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JP5237220B2 - Vacuum pressure control system - Google Patents

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JP5237220B2
JP5237220B2 JP2009187213A JP2009187213A JP5237220B2 JP 5237220 B2 JP5237220 B2 JP 5237220B2 JP 2009187213 A JP2009187213 A JP 2009187213A JP 2009187213 A JP2009187213 A JP 2009187213A JP 5237220 B2 JP5237220 B2 JP 5237220B2
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Description

本発明は、半導体製造装置内の圧力をスロー排気して所定圧力に圧力制御する真空圧力制御システムに関する。   The present invention relates to a vacuum pressure control system that performs slow pressure control of a semiconductor manufacturing apparatus to a predetermined pressure.

例えば、半導体製造装置のCVD装置では、ウエハと材料ガスとを反応させる場合に、反応炉(真空容器)内を大気圧から高真空状態まで圧力制御する必要がある。この場合、特に、大気圧、又は大気圧に近い低真空から目標とする真空圧力値まで到達させる際の、真空引きの過程において排気を徐々におこなう、いわゆる、スロー排気によりパーティクルの飛散を抑えることが極めて重要になっている。このため、CVD装置では、反応炉内の空気を排気する真空ポンプと、真空ポンプによる真空引きを調節する開閉弁が設けられ、真空ポンプにより真空引きするときに、開閉弁の開度を調節して反応炉内からスロー排気により高精度に圧力調節してパーティクルの飛散を防止している。   For example, in a CVD apparatus of a semiconductor manufacturing apparatus, when a wafer and a material gas are reacted, it is necessary to control the pressure in a reaction furnace (vacuum vessel) from an atmospheric pressure to a high vacuum state. In this case, in particular, it is possible to suppress the scattering of particles by so-called slow exhaust, in which exhaust is gradually performed during the evacuation process when reaching a target vacuum pressure value from a low vacuum close to atmospheric pressure or the atmospheric pressure. Has become extremely important. For this reason, the CVD apparatus is provided with a vacuum pump for exhausting the air in the reaction furnace and an on-off valve for adjusting the evacuation by the vacuum pump, and when opening the vacuum by the vacuum pump, the opening degree of the on-off valve is adjusted. The particle is prevented from scattering by adjusting the pressure with high precision by slow exhaust from the reactor.

この種の圧力調節する技術としては、例えば、特許文献1の真空圧力制御システムがある。この真空圧力制御システムでは、予め、コントローラに目標真空圧力変化ポイントと目標真空圧力変化速度とを設定しておき、これらの設定に基づいて圧力センサで測定した圧力値より真空比例開閉弁の開度を変えて、圧力低下の進行過程を制御している。
一方、特許文献2においては、弾性シール部材を備えた真空比例開閉弁を有する真空圧力制御装置が開示されている。この真空圧力制御装置は、真空比例開閉弁の弾性シール部材の弾性変形量を変化させ、弾性シール部材からの漏れ量を変化させることにより真空容器内の真空圧力を制御して、圧力を大気圧に近い低真空圧力領域にコントロールしている。
As a technique for adjusting the pressure of this type, for example, there is a vacuum pressure control system of Patent Document 1. In this vacuum pressure control system, the target vacuum pressure change point and the target vacuum pressure change speed are set in advance in the controller, and the opening of the vacuum proportional on-off valve is determined from the pressure value measured by the pressure sensor based on these settings. To control the process of pressure drop.
On the other hand, Patent Document 2 discloses a vacuum pressure control device having a vacuum proportional on-off valve provided with an elastic seal member. This vacuum pressure control device controls the vacuum pressure in the vacuum vessel by changing the amount of elastic deformation of the elastic seal member of the vacuum proportional on-off valve, and changing the amount of leakage from the elastic seal member, thereby reducing the pressure to atmospheric pressure. It is controlled in a low vacuum pressure region close to.

特開2001−146975号公報JP 2001-146975 A 特開2002―132354号公報JP 2002-132354 A

しかしながら、特許文献1の真空圧力制御システムは、大気圧から所定の真空圧力まで所定時間により圧力制御する場合に、真空圧力値までの所要時間に対する真空圧量変化ポイントと目標真空圧力変化速度とを予め設定値として設定する必要があり、これらの設定値を求めるための余計な手間もかかっていた。このため、操作性が悪くなっていた。
一方、特許文献2の真空圧力制御装置は、真空圧力の制御域が大気圧に近い低真空領域に限られるため、大気圧又は大気圧に近い低真空から高真空までを制御することができず、制御性が悪くなっていた。
However, in the vacuum pressure control system of Patent Document 1, when pressure control is performed from atmospheric pressure to a predetermined vacuum pressure for a predetermined time, a vacuum pressure amount change point and a target vacuum pressure change speed with respect to a required time until the vacuum pressure value are obtained. It is necessary to set the preset values in advance, and extra effort is required to obtain these preset values. For this reason, the operability has deteriorated.
On the other hand, since the vacuum pressure control device of Patent Document 2 is limited to the low vacuum region where the vacuum pressure is close to atmospheric pressure, it cannot control from low pressure close to atmospheric pressure or atmospheric pressure to high vacuum. The controllability was getting worse.

本発明は、上記の課題点を解決するために開発したものであり、その目的とするところは、大気圧又は大気圧に近い低真空から高真空までの広い圧力レンジを簡単に圧力制御でき、高精度に圧力制御しながらスロー排気してパーティクルの飛散を確実に防止する真空圧力制御システムを提供することにある。   The present invention was developed in order to solve the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to easily control the pressure over a wide pressure range from low pressure to high pressure close to atmospheric pressure or atmospheric pressure, An object of the present invention is to provide a vacuum pressure control system that reliably prevents particle scattering by slow exhaust while controlling pressure with high accuracy.

上記目的を達成するため、請求項1に係る発明は、真空容器に真空ポンプを接続した途中に設けられ、かつ前記真空容器内の真空圧力を変化させる開閉弁と、前記真空容器内の真空圧力を計測する真空圧力センサを介して前記開閉弁の開度を制御するようにした真空圧力制御システムであって、前記真空容器内の圧力低下を誘導する到達関数を算出する演算機能と、前記開閉弁の開度を任意の時間幅で開閉制御するタイマーと、前記開閉弁の弁開時の開度であるオープン開度値と前記開閉弁の弁閉時の開度であるクローズ開度値とを前記真空圧力センサの出力と前記到達関数から演算する機能とを有する制御ユニット手段と、前記開閉弁のシートリングである弁座を動作させる弁座制御機構と前記開閉弁の弁体を動作させる弁体制御機構とを備えて前記オープン開度値と前記クローズ開度値を駆動する駆動手段と、圧力低下の所要時間と到達圧力を外部からコマンド入力する入力手段とを設けて、大気圧又は任意の圧力から目標とする任意の圧力まで低下させるようにしたことを特徴とする真空圧力制御システムである。 In order to achieve the above object, an invention according to claim 1 includes an on-off valve provided in the middle of connecting a vacuum pump to a vacuum vessel and changing a vacuum pressure in the vacuum vessel, and a vacuum pressure in the vacuum vessel. A vacuum pressure control system that controls an opening degree of the on-off valve via a vacuum pressure sensor that measures a calculation function for calculating a reaching function that induces a pressure drop in the vacuum vessel; A timer for controlling opening and closing of the opening of the valve with an arbitrary time width, an open opening value that is an opening when the opening and closing valve is opened, and a closing opening value that is an opening when the opening and closing valve is closed Control unit means having a function of calculating from the output of the vacuum pressure sensor and the reaching function, a valve seat control mechanism for operating a valve seat which is a seat ring of the on-off valve, and operating a valve body of the on-off valve With the valve body control mechanism Driving means Ete driving the closing opening value and said open opening value, provided input means for command input the required time and the arrival pressure of the pressure drop from the outside, the target atmospheric pressure or any pressure A vacuum pressure control system characterized in that the pressure is reduced to an arbitrary pressure.

請求項1に係る発明によると、制御ユニット手段と、駆動手段と、入力手段とにより、大気圧又は任意の圧力から目標とする任意の圧力まで低下させるようにしているので、コマンドを入力手段から入力するだけで広い圧力レンジで到達圧力まで簡単に自動圧力制御でき、高精度に圧力制御しながらスロー排気を実施してパーティクルの飛散を確実に防止できる。   According to the first aspect of the present invention, the control unit means, the drive means, and the input means are configured to reduce the atmospheric pressure or the arbitrary pressure to the target arbitrary pressure. By simply inputting, automatic pressure control can be easily performed up to the ultimate pressure in a wide pressure range, and it is possible to reliably prevent scattering of particles by performing slow exhaust while controlling pressure with high accuracy.

また、圧力の制御開始時における圧力から所定の高真空圧力に到達するまでの時間に応じて1次、2次或は3次関数のうちの最適な到達関数に可変させて演算すると、任意の圧力低下の所要時間に設定した場合でも、圧力低下のプロセスを変化させながら圧力制御を実施してパーティクルの発生を防ぎつつスロー排気できる。このため、パーティクルの飛散を抑えつつ、スロー排気時に必要な時間を短縮することができる。 Further , if the calculation is performed by changing the optimum reaching function of the first, second or third order function according to the time from the pressure at the start of the pressure control to the arrival at the predetermined high vacuum pressure, an arbitrary reaching function is obtained. Even when the time required for the pressure drop is set, it is possible to perform slow exhaust while preventing the generation of particles by performing pressure control while changing the pressure drop process. For this reason, it is possible to reduce the time required for the slow exhaust while suppressing the scattering of particles.

しかも、圧力制御時に開閉弁のシール部位の接触頻度を抑えてこのシール部位の消耗や摩耗を防ぐことができ、これにより、寿命を延ばして長期に亘ってパーティクルの発生を抑えてシール性と正確な圧力制御とを維持できる。 In addition , the contact frequency of the seal part of the on-off valve can be suppressed during pressure control to prevent wear and wear of this seal part. Pressure control can be maintained.

本発明の真空圧力制御システムの一実施形態を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed one Embodiment of the vacuum pressure control system of this invention. 開閉弁の一例を示した断面図である。It is sectional drawing which showed an example of the on-off valve. 図2の開閉弁のシートリングが動作した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the seat ring of the on-off valve of FIG. 2 act | operated. 本発明の真空圧力制御システムによる制御を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed control by the vacuum pressure control system of this invention. 到達関数による制御波形の例を示したグラフである。(a)は、1次関数による制御波形の例を示したグラフである。(b)は、2次関数による制御波形の例を示したグラフである。It is the graph which showed the example of the control waveform by an arrival function. (A) is the graph which showed the example of the control waveform by a linear function. (B) is the graph which showed the example of the control waveform by a quadratic function. 圧力低下の所要時間と圧力との関係を示したグラフである。It is the graph which showed the relationship between the time required for pressure drop, and pressure. 開閉弁の弁体が動作した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which the valve body of the on-off valve operated. 高速エア制御回路を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the high-speed air control circuit.

以下に、本発明における真空圧力制御システムの一実施形態を図面に基づいて詳しく説明する。図1は、本発明の真空圧力制御システムを示した模式図である。真空圧力制御システム本体(以下、システム本体という)1は、開閉弁2と真空圧力センサ3とを有し、開閉弁2には真空容器4と真空ポンプ5とがつながっている。真空容器4は、例えば、半導体製造装置のCVD装置の一部を成し、この真空容器4に接続された真空ポンプ5により真空容器4内から排気が行なわれる。   Hereinafter, an embodiment of a vacuum pressure control system according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing a vacuum pressure control system of the present invention. A vacuum pressure control system main body (hereinafter referred to as system main body) 1 includes an on-off valve 2 and a vacuum pressure sensor 3, and a vacuum vessel 4 and a vacuum pump 5 are connected to the on-off valve 2. The vacuum vessel 4 forms a part of a CVD apparatus of a semiconductor manufacturing apparatus, for example, and is evacuated from the vacuum vessel 4 by a vacuum pump 5 connected to the vacuum vessel 4.

開閉弁2は、真空容器4に真空ポンプ5を介して接続され、真空容器4内の真空圧力を変化させることが可能になっている。真空圧力センサ3は、真空容器4内につながれて真空容器4内の真空圧力を計測する。システム本体1は、開閉弁2と真空圧力センサ3とを介して開閉弁2の開度を制御するものであり、更に、このシステム本体1は、制御ユニット手段10と、駆動手段(アクチュエータ)12と、入力手段13とを有し、これらの各手段を介して真空容器4内を大気圧又は任意の圧力から目標とする任意の圧力まで細かく圧力制御しながら圧力低下させるようにしている。これにより、システム本体1は、真空容器4内に収納された図示しないウエハに材料ガスを供給して被処理体であるウエハを対応処理する。   The on-off valve 2 is connected to the vacuum vessel 4 via a vacuum pump 5 so that the vacuum pressure in the vacuum vessel 4 can be changed. The vacuum pressure sensor 3 is connected to the vacuum container 4 and measures the vacuum pressure in the vacuum container 4. The system main body 1 controls the opening degree of the on-off valve 2 via the on-off valve 2 and the vacuum pressure sensor 3. The system main body 1 further includes a control unit means 10 and a driving means (actuator) 12. And the input means 13, and the pressure inside the vacuum vessel 4 is reduced through these means while finely controlling the pressure from atmospheric pressure or an arbitrary pressure to an arbitrary target pressure. As a result, the system main body 1 supplies a material gas to a wafer (not shown) housed in the vacuum vessel 4 and performs a corresponding process on the wafer as the object to be processed.

システム本体1において、開閉弁2は、真空容器4と真空ポンプ5と共に流路部15に接続され、この開閉弁2の開度を開閉制御することで真空容器4内の圧力を制御する。開閉弁2は、例えば、バタフライバルブからなり、この開閉弁2のバルブ本体16には、図2に示すように駆動手段12が接続されている。駆動手段12は、開閉弁2のシートリングである弁座17を動作させる弁座制御機構20と、開閉弁2の弁体22を動作させる弁体制御機構21とを備え、開閉弁2の後述するオープン開度値とクローズ開度値とを駆動する。開閉弁は、バタフライバルブに限ることなく、他の構造の開閉弁であってもよい。   In the system main body 1, the on-off valve 2 is connected to the flow path portion 15 together with the vacuum container 4 and the vacuum pump 5, and controls the pressure in the vacuum container 4 by controlling the opening / closing of the on-off valve 2. The on-off valve 2 is composed of, for example, a butterfly valve, and a driving means 12 is connected to the valve body 16 of the on-off valve 2 as shown in FIG. The driving means 12 includes a valve seat control mechanism 20 that operates a valve seat 17 that is a seat ring of the on-off valve 2, and a valve body control mechanism 21 that operates a valve body 22 of the on-off valve 2. The opening degree value and the closing degree value are driven. The on-off valve is not limited to the butterfly valve, and may be an on-off valve having another structure.

バルブ本体16は、ボデー23を有し、このボデー23内には流路24が形成されている。バルブ本体16内には、弁体22と、シートリング17と、ピストン26と、スプリング27とが内蔵されている。弁体22は、略円板状に形成され、固着ボルト28によって回転軸である弁軸29に取付けられ、この弁軸29により流路24に対して垂直方向に回転可能になっている。更に、弁体22の外周側には装着溝30が形成され、この装着溝30には、シールリングであるOリング31が装着されている。Oリング31は、後述するシートリング17の弁座シール部32と当接する側に配設され、このOリング31により、弁座シール部32と弁体22との間がシール可能になっている。弁軸29は、弁体22の中心から偏心するように設けられる。この弁軸29は、図示しないが、流路24の中心から偏心させるようにしてもよい。弁軸29には、弁体制御機構21が接続され、この弁体制御機構21により、弁軸29は、回転誤差が抑えられつつ所望の回転角度で高精度に回転可能になっている。   The valve body 16 has a body 23, and a flow path 24 is formed in the body 23. A valve body 22, a seat ring 17, a piston 26 and a spring 27 are built in the valve body 16. The valve body 22 is formed in a substantially disk shape, and is attached to a valve shaft 29 that is a rotating shaft by a fixing bolt 28, and can be rotated in a direction perpendicular to the flow path 24 by the valve shaft 29. Further, a mounting groove 30 is formed on the outer peripheral side of the valve body 22, and an O-ring 31 that is a seal ring is mounted in the mounting groove 30. The O-ring 31 is disposed on a side of the seat ring 17 that will be described later in contact with a valve seat seal portion 32, and the O-ring 31 can seal between the valve seat seal portion 32 and the valve body 22. . The valve shaft 29 is provided so as to be eccentric from the center of the valve body 22. Although not shown, the valve shaft 29 may be eccentric from the center of the flow path 24. A valve body control mechanism 21 is connected to the valve shaft 29, and the valve body control mechanism 21 enables the valve shaft 29 to be rotated with high accuracy at a desired rotation angle while suppressing a rotation error.

シートリング17は、図に示すように略環状に形成され、弁座シール部32と摺動部33とが設けられている。このうち、弁座シール部32は、Oリング31が当接してシールする部分であり、シートリング17の内周面側に内径側から外径側に緩やかに拡径するテーパ状に形成されている。この弁座シール部32は、テーパ状以外の形状であってもよく、例えば、円弧状であってもよい。摺動部33は、シートリング17全体がボデー23内を摺動できるように形成され、この摺動部33は、外径側に突出形成されている。摺動部33が移動する側には、弁閉側規制面34と弁開側規制面35とがそれぞれ形成されている。   As shown in the figure, the seat ring 17 is formed in a substantially annular shape, and is provided with a valve seat seal portion 32 and a sliding portion 33. Among these, the valve seat seal portion 32 is a portion that the O-ring 31 contacts and seals, and is formed on the inner peripheral surface side of the seat ring 17 in a tapered shape that gradually increases in diameter from the inner diameter side to the outer diameter side. Yes. The valve seat seal portion 32 may have a shape other than a tapered shape, for example, an arc shape. The sliding portion 33 is formed so that the entire seat ring 17 can slide in the body 23, and the sliding portion 33 is formed to protrude to the outer diameter side. A valve closing side regulating surface 34 and a valve opening side regulating surface 35 are formed on the side on which the sliding portion 33 moves.

シートリング17は、ボデー23の内側に形成された装着凹部36に摺動部33が装着されて取付けられ、この摺動部33と装着凹部36との間に設けられた間隙Gにより流路24の方向に往復動自在に移動し、これにより、弁座シール部32がOリング31に接離可能になっている。このとき、弁閉側規制面34が装着凹部36に形成された環状突部37、また、弁開側規制面35が二次側に形成された当接面38にそれぞれ当接することで、シートリング17の往復時の移動量がそれぞれ規制される。   The seat ring 17 is attached to a mounting recess 36 formed inside the body 23 by mounting a sliding portion 33, and a flow path 24 is formed by a gap G provided between the sliding portion 33 and the mounting recess 36. The valve seat seal portion 32 can be brought into contact with and separated from the O-ring 31. At this time, the valve closing side regulating surface 34 comes into contact with the annular protrusion 37 formed in the mounting recess 36, and the valve opening side regulating surface 35 comes into contact with the contact surface 38 formed on the secondary side, respectively. The amount of movement of the ring 17 during reciprocation is regulated.

図7に示すように、ピストン26は、略環状に形成されて装着凹部36の二次側に設けられ、本実施形態においては2本からなる複数のシャフト39、39によりシートリング17と連結されている。このため、ピストン26は、シャフト39を介してシートリング17と一体に装着凹部36を移動できるようになっている。ピストン26の二次側のボデー23にはエア流路40が形成され、このエア流路40を介して外部より装着凹部36の二次側にエアを供給可能になっている。また、ボデー23内のピストン26の一次側には複数の凹状溝41が形成され、この凹状溝41とピストン26との間にはスプリング42が弾発した状態で装着されている。   As shown in FIG. 7, the piston 26 is formed in a substantially annular shape and is provided on the secondary side of the mounting recess 36, and in this embodiment is connected to the seat ring 17 by a plurality of shafts 39, 39 having two. ing. For this reason, the piston 26 can move in the mounting recess 36 integrally with the seat ring 17 via the shaft 39. An air flow path 40 is formed in the body 23 on the secondary side of the piston 26, and air can be supplied from the outside to the secondary side of the mounting recess 36 via the air flow path 40. A plurality of concave grooves 41 are formed on the primary side of the piston 26 in the body 23, and a spring 42 is mounted between the concave groove 41 and the piston 26 in a resilient state.

ピストン26側に設けられたエア流路40は、エアの供給時にピストン26が図において左方向に移動するような位置に形成され、更に、バルブ本体16に搭載されるアクチュエータ12の内部に設けられたエア流路部45に接続されている。このエア流路部45は、その途中から、第1分岐流路46と第2分岐流路47とに分岐されている。   The air flow path 40 provided on the piston 26 side is formed at a position where the piston 26 moves leftward in the drawing when air is supplied, and is further provided inside the actuator 12 mounted on the valve body 16. Connected to the air flow path portion 45. The air flow path portion 45 is branched from the middle into a first branch flow path 46 and a second branch flow path 47.

このような構造により、バルブ本体16は、通常時においては、スプリング42の弾発力によりピストン26が図において右方向に付勢され、このピストン26にシャフト39で接続されたシートリング17も右方向、すなわち、弁体22の方向に移動して、弁閉状態に回転した弁体22に当接シールして流路24を閉塞する。一方、エア流路部45を介してエアが供給されると、ピストン26がスプリング27の付勢力に抗して図の左方向に移動し、シートリング17も左側に移動して弁閉状態にある弁体22から離間して流路24を開放する。このように、バルブ本体16は、通常時は閉状態にある、いわゆる、NC(ノーマリークローズ)タイプとなっている。なお、本実施形態において、スプリング27は、ピストン26の円周方向に等角度に8個装着されているが、必要に応じて増減させて装着してもよい。また、シャフト39の数も必要に応じて増減させてもよい。   With such a structure, the valve body 16 is normally urged to the right in the drawing by the elastic force of the spring 42 in the valve body 16, and the seat ring 17 connected to the piston 26 by the shaft 39 is also on the right side. It moves in the direction, that is, in the direction of the valve body 22, abuts and seals on the valve body 22 rotated in the valve closed state, and closes the flow path 24. On the other hand, when air is supplied through the air flow path 45, the piston 26 moves to the left in the figure against the urging force of the spring 27, and the seat ring 17 also moves to the left to close the valve. The flow path 24 is opened away from a certain valve body 22. Thus, the valve body 16 is of a so-called NC (normally closed) type that is normally closed. In the present embodiment, eight springs 27 are mounted at an equal angle in the circumferential direction of the piston 26. However, the springs 27 may be mounted by increasing or decreasing as necessary. Further, the number of shafts 39 may be increased or decreased as necessary.

一方、バルブ本体16に接続された駆動手段のうち、弁座制御機構20は、電磁弁50と、電空レギュレータ51と、ポンプ52とを有している。図2、図3に示すように、電磁弁50と電空レギュレータ51は、前記駆動手段12の第1分岐流路46と第2分岐流路47とに対して並列状態でこの駆動手段12の外部(又は内部)に接続されている。電磁弁50と電空レギュレータ51にはポンプ52が接続され、このポンプ52を介して操作用のエアが供給されたときに、後述するエア制御部55によりエアを制御することで、電磁弁50と電空レギュレータ51とがそれぞれ操作されてシートリング17による流路24の開閉制御がなされる。   On the other hand, of the drive means connected to the valve body 16, the valve seat control mechanism 20 includes an electromagnetic valve 50, an electropneumatic regulator 51, and a pump 52. As shown in FIGS. 2 and 3, the electromagnetic valve 50 and the electropneumatic regulator 51 are connected in parallel to the first branch flow path 46 and the second branch flow path 47 of the drive means 12. Connected to the outside (or inside). A pump 52 is connected to the electromagnetic valve 50 and the electropneumatic regulator 51, and when air for operation is supplied through the pump 52, the air is controlled by an air control unit 55 described later, whereby the electromagnetic valve 50 is controlled. And the electropneumatic regulator 51 are respectively operated to control the opening / closing of the flow path 24 by the seat ring 17.

電磁弁50は、弁開又は弁閉状態に操作可能になっており、各状態においてポンプ52からのエアをエア流路40に供給、又は、停止できるようになっている。一方、電空レギュレータ51は、バルブ開度を調節することでポンプ52からのエアの供給圧力を調整できるようになっている。電空レギュレータ51は、例えば、図示しない内部のピストンにより圧力を0〜0.5MPaまでの範囲内に圧力制御するようにバルブ本体16へのエアの供給量を制御するものであればよく、または、供給圧力のON−OFF制御により、シートリング17の位置制御をできるものであればよい。   The electromagnetic valve 50 can be operated in a valve open state or a valve closed state, and air from the pump 52 can be supplied to the air flow path 40 or stopped in each state. On the other hand, the electropneumatic regulator 51 can adjust the supply pressure of air from the pump 52 by adjusting the valve opening. The electropneumatic regulator 51 may be any device that controls the amount of air supplied to the valve body 16 so that the pressure is controlled within a range of 0 to 0.5 MPa by an internal piston (not shown), or As long as the position of the seat ring 17 can be controlled by the ON / OFF control of the supply pressure, any method may be used.

電磁弁50と電空レギュレータ51の内部構造は省略するが、電磁弁50は、オンオフ用の開閉弁、電空レギュレータ51は、流量調節可能な流量調節弁であれば、その構造にこだわることはなく、適宜の形態のバルブを用いることが可能である。また、これらは、第1・第2分岐流路46、47にそれぞれ所定量のエアを供給可能であれば、バルブ本体16と一体、又は近接して設ける必要はなく、管路の任意の位置に設けることが可能である。   The internal structure of the solenoid valve 50 and the electropneumatic regulator 51 is omitted. However, if the solenoid valve 50 is an on / off on-off valve and the electropneumatic regulator 51 is a flow rate control valve capable of adjusting the flow rate, the structure is not particularly concerned. It is possible to use an appropriate form of valve. In addition, as long as a predetermined amount of air can be supplied to each of the first and second branch flow paths 46 and 47, these need not be provided integrally with or close to the valve main body 16, and can be arranged at any position on the pipe line. Can be provided.

また、駆動手段12のうちの弁体制御機構21は、ステッピングモータ56とモータドライバ57とを有している。図2、図3に示すように、ステッピングモータ56は、アクチュエータ12内に搭載され、その出力軸58が弁軸29に接続されている。モータドライバ57は、図1においてステッピングモータ56に接続されている。弁体制御機構20は、後述する弁体制御部59によりモータドライバ57を制御することでステッピングモータ56を回転制御し、弁軸29に接続された弁体22を所定角度に制御できるようになっている。   In addition, the valve body control mechanism 21 of the driving unit 12 includes a stepping motor 56 and a motor driver 57. As shown in FIGS. 2 and 3, the stepping motor 56 is mounted in the actuator 12, and its output shaft 58 is connected to the valve shaft 29. The motor driver 57 is connected to the stepping motor 56 in FIG. The valve body control mechanism 20 can control the rotation of the stepping motor 56 by controlling a motor driver 57 by a valve body control unit 59 described later, and can control the valve body 22 connected to the valve shaft 29 to a predetermined angle. ing.

システム本体1における制御ユニット手段10は、エア制御部55と弁体制御部59とを有し、基板等からなる図示しないCPU、A/Dコンバータ、D/Aコンバータ等の内部部品により構成されている。この制御ユニット手段10は、真空容器4内の圧力低下を誘導する到達関数f(x)を算出する演算機能(以下、到達関数演算機構という)と、開閉弁2を任意の時間幅で開閉するタイマー60と、開閉弁2が開閉動作するときのオープン開度値とクローズ開度値とを真空圧力センサ3の出力と到達関数f(x)から演算する機能(以下、弁開度演算機能という)とを有している。 The control unit means 10 in the system main body 1 includes an air control unit 55 and a valve body control unit 59, and is configured by internal components such as a CPU (not shown), an A / D converter, a D / A converter, and the like that are made of a substrate and the like. Yes. The control unit means 10, calculation function of calculating the arrival function f (x) to induce a pressure drop in the vacuum chamber 4 (hereinafter, referred to reach function operation mechanism) and, for opening and closing the on-off valve 2 in an arbitrary time width A function for calculating the opening degree value and the closing degree value when the timer 60 and the opening / closing valve 2 are opened / closed from the output of the vacuum pressure sensor 3 and the reaching function f (x) (hereinafter referred to as a valve opening degree calculating function). ).

エア制御部55は、弁座制御機構20に接続され、この弁座制御機構20の電空レギュレータ51内部の図示しない弁体の弁開度を制御し、電空レギュレータ51にポンプ52からエアが供給されたときのエア流路40へのエア量(エア圧力)を制御する。これにより、エア制御部55によって弁座制御機構20を介して駆動手段12の第1分岐流路46と第2分岐流路47へのエアの供給・停止、又はエアの供給量を調節し、シートリング17の移動量を制御してシートリング17による弁開度を制御してスロー排気できるようにしている。上記において、電空レギュレータ51の位置には、この電空レギュレータ51と同一の機能を有するバルブを設けるようにしてもよい。このバルブとしては、例えば、図示しないが、オリフィス流路を有する流量制御弁がある。

The air control unit 55 is connected to the valve seat control mechanism 20, controls the valve opening degree of a valve body (not shown) inside the electropneumatic regulator 51 of the valve seat control mechanism 20, and air is supplied to the electropneumatic regulator 51 from the pump 52. The amount of air (air pressure) to the air flow path 40 when supplied is controlled. Thereby, the air control unit 55 adjusts the supply / stop of air to the first branch flow path 46 and the second branch flow path 47 of the driving means 12 via the valve seat control mechanism 20, or the air supply amount, The amount of movement of the seat ring 17 is controlled to control the valve opening by the seat ring 17 so that slow exhaust can be performed. In the above description, a valve having the same function as the electropneumatic regulator 51 may be provided at the position of the electropneumatic regulator 51. As this valve, for example, although not shown, there is a flow control valve having an orifice flow path.

弁体制御部59は、弁体制御機構21に接続され、この弁体制御機構21においてモータドライバ57を介してステッピングモータ56を回転制御して、弁軸29を介して弁体22を所定角度に回転制御できるようにしている。弁体制御部59は、ステッピングモータ56の回転方向や回転速度等を細かく制御して弁体22を高精度に回転制御できるようになっている。   The valve body control unit 59 is connected to the valve body control mechanism 21, and controls the rotation of the stepping motor 56 via the motor driver 57 in the valve body control mechanism 21, thereby causing the valve body 22 to rotate at a predetermined angle via the valve shaft 29. The rotation can be controlled. The valve body control unit 59 can control the rotation of the valve body 22 with high accuracy by finely controlling the rotation direction, rotation speed, and the like of the stepping motor 56.

バルブ本体16は、弁座制御機構20によりエア流路40にエアが供給され、このエアによりシートリング17が弁体22のOリング31から離間し、さらに、シートリング17が開放した状態から弁体制御機構21により弁体22を無摺動で回転させるようになっている。また、弁体制御機構21によって、弁体22を弁閉状態に回転し、この状態で弁座制御機構20によりエア流路40にエアを供給し、このエア供給40とスプリング42の付勢力とにより弁体22にシートリング17を接離させて流路24内の流量(圧力)を制御する。このとき、上記したように弁座制御機構20がエア制御部55、弁体制御機構21が弁体制御部59によって高精度に制御される。   In the valve body 16, air is supplied to the air flow path 40 by the valve seat control mechanism 20, the seat ring 17 is separated from the O-ring 31 of the valve body 22 by this air, and further, the valve from the state where the seat ring 17 is opened. The valve body 22 is rotated without sliding by the body control mechanism 21. Further, the valve body control mechanism 21 rotates the valve body 22 to the valve closed state, and in this state, air is supplied to the air flow path 40 by the valve seat control mechanism 20, and the urging force of the air supply 40 and the spring 42 is Thus, the seat ring 17 is brought into contact with and separated from the valve body 22 to control the flow rate (pressure) in the flow path 24. At this time, as described above, the valve seat control mechanism 20 is controlled with high accuracy by the air control unit 55 and the valve body control mechanism 21 is controlled with high accuracy.

また、システム本体1は、例えば、PC(パーソナルコンピュータ)等からなる入力手段13を備え、この入力手段13により、真空容器4内を所定の圧力まで圧力低下させるときの所要時間、いわゆる、圧力低下の所要時間Tと、このとき所要時間Tにより到達する圧力、いわゆる、到達圧力Pを外部からコマンド入力することが可能になっている。入力手段13は、制御ユニット手段10に接続され、コマンド入力された命令は、制御ユニット手段10を介して駆動手段12に伝達される。   Further, the system main body 1 is provided with an input means 13 composed of, for example, a PC (personal computer) or the like, and a time required for reducing the pressure inside the vacuum vessel 4 to a predetermined pressure by the input means 13, so-called pressure drop. The required time T and the pressure reached by the required time T at this time, the so-called ultimate pressure P, can be input from the outside. The input means 13 is connected to the control unit means 10, and the command input command is transmitted to the drive means 12 via the control unit means 10.

次に、制御ユニット手段10における、到達関数演算機能と、弁開度演算機能の各機能を詳細に説明する。
到達関数演算機能は、真空容器4内の真空圧力を制御するときに、制御開始からの時間の経過と真空容器4内の圧力との関係を、到達関数f(x)として算出する機能である。到達関数f(x)は、1次、2次或は3次関数のうちの何れかの関数であり、各到達関数f(x)、f(x)、f(x)は、真空容器4内の圧力が制御開始時の圧力(開始圧力)から時間の経過に伴って低下する勾配となることから、それぞれ、f(x)=y=−ax+b、f(x)=y=−a+b、f(x)=y=−a+bの関係に表される。この式において、−a、b、−a、b、−a、bは定数であり、これらの定数−a、b、−a、b、−a、bをそれぞれ算出することで、1次、2次、3次における到達関数がそれぞれ求められる。
Next, each function of the arrival function calculation function and the valve opening calculation function in the control unit means 10 will be described in detail.
The arrival function calculation function is a function that calculates the relationship between the passage of time from the start of control and the pressure in the vacuum container 4 as the arrival function f (x) when the vacuum pressure in the vacuum container 4 is controlled. . The arrival function f (x) is any one of the first-order, second-order, and third-order functions, and each of the arrival functions f 1 (x), f 2 (x), and f 3 (x) is Since the pressure in the vacuum vessel 4 has a gradient that decreases with the passage of time from the pressure at the start of control (starting pressure), f 1 (x) = y 1 = −a 1 x + b 1 , f 2, respectively. (x) = y 2 = −a 2 x 2 + b 2 , f 3 (x) = y 3 = −a 3 x 3 + b 3 . In this formula, -a 1 , b 1 , -a 2 , b 2 , -a 3 , b 3 are constants, and these constants -a 1 , b 1 , -a 2 , b 2 , -a 3 , By calculating b 3 respectively, first, second, and third order arrival functions are obtained.

このとき、定数b、b、bは、制御開始時(到達時間=0)のときの圧力(開始圧力)であり、上記の各関数にx=0を代入したときのy、y、yの値となる。定数−a、−a、−aは、上式から算出した定数b、b、b、目標の真空圧力にするまでの所要時間T、目標となる到達圧力(所定の高真空圧力値)Pの値をそれぞれ上式のx、yに代入することで求められる。その結果、1次、2次、3次の到達関数f(x)、f(x)、f(x)が決定される。 At this time, constants b 1 , b 2 , and b 3 are pressures (starting pressures) at the start of control (arrival time = 0), and y 1 , when x = 0 is substituted into each of the above functions, The values are y 2 and y 3 . Constants -a 1 , -a 2 , -a 3 are constants b 1 , b 2 , b 3 calculated from the above formula, time T required to reach the target vacuum pressure, target ultimate pressure (predetermined high (Vacuum pressure value) P is obtained by substituting the values of x and y in the above equations, respectively. As a result, first, second, and third order arrival functions f 1 (x), f 2 (x), and f 3 (x) are determined.

この到達関数f(x)を算出するときに、設定する所要時間Tに対応して、1次、2次或は3次関数と可変可能な演算機能を有しており、到達時間tに対応して1次、2次或は3次関数のうちの適切な関数が制御ユニット手段10により自動選択される。図5においては、到達関数f(x)による制御波形の例を示しており、図5(a)では1次関数による到達関数f(x)の制御波形の例を示しており、図5(b)においては、2次関数による到達関数f(x)の制御波形の例を示している。3次関数による制御波形の例は省略するが、到達関数f(x)は、乗数が増加するにつれてxの値に対するyの値がより増加するグラフとなることから、所要時間Tを短く設定した場合に、乗数の大きい到達関数が選択され、短い時間でのパーティクルの飛散を防止したスロー排気が可能になっている。 When the arrival function f (x) is calculated, it has a calculation function that can be changed to a first, second, or third order function corresponding to the required time T to be set, and corresponds to the arrival time t. Then, an appropriate function of the first order, second order or third order function is automatically selected by the control unit means 10. FIG. 5 shows an example of the control waveform by the arrival function f (x), and FIG. 5A shows an example of the control waveform of the arrival function f 1 (x) by the linear function. In (b), an example of the control waveform of the arrival function f 2 (x) by a quadratic function is shown. Although an example of a control waveform by a cubic function is omitted, the arrival function f (x) is a graph in which the value of y increases with respect to the value of x as the multiplier increases, so the required time T is set short. In this case, a reaching function having a large multiplier is selected, and slow exhaust that prevents scattering of particles in a short time is possible.

この場合、変数である次数をコマンドにより指定することも可能であり、例えば、0〜3までの数字を、0:所要時間Tにより次数を自動選択、1:1次到達関数を指定、2:2次到達関数を指定、3:3次到達関数を指定するコマンドとし、何れかの数字を入力手段13から入力することで次数を自動選択、或は、任意の次数に指定することもできる。   In this case, it is also possible to specify a variable order by using a command. For example, 0 to 3 are automatically selected, 0: the order is automatically selected according to the required time T, and a 1: 1 arrival function is specified. It is also possible to specify a secondary arrival function and use a command to specify a 3: 3 arrival function and input any number from the input means 13 to automatically select the order or to specify an arbitrary order.

弁開度演算機能は、真空容器4内の圧力が大気圧又は任意の圧力から目標とする到達圧力Pまで低下するときに、所定の経過時間における真空圧力センサ3による測定値と到達関数演算機能から算出された到達関数f(x)との間の誤差から、開閉弁2の弁開時の開度(オープン開度値)、弁閉時の開度(クローズ開度値)を演算する。
具体的には、図4において、真空容器内の圧力PをPからPnまで低下させるときの任意の時間をt、t、t、…tnとしたときに、各時間t、t、t、…tnにおいて真空圧力センサ3により測定される圧力値P、P、P、…Pnを、到達関数f(x)に基づいて得られる理論上の圧力値pと比較し、その結果により、各時間における開閉弁2のオープン開度値、クローズ開度値を演算するものである。
The valve opening calculation function is a function of calculating a measured value and an arrival function by the vacuum pressure sensor 3 during a predetermined elapsed time when the pressure in the vacuum vessel 4 decreases from an atmospheric pressure or an arbitrary pressure to a target arrival pressure P. From the error with respect to the arrival function f (x) calculated from the above, the opening degree of the on-off valve 2 (open opening value) and the opening degree of the valve (closed opening value) are calculated.
Specifically, in FIG. 4, when arbitrary time when the pressure P in the vacuum vessel is decreased from P 0 to Pn is t 0 , t 1 , t 2 ,... Tn, each time t 0 , The pressure values P 0 , P 1 , P 2 ,... Pn measured by the vacuum pressure sensor 3 at t 1 , t 2 ,... tn are converted into theoretical pressure values p obtained based on the arrival function f (x). Based on the comparison, the opening degree value and the closing degree value of the on-off valve 2 at each time are calculated.

上記の弁開度演算機能により演算されたオープン開度とクローズ開度は、タイマー60により開閉弁2を任意の時間幅で開閉指示することで伝達され、これにより、システム本体1は、開閉弁2の開度を制御して真空容器4内のパーティクルの巻き上げを防ぎつつ、大気圧又は任意の圧力から目標とする任意の圧力(到達圧力)Pまで低下させるようにスロー排気する。このとき、弁開度演算機能により演算されたオープン開度値、クローズ開度値によって開閉弁2が開閉指示されて、所定の経過時間に対する真空容器4内の圧力値の誤差の発生が防がれる。
その際、開閉弁2をオープン又はクローズさせながら開閉制御して、真空容器4内の圧力を制御するときに、圧力低下に従ってクローズ開度を増加させるようにしている。
上記において、真空容器4内を所定圧力に到達させるまでの時間tnと、到達する所定圧力pとは、入力手段13を介してコマンド入力される。
The open opening and the closing opening calculated by the valve opening calculation function are transmitted by instructing the opening / closing of the opening / closing valve 2 with an arbitrary time width by the timer 60, whereby the system body 1 While controlling the opening degree of 2 to prevent the particles in the vacuum vessel 4 from being rolled up, the exhaust gas is slowly exhausted so as to be reduced from the atmospheric pressure or an arbitrary pressure to a target arbitrary pressure (attainment pressure) P. At this time, the opening / closing valve 2 is instructed to open and close by the open opening value and the closed opening value calculated by the valve opening calculation function, and the occurrence of an error in the pressure value in the vacuum vessel 4 with respect to a predetermined elapsed time is prevented. It is.
At that time, when the pressure in the vacuum vessel 4 is controlled by opening / closing the open / close valve 2 to open or close, the close opening degree is increased according to the pressure drop.
In the above description, the time tn required to reach the predetermined pressure in the vacuum vessel 4 and the predetermined pressure p to be reached are input via the input means 13.

次に、上記の真空圧力制御システムにおいて、具体例として一次関数(f(x)=−ax+b)が到達関数として選択された場合を説明する。開閉弁2は、弁開状態から排気する際には、スロー排気制御とプロセスガス圧力制御により排気する。スロー排気制御は、初期の開始圧力Pから高真空圧力Pまで圧力制御するものであり、プロセスガス圧力制御は、この後に弁体22の開閉により圧力制御するものである。 Next, in the above vacuum pressure control system, a case where a linear function (f (x) = − ax + b) is selected as a reaching function will be described as a specific example. The on-off valve 2 exhausts by slow exhaust control and process gas pressure control when exhausting from the valve open state. The slow exhaust control is to control the pressure from the initial start pressure P 0 to the high vacuum pressure P n , and the process gas pressure control is to control the pressure by opening and closing the valve body 22 thereafter.

スロー排気制御は、前述したように、弁座制御機構20をエア制御部45で制御して大気圧又は任意の圧力で締め切られた真空容器4内を徐々に除圧して目標とする到達圧力Pまでスロー排気するものである。スロー排気の前には、予め、外部の入力手段13より制御ユニット手段10に真空容器4内を所定圧力に到達させるときの到達時間Tと到達時の所定圧力(到達圧力)Pとをコマンド入力する。到達時間Tは、大気圧又は任意の圧力から到達圧力Pまで減圧するときに、真空容器4内にパーティクルの発生が起こるにくくなる時間に設定するものとし、真空容器4の大きさや処理するウエハの数、材料ガスの種類等に応じて適宜の値に設定する。
このように、到達時間T、到達圧力Pと、真空容器4内の開始圧力が決定すると、到達関数演算機能によって、到達時間をx、到達圧力をy、開始圧力をbとしたものが1次関数y=−ax+bに代入されて定数aが求められ、更に、この結果が前記1次関数に代入されて到達関数f(x)が決定される。
As described above, in the slow exhaust control, the valve seat control mechanism 20 is controlled by the air control unit 45 to gradually release the inside of the vacuum vessel 4 closed at atmospheric pressure or an arbitrary pressure, thereby achieving a target ultimate pressure P. Slow exhaust up to. Prior to the slow exhaust, a command is input in advance from the external input means 13 to the control unit means 10 so that the control unit means 10 reaches the predetermined pressure in the vacuum vessel 4 and the predetermined pressure (attainment pressure) P at the time of arrival. To do. The arrival time T is set to a time at which generation of particles in the vacuum vessel 4 is difficult to occur when the pressure is reduced from the atmospheric pressure or an arbitrary pressure to the ultimate pressure P. The size of the vacuum vessel 4 and the wafer to be processed are set. It is set to an appropriate value according to the number and the type of material gas.
As described above, when the arrival time T, the arrival pressure P, and the start pressure in the vacuum vessel 4 are determined, the arrival function calculation function sets the arrival time to x, the arrival pressure to y, and the start pressure to b. A constant a is obtained by substituting into the function y = −ax + b, and this result is substituted into the linear function to determine the reaching function f (x).

続いて、この到達関数f(x)をもとに、弁開度演算機能によりオープン開度値とクローズ開度値とが演算され、図3に示すように、電磁弁50の閉状態が維持されながら、エア制御部55により電空レギュレータ51の弁開度が制御されてシートリング17の開度が制御される。電空レギュレータ51の制御によりエア流路40へのエア供給圧力が調節されて、弁体22に対するシートリング17のオープン開度とクローズ開度の移動量が細かく制御され、シートリング17と弁体22との隙間量が制御される。更に、真空容器4内の圧力低下に従ってクローズ開度を徐々に増加させることで、シートリング17に接するOリング31の接触頻度を低下させ、Oリング31の寿命を延ばすことが可能になっている。   Subsequently, based on the arrival function f (x), the opening degree value and the closing degree value are calculated by the valve opening degree calculation function, and the closed state of the electromagnetic valve 50 is maintained as shown in FIG. While being done, the opening degree of the seat ring 17 is controlled by controlling the valve opening degree of the electropneumatic regulator 51 by the air control unit 55. The air supply pressure to the air flow path 40 is adjusted by the control of the electropneumatic regulator 51, and the amount of movement of the opening degree and the closing degree of the seat ring 17 with respect to the valve body 22 is finely controlled. 22 is controlled. Further, by gradually increasing the closing opening according to the pressure drop in the vacuum vessel 4, it is possible to reduce the contact frequency of the O-ring 31 that contacts the seat ring 17 and extend the life of the O-ring 31. .

引き続き、スロー排気時には、到達関数演算機能により求められたパーティクルの発生が防がれる到達関数f(x)に対して弁開度演算機能によりオープン開度とクローズ開度とが演算され、この演算結果に応じてタイマー60により開閉弁2が任意の時間幅でオープンクローズされることで流量が制御され、その経過時間における到達圧力Pに実際の圧力が近づけられる。   Subsequently, at the time of slow exhaust, the opening degree and the closing degree are calculated by the valve opening degree calculation function with respect to the arrival function f (x) that prevents the generation of particles obtained by the arrival function calculation function. Depending on the result, the flow rate is controlled by opening and closing the on-off valve 2 with an arbitrary time width by the timer 60, and the actual pressure is brought close to the ultimate pressure P in the elapsed time.

例えば、図4の弁開度演算機能において、各時間における制御をステップ0、ステップ1、ステップ2、…ステップNとしたときに、制御ユニット手段10は、各ステップにおいて、到達関数f(x)に近づけるようにオープン開度、クローズ開度を変化させながら、その開度を徐々に大きくする方向にシフトして真空容器4内の圧力を制御する。更に、各ステップにおける制御を詳述すると、動作開始時におけるステップ0での真空圧力センサ3で測定した初期圧力をP、オープン開度を開始開度EvSt、クローズ開度を最小開度EvClsとすると、開閉弁2は、前記のようにクローズ開度を徐々に増加させながら開閉動作の繰り返しを開始する。 For example, in the valve opening calculation function of FIG. 4, when the control at each time is set to step 0, step 1, step 2,..., Step N, the control unit means 10 performs the reaching function f (x) at each step. The pressure in the vacuum vessel 4 is controlled by shifting the opening degree gradually and increasing the opening degree while changing the opening degree and the closing degree so as to approach each other. Further, the control in each step will be described in detail. The initial pressure measured by the vacuum pressure sensor 3 in step 0 at the start of operation is P 0 , the open opening is the start opening EvSt, and the close opening is the minimum opening EvCls. Then, the opening / closing valve 2 starts repeating the opening / closing operation while gradually increasing the closing opening as described above.

ステップ1では、真空圧力センサ3により圧力Pを測定し、制御ユニット手段10により到達時間tからtに達したときの図示しない圧力の傾きA(=−圧力P/圧力P)を算出し、この圧力の傾きAを到達関数演算機能により算出された到達関数f(x)の傾きaと比較し、かつ、圧力Pの値と到達関数f(x)で算出された図示しない計算圧力pとの乖離と、開始開度、クローズ最小開度の開度補正値、オープン開度値、クローズ開度値を演算し、これらの演算結果をもとに、エア制御部55により、圧力の傾きAと到達関数の傾きa、測定圧力Pと計算圧力pを次回のステップ(ステップ2)で近づけるように開閉弁2がスロー排気制御される。 In step 1, the pressure P 1 is measured by the vacuum pressure sensor 3, and the pressure gradient (not shown) A 1 (= −pressure P 1 / pressure P 0 when the control unit means 10 reaches t 1 from the arrival time t 0 is reached. ) And the slope A 1 of the pressure is compared with the slope a of the arrival function f (x) calculated by the arrival function calculation function, and the pressure P 1 and the arrival function f (x) are calculated. Calculates the deviation from the calculated pressure p 1 ( not shown), the opening correction value of the starting opening, the closing minimum opening, the opening opening value, and the closing opening value, and based on these calculation results, the air control The on-off valve 2 is subjected to slow exhaust control by the unit 55 so that the pressure gradient A 1 and the arrival function gradient a, the measured pressure P 1 and the calculated pressure p 1 are brought closer in the next step (step 2).

続いて、ステップ2においても、ステップ1の場合と同様に、真空圧力センサ3により圧力Pを測定し、経過時間tから経過時間tに達したときの到達関数f(x)の圧力の傾きA(=−圧力P/圧力P)を算出し、この圧力の傾きAを到達関数f(x)の傾きaと比較し、かつ、圧力Pの値と到達関数f(x)で算出された計算圧力pとの乖離と、開始開度、クローズ最小開度の開度補正値、オープン開度値、クローズ開度値を演算し、これらの演算結果をもとに、圧力の傾きAと到達関数の傾きa、測定圧力Pと計算圧力pを次回のステップ(ステップ3)で近づけるように開閉弁2がスロー排気制御される。 Subsequently, in step 2, as in step 1, the vacuum pressure sensor 3 measures the pressure P 2, the pressure of the arrival function f (x) when it reaches the elapsed time t 2 from the elapsed time t 1 Slope A 2 (= −pressure P 2 / pressure P 1 ), the pressure slope A 2 is compared with the slope a of the arrival function f (x), and the value of the pressure P 2 and the arrival function f are compared. and divergence between the calculated pressure p 2 calculated in (x), starting opening, opening correction value of the closing minimum opening, open opening value, calculates the closed opening value, based on these calculation results Further, the on-off valve 2 is subjected to slow exhaust control so that the pressure gradient A 2 and the arrival function gradient a, the measured pressure P 2 and the calculated pressure p 2 are brought closer in the next step (step 3).

以下、ステップNまでの制御が同様に行なわれ、ステップNにおいて真空容器4内の圧力が到達圧力Pに達すると、シートリング17がフルオープンの状態になり、制御ユニット手段10のエア制御部55によるシートリング17のスロー排気制御が終了となる。このエア制御部55によるスロー排気が終了する際には、電空レギュレータ51が閉状態になると同時に電磁弁50が開状態に制御されてエア流路40にエアが供給され、シートリング17が完全に開状態となる。   Thereafter, the control up to Step N is performed in the same manner. When the pressure in the vacuum container 4 reaches the ultimate pressure P in Step N, the seat ring 17 is fully opened, and the air control unit 55 of the control unit means 10. This completes the slow exhaust control of the seat ring 17. When the slow exhaust by the air control unit 55 is finished, the electropneumatic regulator 51 is closed, and at the same time, the electromagnetic valve 50 is controlled to be opened so that air is supplied to the air flow path 40 and the seat ring 17 is completely closed. Will be open.

続いて、エア制御部55による弁座制御機構20の制御から弁体制御部59による弁体制御機構21の制御に切り換わる。図7に示すように、開閉弁2の弁体22は、弁体制御部59により弁体制御機構21のステッピングモータ56が回転制御されることにより開閉制御され、これにより、目標とする任意の圧力まで真空容器4内のプロセスガス圧力制御が行なわれる。   Subsequently, the control of the valve seat control mechanism 20 by the air control unit 55 is switched to the control of the valve body control mechanism 21 by the valve body control unit 59. As shown in FIG. 7, the valve body 22 of the on-off valve 2 is controlled to open and close by the valve body control unit 59 being rotationally controlled by the stepping motor 56 of the valve body control mechanism 21. The process gas pressure in the vacuum vessel 4 is controlled to the pressure.

なお、上記においては、到達関数f(x)を1次関数として真空圧力制御システムを制御する場合を説明したが、到達関数f(x)は、2次関数や3次関数であっても同様に制御できる。この到達関数f(x)は、設定する圧力低下の所要時間Tの長さに応じて到達関数演算機能により適宜可変されて最適な乗数の関数が選択される。何れの関数の場合であっても、制御時におけるステップを細かく設定しておくことで、開始時の圧力から到達圧力Pに達するまで各ステップごとに細かくオープンクローズ動作を繰り返して圧力制御でき、これにより、到達関数f(x)に対する測定圧力の誤差を少なくして高精度に制御することが可能となる。   In the above description, the case where the vacuum pressure control system is controlled using the arrival function f (x) as a linear function has been described, but the arrival function f (x) may be a quadratic function or a cubic function. Can be controlled. The arrival function f (x) is appropriately varied by the arrival function calculation function according to the length of the required pressure drop time T to be set, and an optimum multiplier function is selected. Regardless of the function, by finely setting the steps at the time of control, the pressure can be controlled by repeating the open / close operation finely for each step until the ultimate pressure P is reached from the starting pressure. Thus, it is possible to control with high accuracy while reducing the error of the measurement pressure with respect to the arrival function f (x).

ここで、例えば、図6において、実線は、上記した真空圧力制御により圧力制御したときの関数の曲線を示している。この場合、弁開度値演算機能によるステップ数を増やして曲線を到達関数f(x)の曲線に近づけることができるため、より正確に圧力制御することができる。一方、図における破線は、特許文献1により圧力制御したときのグラフを示している。この場合、図に示すように、事前に設定する目標真空圧力変化ポイントと目標真空圧力変化速度とを設定する必要があり、しかも、このように設定数(A点、B点、C点)が少ない場合には、理想となる到達関数から離れた形状のグラフになる。このため、設定ポイントを増やす必要があり、その結果、各設定値を予め求める手間が増大することになる。上述した本発明の真空圧力制御システムでは、所要時間Tと到達圧力Pのみをコマンド入力するだけでよいので、手間がかかることがない。   Here, for example, in FIG. 6, the solid line shows a curve of a function when the pressure is controlled by the above-described vacuum pressure control. In this case, since the number of steps by the valve opening value calculation function can be increased and the curve can be brought close to the curve of the reaching function f (x), the pressure can be controlled more accurately. On the other hand, the broken line in the figure shows a graph when the pressure is controlled according to Patent Document 1. In this case, as shown in the figure, it is necessary to set a target vacuum pressure change point and a target vacuum pressure change speed that are set in advance, and the set number (point A, point B, point C) is set in this way. When the number is small, the graph is separated from the ideal reaching function. For this reason, it is necessary to increase the number of set points, and as a result, the trouble of obtaining each set value in advance increases. In the above-described vacuum pressure control system of the present invention, it is only necessary to input a command for the required time T and the ultimate pressure P, so that no labor is required.

上述したように、本発明の真空圧力制御システムは、到達関数演算機能と、タイマー60と、弁開度演算機能とを有する制御ユニット手段10と、駆動手段12と、入力手段13とを設けて、大気圧又は任意の圧力から目標とする任意の圧力まで低下させるようにしているので、設定値などを計算により予め求めておく必要がなく、所望の所要時間Tと到達圧力Pとを入力しておくだけで大気圧又は大気圧に近い低真空から高真空までパーティクルの飛散を抑えつつ簡単かつ正確に圧力制御できる。   As described above, the vacuum pressure control system of the present invention includes the control unit means 10 having the reaching function calculation function, the timer 60, and the valve opening calculation function, the drive means 12, and the input means 13. Since the pressure is reduced from the atmospheric pressure or an arbitrary pressure to the target arbitrary pressure, there is no need to obtain a set value in advance by calculation, and a desired required time T and ultimate pressure P are input. It is possible to control the pressure easily and accurately while suppressing scattering of particles from atmospheric pressure or low vacuum close to atmospheric pressure to high vacuum.

しかも、弁座制御機構20をエア制御部55によりスロー排気制御しているので、より高精度に圧力制御でき、更には、スロー排気後に弁体制御機構20を弁体制御部59によりプロセスガス圧力制御しているので、微小流量から大流量までを正確に流量制御することができる。この場合、特に、微小流量時において高精度に圧力制御することができ、スロー排気時におけるパーティクルの飛散を確実に抑えることができる。   In addition, since the valve seat control mechanism 20 is slow exhaust controlled by the air control unit 55, the pressure can be controlled with higher accuracy. Further, after the slow exhaust, the valve body control mechanism 20 is controlled by the valve body control unit 59 to process gas pressure. Since the flow rate is controlled, the flow rate can be accurately controlled from a minute flow rate to a large flow rate. In this case, in particular, pressure control can be performed with high accuracy at a minute flow rate, and particle scattering during slow exhaust can be reliably suppressed.

なお、モータ制御状態から再度バルブ本体16を全閉状態にする場合には、弁体22を全閉位置まで回転させ、電磁弁50をOFFにしてのエア流路40からエアを排気すると、スプリング42がシートリング17をOリング31に押し付けてシールさせ、流路24が閉状態となる。   When the valve main body 16 is again fully closed from the motor control state, the valve body 22 is rotated to the fully closed position, and the air is exhausted from the air flow path 40 with the solenoid valve 50 turned OFF. 42 presses the seat ring 17 against the O-ring 31 to seal it, and the flow path 24 is closed.

更には、図8に示した高速エア制御流路70を利用することで、バルブ本体16を弁閉状態に高速遮断することもできる。図において、エア遮断流路70には、電空レギュレータ71、3方電磁弁72、圧力スイッチ73、2方エアバルブ74が設けられ、このエア制御流路70は、図2におけるボデー23のシリンダである装着凹部36から続くエア流路40に接続されている。   Furthermore, by using the high-speed air control flow path 70 shown in FIG. 8, the valve main body 16 can be shut off at high speed in the valve closed state. In the drawing, an electropneumatic regulator 71, a three-way solenoid valve 72, a pressure switch 73, and a two-way air valve 74 are provided in the air shut-off channel 70. This air control channel 70 is a cylinder of the body 23 in FIG. It is connected to an air flow path 40 that continues from a certain mounting recess 36.

エア制御流路70は、エア供給側流路75とエア排気側流路76とにより並列に設けられ、このエア供給側流路75とエア排気側流路76との間には、第1バイパス流路77、第2バイパス流路78が設けられている。そして、エア供給側流路75には、シリンダ36側から順に、電空レギュレータ71、3方電磁弁72、圧力スイッチ73が直列に配設され、一方、エア排気側流路76には、2方エアバルブ74が設けられている。   The air control flow path 70 is provided in parallel by an air supply side flow path 75 and an air exhaust side flow path 76, and a first bypass is provided between the air supply side flow path 75 and the air exhaust side flow path 76. A flow path 77 and a second bypass flow path 78 are provided. In the air supply side flow path 75, an electropneumatic regulator 71, a three-way solenoid valve 72, and a pressure switch 73 are arranged in series in this order from the cylinder 36 side. A direction air valve 74 is provided.

電空レギュレータ71は、エア供給側流路75と第1バイパス流路77とを接続する位置に設けられ、エア供給側流路75からシリンダ36内に供給するエアの流量を調節可能で、かつ、シリンダ36からの排気エアを、第1バイパス流路77を介してエア排気側流路76に流すことが可能になっている。3方電磁弁72は、エア供給側流路75と第1パイパス流路77とを接続する位置に設けられ、供給エアをシリンダ36側に供給するか、又は、シリンダ36からの排気エアを、第2バイパス流路78を介してエア排気側流路76に流すように切り換え可能になっている。圧力スイッチ73は、エア供給側流路75内の圧力を感知するために設けられている。   The electropneumatic regulator 71 is provided at a position connecting the air supply side flow path 75 and the first bypass flow path 77, can adjust the flow rate of air supplied from the air supply side flow path 75 into the cylinder 36, and The exhaust air from the cylinder 36 can be flowed to the air exhaust side flow path 76 via the first bypass flow path 77. The three-way solenoid valve 72 is provided at a position where the air supply side flow path 75 and the first bypass flow path 77 are connected, and supplies supply air to the cylinder 36 side or exhaust air from the cylinder 36, The flow can be switched to flow to the air exhaust side flow path 76 via the second bypass flow path 78. The pressure switch 73 is provided to sense the pressure in the air supply side flow path 75.

2方エアバルブ74は、エア排気側流路76に設けられ、この2方エアバルブ74には、エア供給側流路75から第3バイパス流路79が接続されている。この2方エアバルブ74は、ノーマリーオープンタイプのバルブであり、通常時にはシリンダ36からのエアを排気できるようになっており、一方、エア供給側流路75からエアが供給されたときには第3バイパス流路79を介してエアが供給されて弁閉状態となる構造になっている。   The two-way air valve 74 is provided in the air exhaust side flow path 76, and a third bypass flow path 79 is connected to the two-way air valve 74 from the air supply side flow path 75. The two-way air valve 74 is a normally open type valve, and is normally configured to be able to exhaust air from the cylinder 36. On the other hand, when air is supplied from the air supply side passage 75, a third bypass is provided. Air is supplied through the flow path 79 so that the valve is closed.

エア制御流路70において、3方電磁弁72を開状態にしてエアを供給すると、第3バイパス流路79を介して2方エアバルブ74内にエアが流れ、2方エアバルブ74は、閉状態になってシリンダ36からの排気が防がれた状態になる。この状態で電空レギュレータ71に、例えば、0〜5Vの入力信号を入力すると、この入力信号に比例して供給側からの操作圧力が0〜0.5MPaの大きさで出力される。この操作圧力により、シリンダ36内の図示しないシートリングが電空レギュレータ71の出力圧力に比例して、例えば、0〜2.5mmのストロークにより往復動してバルブ本体16を開閉する。   In the air control flow path 70, when the three-way solenoid valve 72 is opened and air is supplied, the air flows into the two-way air valve 74 via the third bypass flow path 79, and the two-way air valve 74 is closed. Thus, the exhaust from the cylinder 36 is prevented. In this state, for example, when an input signal of 0 to 5 V is input to the electropneumatic regulator 71, the operation pressure from the supply side is output in a magnitude of 0 to 0.5 MPa in proportion to the input signal. With this operating pressure, a seat ring (not shown) in the cylinder 36 is reciprocated by a stroke of, for example, 0 to 2.5 mm in proportion to the output pressure of the electropneumatic regulator 71 to open and close the valve body 16.

バルブ本体16を閉止状態に遮断するときには、3方電磁弁72を切り換えることでシリンダ36からの排気エアが第2バイパス流路78に流れて排気され、かつ、エア供給側流路75へのエア供給も停止する。このとき、電空レギュレータ71への入力信号を0Vにして排気した際に、通常の回路ではシリンダ36が弁閉動作するまでに1.5秒程度掛かることになるが、このエア遮断回路70では、エア供給側流路75に並列に配管されたエア排気側流路76の2方エアバルブ74が開状態となることで、排気エアが2方エアバルブ74と電空レギュレータ71・3方電磁弁72とを介してエア排気側流路76から排気されるため、1秒以下の高速で遮断することができ、遮断時間を大幅に短縮することが可能になる。   When shutting off the valve body 16 in the closed state, the exhaust air from the cylinder 36 flows into the second bypass flow path 78 and is exhausted by switching the three-way solenoid valve 72, and the air to the air supply side flow path 75 is exhausted. Supply is also stopped. At this time, when the input signal to the electropneumatic regulator 71 is exhausted to 0 V, it takes about 1.5 seconds for the cylinder 36 to close the valve in a normal circuit. When the two-way air valve 74 of the air exhaust side flow path 76 piped in parallel with the air supply side flow path 75 is opened, the exhaust air flows into the two-way air valve 74 and the electropneumatic regulator 71 / 3-way solenoid valve 72. Since the air is exhausted from the air exhaust side flow path 76, the air can be interrupted at a high speed of 1 second or less, and the interruption time can be greatly shortened.

1 システム本体
2 開閉弁
3 真空圧力センサ
4 真空容器
5 真空ポンプ
10 制御ユニット手段
12 駆動手段
60 タイマー
61 入力手段
f(x) 到達関数
P 到達圧力
T 所要時間
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 System main body 2 On-off valve 3 Vacuum pressure sensor 4 Vacuum container 5 Vacuum pump 10 Control unit means 12 Drive means 60 Timer 61 Input means f (x) Arrival function P Ultimate pressure T Time required

Claims (1)

真空容器に真空ポンプを接続した途中に設けられ、かつ前記真空容器内の真空圧力を変化させる開閉弁と、前記真空容器内の真空圧力を計測する真空圧力センサを介して前記開閉弁の開度を制御するようにした真空圧力制御システムであって、前記真空容器内の圧力低下を誘導する到達関数を算出する演算機能と、前記開閉弁の開度を任意の時間幅で開閉制御するタイマーと、前記開閉弁の弁開時の開度であるオープン開度値と前記開閉弁の弁閉時の開度であるクローズ開度値とを前記真空圧力センサの出力と前記到達関数から演算する機能とを有する制御ユニット手段と、前記開閉弁のシートリングである弁座を動作させる弁座制御機構と前記開閉弁の弁体を動作させる弁体制御機構とを備えて前記オープン開度値と前記クローズ開度値を駆動する駆動手段と、圧力低下の所要時間と到達圧力を外部からコマンド入力する入力手段とを設けて、大気圧又は任意の圧力から目標とする任意の圧力まで低下させるようにしたことを特徴とする真空圧力制御システム。 An opening / closing valve that is provided in the middle of connecting a vacuum pump to the vacuum vessel and that changes the vacuum pressure in the vacuum vessel , and an opening degree of the opening / closing valve via a vacuum pressure sensor that measures the vacuum pressure in the vacuum vessel A vacuum pressure control system for controlling a calculation function for calculating a reaching function for inducing a pressure drop in the vacuum vessel, and a timer for controlling the opening / closing of the opening / closing valve at an arbitrary time width, A function of calculating an opening degree value that is an opening degree when the on-off valve is opened and a closing degree value that is an opening degree when the on- off valve is closed from the output of the vacuum pressure sensor and the reaching function the preparative and control unit means having said open opening value and a valve control mechanism for the seat ring and a valve seat the valve seat controlling mechanism for operating a and operating the valve body of the closing valve of the on-off valve and closed opening value A drive means that moves, and an input means for inputting a required time for pressure drop and an ultimate pressure from the outside are provided to reduce the pressure from atmospheric pressure or any pressure to any target pressure. To vacuum pressure control system.
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