JP5359029B2 - 酸二無水物、液晶配向膜および液晶表示素子 - Google Patents
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Description
(1)適切なプレチルト角を有すること。しかも該プレチルト角が、ラビング強度や加熱(焼成)時の温度の差による変化が小さいこと。
(2)液晶表示素子を作製した場合に、配向の欠陥が発生しない配向処理が可能であること。
(3)高い電圧保持率を液晶表示素子に与えることができること。
(4)液晶表示素子を駆動させ、任意の画像を長時間表示させた後、別の画像に変えた時、前の表示が残像として残る「焼き付き」と呼ばれる現象が起きにくいこと。
(5)これらの特性が経時劣化しないこと。
などを挙げることができる。
Akは直鎖または分岐鎖のアルキレンである。
(ここに、Meはメチルを意味する。)
(ここに、Meはメチルを意味し、Bnはベンジルを意味する。)
(ここに、Meはメチルを意味する。)
(ここに、Meはメチルを意味し、Bnはベンジルを意味する。)
Journal of Polymer Science, vol.60, 65(1962)等に従って合成した4−ビニルフタル酸を原料として用い、第4版 実験科学講座20(有機合成II)、p.72、1992年(丸善株式会社)等に記載の方法に従って、下記の化合物(1−8)に変換できる。この化合物を上記(1)の方法と同様に変換して、化合物(1)が合成できる。
(3)mが1である場合
特開平07−173120号公報に従って合成した4−ヒドロキシメチルフタル酸ジメチルエステルを原料として用い、上記(1)の方法と同様に変換して化合物(1)が合成できる。
ここに、R4およびR5は独立して炭素数1〜3のアルキルまたはフェニルであり;R6は炭素数1〜6のアルキレンまたはフェニレンであり、このフェニレンの任意の水素は炭素数1〜6のアルキルで置き換えられてもよい。そして、nは1〜10の整数である。
<プレチルト角>
クリスタルローテーション法により行い、25℃で測定した。
<焼き付き(残留電荷)>
「三宅他、信学技報、EID91−111,p19」に記載の方法により、残留電荷を測定した。測定は液晶セルに測定は50mV、1kHzの交流に周波数0.0036Hzの三角波を重畳させて行った。この残留電荷を焼き付きの指標にした。つまり残留電荷が多いほど焼き付きやすいとした。測定は60℃で行った。
<電圧保持率>
「水嶋他、第14回液晶討論会予稿集 p78」に記載の方法で行った。測定は、ゲート幅69μs、周波数60Hz、波高±4.5Vの矩形波をセルに印加して行った。測定は60℃で行った。
応用物理、第65巻、第10号、1065(1996)に記載の方法に従い、東陽テクニカ社製、液晶物性測定システム6254型を用いて測定した。周波数0.01Hzの三角波を用い、±10Vの電圧範囲、温度60℃で測定した。イオン密度が大きいとイオン性不純物による焼き付き等の不具合が発生しやすい。即ち、上記の残留電荷と同様、イオン密度は焼き付き発生を予測する指標となる物性値である。
<イミド化率>
FT−IR装置(分光器:Mattson Galaxy 3020、検出器:mercury cadmium telluride)を用い、測定温度25℃、積算100回の条件で測定した。280℃において30分焼成を行った場合のイミド化率を100%とし、1780cm−1のイミド基に由来するシグナルと1520cm−1の芳香環に由来するシグナルとの面積比から求めた。
<配向性>
特開2005−258397号公報に記載の方法に従い、偏光IR測定装置を用いて吸光度を測定し、下記式から求めた。
配向性Δ=|Av−Ap|/(Av+Ap)
この式中の記号Avはラビング方向に垂直な偏光成分を有する赤外光を液晶層に入射させたときの吸光度であり、Apはラビング方向に平行な偏光成分を有する赤外光を液晶層に入射させたときの吸光度である。測定に用いた試料はその膜厚を約70nmとした。この値が大きいほどポリマーの主鎖が良く並んでいる、即ち液晶配向能が高い。
<化合物(1−A)の合成>
3−ブロモフタル酸ジエチルエステル(50g、170mmol)、プロパギルアルコール(60g、860mmol)、ジクロロビストリフェニルフォスフィンパラジウム(0)(2.9g、4.1mmol)、およびヨウ化銅(1.6g、8.4mmol)の混合物をトリエチルアミン(300ml)中、45℃で1時間撹拌し、その後1時間還流下で加熱した。冷却後、反応液を純水500mlにあけ酢酸エチル(500ml)で抽出した。有機層を純水(300ml)で2回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過および溶剤を減圧蒸留後、残さをカラムクロマトグラフィー(シリカゲル/トルエン:酢酸エチル=5:1→1:1)により精製することによって、3−(3−ヒドロキシ−1−プロピニル)フタル酸ジエチルエステルを得た。収量47g、収率100%。
融点;126.7℃
1H−NMR(DMSO-d6、ppm);8.03−8.05(m、3H)、7.92−7.94(m、1H)、7.61(d、1H、J=2.26Hz)、7.50(dd、1H、J=8.30Hz、2.05Hz)、4.27(t、2H、J=6.28)、3.05(t、2H、J=7.37Hz)、2.20−2.25(m、2H).
<化合物(1−B)の合成>
プロパギルアルコールの代わりに5−ヘキシン−1−オールを用いた以外は実施例1の方法に従って合成した。トータル収率32%。
1H−NMR(DMSO-d6、ppm);8.04−8.07(m、3H)、7.93−7.95(m、1H)、7.62(d、1H、J=2.26Hz)、7.50(dd、1H、J=8.30Hz、2.05Hz)、4.23(t、2H、J=6.28)、3.02(t、2H、J=7.37Hz)、1.90−2.25(m、8H).
<化合物(1−C)の合成>
プロパギルアルコールの代わりに5−ウンデシン−1−オールを用いた以外は実施例1の方法に従って合成した。トータル収率26%。
1H−NMR(CDCl3、ppm);8.02−8.06(m、3H)、7.91−7.93(m、1H)、7.60(d、1H、J=2.26Hz)、7.47(dd、1H、J=8.30Hz、2.05Hz)、4.20(t、2H、J=6.28)、3.00(t、2H、J=7.37Hz)、1.89−2.24(m、16H).
<ポリアミック酸の合成>
攪拌機、窒素導入口、温度計、および原料導入口を供えた100mlの4つ口フラスコに、4,4’−ジアミノジフェニルメタン(化合物(2−13))1.0252g(5.171mmol)を入れ、NMP(10g)に溶解した。ここに実施例1で合成した化合物(1−A)0.9108g(2.586mmol)および化合物(3−1)0.5639g(2.586mmol)を加え、6時間攪拌した。その後この溶液をNMP(10g)とBC(27.5g)の混合溶剤で希釈することにより、ポリアミック酸の含有率が5重量%の褐色溶液が得られた。このポリアミック酸の重量平均分子量は6.5万であり、この溶液の25℃での粘度は36.3mPa・sであった。以下、この溶液をワニスAとする。
<ポリアミック酸の合成>
実施例4と同様な方法に従って、表1に記載のワニスB〜Hを調製した。なお、化合物(3−35)は特開2001−131285号公報の記載に従って合成した。
<表1>
<可溶性ポリイミドの合成>
攪拌機、窒素導入口、温度計、および原料導入口を供えた100mlの4つ口フラスコに、1,2−ビス(4−アミノフェニル)エタン(化合物(2−18))2.1336g(10.050mmol)を入れ、NMP20gに溶解した。ここに実施例1で合成した化合物(1−A)1.7703g(5.0252mmol)および化合物(3−1)1.0961g(5.0252mmol)を加え、6時間攪拌して反応させ、ポリアミック酸の溶液を得た。このポリアミック酸溶液に無水酢酸5.1g(50mmol)およびピリジン4.0g(50mmol)を加え、100℃で1時間反応した。冷却後、反応液を純水100mlに加え、生じた沈殿をろ過した。沈殿を純水(50ml)で2回洗浄し、これを真空乾燥することにより、ポリイミド粉末4.8gを得た。このポリイミドの重量平均分子量は6.7万であった。このポリイミド粉末2.5gを50mlの4つ口フラスコにいれ、γ-BL(37.5ml)を加えたところ褐色の透明溶液が得られた。即ち、得られたポリイミドは可溶性であった。
<可溶性ポリイミドの合成>
化合物(1−A)を化合物(3−1)に替えた以外は実施例10と同様な方法に従って、ポリイミド粉末4.6gを得た。このポリイミドの重量平均分子量は5.5万であった。このポリイミド粉末2.5gを50mlの3つ口フラスコにいれ、γ−BL(37.5ml)を加えたところ、ポリイミドは全く溶解しなかった。
<可溶性ポリイミドの合成>
化合物(1−A)を化合物(3−35)に変えた以外は実施例8と同様な方法に従って、ポリイミド粉末4.6gを得た。このポリイミドの重量平均分子量は6.4万であった。このポリイミド粉末2.5gを50mlの3つ口フラスコにいれ、γ−BL(37.5ml)を加えたところ、ポリイミドがすべて溶けきらず粉末が残った。
<ポリアミドイミドの合成>
攪拌機、窒素導入口、温度計、および原料導入口を供えた100mlの4つ口フラスコに、実施例1で合成した化合物(1−A)1.8506g(5.2530mmol)およびテレフタル酸クロリド(以下TPCと略す。)1.0665g(5.2531mmol)を入れNMP10gに溶解した。ここに化合物(2−13)2.0830g(10.506mmol)のNMP(15g)溶液を加え、さらにプロピレンオキシド0.61g(10.5mmol)を加えて室温で6時間攪拌した。その後この溶液をNMP(25ml)で希釈した後、水(200ml)に注ぎ、再沈殿を行った。得られた沈殿物をNMP(25ml)中で、無水酢酸10mlおよびピリジン1mlを加え100℃で2時間攪拌した。冷却後、水(200ml)に注ぎ、再沈殿を行った。この沈殿を純水(100ml)で煮沸洗浄し、目的とするポリアミドイミドを得た(重量平均分子量4.8万)。
スクリューバイアルに実施例4で得られたワニスAを3ml量り取り、これにNMP2mlを加えて、ポリマー濃度約3重量%の組成物を得た。片面にITO電極を設けた透明ガラス基板上に、この組成物を滴下し、スピンナー法により塗布した(2500rpm、15秒)。塗布後80℃で5分間加熱し、溶剤を蒸発させた後、オーブン中で200℃、30分間加熱処理を行い、膜厚約60nmのポリイミド薄膜を得た。この薄膜を基板から剥がし、イミド化率を測定したところ、91%であった。次に、この薄膜が形成されたガラス基板をラビング処理し(ラビング条件;ローラー回転数1000rpm、押し込み0.4mm、ステージ移動速度50cm/s)、ラビング方向が逆平行になるようにこれらの2枚を貼り合わせて、セル厚7μmの液晶セルを組み立てた。このセルに下記の液晶組成物Aを注入し、110℃で30分間アイソトロピック処理を行い、室温まで冷却して液晶表示素子を得た。この液晶表示素子の残留電荷は0.12Vであり、電圧保持率およびイオン密度はそれぞれ92.4%および100pCであった。またこの表示素子を用いてプレチルト角を測定した結果、1.0度であった。配向性Δは0.012であった(この値を初期値とする)。この液晶セルを100℃のオーブンに100時間置いたときの残留電荷は0.16Vであり、電圧保持率およびイオン密度はそれぞれ92.0%および130pCであった。プレチルト角を測定した結果、1.0度であった。配向性Δは0.013であった(この値を加熱後値とする)。
<液晶組成物A>
ワニスAの代わりに以下のワニスを用いた以外は、実施例12と同様な方法で液晶表示素子を製作し、特性の測定を行った。結果を実施例12の結果と共に表2に示す。
<表2>
(注)イミド化率を除く物性値の欄において、上段は初期値、下段は加熱後の値を示す。
Claims (18)
- 請求項1に記載の式(1)で表される酸二無水物の少なくとも1つとジアミンを反応させて得られるポリアミック酸。
- 請求項1に記載の式(1)で表される酸二無水物の少なくとも1つおよび式(1)では表されないその他の酸二無水物の少なくとも1つを含有する酸二無水物の混合物とジアミンを反応させて得られるポリアミック酸。
- 請求項4〜7のいずれか1項に記載のポリアミック酸を脱水閉環して得られるポリイミド。
- 請求項1に記載の式(1)で表される酸二無水物の少なくとも1つとジカルボン酸塩化物の少なくとも1つとをジアミンと反応させて得られるポリアミドアミック酸。
- 請求項1に記載の式(1)で表される酸二無水物の少なくとも1つおよび式(1)では表されないその他の酸二無水物の少なくとも1つを含有する酸二無水物の混合物とジカルボン酸塩化物の少なくとも1つとをジアミンと反応させて得られるポリアミドアミック酸。
- 請求項9〜12のいずれか1項に記載のポリアミドアミック酸を脱水閉環して得られるポリアミドイミド。
- 請求項4〜7のいずれか1項に記載のポリアミック酸の少なくとも1つまたは請求項9に記載のポリイミドの少なくとも1つを含有する液晶配向処理剤。
- 請求項9〜12のいずれか1項に記載のポリアミドアミック酸の少なくとも1つまたは請求項14に記載のポリアミドイミドの少なくとも1つを含有する液晶配向処理剤。
- その他のポリマーを更に含有する、請求項14または15に記載の液晶配向処理剤。
- その他のポリマーがポリアミック酸、部分イミド化ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミドおよびポリアミドイミドから選ばれる少なくとも1つである、請求項16に記載の液晶配向処理剤。
- 請求項14〜17のいずれか1項に記載の液晶配向処理剤を用いて得られる液晶配向膜を有する液晶表示素子。
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