JP5364319B2 - アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物 - Google Patents

Description

本発明は、アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物、それからなる硬質表面用洗浄剤に関する。また、本発明は、上記硬質表面用洗浄剤を用いて行う、硬質表面の洗浄方法、基板の製造方法、記録媒体の製造方法、フォトマスクの製造方法、およびフラットパネルディスプレイ用基板の製造方法に関する。さらに、本発明は、非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物の保存方法に関する。

特許文献１には、洗浄力および起泡力を低下させずに、低温での貯蔵安定性を向上させる目的から、多価カルボン酸系キレート剤と、特定の非イオン性界面活性剤と、水素原子を炭素数１〜３のアルキル基又はヒドロキシル基で置換していてもよいベンゼンスルホン酸（塩）及びベンゼンカルボン酸（塩）から選ばれる化合物と、を含む、ｐＨが中性または酸性の界面活性剤組成物が開示されている。
特開２００７−１６１３２号公報

非イオン性界面活性剤を含む界面活性剤組成物には、特許文献１に開示された界面活性剤組成物のような、中性または酸性の状態で保存及び使用されるようなものばかりでなく、アルカリ性の状態で保存及び使用されるものがあり、そのような界面活性剤組成物についても用途が多く存在すると考えられる。特に、工業用途では、洗浄対象の精密化が進んでいるため、洗浄性向上の観点から、極めて強いアルカリ性の状態で保存及び使用されるアルカリ型非イオン性界面活性剤組成物（以下、単に、「界面活性剤組成物」ともいう。）のニーズが増えつつある。

例えば、パソコンや携帯音楽プレーヤー等の様々な用途に使用されているハードディスクドライブについては、高記録容量化、ディスクドライブサイズの小径化、及び軽量化が求められている。これに伴い、特に、この５年程の間にハードディスクドライブに用いられる記録媒体の記録密度は飛躍的に高くなっており、記録媒体用基板の表面の洗浄度に対する要求も非常に厳しくなってきている。そのため、基板表面における微粒子等の異物が十分に洗浄されていることが望まれる。また、基板表面の洗浄に使用される界面活性剤組成物には、高い保存安定性が要求される。

アルカリ性を実現するために多量のアルカリ剤を含有する系では、非イオン性界面活性剤の経時変化に伴う曇点の低下が著しい。よって、アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物の保存安定性を確保することは極めて重要である。さらに、特に工業用途においては、低温下での保存安定性よりもむしろ高温下での保存安定性が重視される。例えば、アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物を適切な温度管理下で製造したとしても、夏場の高温下で、輸送され、または使用される場合があることを考慮する必要がある。

本発明は、比較的高温でも保存安定性が良好な、アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物、およびそれからなる硬質表面用洗浄剤を提供する。また、本発明は、上記硬質表面用洗浄剤を用いて行われる、硬質表面の洗浄方法、基板の製造方法、記録媒体の製造方法、フォトマスクの製造方法、およびフラットパネルディスプレイ用基板の製造方法を提供する。さらに、本発明は、非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物について、比較的高温下で保存した場合の洗浄性の劣化を抑制可能な保存方法を提供する。

本発明のアルカリ型非イオン性界面活性剤組成物は、
非イオン性界面活性剤（成分Ａ）と、
水（成分Ｂ）と、
ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物（成分Ｃ）と、
水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）と、を含有し、
前記非イオン性界面活性剤（成分Ａ）の含有量が、０．５〜２０重量％であり、
２５℃におけるｐＨが１２以上である。

本発明の硬質表面用洗浄剤は、本発明のアルカリ型非イオン性界面活性剤組成物からなる。

本発明の硬質表面の洗浄方法は、本発明の硬質表面用洗浄剤を用いて硬質表面を洗浄する工程を含み、前記工程において、前記硬質表面を前記硬質表面用洗浄剤に浸漬するか、および／または、前記硬質表面用洗浄剤を射出して前記硬質表面用洗浄剤を前記硬質表面上に供給する。

本発明の基板の製造方法は、
金属表面又はガラス表面を有し、当該表面に対して研磨液スラリーを用いた研磨が施された被洗浄基板を、本発明の硬質表面の洗浄方法を用いて洗浄する工程を含む。

本発明の記録媒体の製造方法は、
記録媒体用基板と、前記記録媒体用基板の一方の主面側に配置された磁性層又は両主面側に各々に配置された磁性層とを含む記録媒体の製造方法であって、
被研磨基板に対して少なくとも研磨処理と洗浄処理とをこの順で複数回繰り返し行うことにより、前記記録媒体用基板を形成するサブストレート形成工程と、
１以上の前記磁性層を形成する磁性層形成形成工程とを含み、
複数回行われる前記洗浄処理のうちの最後の洗浄処理を行う際に、本発明の硬質表面用洗浄剤を用いて前記被研磨基板を洗浄する。

本発明のフォトマスクの製造方法は、
ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の主面側に配置された遮光金属パターン層とを含むフォトマスクの製造方法であって、
被研磨基板に対して少なくとも研磨処理と洗浄処理とをこの順で複数回繰り返し行うことにより、前記ガラス基板を形成する工程と、
前記ガラス基板上に前記遮光金属パターン層を形成する工程と、を含み、
複数回行われる前記洗浄処理のうちの最後の洗浄処理を行う際に、本発明の硬質表面用洗浄剤を用いて前記被研磨基板を洗浄する。

本発明のフラットパネルディスプレイ用基板の製造方法は、
ガラス基板と、前記ガラス基板上に配置された電極層とを含むフラットパネルディスプレイ用基板の製造方法であって、
被研磨基板に対して少なくとも研磨処理と洗浄処理とをこの順で複数回繰り返し行うことにより、前記ガラス基板を形成する工程と、
前記ガラス基板上に前記電極層を形成する工程と、を含み、
複数回行われる前記洗浄処理のうちの最後の洗浄処理を行う際に、本発明の硬質表面用洗浄剤を用いて前記被研磨基板を洗浄する。

本発明の非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物の保存方法は、
非イオン性界面活性剤（成分Ａ）と、水（成分Ｂ）と、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）と、を含有する非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物の保存方法であって、
前記非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物中に、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸及びこれらの塩からなる群から選ばれる一以上の化合物（成分Ｃ）を共存させ、
前記非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物と前記成分Ｃとの総量中の前記非イオン性界面活性剤の含有量が、０．５〜２０重量％であり、
前記非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物と前記成分Ｃとの混合物の２５℃におけるｐＨが１２以上である。

本発明によれば、比較的高温でも保存安定性が良好なアルカリ型非イオン性界面活性剤組成物、およびそれからなる硬質表面用洗浄剤を提供できる。また、本発明は、上記硬質表面用洗浄剤を用いて行われる、硬質表面の洗浄方法、基板の製造方法、記録媒体の製造方法、フォトマスクの製造方法、およびフラットパネルディスプレイ用基板の製造方法を提供できる。さらに、本発明は、非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物について、比較的高温下で保存した場合の洗浄性の劣化を抑制可能な保存方法を提供できる。

（界面活性剤組成物）
非イオン性界面活性剤（成分Ａ）と、水（成分Ｂ）と、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）を含み、アルカリ度が高い非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物を、比較的高温下で保存すると、組成物が白濁し、変質して、洗浄性が劣化するという課題があった。上記非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物中の上記アルカリ剤の含有量がより多くなると、洗浄性の劣化の程度は顕著であった。

本発明者らは、非イオン性界面活性剤（成分Ａ）と水（成分Ｂ）と水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）を含み、成分Ａの含有量が０．５〜２０重量％である非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物に、下記化合物（成分Ｃ）を共存させることにより、２５℃におけるｐＨが１２以上であり、比較的高温下でも非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物と成分Ｃの混合物の保存安定性が良好であることを見出した。上記成分Ｃは、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸およびそれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物であり、好ましくは、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸およびそれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物であり、より好ましくは、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸およびそれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物である。

保存安定性の向上効果のメカニズムについては明らかではないが、後述する実施例の結果が示すように、成分Ｃが上記非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物と成分Ｃの混合物に対する曇点上昇剤として作用しているものと推測される。

ここで、曇点（℃）とは、非イオン性界面活性剤を含む水溶液の温度を上げていったとき、上記水溶液が白濁し始める温度のことである。水溶液の温度が上昇して水分子の運動が活発になると、界面活性剤の親水基部分と水分子との水素結合が切れて、界面活性剤は溶解性を失い、上記水溶液は白濁する。

成分Ａ〜Ｄを含むアルカリ型非イオン性界面活性剤組成物（以下、単に、「界面活性剤組成物」ともいう。）の曇点は、下記のようにして得ることができる。（１）まず、３０ｃｃの試験管に界面活性剤組成物を１０ｃｍ³入れる。（２）温浴槽に試験管を入れ、ガラス棒状の温度計を用いて手動で界面活性剤組成物を攪拌しながら、界面活性剤組成物の温度を１℃／５秒の速度で上げる。（３）攪拌しても濁る状態になったところで界面活性剤組成物の温度を読み取る。（４）試験管を温浴槽から取り出し、２５℃の雰囲気下で、攪拌棒で界面活性剤組成物を攪拌しながら、温度を徐々に下げる。（５）界面活性剤組成物が透明になった温度を読み取る。（６）上記（２）〜（５）を２回繰り返し、（３）で読み取った温度の平均値を曇点とする。

《成分Ａ》
界面活性剤組成物に含まれる非イオン性界面活性剤（成分Ａ）としては、例えば、下記の一般式（１）で表される非イオン性界面活性剤が、洗浄性の向上、排水処理性の向上、及び環境保全性の向上の観点から好ましい。
Ｒ¹−Ｏ−（ＥＯ）_m（ＰＯ）_n−Ｈ （１）
式中、Ｒ¹は炭素数８〜１８のアルキル基、炭素数８〜１８のアルケニル基、炭素数８〜１８のアシル基、又は炭素数１４〜１８のアルキルフェニル基である。ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基である。ｍ及びｎは、それぞれＥＯ及びＰＯの平均付加モル数である。ｍは１〜２０の数、ｎは０〜２０の数を表す。（ＥＯ）_m（ＰＯ）_nにおける、ＥＯとＰＯの配列はブロックでもランダムでもよい。

Ｒ¹は、界面活性剤組成物による洗浄性をより向上させる観点から、炭素数８〜１４のアルキル基、炭素数８〜１４のアルケニル基、炭素数８〜１４のアシル基、又は炭素数１４〜１６のアルキルフェニル基であるとより好ましく、洗浄性の向上と、排水処理性の向上、及び環境保全性の向上とを両立させる観点から、炭素数８〜１４のアルキル基がより好ましい。

（ＥＯ）_m（ＰＯ）_nは、オキシエチレン基単独で構成されていてもよいが、オキシエチレン基とオキシプロピレン基とから構成されていてもよい。（ＥＯ）_m（ＰＯ）_nが、オキシエチレン基とオキシプロピレン基とから構成される場合、ＥＯとＰＯの配列はブロックでもランダムでもよい。ＥＯとＰＯの配列がブロックである場合、ＥＯのブロックの数、ＰＯのブロックの数は、各平均付加モル数が上記範囲内にある限り、それぞれ１個であってもよいが２個以上であってもよい。また、ＥＯからなるブロックの数が２個以上である場合、各ブロックにおけるＥＯの繰り返し数は、相互に同じであってもよいが、異なっていてもよい。ＰＯのブロックの数が２個以上である場合も、各ブロックにおけるＰＯの繰り返し数は、相互に同じであってもよいが、異なっていてもよい。

ＥＯとＰＯの配列がブロックまたはランダムである場合、ＥＯとＰＯとのモル比〔Ｍ_EO／Ｍ_PO〕が９．５／０．５〜５／５であると、油分の溶解性と高い水溶性とを両立させることができる点で好ましい。また、ｍは、水溶性及び低泡性の両立の観点から、好ましくは１〜１５、より好ましくは１〜１０である。ｎは、水溶性及び低泡性の両立の観点から、好ましくは１〜１５、より好ましくは１〜１０であり、ｍ＋ｎは、好ましくは１〜３０、より好ましくは１〜２０である。

一般式（１）で示される化合物としては、具体的には、２−エチルヘキサノール、オクタノール、デカノール、イソデシルアルコール、トリデシルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；オクチルフェノール、ノニルフェノール、ドデシルフェノール等のフェノール類；これらの化合物に、オキシエチレン基及び／又はオキシプロピレン基が付加された化合物等が挙げられる。一般式（１）で示される化合物は、単独で用いても良く、二種以上を混合して用いても良い。

成分Ａの非イオン性界面活性剤としては、具体的には以下のものが好ましく使用される。即ち、Ｃ_jＨ_2j+1−Ｏ−（ＥＯ）_p−Ｈ、Ｃ_jＨ_2j+1−Ｏ−（ＥＯ）_q（ＰＯ）_r−Ｈ（ただし、ＥＯとＰＯがブロック付加したもの）、Ｃ_jＨ_2j+1−Ｏ−（ＰＯ）_q（ＥＯ）_r−Ｈ（ただし、ＥＯとＰＯがブロック付加したもの）、Ｃ_jＨ_2j+1−Ｏ−（ＥＯ）_s（ＰＯ）_t（ＥＯ）_u−Ｈ（ただし、ＥＯとＰＯがブロック付加したもの）、Ｃ_jＨ_2J+1−Ｏ−（ＥＯ）_q（ＰＯ）_r−Ｈ（ただし、ＥＯとＰＯがランダム付加したもの）等が好ましく使用される。ただし、これらの式中、ＥＯはオキシエチレン基（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）、ＰＯはオキシプロピレン基（Ｃ₃Ｈ₆Ｏ）、ｊは８〜１８の数、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ及びｕは、それぞれＥＯ又はＰＯの平均付加モル数であり、ｐは１〜２０の数、ｑは１〜２０の数、ｒは１〜２０の数、ｓは１〜１０の数、ｔは１〜１０の数、ｕは１〜１０の数である。

界面活性剤組成物中における非イオン性界面活性剤の含有量は、十分な洗浄性と、強アルカリ下での界面活性剤組成物の安定性とをバランスさせるという理由から、０．５〜２０重量％であるが、界面活性剤組成物による良好な洗浄性と良好なすすぎ性とを両立させる観点から、１〜１０重量％が好ましく、２〜５重量％がより好ましい。

《成分Ｄ》
界面活性剤組成物には、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）が含まれるが、界面活性剤組成物による洗浄性を高める観点から、アルカリ剤は水酸化カリウムが好ましい。

界面活性剤組成物中におけるアルカリ剤の含有量は、０．５〜１０重量％であると好ましいが、界面活性剤組成物による洗浄性、すすぎ性、および安全性を高める観点から、１〜５重量％であるとより好ましい。

本発明の界面活性剤組成物の２５℃におけるｐＨは１２以上であるが、無機微粒子の分散性を向上させる観点から１２〜１４であると好ましい。洗浄対象である、被洗浄基板の硬質表面が金属表面である場合、界面活性剤組成物のｐＨは１２〜１４であるとより好ましく、ガラス表面である場合も、界面活性剤組成物のｐＨは１２〜１４であるとより好ましい。尚、上記のｐＨは、２５℃における界面活性剤組成物のｐＨであり、ｐＨメータ（東亜電波工業株式会社、ＨＭ−３０Ｇ）を用いて測定でき、電極の界面活性剤組成物への浸漬後４０分後の数値である。

《成分Ｂ》
界面活性剤組成物に含まれる水（成分Ｂ）は、溶媒としての役割を果たすことができるものであれば特に制限はなく、例えば、超純水、純水、イオン交換水、または蒸留水等を挙げることができるが、超純水、純水、またはイオン交換水が好ましく、超純水がより好ましく使用される。尚、純水及び超純水は、例えば、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留したものを、必要に応じて所定の紫外線殺菌灯を照射、又はフィルターに通すことにより得ることができる。例えば、２５℃での電気伝導率は、多くの場合、純水で１μＳ／ｃｍ以下であり、超純水で０．１μＳ／ｃｍ以下を示す。尚、界面活性剤組成物は、溶媒として上記水に加えて水系溶媒（例えば、エタノール等のアルコール）をさらに含んでいてもよいが、界面活性剤組成物に含まれる溶媒は水のみからなると好ましい。

《成分Ｃ》
界面活性剤組成物に含まれる、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物（成分Ｃ）の含有量は、曇点向上効果をより十分に得る観点から、１〜３０重量％であると好ましく、２〜２０重量％であるとより好ましく、界面活性剤組成物を希釈して使用する際に、界面活性剤組成物による十分な洗浄性が確保される希釈倍率の希釈液について、硬質表面に成分Ｃを過度に残留させることのない良好なすすぎ性が得られるという理由から、２〜１５重量％であるとさらに好ましい。

トルエンスルホン酸としては、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸が挙げられ、ジメチルベンゼンスルホン酸としては、例えば、２，４−ジメチルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。ヒドロキシベンゼンスルホン酸としては、例えば、ｐ−ヒドロキシベンゼンスルホン酸等が挙げられる。

成分Ｃは、水溶性であることが好ましく、塩であることが好ましい。塩を形成させるための対イオンは、特に限定されないが、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属のイオン、アンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオン等から１種以上を用いることが好ましく、ナトリウムのイオン及び／又はカリウムのイオンがより好ましく、ナトリウムのイオンが更に好ましい。

本発明の界面活性剤組成物の曇点は、保存安定性を高める観点から、４０℃以上であると好ましく、５０℃以上であるとより好ましく、６０℃以上であるとさらに好ましく、６５℃以上であるとよりいっそう好ましく、７０℃以上であると更に好ましい。本発明の界面活性剤組成物は、常に低温で貯蔵されるとはかぎらず、例えば、日本国内で生産された場合は、国内輸送を経て船などにより海外に輸出され、海外の倉庫で保存されることもある。輸出国が、例えば、東南アジアである場合、界面活性剤組成物の温度が５０℃以上、更には６０℃以上になることもある。本発明の界面活性剤組成物は、このような保存環境を経ても、変質により界面活性剤組成物による洗浄性が劣化することが抑制される。

《任意成分》
界面活性剤組成物には、成分Ａ，Ｂ、Ｃ、Ｄ以外に、シリコン系の消泡剤、ＥＤＴＡ等のようなキレート剤（成分Ｅ）、水溶性高分子（成分Ｆ）、アルコール類、防腐剤、酸化防止剤等が含まれていてもよい。

本発明の界面活性剤組成物は、そのｐＨが非常に高く、ｐＨは適量のアルカリ剤を使用して確保されることが望ましい。したがって、本発明の界面活性剤組成物に、成分Ｅ，成分Ｆ以外の緩衝作用を呈する成分が含まれる場合、当該成分はｐＨの緩衝作用を呈しない含有量で含まれていると好ましく、成分Ｅ，成分Ｆ以外の緩衝剤は含まれないとより好ましい。すなわち、本発明の界面活性剤組成物に含まれる、緩衝作用を呈する成分は、成分Ｅと成分Ｆのみであると好ましい。

また、本発明の界面活性剤組成物は、成分Ｃを含むことにより組成物の高温下での保存安定性が向上しているが、良好なリンス性を確保するという理由から、本発明の界面活性剤組成物には、例えば、家庭用洗剤等に含まれる安定剤として知られる金属と親和性の強いグリセリンが過剰に含まれていないことが好ましく、グリセリンが含まれていないことがより好ましい。本発明の界面活性剤組成物に含まれる、保存安定性を向上させる成分は、成分Ｃのみであると好ましい。

本発明の界面活性剤組成物は、成分Ｃに係る低級アルキルベンゼンスルホン酸および/又はその塩を使用を含むことで、組成物の高温下での保存安定性が向上しているが、本発明の界面活性剤組成物に、高い界面活性能を有するドデシルベンゼンスルホン酸のような高級アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩が含まれる場合、当該成分の含有量は成分Ｃによりもたらされる保存安定性の向上効果が損なわれない量であると好ましく、本発明の界面活性剤組成物には、上記高級アルキルベンゼンスルホン酸又はその塩は含まれていないことがより好ましい。

《成分Ｅ》
界面活性剤組成物には、金属イオンに対する洗浄性を向上させる観点から、キレート剤が含まれていると好ましい。キレート剤としては、グルコン酸、グルコヘプトン酸などのアルドン酸類；エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類；クエン酸、リンゴ酸などのヒドロキシカルボン酸類；アミノトリメチレンホスホン酸、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸などのホスホン酸類；およびこれらのアルカリ金属塩、低級アミン塩、アンモニウム塩、アルカノールアンモニウム塩が挙げられる。より好ましくは、グルコン酸ナトリウム、グルコヘプトン酸ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウムまたはヒドロキシエチリデンジホスホン酸ナトリウムである。これらのキレート剤は、単独でまたは２種以上を混合して用いてもよい。

キレート剤の含有量は、金属イオンに対する洗浄性を向上させる観点から、１〜１０重量％であると好ましく、１〜５重量％であるとさらに好ましい。

《成分Ｆ》
界面活性剤組成物には、無機微粒子の分散性を向上させる観点から、水溶性高分子が含まれていてもよく、水溶性高分子としては、カルボン酸系共重合体が好ましい。

カルボン酸系共重合体としては、アクリル酸、メタクリル酸、及びマレイン酸からなる群より選ばれる１以上の化合物由来の、好ましくはアクリル酸系由来の、より好ましくはアクリル酸由来の、構成単位（Ａ１）を含む水溶性高分子が挙げられる。水溶性高分子には、全構成単位中、構成単位（Ａ１）が好ましくは２０モル％以上含まれるが、界面活性剤組成物による良好な洗浄性と良好なすすぎ性とを両立させる観点から、８０モル％以上含まれているとより好ましく、９０モル％を越えて含まれているとさらに好ましい。

水溶性高分子は、具体的には、アクリル酸共重合体、メタクリル酸共重合体、マレイン酸共重合体、アクリル酸/メタクリル酸の共重合体、アクリル酸/マレイン酸の共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸ジメチルアミノエステルの共重合体、メタクリル酸/アクリル酸メチルエステルの共重合体等が挙げられる。

水溶性高分子が、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位（Ａ２）含む場合、構成単位Ａ１のモル％と２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位Ａ２のモル％の合計は、無機微粒子の分散性を向上させる観点から、水溶性高分子の全構成単位中の９０モル％以上であると好ましい。

構成単位Ａ１と構成単位Ａ２とのモル比（Ｍ_A1／Ｍ_A2）は、無機微粒子の分散性を向上させる観点から、（２０／８０）〜（９８／２）であると好ましく、（５０／５０）〜（９５／５）であるとより好ましく、９１／９〜９５／５であるとより好ましい。

モル比（Ｍ_A1／Ｍ_A2）が９１／９〜９５／５の水溶性高分子（成分ｆ）は、成分Ｆのうち、９０重量％以上、より好ましくは１００重量％含まれていると好ましい。

（成分ｆ）
成分ｆは、アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸からなる群より選ばれる１又は２以上の化合物由来の構成単位Ａ１を、全構成単位中好ましくは２０モル％以上含有し、かつ、構成単位Ａ１と２-アクリルアミド-２-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位Ａ２とを９１／９〜９５／５のモル比（Ｍ_A1／Ｍ_A2）で含有する共重合体である。界面活性剤組成物に、この共重合体が含まれていると、界面活性剤組成物の良好なすすぎ性を維持しつつ、ゼータ電位の向上に伴う界面活性剤組成物の分散性が良好な状態で基板の洗浄ができるという優れた効果が奏される。

成分ｆの全構成単位中における構成単位Ａ１と構成単位Ａ２の合計含有量は、成分ｆの共重合体の水溶性を高め、また、微粒子の凝集防止と成分ｆの水溶性の低下による微粒子除去性の悪化防止とを両立する観点から、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは９０モル％以上である。

かかる割合（モル比）でＡ１とＡ２とを含有する成分ｆの共重合体は、微粒子に対して適度な電荷を付与し得るため、微粒子の凝集防止に有効であると考えられる。

成分Ｆの共重合化合物の重量平均分子量は、凝集性の発現により微粒子除去性が低下するのを防ぎ、充分な微粒子除去性を得る観点から、５００〜１５０，０００が好ましく、１０００〜１００，０００がより好ましく、１０００〜５０，０００がさらに好ましい。成分Ｆの共重合体の重量平均分子量は、例えば、下記条件のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって求めることができる。

（ＧＰＣ条件）
カラム：Ｇ4000ＰＷＸＬ+Ｇ2500ＰＷＸＬ（東ソ−(株)製）
溶離液：０．２Ｍリン酸バッファ−／ＣＨ₃ＣＮ＝９／１（容量比）
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出：ＲＩ
サンプルサイズ：０．２ｍｇ／ｍＬ
標準物質：ポリエチレングリコール換算

成分Ｆは上記共重合体の塩であってもよい。かかる塩としては、特に限定されないが、具体的にはナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；分子量３００以下の含窒素系化合物による塩が好ましい。分子量３００以下の含窒素系化合物としては、例えば、アンモニア、アルキルアミン又はポリアルキルポリアミンにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等が付加されたモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルエタノールアミン、モノプロパノールアミン、ジプロパノールアミン、トリプロパノールアミン、メチルプロパノールアミン、モノブタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン等のアミノアルコール類；テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン等の四級アンモニウム塩等が挙げられる。

界面活性剤組成物中における、水溶性高分子の含有量は、充分な微粒子の除去性、良好な分散安定性及び良好な排水処理性を発揮させる観点から、０．００１〜３０重量％が好ましく、０．０１〜２０重量％がより好ましく、０．１〜１０重量％がさらに好ましく、１〜１０重量％がさらにより好ましい。

（硬質表面用洗浄剤）
本発明の硬質表面用洗浄剤は、本発明の界面活性剤組成物のみからなる。よって、本発明の硬質表面用洗浄剤の各成分の好適な態様は、本発明の界面活性剤組成物のそれと同じである。本発明の硬質表面用洗浄剤は、そのまま、または必要に応じて希釈して用いられる。希釈倍率は、洗浄効率を考慮すると、好ましくは１０〜５００倍、より好ましくは２０〜２００倍、更に好ましくは５０〜１００倍である。希釈用の水は、界面活性剤組成物に含まれる成分Ｂと同様のものでよい。

また、本発明の硬質表面用洗浄剤は、１成分として、本発明の硬質表面用洗浄剤を構成する成分以外の成分を含む洗浄剤組成物に含まれていてもよい。このような、本発明の硬質表面用洗浄剤の１成分としての使用も、本発明の硬質表面用洗浄剤の実施に含まれるものとする。

（洗浄方法）
本発明の硬質表面の洗浄方法では、上記硬質表面用洗浄剤を用いて洗浄対象である硬質表面を洗浄する工程を含む。上記工程では、例えば、（ａ）洗浄対象を硬質表面用洗浄剤に浸漬するか、および／または、（ｂ）硬質表面用洗浄剤を射出して、硬質表面上に硬質表面用洗浄剤が供給される。

上記方法（ａ）において、洗浄対象の硬質表面用洗浄剤への浸漬条件としては、特に制限はないが、例えば、硬質表面用洗浄剤の温度は、安全性および操業性の観点から２０〜１００℃であると好ましく、浸漬時間は、硬質表面用洗浄剤による洗浄性と生産効率の観点から１０秒〜３０分間であると好ましい。また、微粒子の除去性および微粒子の分散性を高める観点から、硬質表面用洗浄剤には超音波振動が付与されていると好ましい。超音波の周波数としては、好ましくは２０〜２０００ｋＨｚであり、より好ましくは１００〜２０００ｋＨｚであり、さらに好ましくは１０００〜２０００ｋＨｚである。

上記方法（ｂ）では、微粒子の洗浄性や油分の溶解性を促進させる観点から、超音波振動が与えられている硬質表面用洗浄剤を射出して、洗浄対象の硬質表面に硬質表面用洗浄剤を接触させて硬質表面を洗浄するか、又は、硬質表面用洗浄剤を硬質表面上に射出により供給し、硬質表面用洗浄剤が供給された硬質表面を洗浄用ブラシでこすることにより洗浄することが好ましい。さらには、超音波振動が与えられている硬質表面用洗浄剤を射出により硬質表面に供給し、かつ、硬質表面用洗浄剤が供給された硬質表面を洗浄用ブラシでこすることにより洗浄することが好ましい。

硬質表面用洗浄剤を硬質表面上に供給する手段としては、スプレ−ノズル等の公知の手段を用いることができる。また、洗浄用ブラシとしては、特に制限はなく、例えばナイロンブラシやＰＶＡスポンジブラシ等の公知のものを使用することができる。超音波の周波数としては、上記方法（ａ）で好ましく採用される値と同様であればよい。

本発明の硬質表面の洗浄方法は、上記方法（ａ）及び／又は上記方法（ｂ）に加えて、揺動洗浄、スピンナー等の回転を利用した洗浄、パドル洗浄等の公知の洗浄を用いる工程を１つ以上含んでもよい。

本発明の硬質表面の洗浄方法が好適に適用される洗浄対象としては、例えば、記録媒体用基板、フォトマスク用基板（ガラス基板）、又はフラットパネルディスプレイ用基板等の、硬質表面であって、金属材料またはガラス材料を含む硬質表面が挙げられる。

記録媒体用基板としては、例えば、アルミニウム基板等の金属基板上にＮｉ−Ｐ層が形成された円形基板、又は化学強化ガラスからなる円形基板等が挙げられる。これらの記録媒体用基板上に、スパッタ等の方法により、磁気記録領域を有し、金属薄膜を含む磁性層が形成されることによって、記録媒体が得られる。上記金属薄膜を構成する金属材料としては、例えば、クロム、タンタル、または白金等とコバルトとの合金である、コバルト合金等が挙げられる。

記録媒体用基板の製造過程には、記録媒体用基板の両主面の表面平滑性を向上させるために、例えば、アルミナやシリカといった無機微粒子と、この無機微粒子の分散溶媒（例えば水）とを含む研磨剤を用いて記録媒体用基板（研磨対象基板）表面を削る研磨工程が含まれる。この研磨工程を経た記録媒体用基板の両主面には、研磨剤由来の汚れ（無機微粒子、有機物など）や装置などの設備由来の金属イオンなどが付着している。本発明の硬質表面用洗浄剤は、これらの汚れを効率よく洗浄できる。

図３に、上記記録媒体用基板を用いた記録媒体の製造方法の一例を示している。記録媒体の製造過程には、サブストレート形成工程Ｓ１とメディア工程Ｓ２とが含まれる。サブストレート形成工程１では、まず、被研磨基板形成工程Ｓ１１において、アルミニウム基板に対してＮｉ−Ｐメッキを施して、アルミニウム基板の全面がＮｉ−Ｐにより被覆された被研磨基板を作製する。次いで、この被研磨基板に対して、少なくとも研磨処理Ｓ１２，Ｓ１４と洗浄処理Ｓ１３，Ｓ１５とをこの順で複数回繰り返し行って、記録媒体用基板を得る。

記録媒体が水平磁気記録方式の記録媒体である場合、上記メディア工程において、ダイヤモンド砥粒等を用いた研磨により記録媒体用基板の両主面に浅い凸凹をつけてから（テクスチャー工程Ｓ２１）、洗浄を行い（洗浄工程Ｓ２２）、次いで、上記両主面側に各々磁性層を形成する（磁性層形成工程Ｓ２５）。

記録媒体が垂直磁気記録方式の記録媒体である場合は、上記メディア工程において、まず、記録媒体用基板の洗浄を行い（洗浄工程Ｓ２２）、次いで、上記両主面側に各々磁性層を形成するが（磁性層形成工程Ｓ２５）、必要に応じて、洗浄工程の前に上記テクスチャー工程２１を、洗浄工程２２の後に、レーザー照射により記録媒体用基板の両主面にカルデラ状の突起を形成する工程（レーザーテクスチャー工程Ｓ２３）を行う場合がある（特開平１０−１９９０４７号公報および特開２００７−９５２３８号公報等参照）。

本発明の硬質表面用洗浄剤は、上記複数回行われる洗浄処理のうちの最後の洗浄処理を行う際に、用いられると好ましい。

尚、上記磁性層は、記録媒体用基板の両主面のうちの一方の主面側にのみ形成されてもよい。

フォトマスクやフラットパネルディスプレイ用基板においても同様にその製造工程において、無機微粒子や有機物などの汚染が発生するため、それらを充分に除去する洗浄剤が必要となる。

フォトマスクとは、半導体素子の回路パターンを形成する際のリソグラフィー工程にて用いる回路パターンの原版であり、ガラス基板とその表面上に形成された遮光金属パターン層とからなるものである。遮光金属パターン層の材料としては、クロムやモリブデン等が挙げられ、ガラス基板の材料としては、石英ガラス等が挙げられる。

フラットパネルディスプレイ用基板とは、液晶テレビやプラズマテレビを製造する工程において、パネルディスプレイの材料として使用される、ガラス基板とその表面上に形成された電極層とからなるものをいう。電極層としては、透明電極薄膜（ＩＴＯ膜：酸化インジウムスズ膜等）等が挙げられ、ガラス基板の材料としては、無アルカリガラス等が挙げられる。

図４に、フォトマスクの製造方法の一例を示している。

図４に示されるように、フォトマスクの製造方法には、ガラス基板形成工程Ｓ３と遮光金属パターン層形成工程Ｓ４とが含まれる。ガラス基板形成工程１では、被研磨基板形成工程Ｓ３１において形成された被研磨基板（ガラス基板用基材）に対して研磨処理Ｓ３２、Ｓ２４と洗浄処理Ｓ３３、Ｓ３５とをこの順で複数回繰り返し行って、ガラス基板を形成する。次いで、ガラス基板上にスパッタ等の方法を用いて遮光金属層を形成した後（Ｓ４１）、リソグラフィー技術を用いて遮光金属層を選択的にエッチングして、ガラス基板上に遮光金属パターン層を形成する。

具体的には、まず、遮光金属層上にフォトレジスト（感光性樹脂）を塗布する（Ｓ４２）。次いで、フォトマスク形成用のマスクを通してフォトレジストに紫外線等の光を照射して、マスクパターンをフォトレジストに転写した後、現像して、フォトレジストのうちの露光した部分を除去する（Ｓ４３）。次いで、遮光金属層のうちのフォトレジストの一部が除去されることにより露出された部分をエッチングにより除去して（Ｓ４４）、遮光金属パターン層を形成する。最後に、上記フォトレジストを剥離する（Ｓ４５）。

本発明の硬質表面用洗浄剤は、ガラス基板の形成の際に上記複数回行われる洗浄処理のうちの最後の洗浄処理を行う際に、用いられると好ましい。

図５に、フラットパネルディスプレイ用基板の製造方法の一例を示している。

図５に示されるように、フラットパネルディスプレイ用基板の製造方法には、ガラス基板形成工程Ｓ５と電極層形成工程Ｓ６とが含まれる。ガラス基板形成工程Ｓ５では、被研磨基板形成工程Ｓ５１において形成された被研磨基板（ガラス基板用基材）に対して研磨処理Ｓ５２、Ｓ５４と洗浄処理Ｓ５３、Ｓ５５とをこの順で複数回繰り返し行うことにより、ガラス基板を形成する。次いで、ガラス基板上にスパッタ等の方法を用いて金属薄膜を形成した後（Ｓ６１）、リソグラフィー技術を用いて金属薄膜を選択的にエッチングして、ガラス基板上に電極層を形成する（Ｓ６２〜Ｓ６５）。

具体的には、まず、遮光金属膜上にフォトレジスト（感光性樹脂）を塗布する（Ｓ６２）。次いで、フォトマスク形成用のマスクを通してフォトレジストに紫外線等の光を照射して、マスクパターンをフォトレジストに転写した後、現像して、フォトレジストのうちの露光した部分を除去する（Ｓ６３）。次いで、金属薄膜のうちのフォトレジストの一部が除去されることにより露出された部分をエッチングにより除去して（Ｓ６４）、電極層を形成する。最後に、上記フォトレジストを剥離する（Ｓ６５）。

尚、図３〜図５に示された各製造方法では、研磨処理と洗浄処理とが２回ずつ行われているが、研磨処理と洗浄処理の回数について各々２回以上であれば特に制限はない。また、本発明の硬質表面用洗浄剤は、上記複数回行われる洗浄処理のうちの最後の洗浄処理のみならず、上記複数回行われる洗浄処理のうちの他の洗浄処理を行う際に用いてもよい。

本発明の硬質表面の洗浄方法では、基板を一枚ずつ洗浄してもよいが、複数枚の洗浄すべき基板を一度にまとめて洗浄してもよい。また、洗浄の際に用いる洗浄槽の数は１つで
も複数でも良い。

１．界面活性剤組成物および硬質表面用洗浄剤の調製
表１及び表２記載の組成となるように各成分を配合及び混合することにより、実施例１〜１３及び比較例１〜７の界面活性剤組成物を得た。尚、実施例１〜１０、及び比較例１〜５，７の界面活性剤組成物の調製には、市販の水酸化カリウム水溶液（ＫＯＨ濃度４８重量％）を用いた。実施例１１〜１３の界面活性剤組成物の調製には、市販の水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ濃度４８重量％）を用い、比較例６の界面活性剤組成物の調製には、市販のモノエタノールアミンを用いた。

得られた界面活性剤組成物を、硬質表面用洗浄剤とし、以下の洗浄性試験を行った。６０℃の雰囲気下で１ヶ月間保存した後の上記硬質表面用洗浄剤を水にて１００倍に希釈し、それを用いて以下の洗浄性試験を行った。

尚、表１または表２中の成分ＡのＣに付された数値は、炭化水素の炭素数を示す。Ｃ_(12-14)−Ｏ−（ＥＯ）₅（ＰＯ）_1.5（ＥＯ）₅−Ｈは、Ｃ₁₂−Ｏ−（ＥＯ）₅（ＰＯ）_1.5（ＥＯ）₅−ＨとＣ₁₄−Ｏ−（ＥＯ）₅（ＰＯ）_1.5（ＥＯ）₅−Ｈとの混合物である。

２．被洗浄基板の洗浄性試験
一般的な研磨液スラリーを用いた研磨を施すことにより、研磨液スラリー由来の砥粒及び基板材料由来の研磨屑等の微粒子によって汚染された被洗浄基板を用意し、該基板を用いて硬質表面用洗浄剤の希釈液の微粒子に対する洗浄性を評価した。

２−１．被洗浄基板の調製
（被洗浄基板Ａ）
アルミナ研磨剤を含有する研磨剤スラリーで予め粗研磨して得たＮｉ−Ｐメッキ基板（外径：95mmφ、内径：25mmφ、厚さ：1.27mm、表面粗さ(Ra)：1nm）の両主面をさらに下記（研磨条件Ａ）で研磨して得た基板を被洗浄基板Ａとした。

（研磨条件Ａ）
研磨機：両面９Ｂ研磨機（スピ−ドファム(株)製）
研磨パッド：スエードタイプ(厚さ：0.9mm、平均開孔径：30μm、フジボウ(株)製)
研磨液：コロイダルシリカスラリー（品番：メモリード2P-2000、花王(株)製）
本研磨：荷重100g/cm²、時間 300秒、研磨液スラリー流量 100mL/min
水リンス：荷重30g/cm²、時間 20秒、リンス水流量 約2L/min

（被洗浄基板Ｂ）
酸化セリウム研磨剤を含有するスラリーで予め２段研磨して得たアルミノシリケ−ト製のガラス基板（外径：65mmφ、内径：20mmφ、厚さ：0.635mm）をさらに下記研磨条件Ｂで研磨して得た基板を被洗浄基板Ｂとした。

（研磨条件Ｂ）
研磨機：両面９Ｂ研磨機(スピ−ドファム(株)製)
研磨パッド：スエードタイプ(厚さ：0.9mm、平均開孔径：30μm、フジボウ(株)製 )
研磨液：コロイダルシリカスラリ−（品番：メモリードGP2-317、花王(株)製）
予備研磨：荷重 60g/cm²、時間 60秒、研磨液流量 100mL/min
本研磨:荷重 100g/cm²、時間 900秒、研磨液流量 100mL/min
水リンス:荷重 30g/cm²、時間 300秒、リンス水流量 約2L/min

２−２．洗浄
被洗浄基板Ａおよび被洗浄基板Ｂを各々洗浄装置（３段式：ロールブラシ（１段目）−ロールブラシ（２段目）−超音波シャワー（３段目））にて以下の条件で洗浄をした。
（１）洗浄：洗浄装置にセットされた被洗浄基板を搬送待機箇所へセットし、次いで、１枚の被洗浄基板を洗浄装置のロールブラシが在る箇所（１段目）へ搬送し、被洗浄基板の両主面の各々に、回転しているロールブラシを押し当て、硬質表面用洗浄剤の希釈液を被洗浄基板の両主面の各々に射出しながら２０秒間洗浄した。硬質表面用洗浄剤の希釈液の供給量は７０ｇ／２０秒とした。
（２）すすぎ：硬質表面用洗浄剤の希釈液による洗浄後の被洗浄基板を、洗浄装置のロールブラシが在る箇所（２段目）へ搬送し、次いで、上記（１）の洗浄の際と同様に、被洗浄基板の両主面の各々に、回転しているロールブラシを押し当て、常温の超純水を被洗浄基板の両主面の各々に射出しながら２０秒間すすぎを行った。その後、被洗浄基板を超音波シャワーが在る箇所（３段目）へ搬送し、９５０ｋＨｚの超音波が付与された常温の超純水を被洗浄基板の両主面の各々に射出しながら２０秒間すすぎを行った。９５０ｋＨｚの超音波が付与された常温の超純水の供給量は３００ｇ／２０秒とした。
（３）乾燥：スピンチャックに保持された上記すすぎ後の基板を、高速回転（３０００ｒｐｍで）させて液切り乾燥を１分間行った。

２−３．微粒子の洗浄性評価
（１）〜（３）を経た基板表面における微粒子の洗浄性を、以下の方法で評価した。結果を表１及び表２に示す。

走査電子顕微鏡を用いて１０００倍（視野範囲：約１００μｍ角）の倍率下で、乾燥後の基板を観察し、観察視野内で観察される基板表面に残存する微粒子の数を数えた。この観察を５枚の基板について、基板の両主面でランダムにそれぞれ１０点、合計１００点（１０点×２×５枚＝１００点）実施した。観察された１００点における全微粒子個数及び下記評価基準に基づき、微粒子の洗浄性を４段階で評価した。

＜微粒子の洗浄性評価基準＞
◎：全微粒子個数が０個である。
○：全微粒子個数が１〜２個である。
△：全微粒子個数が３〜５個である。
×：全微粒子個数が６個以上である。
尚、合格品は微粒子の洗浄性が○又は◎であるものである。

表１及び表２の結果より、本発明の界面活性剤組成物を用いて調製された硬質表面用洗浄剤の希釈液は、微粒子の洗浄性に優れたものであることがわかる。また、実施例４〜１０、１３の界面活性剤組成物の曇点はいずれも６５℃以上であった。尚、表２中おける「白濁」とは、透明な容器に入れた界面活性剤組成物越しに上記容器の先を見ることができない程度に界面活性剤組成物が濁っており不透明な状態を意味する。「微濁」とは、界面活性剤組成物が濁ってはいるが、透明なポリ容器に入れた界面活性剤組成物越しに上記容器の先を見ることができる状態を意味する。２５℃で微濁または白濁した比較例１，３，４の曇点は測定していない。

２−４．すすぎ性の評価
図１に、被洗浄基板Ａの表面の左半分を比較例２の界面活性剤組成物からなる硬質表面用洗浄剤を３滴滴下し、基板の右半分には実施例６の界面活性剤組成物からなる硬質表面用洗浄剤を３滴滴下し、室温で放置して乾燥した後の様子を、図２に、図１に示した基板に対して下記の条件ですすぎを行った直後の様子を示している。

（すすぎ）基板の右半分および基板の左半分に夫々約５００ｍｌの純水を流しかけた。その際、基板の左半分に滴下された比較例２の界面活性剤組成物からなる硬質表面用洗浄剤が基板の右半分に、基板の右半分に滴下された実施例６の界面活性剤組成物からなる硬質表面用洗浄剤が基板の左半分にかからないようにした。

図２から分かるように、曇点がより高い実施例６の界面活性剤組成物を用いた場合、すすぎにより硬質表面洗浄剤が被洗浄基板の表面から良好に除去され、リンス後に水滴が残り難いことが確認できた。すなわち、曇点が高い界面活性剤組成物は、すすぎ性が良好であることが確認できた。

本発明の界面活性剤組成物からなる硬質表面用洗浄剤を必要に応じて希釈し、硬質表面用洗浄剤またはその希釈液を使用して硬質表面を洗浄することにより、記録媒体用基板、フォトマスク、又はフラットパネルディスプレイ用基板等に付着した微粒子等の汚れを効率良く洗浄により除去でき、高度に清浄化された硬質表面を得ることができる。よって、本発明は、製品の歩留まり向上に寄与し得る。

実施例６の界面活性剤組成物からなる硬質表面用洗浄剤、および比較例２の界面活性剤組成物からなる硬質表面用洗浄剤が滴下された被洗浄基板表面の様子を示した写真 図１に示した基板表面に対してすすぎを行った直後の様子を示した写真 本発明の記録媒体の製造方法の一例を示したフロー図 本発明のフォトマスクの製造方法の一例を示したフロー図 本発明のフラットパネルディスプレイ用基板の製造方法の一例を示したフロー図

Claims (11)

1. アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物からなる硬質表面用洗浄剤であって、
   前記アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物は、
   非イオン性界面活性剤（成分Ａ）と、
   水（成分Ｂ）と、
   ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物（成分Ｃ）と、
   水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）と、を含有し、
   前記アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物における前記非イオン性界面活性剤（成分Ａ）の含有量が、０．５〜２０重量％であり、
   前記アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物の２５℃におけるｐＨが１２以上であり、
   前記硬質表面用洗浄剤によって洗浄される硬質表面は、金属表面又はガラス表面を含み、
   前記硬質表面が、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の表面である、硬質表面用洗浄剤。
2. 前記アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物が、さらに、キレート剤（成分Ｅ）を含有する請求項１に記載の硬質表面用洗浄剤。
3. 前記アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物が、さらに、水溶性高分子（成分Ｆ）を含有する請求項１又は２に記載の硬質表面用洗浄剤。
4. 前記非イオン性界面活性剤が、下記（式１）で表される請求項１〜３のいずれかの項に記載の硬質表面用洗浄剤。
   （式１）
   Ｒ¹−Ｏ−（ＥＯ）_m（ＰＯ）_n−Ｈ
   Ｒ¹は、炭素数８〜１８のアルキル基，炭素数８〜１８のアルケニル基，炭素数８〜１
   ８のアシル基、又は炭素数１４〜１８のアルキルフェニル基であり、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基、ｍ及びｎはそれぞれＥＯ及びＰＯの平均付加モル数であり、ｍ＝１〜２０，ｎ＝０〜２０を表す数であり、（ＥＯ）_m（ＰＯ）_nにおけるＥＯとＰＯの配列はブロックでもランダムでもよい。
5. 前記アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物の曇点が、６５℃以上である請求項１〜４のいずれかの項に記載の硬質表面用洗浄剤。
6. 請求項１〜５のいずれかの項に記載の硬質表面用洗浄剤を用いて硬質表面を洗浄する工程を含み、
   前記硬質表面は、金属表面又はガラス表面を含み、
   前記硬質表面は、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の表面であり、
   前記工程において、前記硬質表面を前記硬質表面用洗浄剤に浸漬するか、および／または、前記硬質表面用洗浄剤を射出して前記硬質表面用洗浄剤を前記硬質表面上に供給する硬質表面の洗浄方法。
7. 金属表面又はガラス表面を有し、当該表面に対して研磨液スラリーを用いた研磨が施された被洗浄基板の硬質表面を、請求項６に記載の硬質表面の洗浄方法を用いて洗浄する工程を含み、
   前記硬質表面は、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の表面である、基板の製造方法。
8. 記録媒体用基板と、前記記録媒体用基板の一方の主面側に配置された磁性層又は両主面側に各々に配置された磁性層とを含む記録媒体の製造方法であって、
   被研磨基板に対して少なくとも研磨処理と洗浄処理とをこの順で複数回繰り返し行うことにより、前記記録媒体用基板を形成するサブストレート形成工程と、
   １以上の前記磁性層を形成する磁性層形成工程とを含み、
   複数回行われる前記洗浄処理のうちの最後の洗浄処理を行う際に、請求項１〜５のいずれかの項に記載の硬質表面用洗浄剤を用いて前記被研磨基板を洗浄する、記録媒体の製造方法。
9. 前記記録媒体用基板は、Ｎｉ−Ｐ含有層を両最外層として有する請求項８に記載の記録媒体の製造方法。
10. ガラス基板と、前記ガラス基板の一方の主面側に配置された遮光金属パターン層とを含むフォトマスクの製造方法であって、
    被研磨基板に対して少なくとも研磨処理と洗浄処理とをこの順で複数回繰り返し行うことにより、前記ガラス基板を形成する工程と、
    前記ガラス基板上に遮光金属パターン層を形成する工程と、を含み、
    複数回行われる前記洗浄処理のうちの最後の洗浄処理を行う際に、請求項１〜５のいずれかの項に記載の硬質表面用洗浄剤を用いて前記被研磨基板を洗浄する、フォトマスクの製造方法。
11. ガラス基板と、前記ガラス基板上に配置された電極層とを含むフラットパネルディスプレイ用基板の製造方法であって、
    被研磨基板に対して少なくとも研磨処理と洗浄処理とをこの順で複数回繰り返し行うことにより、前記ガラス基板を形成する工程と、
    前記ガラス基板上に前記電極層を形成する工程と、を含み、
    複数回行われる前記洗浄処理のうちの最後の洗浄処理を行う際に、請求項１〜５のいずれかの項に記載の硬質表面用洗浄剤を用いて前記被研磨基板を洗浄する、フラットディスプレイ用基板の製造方法。

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