JP5361309B2 - インプリント装置およびインプリント方法 - Google Patents
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Description
Stephan Y.Chou et.al.,Appl.Phys.Lett,Vol.67,Issue 21,pp.3114−3116(1995).
以下、図面を用いて、本発明の実施例1について詳細な説明を行う。
以下、図面を用いて、本発明の実施例2について詳細な説明を行う。実施例1との差異は装置構成であるため、その部分についてのみ説明する。
以下、図面を用いて、本発明の実施例3について詳細な説明を行う。前述した実施例との差異は装置構成とステップアンドリピート方式であるため、その部分についてのみ説明する。
以下、図面を用いて、本発明の実施例4について詳細な説明を行う。実施例1との差異はステップアンドリピート方式であるため、その部分についてのみ説明する。
以下、図面を用いて、本発明の実施例5について詳細な説明を行う。実施例1との差異はステップアンドリピート方式であるため、その部分についてのみ説明する。
120 モールド
121 モールド保持台
124 モールド駆動部
130 基板
132 基板ステージ
140 第1樹脂塗布装置
142 第1樹脂塗布装置駆動部
143 第2樹脂塗布装置
144 第2樹脂塗布装置駆動部
160 プロセス制御回路
200 光硬化樹脂
503 樹脂塗布工程
504 インプリント工程
Claims (14)
- ステップアンドリピート方式を用いて、モールドと基板との間に樹脂を充填して硬化させ前記モールドの形状を前記基板上の樹脂にパターン転写するインプリント装置において、
前記樹脂を前記基板上に塗布する塗布機構と、
前記基板の表面と平行な面において、前記基板と前記モールドとの相対位置を変えるための第一の駆動機構と、
前記基板の表面と平行な面において、前記モールドと前記塗布機構との相対位置を変えるための第二の駆動機構と、
前記第一の駆動機構と前記第二の駆動機構とを制御する制御機構を有し、
前記制御機構は、前記塗布機構を用いて前記樹脂を前記基板上に塗布する樹脂塗布工程と、前記モールドと前記基板との間に前記樹脂を充填して硬化させてから前記モールドと前記樹脂を離すことにより前記モールドの形状を前記基板上の樹脂にパターン転写するインプリント工程とを同一の基板に対して並行して行うように制御することを特徴とするインプリント装置。 - 前記第二の駆動機構は、前記塗布機構の位置を変えることを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。
- 複数の前記塗布機構と複数の前記第二の駆動機構とを有することを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。
- 前記塗布機構と前記第一の駆動機構と前記第二の駆動機構とを収納する筐体を備え、
前記第一の駆動機構は、前記基板と筐体との間に配置され、
前記第二の駆動機構は、前記塗布機構と前記筐体との間に配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記塗布機構と前記第一の駆動機構と前記第二の駆動機構とを収納する筐体を備え、
前記第一の駆動機構は、前記基板と前記筐体との間に配置され、
前記第二の駆動機構は、前記塗布機構と前記モールドを前記筐体に連結する部材との間に配置されていることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記制御機構は、N回目の前記インプリント工程とN+M回目の前記樹脂塗布工程とを並行して行うように制御することを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載のインプリント装置。
但し、
N:正の整数
M:2以上の整数 - 前記制御機構は、連続した前記樹脂塗布工程及び前記インプリント工程を各工程で加工される幅以上の間隔をあけて行うことを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- 連続した前記樹脂塗布工程及び前記インプリント工程の行われる間隔が各工程で加工される幅の整数倍であることを特徴とする請求項7に記載のインプリント装置。
- 前記塗布機構は、一度のインプリント工程に必要な前記樹脂を前記基板との相対的な位置関係を保ったまま前記基板上に塗布可能であることを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載のインプリント装置。
- ステップアンドリピート方式を用いて、モールドと基板との間に樹脂を充填して硬化させ前記モールドの形状を該基板上の樹脂にパターン転写するインプリント方法において、前記モールドと前記基板との相対位置と、前記樹脂を塗布する塗布機構と前記モールドとの相対位置とを、それぞれ独立に変えて、前記塗布機構を用いて前記樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、前記モールドと前記基板との間に前記樹脂を充填して硬化させ前記モールドの形状を前記樹脂にパターン転写するインプリント工程とを同一の基板に対して並行して行うことを特徴とするインプリント方法。
- 前記樹脂塗布工程において、複数の前記塗布機構を用いることを特徴とする請求項10に記載のインプリント方法。
- モールドと基板の間に樹脂を充填して硬化させ、前記モールドの形状を前記基板上の樹脂にパターン転写する工程を繰り返し行うインプリント方法において、
N回目の前記インプリント工程とN+M回目の前記樹脂塗布工程とを並行して行うことを特徴とする請求項10または11に記載のインプリント方法。
但し、
N:正の整数
M:2以上の整数 - 連続した前記樹脂塗布工程及び前記インプリント工程を各工程で加工される幅以上の間隔をあけて行うことを特徴とする請求項10から12のいずれか1項に記載のインプリント方法。
- 連続した前記樹脂塗布工程及び前記インプリント工程の行われる間隔が各工程で加工される幅の整数倍であることを特徴とする請求項13に記載のインプリント装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008246334A JP5361309B2 (ja) | 2008-09-25 | 2008-09-25 | インプリント装置およびインプリント方法 |
KR1020090087844A KR101366587B1 (ko) | 2008-09-25 | 2009-09-17 | 임프린트 장치 및 임프린트 방법 |
US12/566,513 US9039402B2 (en) | 2008-09-25 | 2009-09-24 | Imprinting apparatus and method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008246334A JP5361309B2 (ja) | 2008-09-25 | 2008-09-25 | インプリント装置およびインプリント方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010080632A JP2010080632A (ja) | 2010-04-08 |
JP5361309B2 true JP5361309B2 (ja) | 2013-12-04 |
Family
ID=42036820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008246334A Active JP5361309B2 (ja) | 2008-09-25 | 2008-09-25 | インプリント装置およびインプリント方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9039402B2 (ja) |
JP (1) | JP5361309B2 (ja) |
KR (1) | KR101366587B1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102497966B (zh) * | 2009-08-31 | 2014-11-05 | 柯尼卡美能达精密光学株式会社 | 晶片透镜的制造方法 |
JP5563319B2 (ja) | 2010-01-19 | 2014-07-30 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
NL2004658C2 (nl) * | 2010-05-04 | 2011-11-07 | Ppe Holland | Werkwijze, samenstel en inrichting voor het op een substraat aanbrengen van een gestructureerde laag. |
JP5776266B2 (ja) * | 2011-03-29 | 2015-09-09 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法およびそれを実施するためのインプリント装置 |
JP5864929B2 (ja) | 2011-07-15 | 2016-02-17 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品の製造方法 |
JP6400090B2 (ja) | 2014-05-29 | 2018-10-03 | キヤノン株式会社 | 塗布装置、インプリント装置および物品の製造方法 |
JP6320183B2 (ja) * | 2014-06-10 | 2018-05-09 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品製造方法 |
JP6602033B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2019-11-06 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、供給量分布の作成方法、インプリント方法、及び物品の製造方法 |
JP6590667B2 (ja) * | 2015-11-30 | 2019-10-16 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
JP6450790B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2019-01-09 | ファナック株式会社 | 表示システムおよび表示方法 |
WO2018164016A1 (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-13 | キヤノン株式会社 | 光ナノインプリント技術を用いたパターン形成方法、インプリント装置、および硬化性組成物 |
JP7328888B2 (ja) * | 2017-03-08 | 2023-08-17 | キヤノン株式会社 | 硬化物パターンの製造方法、光学部品、回路基板および石英モールドレプリカの製造方法、ならびにインプリント前処理コート用材料およびその硬化物 |
KR102385158B1 (ko) * | 2017-03-08 | 2022-04-12 | 캐논 가부시끼가이샤 | 패턴 형성 방법, 임프린트 전처리 코팅 재료, 및 기판의 전처리 방법 |
US11366400B2 (en) * | 2017-05-15 | 2022-06-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of determining drop recipe, imprint apparatus, and article manufacturing method |
JP6938247B2 (ja) * | 2017-07-04 | 2021-09-22 | キヤノン株式会社 | インプリント方法、インプリント装置および、物品製造方法 |
JP7157576B2 (ja) * | 2018-07-10 | 2022-10-20 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
JP7077178B2 (ja) * | 2018-08-09 | 2022-05-30 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法 |
KR102666843B1 (ko) * | 2018-08-31 | 2024-05-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 나노 임프린트용 스탬프 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3838964B2 (ja) * | 2002-03-13 | 2006-10-25 | 株式会社リコー | 機能性素子基板の製造装置 |
US7077992B2 (en) * | 2002-07-11 | 2006-07-18 | Molecular Imprints, Inc. | Step and repeat imprint lithography processes |
MY164487A (en) * | 2002-07-11 | 2017-12-29 | Molecular Imprints Inc | Step and repeat imprint lithography processes |
KR101193918B1 (ko) * | 2004-06-03 | 2012-10-29 | 몰레큘러 임프린츠 인코퍼레이티드 | 나노-스케일 제조공정을 위한 유체 배분방법과 필요에 따른액적 배분방법 |
US7676088B2 (en) * | 2004-12-23 | 2010-03-09 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
US8011915B2 (en) * | 2005-11-04 | 2011-09-06 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
US7943080B2 (en) * | 2005-12-23 | 2011-05-17 | Asml Netherlands B.V. | Alignment for imprint lithography |
JP5072247B2 (ja) * | 2006-03-27 | 2012-11-14 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP2007296783A (ja) * | 2006-05-01 | 2007-11-15 | Canon Inc | 加工装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 |
JP4819577B2 (ja) * | 2006-05-31 | 2011-11-24 | キヤノン株式会社 | パターン転写方法およびパターン転写装置 |
US8707890B2 (en) * | 2006-07-18 | 2014-04-29 | Asml Netherlands B.V. | Imprint lithography |
-
2008
- 2008-09-25 JP JP2008246334A patent/JP5361309B2/ja active Active
-
2009
- 2009-09-17 KR KR1020090087844A patent/KR101366587B1/ko active IP Right Grant
- 2009-09-24 US US12/566,513 patent/US9039402B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9039402B2 (en) | 2015-05-26 |
KR20100035107A (ko) | 2010-04-02 |
KR101366587B1 (ko) | 2014-02-25 |
JP2010080632A (ja) | 2010-04-08 |
US20100072653A1 (en) | 2010-03-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100201 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100630 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110926 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121015 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121023 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130402 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130603 |
|
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