必要とする。

ＷＯ９８／５８９７１は、フィルム作成Ｃ_３／Ｃ_２／Ｃ_４−Ｃ_８ランダムコポリマーに関する。これらのランダムコポリマーは、ＳＩＴの改善を必要とする。

ＷＯ００／１１０７６は、Ｃ_３／Ｃ_４−Ｃ_８またはＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４−Ｃ_８ランダムコポリマーとのＣ_３／Ｃ_２またはＣ_３／Ｃ_４−Ｃ_８またはＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４−Ｃ_８ランダムコポリマーのブレンドから成る結晶性プロピレンコポリマー組成物に関する。これらの組成物は、抽出可能物のレベル、特にヘキサン抽出可能物の改善を必要とする。さらに、ＷＯ００／１１０７６の重合プロセスから得られる樹脂は、抽出可能物の量を所望のレベルに低下させるために、過酸化物による粘度低下される必要がある。これは、それらの製造プロセスを、過酸化物による粘度低下ステップを必要としないプロセスより高価なものにする。

ＷＯ０２／４４２５１は、フィルム製造のためのＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４−Ｃ_８ランダムコポリマーから成るポリマー組成物の使用に関する。これらの組成物は、機械的性質の改善されたバランスを有するフィルムにねらいを定めているので、そのＳＩＴは、低いシーリング組成物のＳＩＴに太刀打ちできない。さらに、引張りモジュラスと溶解可能物のレベルとのバランスは、改善を必要とする。

シーリング層組成物のほとんどの大部分は、ＺＮ触媒に基づいているとはいえ、メタロセン触媒に基づくいくつかの触媒も記載されてきた。説明を簡単にするために、「メタロセン触媒を用いて製造される」または「メタロセン触媒に基づく」という用語は、以下では、「メタロセン基」という用語で表示することにする。良好なメタロセン基シーリング層組成物について、ＺＮ基組成物についてと同じ原理が当てはまる。すなわち、低ＳＩＴと、高温における大量の非融解材料との相互排他的条件は、二つ以上のランダムコポリマーのブレンドを生成することで最適化できるだけである。当業技術では、メタロセン基コポリマーは、それらのＺＮ基類似物より少ないレベルの溶解可能物を含有することが知られている。それにもかかわらず、二つ以上の組成物から成る最新技術のメタロセン基シーリング層組成物へのアモルファス低分子量フラクションの導入は、今まで不可避であったし、食物パーケージング用途に関しては依然としてあまりにも高いものである。

ＵＳ出願２００２／０１７６９７４−Ａ１には、メタロセン基イソタクチックＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーから形成されたフィルム層を含むヒート・シールポリマーフィルムが開示されている。これらは、ＳＩＴの改善を必要とする。

ＥＰ９８２３２８−Ｂ１には、ポリプロピレン成分と、Ｃ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーとから成るポリプロピレン樹脂組成物が開示されている。この組成物の主な目的は、より広い意味でのシーラントとして、例えばヒート・シール改善剤としてのその使用である。しかしながら、それらは、その高いＭＦＲおよび高いレベルの抽出可能物に起因して、独立したシーリング層として（二層または多層キャストフィルムまたは二軸配向フィルムの一部として）作用するには不適当である。さらに、このような組成物は、５０から９９ｗｔ％のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーを含有する。これは、このような組成物の大規模な製造を、上述したようなまたはＥＰ９８２３２８−Ｂ１におけるような特殊なプロセスに限定する。

本発明の目的は、最新技術の短所を取り除いて、ヒート・シーリング用途に適しておりかつ比較できるＳＩＴにおいて最新技術のポリプロピレン組成物より低いレベルのヘキサン抽出可能物を有するかまたは比較できるレベルのヘキサン抽出可能物において最新技術のポリプロピレン組成物より低いＳＩＴを有するかまたは最新技術のポリプロピレン組成物より低いＳＩＴとより低いレベルの抽出可能物との組み合わせを有する、ポリプロピレン樹脂組成物を利用可能とすることである。

本発明の目的は、非常に高い分子量のキシレン溶解フラクションを示すポリプロピレン組成物によって、および、超低結晶性フラクションを含むポリプロピレン組成物によって、また、このようなポリプロピレン組成物を調製するプロセスによって、達成される。

ヒート・シーリング用途に特に適したポリプロピレン樹脂組成物が提供される。それは、２から２０炭素原子を有する一つまたは複数の非プロピレンα−オレフィンとのプロピレンのランダムコポリマーのブレンドから成り、第一のブレンド成分が、組成物の９５〜６０ｗｔ％に相当するとともに、組成物の５％から４０ｗｔ％に相当する第二のブレンド組成物の融点より高い融点を有する。

同じかまたはより低いレベルのヘキサン抽出可能物において、本発明の組成物のＳＩＴは、気相垂直攪拌反応器を用いて作成される最新技術の単一反応器シーリング層のＳＩＴより最大１０℃低い。これによって、本発明は、従来技術に比較して、ＳＩＴとヘキサン抽出可能物との最も良好なバランスを示す。さらに、低いＳＩＴにもかかわらず、本発明の組成物から製造されるフィルムまたはフィルム層は、優れた機械的性質、特に高い剛性を示す。

本発明の組成物は、従来技術に比較して、ＳＩＴと、溶解可能物のレベルと、機械的性質との間のより良好なバランスを提供する。さらに、最大４０ｗｔ％までに過ぎないより低い結晶性材料が、第二の重合反応器またはステップにおいて作成される必要がある。それに加えて、組成物の低結晶性フラクションに組み込まれる必要があるコモノマーの量は、比較できるＳＩＴの従来技術におけるより大幅に低くなる。これは、本発明の性質を有する組成物の製造がまだ可能ではなかった垂直攪拌気相プロセスの大幅な改善である。さらに重要な利点は、溶解可能物の性質である。すなわち、従来技術では溶解可能物は低いモル質量のものであったが、本発明の溶解可能物は高分子量である。これは、相対的に高いレベルのキシレン溶解可能物において、食物関連ＦＤＡヘキサン抽出可能物が極端に低いということを意味する。本発明の別の利点は、その組成物が、従来技術の組成物には存在していない超低結晶性フラクションを含むという事実である。これらの超低結晶性組成物は、優れたヒート・シーリング特性を提供する。

ＥＰ２６３７１８−Ｂ１に比較して、本発明の組成物のキシレン溶解可能物およびヘキサン抽出可能物のレベルは低い。ＥＰ４８３５２３−Ｂ１に開示された組成物に比較して、本発明の組成物のヘキサン抽出可能物のレベルは低い。さらに、ＥＰ４８３５２３−Ｂ１では、３５から７０ｗｔ％の間の低結晶性成分が必要であるのに対し、本発明の組成物では、低融解材料の量は、わずか５から４０ｗｔ％の間である。本発明の組成物において必要とされる低結晶性材料の量は、４０から８０ｗｔ％の間の低結晶性材料が必要とされるＥＰ５６０３２６−Ｂ１およびＥＰ６７４９９１−Ｂ１に比較して少ない。さらに、ＥＰ５６０３２６−Ｂ１の組成物に比較して、ＳＩＴと、抽出可能物のレベルとのバランスは、本発明においてより良好であり、ＥＰ６７４９９１−Ｂ１に比較して、抽出可能物のレベルおよびＳＩＴは、本発明の組成物においてより低い。２０から８０ｗｔ％の低結晶性成分の存在が必要とされ、さらに、低い抽出可能物およびＳＩＴ値を生成するために過酸化物による分解ステップを用いる必要があるＷＯ００／１１０７６に比較して、本発明の組成物においては、低融解材料の量は、最大４０ｗｔ％であり、過酸化物による分解ステップは必要でない。これによって、本発明の組成物の製造は大幅に容易になる。さらに、本発明の組成物は、ＷＯ００／１１０７６に開示される組成物より低いレベルの抽出可能物を示す。ＥＰ７８０４３２−Ｂ１に比較して、第一の反応器において製造されるラドンコムコポリマーに組み込まれる必要があるコモノマーの量は、本発明においては大幅に低い。従って、反応器付着物のような製造の問題が、かなり起こり難くなる。さらに、本発明の組成物においては、ＳＩＴ値は、同じかまたはより低い量の溶解可能物において大幅に低くなる。ＥＰ８８１２３９−Ｂ１およびＷＯ９８／５８９７１に開示されるランダムコポリマーに比較して、本発明のＳＩＴは、同じかまたはより低いレベルの抽出可能物において大幅に低くなる。ＷＯ０２／４４２５１に比較して、ＳＩＴおよび抽出可能物のレベルは、同様のフィルム剛性において本発明ではかなり低くなる。ＥＰ９８２３２８−Ｂ１に比較して、本発明において提供される組成物は、その充分に低いＭＦＲおよびより低いレベルの抽出可能物に起因して、単層、二層、または多層のキャストまたは二軸配向フィルムにおいてシーリング層の単独成分として使用できる。

本発明は、とりわけ、任意のフィルム作成プロセス、特にキャストフィルムおよび二軸配向フィルムを作成するためのプロセスを用いるフィルムまたはフィルム層の製造に特に適した、プロピレン以外の少なくとももう一つのＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンとのプロピレンランダムコポリマーのコポリマー組成物に関する。本発明のフィルムまたはフィルム層は、非常に低い割合の抽出可能物と、非常に低いシール開始温度と、剛性、靭性、および透明度の良好なバランスとを示す。パッケージングおよびラッピング（特に食品工業における）に使用されるポリマーフィルムは一般に、例えば、ポリプロピレン（ホモポリマーまたはコポリマー）層と、少なくとも一つのシーリング層とを有する多層である。本願に開示されるポリプロピレンコポリマーのブレンドは有利には、このようなフィルムのためのシーリング層として使用される。本発明の目的のために、非プロピレンＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンは、エチレンまたは４から２０の炭素原子を有する直鎖または分枝α−オレフィンである。好ましいのは、エチレンまたは直鎖α−オレフィンである。特に例として、非限定であるが、エチレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、および１−オクテンがある。コポリマー組成物は、プロピレンおよび少なくとも一つの非プロピレンＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンの約６０重量パーセントから約９５重量パーセントの第一のランダムコポリマーと、プロピレンおよび少なくとも一つの非プロピレンＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンの約５重量パーセントから約４０重量パーセントの第二のランダムコポリマーとから成る。

通例の量の、安定剤、潤滑剤、離型剤、フィラー、核生成剤、帯電防止剤、可塑剤、染料、顔料、または難燃剤などの従来の添加剤を、ポリプロピレン組成物に、その使用の前に添加するのは通常のことである。これらは通常、微粉形態で製造される重合生成物のペレット化の際にポリマーに組み込まれる。通常の安定剤は、立体障害のあるフェノールなどの酸化防止剤、ホスホン塩またはホスホナイト（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｔｅ）などのプロセス安定剤、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ジヒドロタルサイト（ｄｉｈｙｄｒｏｔａｌｃｉｔｅ）などの酸スカベンジャー、立体障害のあるアミン、その他のＵＶ安定剤である。新規なポリプロピレン組成物は一般に、重量で２％以下の量の一つまたは複数の安定剤を含む。適切な潤滑剤および離型剤の例としては、脂肪酸、脂肪酸のカルシウム塩または亜鉛塩、脂肪アミド、および低分子量ポリオレフィンワックスがあり、これらは通常、重量で２％以下の濃度で使用される。適切な核生成剤の例としては、タルク、シリカ、またはカオリンなどの無機添加剤、安息香酸ナトリウム、tert−ブチル安息香酸アルミニウム、またはノルボルナンジカルボン酸二ナトリウムなどのモノまたはポリカルボン酸の塩、ジベンジリデンソルビトール、またはビス（ｐ−メチル−ベンジリデン）ソルビトールまたはビス（３，４−ジメチルベンジリデン）ソルビトールなどのそのＣ_１−Ｃ_８−アルキル置換誘導体、リン酸２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−tert−ブチルフェニル）ナトリウムなどのリン酸のジエステルの塩、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルナフタリンジカルボキサミドなどのジカルボン酸のアミド、およびロジン基核生成剤がある。プロピレンポリマー組成物中の核生成剤の含有量は一般に、重量で５％以下である。この種の添加剤は一般に商業的に入手可能であり、例えば、ツヴァイフェル（編）、プラスチック添加剤ハンドブック、第５版、ハンザ出版、ミュンヘン、２０００年（Zweifel（Ed.），Plastics Additives Handbook， ５th Edition，Hansa Publishier，Munich，2000）に記載されている。

本発明の一実施態様は、プロピレン以外の少なくとももう一つＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンとのプロピレンランダムコポリマーのコポリマー組成物に関する。第一のランダムコポリマーは、そのプロピレン含有量が９０超から約９９．５重量パーセントでありかつそれが少なくとももう一つのＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンを含有するということを特徴とする。好ましいＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンは、エチレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、および１−オクテンである。特に好ましいＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンは、エチレンおよび１−ブテンである。好ましい第一のランダムコポリマーは、Ｃ_３／Ｃ_４ランダムコポリマー、Ｃ_３／Ｃ_２ランダムコポリマー、およびＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーであり、特に好ましい第一のランダムコポリマーは、Ｃ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーである。第一のランダムコポリマーはさらに、その融点が１１６℃超から約１４５℃まででありかつそのＭＦＲが２ｇ／１０ｍｉｎ超から約１２ｇ／１０ｍｉｎまでであることを特徴とする。第一のランダムコポリマーはさらに、それがメタロセン触媒を用いて製造されることを特徴とする。

第二のランダムコポリマーは、そのプロピレン含有量が８５超から約９７重量パーセントでありかつそれが少なくとももう一つのＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンを含有しておりかつ第二のランダムコポリマーのプロピレン含有量が常に第一のランダムコポリマーのプロピレン含有量より低いということを特徴とする。好ましいＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンは、エチレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、および１−オクテンである。特に好ましいＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンは、エチレンおよび１−ブテンである。好ましい第二のランダムコポリマーは、Ｃ_３／Ｃ_４ランダムコポリマー、Ｃ_３／Ｃ_２ランダムコポリマー、およびＣ_３／Ｃ_２／Ｃ_４ランダムコポリマーであり、特に好ましい第二のランダムコポリマーは、Ｃ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーである。第二のランダムコポリマーはさらに、それが約７０℃超から１１６℃以下の融点を有することを特徴とする。第二のランダムコポリマーはさらに、それが約１０Ｊ／ｇから７５Ｊ／ｇ以下の融解エンタルピーを有することを特徴としており、この融解エンタルピーは、ポリプロピレンランダムコポリマーの結晶の融解から上昇する。第二のランダムコポリマーはさらに、そのＭＦＲが２ｇ／１０ｍｉｎ超から約１２ｇ／１０ｍｉｎまでであることを特徴とする。第二のランダムコポリマーはさらに、それがメタロセン触媒を用いて製造されることを特徴とする。

組成物は、２０℃においてキシレンに溶解可能なフラクションを含有し得る。存在するならば、キシレン溶解可能フラクションは、その分子量が１００ｋｇ／ｍｏｌより大きくかつ固有粘度が、１．０ｄｌ／ｇより大きい。好ましくは、組成物キシレン溶解可能フラクションの分子量は、１５０ｋｇ／ｍｏｌより大きく、その固有粘度は、１．３ｄｌ／ｇより大きい。より好ましくは、組成物キシレン溶解可能フラクションの分子量は、２００ｋｇ／ｍｏｌより大きく、その固有粘度は、１．６ｄｌ／ｇより大きい。最も好ましくは、組成物キシレン溶解可能フラクションの分子量は、３００ｋｇ／ｍｏｌより大きく、その固有粘度は、２．０ｄｌ／ｇより大きい。組成物はさらに、それが３から３０重量パーセントの超低結晶性フラクションを含有することを特徴としており、この超低結晶性フラクションは、２０℃において２時間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量と、２０℃において５日間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量との差として定義される。組成物はさらに、そのＭＦＲが２ｇ／１０ｍｉｎ超から約１２ｇ／１０ｍｉｎまでであることを特徴とする。

本発明の第二の実施態様は、とりわけ、非常に低いＳＩＴと、高い結晶性と、非常に低い量のＦＤＡヘキサン抽出可能物とを有するフィルムまたはフィルム層の製造に特に適したＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーのコポリマー組成物に関する。第一のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーは、そのプロピレン含有量が９０超から約９９．５重量パーセントであることを特徴とする。第一のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーはさらに、その融点が１１６℃超から約１４５℃まででありかつそのメルト・フロー・レート（ＭＦＲ ２３０／２．１６）が２ｇ／１０ｍｉｎ超から約１２ｇ／１０ｍｉｎまでであることを特徴とする。第一のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーはさらに、それがメタロセン触媒を用いて製造されることを特徴とする。
第二のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーは、そのプロピレン含有量が８５超から約９７重量パーセントでありかつ第二のランダムコポリマーのプロピレン含有量が常に第一のランダムコポリマーのプロピレン含有量より低いということを特徴とする。第二のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーはさらに、それが約７０℃から１１６℃以下の融点を有することを特徴とする。第二のランダムコポリマーはさらに、それが約１０Ｊ／ｇから７５Ｊ／ｇ以下の融解エンタルピーを有することを特徴としており、この融解エンタルピーは、ポリプロピレンランダムコポリマーの結晶の融解から上昇する。第二のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーはさらに、そのＭＦＲが２ｇ／１０ｍｉｎ超から約１２ｇ／１０ｍｉｎまでであることを特徴とする。第二のＣ_３／Ｃ_２ランダムコポリマーはさらに、それがメタロセン触媒を用いて製造されることを特徴とする。

組成物は、２０℃においてキシレンに溶解可能なフラクションを含有し得る。存在するならば、キシレン溶解可能フラクションは、その分子量が１００ｋｇ／ｍｏｌより大きくかつ固有粘度が、１．０ｄｌ／ｇより大きい。好ましくは、組成物キシレン溶解可能フラクションの分子量は、１５０ｋｇ／ｍｏｌより大きく、その固有粘度は、１．３ｄｌ／ｇより大きい。より好ましくは、組成物キシレン溶解可能フラクションの分子量は、２００ｋｇ／ｍｏｌより大きく、その固有粘度は、１．６ｄｌ／ｇより大きい。最も好ましくは、組成物キシレン溶解可能フラクションの分子量は、３００ｋｇ／ｍｏｌより大きく、その固有粘度は、２．０ｄｌ／ｇより大きい。組成物はさらに、そのＭＦＲが２ｇ／１０ｍｉｎ超から約１２ｇ／１０ｍｉｎまでであることを特徴とする。組成物はさらに、それが３から３０重量パーセントの超低結晶性フラクションを含有することを特徴としており、この超低結晶性フラクションは、２０℃において２時間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量と、２０℃において５日間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量との差として定義される。組成物はさらに、組成物の全Ｃ_２含有量が０ｗｔ％と７ｗｔ％の間に存在する。

本発明のなお別の実施態様は、ポリプロピレン組成物に関し、このポリプロピレン組成物は、２０℃において５日間の沈降時間でのキシレン溶解可能物決定と、溶媒としてキシレンを用いて４０℃と１０７℃との間のステップにおいて実行される予備的温度上昇溶離分別（ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ ｒｉｓｉｎｇ ｅｌｕｔｉｏｎ ｆｒａｃｔｉｏｎａｔｉｏｎ）（ＴＲＥＦ）との組み合わせによるか、あるいは、溶媒としてキシレンを用いて２０℃と１０７℃との間のステップにおいて実行される予備的温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）によって特徴付けられる。組成物は、キシレン中に溶解可能なフラクション、低結晶性フラクション、中間結晶性フラクション、高結晶性フラクション、および非常に高い結晶性フラクションに分解されることができる。ＴＲＥＦ手順中の第一のフラクションを、４０℃において（２０℃において先にフラクションを取ることをせずに）取る場合、このフラクションは、キシレン溶解可能フラクションと、低結晶フラクションの一部とを両方とも含有する。しかしながら、キシレン溶解可能フラクションを差し引いた５０℃までに溶離された全ての材料から成る低結晶フラクションとキシレン溶解可能フラクションとを区別することが望ましい。従って、キシレン中に溶解可能なフラクションは、２０℃において５日間の沈降時間でのキシレン溶解可能物の量を決定する標準的な手順による別の実験において決定する必要がある。ＴＲＥＦ手順中の第一のフラクションを２０℃において取る場合、キシレン中に溶解可能なフラクションはちょうど、２０℃におけるＴＲＥＦにより溶離されるフラクションである。

再度、ＴＲＥＦ手順中の第一のフラクションを４０℃において取る場合、低結晶性フラクションは、５０℃までのＴＲＥＦにより溶離された材料の量と、２０℃において５日間の沈降時間でのキシレン溶解可能物との差として決定される。ＴＲＥＦ手順中の第一のフラクションを２０℃において取る場合、低結晶性フラクションはちょうど、２１から５０℃までの温度におけるＴＲＥＦにより溶離される材料の量である。中間結晶性フラクションは、５１から６０℃のＴＲＥＦにより溶離される材料の量として決定される。高結晶性フラクションは、６１から９２℃のＴＲＥＦにより溶離される材料の量として決定される。非常に高い結晶性材料は、９２℃超の温度におけるＴＲＥＦにより溶離される材料の量として決定される。

組成物は、０から１０重量パーセント、好ましくは０から５重量パーセントの、キシレン中に溶解可能なフラクションと、１０から５０重量パーセント、好ましくは１５から４５重量パーセントの低結晶性フラクションと、０から２０重量パーセント、好ましくは０から１０重量パーセントの中間結晶性フラクションと、２０から７０重量パーセント、好ましくは３０から６０重量パーセントの高結晶性フラクションと、０から５重量パーセントの非常に高い結晶性フラクションとから成る。組成物はさらに、５１℃と６０℃との間で溶離される材料の量が、組成物の材料の全量に関連して、４０℃と５０℃の間で溶離される材料の量より、少なくとも５重量パーセントだけ少なく、６１℃と９２℃の間で溶離される材料の量より、少なくとも４０重量パーセントだけ少ないことを特徴とする。組成物はさらに、それが３から３０重量パーセントの超低結晶性フラクションを含有することを特徴としており、この超低結晶性フラクションは、２０℃において２時間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量と、２０℃において５日間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量との差として定義される。

本発明の別の実施態様は、
（Ｉ）以下の差、すなわち
（ａ）ブレンド比により二つのブレンド成分について個別に決定されるキシレン溶解可能物から比例計算されるキシレン溶解可能物の量と、
（ｂ）ブレンド中の実際に測定されるキシレン溶解可能物の量と、
の差と、
（ＩＩ）ブレンド比により二つのブレンド成分から比例計算されるキシレン溶解可能物の量（Ｉａ）に対する前記差の比と、
の両方により表される、高結晶性成分により核生成される低結晶性成分の量により特徴付けられる、高結晶性成分と低結晶性成分とから成るポリプロピレン組成物に関する。

本発明のなお別の実施態様は、本発明の組成物の重合のためのプロセスに関する。本発明の目的のために、「重合」という用語は、単独重合および共重合の両方のことを指す。

重合は、メタロセン触媒の存在下に実行される。本発明の目的のために、メタロセン触媒は、少なくとも一つのメタロセン化合物（Ａ）を含む触媒システムのいずれかであり、ここでメタロセン化合物（Ａ）は、有機配位子との周期表の遷移族金属の錯化合物のいずれかである。メタロセン触媒はさらに、メタロセニウムイオン形成化合物（Ｂ）と、所望ならば、不動態化担体と、所望ならば、少なくとも一つのさらなる添加化合物（Ｃ）とを含む。本発明の組成物の重合のための適切な触媒は、ＵＳ２００３／０１４９１９９−Ａ１に記載されている。本発明の触媒システムのメタロセン化合物（Ａ）としては、少なくとも一つの、以下の式Ｉ、すなわち、
Ｒ^９Ｌ^１Ｌ^２Ｍ^１Ｒ^１Ｒ^２
（式Ｉ）
の化合物の使用がなされ、ここで、置換基は、以下の意味を有しており、すなわち、
Ｍ^１は、元素の周期表のＩＶｂ族の遷移金属であり、好ましくは、Ｍ^１は、ジルコニウムまたはハフニウムであり、より好ましくはＭ^１はジルコニウムであり、
Ｌ^１およびＬ^２は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、置換単核または多核炭化水素ラジカルまたは、一つまたは複数の炭化水素ラジカルを含有する一つまたは複数のヘテロ原子であり、例えば、中心原子Ｍ^１と共にサンドイッチ構造を形成できる置換シクロペンタジエニル、インデニル、テトラヒドロインデニル、アズレニル、フルオレニル、アザペンタレニル、チアペンタレニル、またはオキサペンタレニルであり、
好ましくは、Ｌ^１は、中心原子Ｍ^１と共にサンドイッチ構造を形成できる置換シクロペンタジエニル、インデニル、テトラヒドロインデニル、アズレニル、フルオレニル、アザペンタレニル、チアペンタレニル、またはオキサペンタレニルであり、Ｌ^２は、中心原子Ｍ^１と共にサンドイッチ構造を形成できる置換インデニル、テトラヒドロインデニル、アズレニル、フルオレニル、アザペンタレニル、チアペンタレニル、またはオキサペンタレニルであり、
より好ましくは、Ｌ^１およびＬ^２は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、中心原子Ｍ^１と共にサンドイッチ構造を形成できる置換インデニル、アズレニル、フルオレニル、アザペンタレニル、チアペンタレニル、またはオキサペンタレニルであり、
Ｒ^１およびＲ^２は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、水素原子、１から約１０の炭素原子のアルキル基、１から約１０の炭素原子のアルコキシ基、６から約２０の炭素原子のアリール基、６から約１０の炭素原子のアリールオキシ（ａｒｙｌｏｘｙ）基、２から約１０の炭素原子のアルケニル基、ＯＨ基、ハロゲン原子、または、ＮＲ_２ ^３２基であり、ここでＲ^３２は、１から約１０の炭素原子のアルキル基または６から約１４の炭素原子のアリール基であり、または、Ｒ^１およびＲ^２は一緒に一つまたは複数の環系を形成でき、
好ましくは、Ｒ^１およびＲ^２は、同一であるかまたは異なり、１から約１０の炭素原子のアルキル基、１から約１０の炭素原子のアルコキシ基、６から約１０の炭素原子のアリールオキシ基、またはハロゲン原子であり、または、Ｒ^１およびＲ^２は一緒に一つまたは複数の環系を形成でき、
より好ましくは、Ｒ^１およびＲ^２は、同一であるかまたは異なり、メチル、塩素、またはフェノラートである。
Ｒ^９は、下記の、Ｌ^１とＬ^２との間の架橋である。

Ｒ^４０、Ｒ^４１は、これらが同じ指数を有するときでさえ、同一とすることも、異なるものとすることもでき、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、または、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキル基、Ｃ_１−Ｃ_１０−フルオロアルキル基、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルコキシ基、Ｃ_６−Ｃ_１４−アリール基、Ｃ_６−Ｃ_１０−フルオロアリール基、Ｃ_６−Ｃ_１０−アリールオキシ基、Ｃ_２−Ｃ_１０−アルケニル基、Ｃ_７−Ｃ_４０−アリールアルキル基、Ｃ_７−Ｃ_４０−アルキルアリール基、またはＣ_８−Ｃ_４０−アリールアルケニル基などのＣ_１−Ｃ_４０基であり、ここで、Ｒ^４０およびＲ^４１は、それぞれ、それらに接続する原子と共に、一つまたは複数の環を形成することができ、ｚは、ゼロから１８の整数であり、
Ｍ^１２は、ケイ素、ゲルマニウム、またはスズであり、
Ｒ^９は、式ＩＩの二つのユニットを互いに結合することもでき、
好ましくは、架橋ユニットＲ^９は、Ｒ^４０Ｒ^４１Ｓｉ＝、Ｒ^４０Ｒ^４１Ｇｅ＝＝、Ｒ^４０Ｒ^４１Ｃ＝＝、または−−（Ｒ^４０Ｒ^４１Ｃ−−ＣＲ^４０Ｒ^４１）−−であり、ここで、Ｒ^４０およびＲ^４１は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、水素またはＣ_１−Ｃ_２０−炭化水素基、特にＣ_１−Ｃ_１０−アルキルまたはＣ_６−Ｃ_１４−アリールであり、
より好ましくは、Ｒ^９は、Ｒ^４０Ｒ^４１Ｓｉ＝＝、Ｒ^４０Ｒ^４１Ｃ＝＝、または−−（Ｒ^４０Ｒ^４１Ｃ−−ＣＲ^４０Ｒ^４１）−−であり、ここで、Ｒ^４０およびＲ^４１は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、フェニルまたはメチルである。
より好ましくは、本発明の組成物の重合のために使用される触媒システムのメタロセン化合物（Ａ）は、少なくとも一つの、以下の式ＩＩの化合物の使用がなされる。

（式ＩＩ）

ここで、置換基および指数は、以下の意味を有しており、すなわち、
Ｍ^１は、元素の周期表のＩＶｂ族の金属であり、好ましくは、Ｍ^１は、ジルコニウムまたはハフニウムであり、より好ましくは、Ｍ^１は、ジルコニウムであり、
Ｒ^１、Ｒ^２、および架橋ユニットＲ^９は、式Ｉに関して上述した意味を有しており、
Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、およびさらに、Ｒ^４’、Ｒ^５’、Ｒ^６’、Ｒ^７’、およびＲ^８’は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、水素原子、直鎖、環状、または分枝炭化水素基、例えば、１から約１０の炭素原子のアルキル基、２から約１０の炭素原子のアルケニル基、６から約２０の炭素原子のアリール基、７から約４０の炭素原子のアリールアルキル基、７から約４０の炭素原子のアルキルアリール基、または８から約４０の炭素原子のアリールアルケニル基、置換または非置換アルキルシリルまたはアリールシリル基である。炭化水素基は、Ｓｉ、Ｂ、Ａｌ、Ｏ、Ｓ、Ｎ、またはＰのような一つまたは複数のヘテロ原子を含有することができかつ／またはＦ、Ｃｌ、またはＢｒのようなハロゲン原子を含有することができかつ／またはそれぞれの場合、二つの隣接ラジカルＲ^５、Ｒ^６またはＲ^５’、Ｒ^６’、またはＲ^６、Ｒ^７またはＲ^６’、Ｒ^７’、またはＲ^７、Ｒ^８またはＲ^７’、Ｒ^８’は、炭化水素環系を形成することができ、またはＲ^５およびＲ^５’は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、６から約４０の炭素原子の置換または非置換アリール基である。

より好ましくは、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、およびさらに、Ｒ^４’、Ｒ^５’、Ｒ^６’、Ｒ^７’、およびＲ^８’は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、水素原子、置換または非置換アルキルシリルまたはアリールシリル基、１から約１０の炭素原子の直鎖、環状、または分枝アルキル基、６から約４０の炭素原子の置換または非置換アリール基であり、これらは、Ｓｉ、Ｂ、Ａｌ、Ｏ、Ｓ、Ｎ、またはＰのような一つまたは複数のヘテロ原子を含有することができかつ／またはＦ、Ｃｌ、またはＢｒのようなハロゲン原子を含有することができかつ／または二つの隣接ラジカルＲ^５、Ｒ^６およびＲ^５’、Ｒ^６’は、炭化水素環系を形成することができ、またはＲ^５およびＲ^５’は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、６から約４０の炭素原子の置換または非置換アリール基である。

最も好ましくは、Ｒ^４およびさらにＲ^４’は水素であり、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、およびさらに、Ｒ^５’、Ｒ^６’、Ｒ^７’、Ｒ^８’は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、水素原子、１から約１０の炭素原子の直鎖、環状、または分枝アルキル基、または６から約４０の炭素原子の置換または非置換アリール基であり、かつ／または、二つの隣接ラジカルＲ^５、Ｒ^６およびＲ^５’、Ｒ^６’はそれぞれ一緒に、環系を形成することができ、またはＲ^５、Ｒ^６は、環系を形成することができ、Ｒ^５’は、フェニル、ｐ−イソプロピル−フェニル、ｐ−tert−ブチル−フェニル、ｐ−sec−ブチル−フェニル、ｐ−シクルヘキシル−フェニル、ｐ−トリメチルシリル−フェニル、ｐ−アダマンチル−フェニル、ｐ−（ＣＦ_３）−フェニル、ｍ，ｍ’−ジメチル −フェニル、ナフチルなどの、６から約４０の炭素原子の置換または非置換アリール基であり、または、Ｒ^５’、Ｒ^６’は、環系を形成することができ、およびＲ^５は、フェニル、ｐ−イソプロピル−フェニル、ｐ−tert−ブチル−フェニル、ｐ−sec−ブチル−フェニル、ｐ−シクルヘキシル−フェニル、ｐ−トリメチルシリル−フェニル、ｐ−アダマンチル−フェニル、ｐ−（ＣＦ_３）−フェニル、ｍ，ｍ’−ジメチル −フェニル、ナフチルなどの、６から約４０の炭素原子の置換または非置換アリール基であり、または、Ｒ^５およびＲ^５’は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、フェニル、ｐ−イソプロピル−フェニル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル、ｐ−ｓｅｃ−ブチル−フェニル、ｐ−シクルヘキシル−フェニル、ｐ−トリメチルシリル−フェニル、ｐ−アダマンチル−フェニル、ｐ−（ＣＦ_３）−フェニル、ｍ，ｍ’−ジメチル −フェニル、ナフチルなどの、６から約４０の炭素原子の置換または非置換アリール基である。

Ｒ^３は、炭化水素基であり、α位で環状でも分枝でもなく、例えば、１から約２０の炭素原子のアルキル基、７から約４０の炭素原子のアリール置換アルキル基、または８から約４０の炭素原子のアリール置換アルケニル基である。炭化水素基は、Ｓｉ、Ｂ、Ａｌ、Ｏ、Ｓ、Ｎ、またはＰのような一つまたは複数のヘテロ原子を含有することができかつ／またはＦ、Ｃｌ、またはＢｒのようなハロゲン原子を含有することができる。

Ｒ^３’は、α位で環状または分枝基であり、例えば、３から約２０の炭素原子のアルキル基、３から約２０の炭素原子のアルケニル基、６から約２０の炭素原子のアリール基、７から約４０の炭素原子のアリールアルキル基、７から約４０の炭素原子のアルキルアリール基、または８から約４０の炭素原子のアリールアルケニル基である。これらの基は、Ｓｉ、Ｂ、Ａｌ、Ｏ、Ｓ、Ｎ、またはＰのような一つまたは複数のヘテロ原子を含有することができかつ／またはＦ、Ｃｌ、またはＢｒのようなハロゲン原子を含有することができる。

好ましくは、Ｒ^３は、１から約１０の炭素原子の直鎖アルキル基または２から約１０の炭素原子のアルケニル基であり、これらは、ハロゲン化できる。

Ｒ^３’は、３から約２０の炭素原子のα位で環状または分枝アルキル基、３から約２０の炭素原子のアルケニル基、または７から約２０の炭素原子のアルキルアリール基である。

より好ましくは、Ｒ^３は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、またはｎ−ヘキシルであり、Ｒ^３’は、イソプロピル、イソブチル、ｎ−ブチル、sec−ブチル、シクロブチル、１−メチルブチル、１−エチルブチル、１−メチルペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロペンタ−２−エニル、シクロペンタ−３−エニル、シクロヘキサ−２−エニル、シクロヘキサ−３−エニル、またはｐ−メチルシクロヘキシルである。

本発明の特に好ましいメタロセン化合物に対する非限定的な例としては、以下の化合物、すなわち、
ジメチルシランジイル（２−メチル−４−（パラ−tert−ブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−（パラ−tert−ブチル−フェニル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
ジメチルシランジイル（２−エチル−４−（４’tertブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−（４’−tert−ブチル−フェニル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
ジメチルシランジイル（２−メチル−４−（４’tertブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−フェニル−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
ジメチルシランジイル（２−メチル−４−フェニル）−１−インデニル）（２−イソプロピル−４−（４’−tert−ブチル−フェニル）−１−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
ジメチルシランジイル（２−エチル−４−（４’tertブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−フェニル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
ジメチルシランジイル（２−イソプロピル−４−（４’tertブチル−フェニル）−インデニル）（２−メチル−４，５−ベンゾ−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
ジメチルシランジイル（２−メチル−４−（４’tertブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−（１−ナフチル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
ジメチルシランジイル（２−イソプロピル−４−（４’tertブチル−フェニル）−インデニル）（２−メチル４−（１−ナフチル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
がある。

触媒はまた、共触媒として少なくとも一つのメタロセニウムイオン形成化合物Ｂを含む。

適切なメタロセニウムイオン形成化合物（Ｂ）の例としては、強い中性ルイス酸、ルイス酸カチオンを有するイオン性化合物、およびカチオンとしてブレンステッド酸を有するイオン性化合物がある。

好ましい強い中性ルイス酸は、一般式（ＩＩＩ）、すなわち、
Ｍ^２Ｘ^１Ｘ^２Ｘ^３ （ＩＩＩ）
の化合物があり、ここで、
Ｍ^２は、周期表の第三主族元素であり、特にＢ、Ａｌ、またはＧａであり、好ましくはＢであり、
Ｘ^１、Ｘ^２、およびＸ^３は、水素、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルキル、Ｃ_６−Ｃ_１５−アリール、アルキルラジカルには１から１０の炭素原子およびアリールラジカルには６から２０の炭素原子をそれぞれの場合に有するアルキルアリール、アリールアルキル、ハロアルキル、またはハロアリール、またはフッ素、塩素、臭素、またはヨウ素、特に、ハロアリールであり、好ましくはペンタフルオロフェニルである。

好ましいのは、一般式（ＩＩＩ）の化合物であり、ここで、Ｘ^１、Ｘ^２、およびＸ^３は、同一であり、好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランである。
ルイス酸カチオンを有する適切なイオン性化合物は、一般式（ＩＶ）、すなわち、
［（Ｙ^ａ＋）Ｑ_１Ｑ_２…Ｑ_ｚ］^ｄ＋ （ＩＶ）
の化合物であり、ここで、
Ｙは、周期表の第一から第六主族元素または第一から第八副族元素であり、Ｑ_１からＱ_ｚは、Ｃ_１−Ｃ_２８−アルキル、Ｃ_６−Ｃ_１５−アリール、アリールラジカルには６から２０の炭素原子およびアルキルラジカルには１から２８の炭素原子をそれぞれの場合に有するアルキルアリール、アリールアルキル、ハロアルキル、ハロアリール、非置換またはＣ_１−Ｃ_１０−アルキル基で置換できるＣ_３−Ｃ_１０−シクロアルキルなどの、単一の負電荷を有するラジカルであり、または、ハロゲン、Ｃ_１−Ｃ_２８−アルコキシ、Ｃ_６−Ｃ_１５−アリールオキシ、シリル、またはメルカプチルであり、ａは、１から６の整数であり、ｚは、０から５の整数であり、ｄは、差ａ−ｚであり、１より大きいかまたは１に等しい。

特に適したカチオンは、カルボニウムカチオン、オキソニウムカチオン、およびスルホニウムカチオン、およびさらにカチオン性遷移金属錯体である。トリフェニルメチルカチオン、銀カチオン、および１，１’−ジメチルフェロセニルカチオンを特に挙げる必要がある。それらは好ましくは、非配位対イオン、特にホウ素化合物を有し、ＷＯ９１／０９８８２にも挙げられているように、好ましくは、ホウ酸テトラキス（ペンタフルオロフェニル）を有する。

カチオンとしてブレンステッド酸を有するイオン性化合物および好ましくは同様に非配位対イオンは、ＷＯ９１／０９８８２に挙げられており、好ましいカチオンは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムおよびＮ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアンモニウムである。

強い中性ルイス酸、ルイス酸を有するイオン性化合物、またはカチオンとしてブレンステッド酸を有するイオン性化合物の量は好ましくは、メタロセン錯体（Ａ）を基準として０．１から１０当量である。

特に適したメタロセニウムイオン形成化合物（Ｂ）は、一般式（Ｖ）または（ＶＩ）の開鎖または環状アルミノキサン（ａｌｕｍｉｎｏｘａｎｅ）化合物である。

（Ｖ）

（ＶＩ）

ここで、Ｒ^２１は、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルキル、好ましくはメチルまたはエチルであり、ｍは、５から３０、このましくは１０から２５の整数である。

これらのオリゴマーアルミノキサン化合物は一般に、とりわけＥＰ−Ａ２８４７０８およびＵ．Ｓ．特許第４，７９４，０９６号に記載されているように、トリアルキルアルミニウムの溶液を水と反応させることにより調製される。

このようにして得られるオリゴマーアルミノキサン化合物は一般に、異なる直鎖および／または環状長鎖分子の混合物であり、従ってｍは、平均値として見做す必要がある。アルミノキサン化合物はまた、他の金属アルキル化合物、好ましくはアルキルアルミニウム化合物との混合物として存在し得る。

１０：１から１０^６：１、特に１０：１から１０^４：１の範囲の、オリゴマーアルミノキサン化合物からのアルミニウムのメタロセン錯体からの遷移金属に対する、原子比を与える量のメタロセン錯体Ａ）と、一般式（Ｖ）または（ＶＩ）のオリゴマーアルミノキサン化合物とを使用するのが有利であると判明した。

使用される成分Ｂ）を、一般式（Ｖ）または（ＶＩ）のアルミノキサン化合物の代わりに、Ｕ．Ｓ．特許第５，３９１，７９３号に記載されているアリールオキシアルミノキサン、Ｕ．Ｓ．特許第５，３７１，２６０号に記載されているアミノアルミノキサン、ＥＰ−Ａ６３３２６４に記載されている塩酸アミノアルミノキサン、ＥＰ−Ａ６２１２７９に記載されているシロキシアルミノキサン、またはこれらの混合物とするのがさらに可能である。

他の適切なメタロセニウムイオン形成化合物Ｂ）は、ＷＯ９９／０６４１４に開示されている４０ホウ素−アルミニウム化合物、例えば、ジ［ビス（ペンタフルオロフェニルボロキシ）］メチルアランである。使用されるホウ素−アルミニウム化合物はまた、有機または無機担体上に堆積させておくことができる。

メタロセン化合物（Ａ）、およびさらにメタロセニウムイオン形成化合物（Ｂ）は、溶液で使用することができ、特に、６から２０の炭素原子を有する芳香族炭化水素、特にキシレンおよびトルエンが言及される。

適切なメタロセン触媒はまた、更なる成分（Ｃ）として、一般式（ＶＩＩ）、すなわち、
Ｍ^３(Ｒ^２２)_ｒ(Ｒ^２３)_ｓ(Ｒ^２４)_ｔ （ＶＩＩ）
の金属化合物を含むことができ、ここで、
Ｍ^３は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、または周期表の第三主族金属すなわちホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、またはタリウムである。
Ｒ^２２は、水素、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルキル、Ｃ_６−Ｃ_１５−アリール、アルキルラジカルには１から１０の炭素原子およびアリールラジカルには６から２０の炭素原子をそれぞれの場合に有するアルキルアリールまたはアリールアルキルであり、
Ｒ^２３およびＲ^２４は、水素、ハロゲン、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルキル、Ｃ_６−Ｃ_１５−アリール、アルキルラジカルには１から１０の炭素原子およびアリールラジカルには６から２０の炭素原子をそれぞれの場合に有するアルキルアリール、アリールアルキル、またはアルコキシであり、ｒは、１から３の整数であり、ｓおよびｔは、０から２の整数であり、合計ｒ＋ｓ＋ｔは、Ｍ^３の原子価に相当する。
一般式（ＶＩＩ）の金属化合物の中で、好ましいのは、Ｍ^３が、リチウム、マグネシウム、またはアルミニウムでありかつＲ^２３およびＲ^２４がＣ_１−Ｃ_１０−アルキルである金属化合物である。

特に好ましい一般式（ＶＩＩ）の金属化合物は、ｎ−ブチルリチウム、ｎ−ブチル−ｎ−オクチルマグネシウム、ｎ−ブチル−ｎ−ヘプチルマグネシウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、およびトリメチルアルミニウムである。

金属化合物（Ｃ）を使用する場合、それは好ましくは、８００：１から１：１、特に５００：１から５０：１の、式（ＶＩＩ）からのＭ^３の式（ＩＩ）からの遷移金属Ｍ^１に対する、モル比を与える量で触媒システム中に存在する。

メタロセン錯体（Ａ）はまた、担体材料上で使用できる。

使用される担体材料は好ましくは、１から３００μｍ、特に２０から９０μｍの範囲の粒径を一般に有する微細に分割された担体である。適切な担体材料の例としては、ケイ素の、アルミニウムの、チタンの、または周期表の第一または第二主族金属の一つの、無機酸化物、またはこれらの酸化物の混合物があり、これらの中で、アルミナおよび酸化マグネシウムおよびフィロケイ酸塩の他に、特に好ましいのは、シリカゲルである。

担体はまた、例えば吸着水を除去するための熱を用いた処理にかけることができ、この種の処理は通常、８０から２００℃、好ましくは１００から１５０℃で実行され、あるいは、担体は、１０００℃以下、好ましくは６００℃以下の温度でか焼できる。担体はまた一般に、金属アルキル化合物など、好ましくはアルミニウムアルキル化合物、クロロシランまたはＳｉＣｌ_４などの通常の乾燥剤を用いて化学的に処理できる。

他の適切な担体は、微細粒子ポリプロピレンなどの微細粒子ポリオレフィンである。

本発明のポリプロピレン組成物の成分、またはポリプロピレン組成物全体は、適切な触媒システムの存在下、そして、必要に応じて、分子量を調節しかつ／または重合活性を増加させるための手段として水素の存在下、プロピレンと、少なくとももう一つの非プロピレンＣ_２−Ｃ_２０−α−オレフィンとを重合させることにより調製できる。

重合は一般に、２０から１５０℃の温度、１から１００バールの圧力、０．５から５時間の平均滞留時間で、好ましくは、６０から９０℃の温度、２０から５０バールの圧力、０．５から３時間の平均滞留時間で実行される。重合は、一つまたは複数の段で、既知の仕方で、バルク、懸濁液、または気相で、プロピレンを重合するのに一般に使用される反応器内で実行できる。重合は、バッチで、または好ましくは連続的に実行できる。

例えば、二つ以上の出発ポリマーを別々に重合させ、次いで、これらを、スクリュー押出し機、またはディスクパックプラスチック形成器（ｐｌａｓｔｉｃａｔｏｒ）、混練機、またはロールミルなどの適切な混合装置を用いて、混合することができる。しかしながら、プロピレンポリマー組成物は、別々に重合させないのが好ましい。好ましい方法の一つは、適切な触媒の存在下、一連の異なる反応器において、例えば、少なくとも二つの異なる反応器を有する反応器カスケードにおいて、所望の最終組成物を与えるのに十分異なる反応器内の条件で実行することである。特に好ましいのは、両方の反応器内の重合が気相で実行される二つの反応器の反応器カスケードを用いるプロセスである。

以下に与える実施例１〜２５は、本発明を例示する。比較例２６〜３５は、比較の目的で提示されており、本発明を例示するものではない。

以下の実験手順を実施した。
１．重合：
８２０００ｇ／ｈの最大流量で液体プロピレンを満たすためのマイクロモーション（Ｍｉｃｒｏｍｏｔｉｏｎ）ＭＭ−０１０質量流量計と、２０ｓＬ／ｍｉｎの最大流量でエチレンを満たすためのブルックス（Ｂｒｏｏｋｓ）５８５０−Ｓ流量計と、３０００ｇ／ｈの最大流量で１−ブテンを満たすためのブルックス・クワンタム（Ｂｒｏｏｋｓ Ｑｕａｎｔｕｍ）質量流量計と、０．３６５ｇ／ｈの最大流量で水素を満たすためのブルックス（Ｂｒｏｏｋｓ）５８５０−Ｓ流量計と、ダイナマグ（Ｄｙｎａｍａｇ）ＭＭ−Ｄ６０ ＰＰＩ磁気駆動装置に結合されたブレード攪拌装置とを備えた、５リットルのステンレス鋼オートクレーブを重合のために用いた。質量流量計および流量計の誤差範囲は、±０．５％である。

２．ブレンド調製：
実施例７〜１５および比較例３０および３１の全てのブレンドは、７００ｇの高融解オートクレーブ成分と、３００ｇの低融解オートクレーブ成分と、０．５ｇの一次酸化防止剤イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０（登録商標）と、１ｇの二次酸化防止剤イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８（登録商標）と、０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ、酸スカベンジング安定剤とを乾燥混合して調製した。２３０℃融解温度において単一スクリュー押出し機を用いて、それぞれの混合物のストランドを押出し、ペレットを作成した。

比較例４０〜４２の全てのブレンドは、７ｇの高融解オートクレーブ成分と、３ｇの低融解オートクレーブ成分と、０．００５ｇの一次酸化防止剤イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０（登録商標）と、０．０１ｇの二次酸化防止剤イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８（登録商標）と、０．００３ｇのＤＨＴ ４Ａ、酸スカベンジング安定剤とを乾燥混合して調製した。２３０℃融解温度において同期モードでテルモ・ハーケ・レオメックス（Ｔｈｅｒｍｏ Ｈａａｋｅ Ｒｈｅｏｍｅｘ）ＣＴＷ５押出し機を用いて、それぞれの混合物のストランドを押出し、ペレットを作成した。

３．キャストフィルム製造．
全てのフィルムは、１５０ｍｍのフラットダイおよび０．５ｍｍのダイ間隙を有する単一スクリュー押出し機を用いて、２３０℃の融解温度を使用して製造した。全てのフィルムは、２ミルの目標厚みを有した。ライン速度は、３．２５ｍ／ｍｉｎに設定した。

４．樹脂特性の決定
ａ）試料のＣ２およびＣ４含有量は、^１３Ｃ−ＮＭＲ分光法により実施された較正に基づいてＩＲ分光法により決定した。報告された値は、重量％である。
ｂ）試料の融点および結晶の度合いは、ＤＳＣ測定から決定した。試料の典型的な質量は、約４ｍｇであった。試料は、室温から２２０℃まで２０℃／ｍｉｎの加熱速度で加熱し、２２０℃において５分間アニールした。次いで試料は、−５０℃まで２０℃／ｍｉｎの冷却速度で冷却し、−５０℃において５分間アニールした。次いで試料は、２２０℃まで２０℃／ｍｉｎの加熱速度で加熱した。全てのデータは、この第二回目の加熱の実行から評価した。
ｃ）試料のメルト・フロー・レート（ＭＦＲ）は、ＡＳＴＭ Ｄ１２３８に従って、２３０℃の温度および２．１６ｋｇの荷重で決定した。

５．キシレン溶解可能物の決定：
ａ）以下の標準手順を用いた。すなわち、２５０ｍｇの試料を、２５ｍｌのキシレンと小さな攪拌子とを収容し、セプタムでふたをした４０ｍｌのバイアルに入れた。バイアルは、攪拌機／加熱器ブロックで、１時間、１３０℃に加熱した。この時間の後、全ての試料材料は溶解した。その後、溶液は空気中で６０℃に冷却した。次いでそれは、２０℃の水浴に１時間入れた。その後、それは、さらに２時間、２０℃で沈降させた。この手順の後、キシレン不溶物が溶液から沈殿したが、一方、キシレン溶解可能物（ｘｙｌｅｎｅ ｓｏｌｕｂｌｅ）（「ＸＳ」）は依然として上澄み液中に溶解していた。１００μｌの上澄み液を、ヴィスコテック（Ｖｉｓｃｏｔｅｋ）ＦＩＰＡ（フローインジェクションポリマー分析（Ｆｌｏｗ Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ａｎａｌｙｓｉｓ））／ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ））技術を用いて分析した。重量パーセントキシレン溶解可能物は、標準ポリスチレン溶液に対して計算した。ポリスチレン標準溶液は、１０ｍｇの既知の分子量のポリスチレンを１０ｍｌのＴＨＦに溶解して調製した。単一点較正を用いる。重量平均分子量（Ｍｗ）および固有粘度（ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ ｖｉｓｃｏｓｉｔｙ）（ＩＶ）は、それぞれ光散乱および粘度検出器を用いて入手できた。以下の仕様を、装置を作動させるのに用いた。
検出器： モデル３０１ ＴＤＡ
溶媒： ＴＨＦ
カラム： Ｖｉｓｃｏｇｅｌ ＦＩＰＡ−１００Ｈ（１０ｃｍ＊７．８ｍｍ内径）
温度： ５０℃
注入体積： １００μｌ
流量： １ｍＬ／ｍｉｎ
この手順に従って決定されるキシレン溶解可能物の量は、「ＸＳ_２ｈ」と呼ぶ。

６．５日間の長期の沈降時間後のキシレン溶解可能物の決定は、以下の手順を実施して達成した。
試料をさらなる２時間の代わりにさらに５日間沈降させたことを除いて同じ実験処方に試料をかけた。この手順に従って決定されるキシレン溶解可能物の量は、「ＸＳ_５ｄ」と呼ぶ。

７．温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）：
結晶性に関連するプロピレンポリマーの分離は、温度上昇溶離分別（ＴＲＥＦ）により実行した。この目的のために、各５ｇの組成物を、４００ｍｌの沸騰キシレン中に溶解し、溶液は次いで、１０℃／ｈの冷却温度で室温まで直線的に冷却し、ポリマーの大部分は、結晶により沈殿した。

結晶懸濁液は、［W. Holtrup in Makromol. Chem. 178, (1977) 2335］ に記載されている装置に相当するサーモスタット制御の５００ｍｌ抽出装置に移し、第一の溶離温度に加熱した。ポリプロピレン結晶は、激しく混合しながら２０分間この温度で抽出した。その後、ポリマー溶液は、ポリマー結晶を抽出器内に残したまま、排出した。溶解したポリマーは、冷アセトン（温度＜０℃）中で沈殿し、沈殿は、濾過し、１０時間、６０℃、２５ｍｂａｒの真空で乾燥した。
排出後、抽出器は、次の溶離温度に加熱し、同じ温度の４００ｍｌのキシレンを加えた。抽出を再度、激しく混合しながら２０分間実行し、ポリマー溶液は、排出し、溶解したポリマーは、冷アセトン中で沈殿し、沈殿は、濾過し、先に述べたように乾燥した。

これらのステップを、全てのポリマーが溶解するとすぐに分別プログラムを停止するオプションで、４０℃から１０７℃まで実行した。次いで、抽出器は、１３５℃で３０分間、どのような可能なポリマー残留物も抽出することで清浄化した。全ての場合、分別の完了は、清浄化フラクションを沈殿させて回収されかつ分別手順に掛けたポリマーの全量に基づく最大０．１ｗｔ％が、この清浄化フラクション中に見出されたという事実によって例示された。４０℃から５０℃、５１℃から６０℃、６１℃から９２℃、および＞９２℃の温度範囲で回収されたポリマーフラクションの合計が決定された。収率は、分別手順に掛けたポリマーの全量に基づく、全てのフラクションの合計である。

長期の沈降時間後のキシレン溶解可能物の決定の方法とＴＲＥＦとの組み合わせの結果として、我々は、５つのフラクションすなわち、「ＸＳ」（長期の沈降時間後のキシレン溶解可能物）、フラクション「５０℃」（５０℃までの全てのＴＲＥＦフラクションの合計からＸＳを差し引いたもの）、フラクション「６０℃」（＞５０℃から６０℃までの全てのＴＲＥＦフラクションの合計）、フラクション「９２℃」（＞６０℃から９２℃までの全てのフラクションの合計）、およびフラクション「＞９２℃」（＞９２℃から１０７℃までの全てのフラクションの合計）を報告する。

８．フィルム特性の決定は、シンテック（Ｓｉｎｔｅｃｈ）１Ｓ試験器を用いて、１％セカントモジュラス（Ｓｅｃａｎｔ Ｍｏｄｕｌｕｓ）（ＡＳＴＭ Ｅ１１１−９７）に従って実施した。
セカントモジュラスは通常、フィルムの剛性に関連する。試験片は、１”×１２”単一プライフィルム試料から構成された。試験片は次いで、空気式グリップ内（＠８０ｐｓｉ）へ（機械の方向へ）装荷し、試験器上で試験にかけた。１０”の距離が、グリップを互いに隔てる。クロスヘッドが、１ｉｎ／ｍｉｎの速度で動いて、０．２”の全距離を移動する。

９．グロス測定 グロス（Ｇｌｏｓｓ）２０／グロス（Ｇｌｏｓｓ）４５（ＡＳＴＭ Ｄ−２４５７−９０）［ガードナーグロスメーター（Ｇａｒｄｎｅｒ ｇｌｏｓｓ ｍｅｔｅｒ）＆マイクログロスメーター（ｍｉｃｒｏ−ｇｌｏｓｓ ｍｅｔｅｒ）］．
グロス２０およびグロス４５は、４”×４”フィルム試験片の外面に対して実施される光学試験である。試験片は、１グロス単位未満の表面反射率を有する黒面上で試験した。「グロス」という用語の後の「２０」および「４５」は、光源がフィルム試験片を照らす角度を指す。装置は、装置の他方の側にある光検出器に反射して戻される光量をグロス単位で表示する。我々は、４５度グロスについてはガードナーグロスメーター（Ｇａｒｄｎｅｒ ｇｌｏｓｓ ｍｅｔｅｒ）を、２０度グロスを実施するためにはガードナーマイクログロス（Ｇａｒｄｎｅｒ ｍｉｃｒｏ−ｇｌｏｓｓ）を用いた。グロスは、グロス単位で報告する。

１０．ガードナー・ヘーズ・ガード・プラス（Ｇａｒｄｎｅｒ Ｈａｚｅ−Ｇｕａｒｄ Ｐｌｕｓ）装置を用いるＡＳＴＭ１００３−６１に従うヘーズパーセントの決定．
フィルム試験片は、装置の所定のポートに対して固定して配置し、光源からの光は、フィルムの他方の側の検出器へとそれを通過した。検出器は、ヘーズパーセント値を戻す。数値が大きいほど、フィルム試料は、より曇っている。ヘーズ試料は、４”×４”の大きさであった。試料１つにつき６つの試験片を試験にかけた。

１１．センコープ・システムズ・ヒート・シーラー（Ｓｅｎｃｏｒｐ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｈｅａｔ Ｓｅａｌｅｒ）モデル１２ＡＳＬ／１を用いるＡＳＴＭ Ｆ８８−９９に従うシール強度の決定．
シール強度は、プロセス確認、プロセス制御、および性能において使用するための定量的測定である。試験片の数は、代表的な性能の適切な決定が可能となるように選択した。材料は、機械方向にストリップに切断し、シールは、ストリップに亘って作成し、次いで、試験器内で長いタブで引張った。この試験方法は、シールを含む材料の試験ストリップを分離するのに必要な最大の力を測定する。それはまた、試験片の破損のモードも特定する。シールされた試料は、以下の寸法に切断して試験用に調製した。試験片幅は１．００インチであった。試験片長さは３から４インチであった。シールは、１０から１２ｉｐｍのグリップ分離速度で試験した。各サイクルで、試験片に応力を加えて破損したときの遭遇した最大の力を報告し、また、試験片の破損モードを特定した。曲線の最初の温度点は通常、シール開始温度付近にある。ヒート・シール曲線の最後の点は、上昇した温度レベルによって、一般に融合シールと呼ばれるシールの縁部において材料の破損または引裂けが生じるときである。ドエル時間は、０．５秒間であった。最も一般的に使用したシーリング圧力は４０ｐｓｉであった。

１２．キャストフィルムからのヘキサン抽出可能物の決定：ヘキサン抽出可能物は、２ミル厚の２ｇの各フィルムを５０℃における２時間のオートクレーブ中での抽出手順にかけることにより、ＦＤＡ １７７．１５２０に従って決定した。抽出後、ヘキサンは、蒸発により除去し、乾燥残留物の重量を測定した。

［実施例１］
この実施例は、メタロセンオレフィン重合触媒の調製を示す。
７０ｍｇ（０．０９１ｍｍｏｌ）のｒａｃ−ジメチルシランジイル（２−メチル−４−（パラ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−（パラ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物を、室温で、トルエン中のメチルアルミノキサンの４．３ｃｍ^３の溶液（アルベマール社（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ
Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）、バトルルージュ、ルイジアナ州、４．７５Ｍ、３０ｗｔ％）中に溶解した。溶液は、３．７ｃｍ^３のトルエンで希釈し、光に曝さずに２５℃において１時間、攪拌した。溶液は、攪拌しながら４ｇのＳｉＯ_２（等級ＭＳ９４８、Ｗ．Ｒ．グレース社（Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅ）、デーヴィソン（Ｄａｖｉｓｏｎ）化学部門、バルチモア、メリーランド州、細孔体積１．６ｍｌ／ｇ、６００℃でか焼）に少しずつ加えた。添加後、溶液は、さらに１０分間攪拌した。溶液体積の担体材料の体積全体に対する比は、１．２５であった。バッチは、４０℃、１０^−３ｍｂａｒで４時間内で乾燥した。５．５ｇの自由流動粉末を得た。元素分析によると、Ｚｒ含有量は、０．１３ｗｔ％であり、Ａｌ含有量は、９．５ｗｔ％であった。

［実施例２］
この実施例は、本発明のポリマーブレンドを形成するためのブレンディング用のコポリマーを形成する重合反応を示す。
オートクレーブは、窒素で三回パージした。攪拌機は、１７５ｒｐｍに調節した。室温で、０．０００３ｇの水素と、３０ｇのエチレンとを加えた。スカベンジャーとして、ｎ−ヘプタン中のトリイソブチルアルミニウムの１５ｃｍ^３の溶液（２５ｗｔ％）を、１０００ｇのプロピレンと共にオートクレーブにさっと流し込み、１７５ｒｐｍで１分間攪拌した。次いで２５０ｍｇの実施例１の触媒をさらなるプロピレンと共にさっと流し込み、反応器への２０００ｇの合計モノマー供給量（プロピレンおよびエチレン）を生じた。５分間以内に、モノマー混合物の温度を６０℃の重合温度にした。重合は、３０分間（実行時間）実行した。重合は、脱ガスすることにより停止した。９００ｇのポリマーを得た。ポリマーは、オートクレーブから取り出し、室温、大気圧で一夜、乾燥した。全体の手順は、合計２．７ｋｇのポリマーを製造するまで３回繰り返した。

［実施例３−６］
実施例２を、さまざまな量の水素、エチレン、およびプロピレンを反応器に供給したことを除いて、繰り返した。正確な反応条件は、表１に列挙する。

実施例２〜６の樹脂のＭＦＲを、上述した粉末から決定した。実施例５および６のＣ_２含有量、融点、およびキシレン溶解可能物を粉末から決定した。結果は、表２に列挙する。

実施例２から６の製造樹脂の化合物を調製し、押出し、ペレットを作成した。実施例２、３および４の樹脂は、本発明のポリマーブレンドに使用される高融点成分を表す。実施例５および６の樹脂は、本発明のポリマーブレンドに使用される相対的に低い融点の成分を表す。

［実施例７−１５］
実施例７、８および９は、単一のポリマー成分であり、ポリマーブレンドではない。実施例１０から１５は、相対的に高い融点のポリマー成分と、相対的に低い融点のポリマー成分とを含み、本発明によるポリマーブレンドを例示する。

実施例７： １０００ｇの実施例２の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

実施例８： １０００ｇの実施例３の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

実施例９： ７００ｇの実施例４の樹脂＋０．３５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋０．７ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．２１ｇのＤＨＴ ４Ａ。

実施例１０： ７００ｇの実施例２の樹脂＋３００ｇの実施例５の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

実施例１１： ７００ｇの実施例２の樹脂＋３００ｇの実施例６の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

実施例１２： ７００ｇの実施例３の樹脂＋３００ｇの実施例５の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

実施例１３： ７００ｇの実施例３の樹脂＋３００ｇの実施例６の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

実施例１４： ７００ｇの実施例４の樹脂＋３００ｇの実施例５の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

実施例１５： ７００ｇの実施例４の樹脂＋３００ｇの実施例６の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

実施例７から１５の樹脂のＭＦＲ、Ｃ_２含有量、融点、およびキシレン溶解可能物を上述したペレットから決定した。結果は、表３に列挙する。

実施例５、６、７、８、９、１１、１４および１５の樹脂を、上述したＴＲＥＦにより分析した。フラクションの割合による結果は表４に読むことができる。

［実施例１６−２４］
フィルムを、上述した実施例７〜１２のペレットから作成した。以下のフィルムを調製した。
実施例１６： 実施例７のフィルム。
実施例１７： 実施例８のフィルム。
実施例１８： 実施例９のフィルム。
実施例１９： 実施例１０のフィルム。
実施例２０： 実施例１１のフィルム。
実施例２１： 実施例１２のフィルム。
実施例２２： 実施例１３のフィルム。
実施例２３： 実施例１４のフィルム。
実施例２４： 実施例１５のフィルム。

実施例１６から２４のフィルムのセカントモジュラス、ヘキサン抽出可能物、およびシール開始温度を上述したように決定した。結果は、表５に列挙する。

実施例１６から２４の温度依存シール強度データを表６に与える。

［比較例２５］
この比較例は、チーグラー・ナッタ触媒の調製を示す。
Ｔｉ含有固体の調製．
３４２Ｌのエチルベンゼンと１７１Ｌのヘプタンとの混合物中の５７ｋｇのシリカゲル（グレース・デーヴィソン（Ｇｒａｃｅ Ｄａｖｉｓｏｎ）によるシロポル（Ｓｙｌｏｐｏｌ）（登録商標）２２２９）の懸濁液中に、周囲温度において、ヘプタン中のｎ−ブチル−ｎ−オクチルマグネシウムの５４２Ｌの２０ｗｔ％溶液を加えた。反応混合物は、９５℃において３０分間、攪拌し、その後、２０℃に冷却し、その後、５５．５ｋｇの気体状塩化水素を導入した。１２０分間後、反応生成物は、連続的に攪拌しながら、５４．６ｋｇのエタノールと混合した。３０分間の攪拌後、５３６ｋｇの四塩化チタンと１２２ｋｇのフタル酸ジブチルとを加え、１００℃において６０分間、攪拌した。こうして得られた固体は、濾過し、エチルベンゼンで多数回洗浄した。このようにして得られた固体生成物は、エチルベンゼン中の四塩化チタンの１０％体積濃度溶液を用いて１８０分間１２５℃で抽出した。固体生成物は次いで、濾過により抽出溶媒から分離し、洗浄物が重量でわずか０．３％の四塩化チタンを含有するまで、ヘプタンで洗浄した。

チタン含有固体成分は、重量で４．２％のＴｉと、重量で８．５％のＭｇと、重量で３３．０％のＣｌとを含有した。

［比較例２６］
この例は、本発明によらないブレンドを調製するためのポリマー成分の重合を例示する。
オートクレーブは、窒素で三回パージした。攪拌機は、１７５ｒｐｍに調節した。室温で、０．３ｇの水素と、５ｇのエチレンと、５００ｇの１−ブテンとを加えた。ｎ−ヘプタン中のトリエチルアルミニウムの１５ｃｍ^３の溶液（２５ｗｔ％）と、５ｃｍ^３のビスシクロペンチルジメトキシシランの溶液（ｎ−ヘプタン中の０．１Ｍ）との混合物を、１０００ｇのプロピレンと共にオートクレーブにさっと流し込み、１７５ｒｐｍで１分間攪拌した。次いで３０ｍｇの比較例２５の触媒をさらなるプロピレンと共にさっと流し込み、反応器への２０００ｇの合計モノマー供給量（プロピレン＋エチレン＋１−ブテン）を生じた。５分間以内に、モノマー混合物の温度を７５℃の重合温度にした。重合は、１５分間実行した。重合は、脱ガスすることにより停止した。４７０グラムのポリマーを得た。ポリマーは、オートクレーブから取り出し、室温、大気圧で一夜、乾燥した。全体の手順は、合計２．６ｋｇのポリマーを製造するまで３回繰り返した。

［比較例２７］
比較例２６を、さまざまな量の水素、エチレン、１−ブテン、およびプロピレンを反応器に供給し、重合をさまざまな温度で実行したことを除いて、繰り返した。正確な反応条件は、表７に列挙する。重合プロセスの際に形成されたどのような塊も、材料を脆くしておくためにドライアイスを用いてミル内でポリマーバッチを砕くことにより破壊した。

［比較例２８］
２００ｌの有効体積の垂直攪拌気相反応器において、分子量調節剤としての水素の存在下、プロピレン／エチレン／１−ブテンターポリマーを製造した。反応器は、微細に分割されたポリマーの攪拌層を含んでいた。気体状のプロピレン、エチレン、および１−ブテンを、７０℃の温度および２０バールの圧力下、連続的に重合した。プロピレンのエチレンに対する分圧の比は、５６：１であり、１−ブテンのエチレンに対する分圧の比は、５：１であった。重合は、１．５時間の滞留時間で実行し、１時間当たり２．２ｇの比較例２５の触媒と、１時間当たり９０ｍｍｏｌのトリエチルアルミニウムと、１時間当たり９ｍｍｏｌのイソブチル、イソプロピルジメトキシシランとを反応器に供給した。１ｇ／１０ｍｉｎのＭＦＲを有するプロピレン／エチレン−１−ブテンターポリマーを得た。それを、周期的に５ｇ／１０ｍｉｎのＭＦＲに分解し、ペレットを作成した。安定剤として、５００ｐｐｍのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０と、１０００ｐｐｍのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）６８と、３００ｐｐｍのＤＨＴ ４Ａとを加えた。さらなる分析データは、表８に与える。

［比較例２９］
各反応器がそれぞれ２００ｌの有効体積を有する直列に接続され二つの垂直攪拌気相反応器のカスケードにおいて、分子量調節剤としての水素の存在下、プロピレン／エチレン／１−ブテンを調製した。両方の反応器とも、微細に分割されたポリマーの攪拌固体層を含んでいた。気体状のプロピレン、エチレン、および１−ブテンを、８０℃の温度および２４バールの圧力下、第一の反応器内で連続的に重合した。プロピレンのエチレンに対する分圧の比は、６０：１であり、１−ブテンのエチレンに対する分圧の比は、５：１であった。重合は、１．５時間の滞留時間で実行し、１時間当たり２．３ｇの比較例２５の触媒と、１時間当たり９０ｍｍｏｌのトリエチルアルミニウムと、１時間当たり９ｍｍｏｌのイソブチル、イソプロピルジメトキシシランとを反応器に供給した。気相重合の最後に得られたプロピレン／エチレン／１−ブテンターポリマーは次いで、依然として活性な触媒成分と共に、第二の気相反応器に移した。そこでは、気体状のプロピレン、エチレン、および１−ブテンを、８０℃の温度および１４バールの圧力下、調節剤としてイソプロパノールを用いて、第一のステップのターポリマー上で、連続的に共重合した。プロピレンのエチレンに対する分圧の比は、３４：１であり、１−ブテンのエチレンに対する分圧の比は、３：１であった。１ｇ／１０ｍｉｎのＭＦＲを有するプロピレン／エチレン−１−ブテンターポリマーを得た。それを、周期的に５ｇ／１０ｍｉｎのＭＦＲに分解し、ペレットを作成した。安定剤として、５００ｐｐｍのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０と、１０００ｐｐｍのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）６８と、３００ｐｐｍのＤＨＴ ４Ａとを加えた。さらなる分析データは、表８に与える。

［比較例３０−３１］
比較例２６から２７の製造樹脂の化合物を調製し、押出し、ペレットを作成した。

比較例３０： １０００ｇの比較例２６の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

比較例３１： ７００ｇの比較例２６の樹脂＋３００ｇの比較例２７の樹脂＋０．５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋１．０ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

比較例３１は、４．７ｇ／１０ｍｉｎのＭＦＲ、１３３．０℃の融点、１３．９ｗｔ％のＸＳ_２ｈ、および１０．２ｗｔ％のＸＳ_５ｄを有していた。ＸＳ_５ｄのＭｗは、８３．６ｋｇ／ｍｏｌであり、ＩＶは、０．７４ｄｌ／ｇであった。

比較例２８、２９および３１の樹脂を、上述したＴＲＥＦにより分析した。フラクションの割合による結果は表９に述べる。

［比較例３２−３５］
フィルムを、上述した比較例２８から３１のペレットから作成した。以下のフィルムを調製した。
比較例３２： 比較例２８の樹脂のフィルム。
比較例３３： 比較例２９の樹脂のフィルム。
比較例３４： 比較例３０の樹脂のフィルム。
比較例３５： 比較例３１の樹脂のフィルム。
比較例３２から３５のフィルムのセカントモジュラス、ヘキサン抽出可能物、およびシール開始温度を上述したように決定した。結果は、表１０に列挙する。

実施例３２から３５の温度依存シール強度データを表１１および表１２に与える。

［比較例３６］
実施例１を、メタロセンｒａｃ−ジメチルシランジイル（２−メチル−４−（パラ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−（パラ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物の代わりに、メタロセンｒａｃ−ジメチルシランジイルビス（２−メチル−インデニル）ジルコニウム二塩化物を用いたことを除いて、繰り返した。５．３ｇの自由流動粉末を得た。

［比較例３７−３９］
実施例２を、実施例１において調製した触媒の代わりに、比較例３６において調製した触媒を用いたことを除いて、繰り返した。水素はどの重合でも使用せず、反応器に供給するプロピレンおよびエチレンの量は異なっていた。正確な反応条件は、表１３に列挙する。

比較例３７〜３９の樹脂のメルト・フロー・レート、Ｃ_２含有量、融点、およびキシレン溶解可能物を、上述した粉末から決定した。結果は、表１４に列挙する。

［比較例４０−４２］
比較例３７から３９の製造樹脂の化合物を調製し、押出し、ペレットを作成した。比較例３７の樹脂は、高融点成分を表す。比較例３８および３９の樹脂は、相対的に低い融点の成分を表す。比較例４０は、単一のポリマー成分であり、ポリマーブレンドではない。比較例４１および４２は、相対的に高い融点のポリマー成分と、相対的に低い融点のポリマー成分とを含み、当業技術内で知られるメタロセン触媒ポリマーブレンドを例示する。

比較例４０： １０ｇの比較例３７の樹脂＋０．００５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋０．０１ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．００３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

比較例４１： ７ｇの比較例３７の樹脂＋３ｇの比較例３８の樹脂＋０．００５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋０．０１ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．００３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

比較例４２： ７ｇの比較例３７の樹脂＋３ｇの比較例３９の樹脂＋０．００５ｇのイルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）１０１０＋０．０１ｇのイルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）１６８＋０．００３ｇのＤＨＴ ４Ａ。

比較例４０から４２の樹脂のＣ _２ 含有量、融点、およびキシレン溶解可能物を上述したペレットから決定した。結果は、表１５に列挙する。

ここで表３の実施例１０〜１５を参照すると、本発明の樹脂ブレンドのキシレン溶解可能フラクションは、３００ｋｇ／ｍｏｌを十分に超える分子量と、２．００ｄｌ／ｇを超える固有粘度（ＩＶ）とにより特徴付けられることが理解できる。

表５を参照すると、実施例１０〜１５の樹脂からそれぞれ作成された実施例１９〜２４のフィルムからのヘキサン抽出可能物の量は、０．５から２．５ｗｔ％の範囲にある。対応するシール開始温度は、１１６℃以下であり、実施例２３および２４では、１００℃より低かった。

これとは対照的に、比較例３１のポリマーブレンド、キシレン溶解可能物は、わずか８３．６ｋｇ／ｍｏｌの分子量と、０．７４ｄｌ／ｇのＩＶとを有していた。比較例３５のフィルム（比較例３１のポリマーブレンドから作成された）からのヘキサン抽出可能物は、４．４ｗｔ％であり、フィルムは、１０４℃のＳＩＴ値を有していた（表１０）。

同様に対照的に、比較例４１および４２のポリマーブレンド、キシレン溶解可能物は、それぞれわずか６５．０ｋｇ／ｍｏｌおよび７７．７ｋｇ／ｍｏｌの分子量と、それぞれ０．７１ｄｌ／ｇおよび０．８１ｄｌ／ｇのＩＶ値とを有していた。本発明は、より有利な特性のバランスを有するポリマー材料を提供することが理解できる。

上述した説明は、多くの詳細を含むとはいえ、これらの詳細は、本発明の範囲の限定としてではなく、本発明の好ましい実施態様の単なる例示として解釈すべきである。当業者は、添付の請求項により規定される本発明の範囲および趣旨の中で他の多くの実施態様を構想するであろう。

Claims (32)

1. ａ）プロピレンと、一つまたは複数の非プロピレンＣ_２−Ｃ_２０α−オレフィンとの第一のランダムコポリマーであって、９０超から９９．５重量パーセントまでのプロピレン含有量と、１１６℃超から１４５℃の融点とを有し、組成物の６０重量パーセントから９５重量パーセントを構成する第一のランダムコポリマーと、
   ｂ）プロピレンと、一つまたは複数の非プロピレンＣ_２−Ｃ_２０α−オレフィンとの第二のランダムコポリマーであって、８５超から９７重量パーセントまでであるが第一のランダムコポリマーのプロピレン含有量以下のプロピレン含有量と、７０℃から１１６℃以下の融点とを有し、組成物の５重量パーセントから４０重量パーセントを構成する第二のランダムコポリマーと、
   のポリマーブレンドから成る組成物であって、
   ポリマーブレンドは、２０℃において５日間の沈降時間で決定されるキシレンに溶解可能なフラクションを含み、このキシレン溶解可能フラクションは、１００ｋｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量と、１．０ｄｌ／ｇを超える固有粘度とを有する、
   ことを特徴とする組成物。
2. 前記キシレン溶解可能フラクションは、１５０ｋｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有することを特徴とする請求項１記載の組成物。
3. 前記キシレン溶解可能フラクションは、２００ｋｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有することを特徴とする請求項１記載の組成物。
4. 前記キシレン溶解可能フラクションは、３００ｋｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有することを特徴とする請求項１記載の組成物。
5. 前記キシレン溶解可能フラクションは、１．３ｄｌ／ｇを超える固有粘度を有することを特徴とする請求項１記載の組成物。
6. 前記キシレン溶解可能フラクションは、１．６ｄｌ／ｇを超える固有粘度を有することを特徴とする請求項１記載の組成物。
7. 前記キシレン溶解可能フラクションは、２．０ｄｌ／ｇを超える固有粘度を有することを特徴とする請求項１記載の組成物。
8. 前記ポリマーブレンドは、３から３０重量パーセントの超低結晶性フラクションを含み、この超低結晶性フラクションは、２０℃において２時間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量と、２０℃において５日間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量との差として定義されることを特徴とする請求項１記載の組成物。
9. ２超から１５ｇ／１０ｍｉｎの２３０℃の温度および２．１６ｋｇにおけるメルト・フロー・レートを有することを特徴とする請求項１記載の組成物。
10. 前記ポリマーブレンドの両方のランダムコポリマーが、メタロセン触媒を用いて調製されたことを特徴とする請求項１記載の組成物。
11. 請求項１記載の組成物から製造される少なくとも一つの層を有することを特徴とするフィルム。
12. 前記フィルム層のヘキサン抽出可能フラクションの量が、３．０重量パーセント以下であることを特徴とする請求項１１記載のフィルム。
13. ａ）プロピレンとエチレンとの第一のランダムコポリマーであって、９０超から９９．５重量パーセントまでのプロピレン含有量と、１１６℃超から１４５℃の融点とを有し、組成物の６０重量パーセントから９５重量パーセントを構成する第一のランダムコポリマーと、
    ｂ）プロピレンとエチレンとの第二のランダムコポリマーであって、８５超から９７重量パーセントまでであるが第一のランダムコポリマーのプロピレン含有量以下のプロピレン含有量と、７０℃から１１６℃以下の融点とを有し、組成物の５重量パーセントから４０重量パーセントを構成する第二のランダムコポリマーと、
    のポリマーブレンドから成る組成物であって、
    ポリマーブレンドは、２０℃において５日間の沈降時間で決定される、２０℃においてキシレンに溶解可能なフラクションを含み、このキシレン溶解可能フラクションは、１００ｋｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量と、１．０ｄｌ／ｇを超える固有粘度とを有する、
    ことを特徴とする組成物。
14. 前記キシレン溶解可能フラクションは、１５０ｋｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有することを特徴とする請求項１３記載の組成物。
15. 前記キシレン溶解可能フラクションは、２００ｋｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有することを特徴とする請求項１３記載の組成物。
16. 前記キシレン溶解可能フラクションは、３００ｋｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量を有することを特徴とする請求項１３記載の組成物。
17. 前記キシレン溶解可能フラクションは、１．３ｄｌ／ｇを超える固有粘度を有することを特徴とする請求項１３記載の組成物。
18. 前記キシレン溶解可能フラクションは、１．６ｄｌ／ｇを超える固有粘度を有することを特徴とする請求項１３記載の組成物。
19. 前記キシレン溶解可能フラクションは、２．０ｄｌ／ｇを超える固有粘度を有することを特徴とする請求項１３記載の組成物。
20. 前記ポリマーブレンドは、３から３０重量パーセントの超低結晶性フラクションを含み、この超低結晶性フラクションは、２０℃において２時間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量と、２０℃において５日間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量との差として定義されることを特徴とする請求項１３記載の組成物。
21. ２と１５ｇ／１０ｍｉｎの間の２３０℃の温度および２．１６ｋｇにおけるメルト・フロー・レートを有することを特徴とする請求項１３記載の組成物。
22. 前記ポリマーブレンドの両方のランダムコポリマーが、メタロセン触媒を用いて調製されたことを特徴とする請求項１３記載の組成物。
23. 請求項１３記載の組成物から製造される少なくとも一つの層を有することを特徴とするフィルム。
24. 前記フィルム層のヘキサン抽出可能フラクションの量が、３．０重量パーセント以下であることを特徴とする請求項２３記載のフィルム。
25. 前記ポリマーブレンドは、
    ａ）１０重量パーセント以下の、キシレンに溶解可能なフラクションであって、
    ｉ）２０℃における５日間の沈降時間でのキシレン溶解可能物の量として、または、
    ｉｉ）２０℃における温度上昇溶離分別により溶離される材料の量として、
    決定されるキシレンに溶解可能なフラクションと、
    ｂ）１０から５０重量パーセントの、低結晶性材料のフラクションであって、
    ｉ）５０℃までの温度上昇溶離分別により溶離される材料の量と、２０℃における５日間の沈降時間でのキシレン溶解可能物との差として、または、
    ｉｉ）２１℃から５０℃の温度における温度上昇溶離分別により溶離される材料の量として、
    決定される低結晶性材料のフラクションと、
    ｃ）５１℃から６０℃の温度上昇溶離分別により溶離される材料の量として決定される、０から２０重量パーセントの、中間結晶性材料のフラクションと、
    ｄ）６１℃から９２℃の温度上昇溶離分別により溶離される材料の量として決定される、２０から７０重量パーセントの、高結晶性材料のフラクションと、
    ｅ）９２℃を超える温度における温度上昇溶離分別により溶離される材料の量として決定される、５重量パーセント以下の、非常に高い結晶性材料と、
    を有する二つ又はそれ以上のプロピレンコポリマー含む組成物であって、
    温度上昇溶離分別を、溶媒としてキシレンを用いて４０℃と１０７℃の間のステップで実行する場合、キシレン溶解可能物は、２０℃において５日間の沈降時間で決定され、または、温度上昇溶離分別を、溶媒としてキシレンを用いて２０℃と１０７℃の間のステップで実行する場合、キシレン溶解可能物は、温度上昇溶離分別の２０℃のフラクションとして決定され、
    ５１℃と６０℃の間で溶離される材料の量は、組成物の全重量に基づいて少なくとも５ｗｔ％だけ、４０℃と５０℃の間で溶離される材料の量より少なく、かつ、少なくとも４０ｗｔ％だけ、６１℃と９２℃の間で溶離される材料の量より少なく、
    前記ブレンドは、３から３０重量パーセントの超低結晶性フラクションを含有し、この超低結晶性フラクションは、２０℃において２時間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量と、２０℃において５日間の沈降時間で決定されるキシレン溶解可能成分の量との差として定義される、
    ことを特徴とする請求項１記載の組成物。
26. 前記ポリマーブレンドは、
    第一のランダムコポリマーによる核生成に寄与する第二のランダムコポリマーの結晶性が、Ｉ：ＩＩの比に従い、
    Ｉは、以下の（ｉ）と（ｉｉ）の差であり、
    （ｉ）は、二つのブレンド成分の個別に決定されるキシレン溶解可能物からブレンド組成物に対して比例計算されるキシレン溶解可能物の量であり、
    （ｉｉ）は、ブレンド中の実際に測定されるキシレン溶解可能物の量であり、
    ＩＩは、二つのブレンド成分の個別に決定されるキシレン溶解可能物からブレンド組成物に対して比例計算されるキシレン溶解可能物の量である、
    ことを特徴とする請求項１記載の組成物。
27. ポリプロピレンコポリマー組成物を調製するためのプロセスであって、
    ａ）以下の式、すなわち、
    Ｒ^９Ｌ^１Ｌ^２Ｍ^１Ｒ^１Ｒ^２
    （式Ｉ）
    を有するメタロセン化合物を含む触媒であって、
    Ｍ^１は、元素の周期表のＩＶｂ族の遷移金属であるジルコニウム、チタン、ハフニウムの何れかであり、Ｌ^１およびＬ^２は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、中心原子Ｍ^１と共にサンドイッチ構造を形成する、置換単核または多核炭化水素ラジカル、または一つまたは複数の炭化水素ラジカルを含有する一つまたは複数のヘテロ原子であり、
    Ｒ^１およびＲ^２は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、水素原子、１から１０の炭素原子のアルキル基、１から１０の炭素原子のアルコキシ基、６から２０の炭素原子のアリール基、６から１０の炭素原子のアリールオキシ基、２から１０の炭素原子のアルケニル基、ＯＨ基、ハロゲン原子、または、ＮＲ_２ ^３２基であり、ここでＲ^３２は、１から１０の炭素原子のアルキル基または６から１４の炭素原子のアリール基であり、または、Ｒ^１およびＲ^２は一緒に一つまたは複数の環系を形成でき、
    Ｒ^９は、以下の基、すなわち、
    

    

    
    から選択される、Ｌ^１とＬ^２との間の架橋であり、
    Ｒ^４０、Ｒ^４１は、これらが同じ指数を有するときでさえ、同一とすることも、異なるものとすることもでき、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、または、Ｃ_１−Ｃ_２０−アルキル基、Ｃ_１−Ｃ_１０−フルオロアルキル基、Ｃ_１−Ｃ_１０−アルコキシ基、Ｃ_６−Ｃ_１４−アリール基、Ｃ_６−Ｃ_１０−フルオロアリール基、Ｃ_６−Ｃ_１０−アリールオキシ基、Ｃ_２−Ｃ_１０−アルケニル基、Ｃ_７−Ｃ_４０−アリールアルキル基、Ｃ_７−Ｃ_４０−アルキルアリール基、またはＣ_８−Ｃ_４０−アリールアルケニル基などのＣ_１−Ｃ_４０基であり、ここで、Ｒ^４０およびＲ^４１は、それぞれ、それらに接続する原子と共に、一つまたは複数の環を形成することができ、ｚは、ゼロから１８の整数であり、
    Ｍ^１２は、ケイ素、ゲルマニウム、またはスズであり、
    Ｒ^９は、式ＩＩの二つのユニットを互いに結合することもできる、
    触媒を用意し、
    ｂ）プロピレンと、少なくとも一つのＣ_２−Ｃ_２０非プロピレンα−オレフィンとの第一のモノマー混合物を、これらから製造されるコポリマーが、９０および９９．５ｗｔ％の間のプロピレンユニットの、０．５ｗｔ％と１０ｗｔ％の間の非プロピレンα−オレフィンユニットに対する比を有するような量で、用意し、
    ｃ）１１６℃と１４５℃の間の融点を有する第一のランダムコポリマーを形成する重合反応条件下で、メタロセン触媒の存在下、第一のモノマー混合物を重合し、
    ｄ）プロピレンと、少なくとも一つのＣ_２−Ｃ_２０非プロピレンα−オレフィンとの第二のモノマー混合物を、これらから製造されるコポリマーが、８５および９７ｗｔ％の間のプロピレンユニットの、３ｗｔ％と１５ｗｔ％の間の非プロピレンα−オレフィンユニットに対する比を有するような量で、用意し、
    ｅ）７０℃と１１６℃の間の融点を有する第二のランダムコポリマーを形成する重合反応条件下で、メタロセン触媒の存在下、第二のモノマー混合物を重合し、
    ｆ）第一のランダムコポリマーと第二のランダムコポリマーをブレンドして、組成物の全重量に基づいて、６０ｗｔ％から９５ｗｔ％の第一のランダムコポリマーと、５ｗｔ％から４０ｗｔ％の第二のランダムコポリマーとを含むポリプロピレンコポリマー組成物を提供し、
    ポリマーブレンドは、２０℃において５日間の沈降時間で決定されるキシレンに溶解可能なフラクションを含み、このキシレン溶解可能フラクションは、１００ｋｇ／ｍｏｌを超える重量平均分子量と、１．０ｄｌ／ｇを超える固有粘度とを有する、
    ことを含むことを特徴とするプロセス。
28. 前記触媒は、以下の式、すなわち、
    

    

    を有するメタロセン化合物を含み、
    Ｍ^１は、ジルコニウムまたはハフニウムであり、
    Ｒ^１、Ｒ^２、および架橋ユニットＲ^９は、式Ｉに関して上述した意味を有しており、
    Ｒ ^３ は、α位で環状でも分枝でもない炭化水素基であって、１から２０の炭素原子のアルキル基、７から４０の炭素原子のアリール置換アルキル基、または８から４０の炭素原子のアリール置換アルケニル基であり、Ｒ ^３’ は、α位で環状または分枝基である炭化水素基であって、３から２０の炭素原子のアルキル基、３から２０の炭素原子のアルケニル基、６から２０の炭素原子のアリール基、７から４０の炭素原子のアリールアルキル基、７から４０の炭素原子のアルキルアリール基、または８から４０の炭素原子のアリールアルケニル基であり、
    Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、およびさらに、Ｒ^４’、Ｒ^５’、Ｒ^６’、Ｒ^７’、およびＲ^８’は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、水素原子、ヘテロ原子を有するかまたは有しない直鎖、環状、または分枝炭化水素基であって、１から１０の炭素原子のアルキル基、２から１０の炭素原子のアルケニル基、６から２０の炭素原子のアリール基、７から４０の炭素原子のアリールアルキル基、７から４０の炭素原子のアルキルアリール基、８から４０の炭素原子のアリールアルケニル基から選択される炭化水素基、置換または非置換アルキルシリルまたはアリールシリル基であり、かつ／または、それぞれの場合、二つの隣接ラジカルＲ^５、Ｒ^６またはＲ^５’、Ｒ^６’、またはＲ^６、Ｒ^７またはＲ^６’、Ｒ^７’、またはＲ ^７ 、Ｒ ^８ またはＲ ^７’ 、Ｒ ^８’ は、炭化水素環系を形成することができ、またはＲ^５およびＲ^５’は、同一であるかまたは異なり、それぞれ、６から４０の炭素原子の置換または非置換アリール基である、
    ことを特徴とする請求項２７記載のプロセス。
29. 重合ステップ（ｃ）および（ｅ）は、直列の少なくとも二つの反応器から成る反応器カスケードを用いて実施されることを特徴とする請求項２７記載のプロセス。
30. 前記重合は、気相で実行されることを特徴とする請求項２９記載のプロセス。
31. 分子量調節剤として重合ステップ（ｃ）および／または（ｅ）において水素を使用することを特徴とする請求項２７記載のプロセス。
32. 前記メタロセン化合物は、
    ジメチルシランジイル（２−メチル−４−（パラ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−（パラ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
    ジメチルシランジイル（２−エチル−４−（４’ｔｅｒｔブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−（４’−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
    ジメチルシランジイル（２−メチル−４−（４’−ｔｅｒｔブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−フェニル−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
    ジメチルシランジイル（２−メチル−４−フェニル）−１−インデニル）（２−イソプロピル−４−（４’−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−１−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
    ジメチルシランジイル（２−エチル−４−（４’−ｔｅｒｔブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−フェニル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
    ジメチルシランジイル（２−イソプロピル−４−（４’−ｔｅｒｔブチル−フェニル）−インデニル）（２−メチル−４，５−ベンゾ−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
    ジメチルシランジイル（２−メチル−４−（４’−ｔｅｒｔブチル−フェニル）−インデニル）（２−イソプロピル−４−（１−ナフチル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、および、
    ジメチルシランジイル（２−イソプロピル−４−（４’−ｔｅｒｔブチル−フェニル）−インデニル）（２−メチル４−（１−ナフチル）−インデニル）ジルコニウム二塩化物、
    から成る群より選択されることを特徴とする請求項２７記載のプロセス。